JPH07169672A

JPH07169672A - Ｘ線マスク位置決め装置

Info

Publication number: JPH07169672A
Application number: JP31385393A
Authority: JP
Inventors: Setsuo Setoguchi; 節男瀬戸口
Original assignee: Sumitomo Heavy Industries Ltd
Current assignee: Sumitomo Heavy Industries Ltd
Priority date: 1993-12-14
Filing date: 1993-12-14
Publication date: 1995-07-04

Abstract

(57)【要約】【目的】高精度にかつ容易に位置決めすることが可能
なマスク位置決め装置を提供する。【構成】密着係合面から突出して設けられた少なくと
も２つの位置決め手段を有するマスク固定手段に、該位
置決め手段によって吊り下げられ、かつ吸引されて位置
決めされるマスク構造体であって、マスクパターンが形
成されたマスク基板と、前記マスク基板が接着されるマ
スク保持枠と、前記マスク保持枠の対向辺から突出する
ように、前記マスク保持枠に接着され、一方の突出部に
は、前記マスク固定手段に設けられた一方の位置決め手
段と実質的に２点で接する切欠き部を有し、他方の突出
部には、前記マスク固定手段に設けられた他方の位置決
め手段と実質的に１点で接するように形成された係合部
を有する位置決め部材とを含む。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明はＸ線マスク位置決め装置
に関し、特に、シンクロトロン放射光を光源とするＸ線
露光装置に適したマスク位置決め装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、ＬＳＩ等の半導体素子を製造する
ための露光装置の分野においては、半導体素子の高集積
化に伴って、より高分解能の露光が可能なシンクロトロ
ン放射光等のＸ線を利用した露光装置が種々提案されて
いる。

【０００３】図５は、この種の露光装置で使用されるマ
スクの構造を示す。図５（Ａ）はマスク構造体１１０の
断面図を、図５（Ｂ）は正面図を示す。中央の露光領域
に開口１０５を有する支持体１０３表面にＸ線透過膜１
０４が形成されている。Ｘ線透過膜１０４上には、Ｘ線
吸収体１０１ａがパターニングして形成されている。パ
ターニングと同時に、位置合わせ用の基準となるマスク
マーク１０１が形成される。

【０００４】ここで、例えば支持体１０３は、厚さ約１
ｍｍのシリコン基板、Ｘ線透過膜１０４は、厚さ約２μ
ｍのＳｉＮまたはＳｉＣ膜、Ｘ線吸収体１０１ａは、厚
さ１μｍ以下のタングステン膜またはタンタル膜等が用
いられる。支持体１０３は、それのみでは取扱に不便で
あるため、露光領域に開口を有する厚さ約４ｍｍ程度の
パイレックスガラス等の保持枠１０２に接着される。

【０００５】一般的に、露光装置を用いて半導体素子を
製造する際には、露光前に被加工材であるウエハとマス
クとを０．０１μｍオーダ程度で高精度に位置合わせを
行う必要がある。このためには、マスクとウエハのアラ
イメント機構の調整範囲内であるμｍオーダで、マスク
保持体１０２を再現性よく位置決めできるマスク位置決
め装置が必要である。

【０００６】図６は、従来のマスク位置決め装置の構造
を示す。マスクステージベース１０６上に設けられた３
本の位置決めピン１０７ａ〜１０７ｃに、マスク保持枠
１０２の側壁を接触させることによりマスクの位置決め
を行う。位置決め終了後、マスク保持枠１０２は図には
示さない真空吸着保持機構により吸着保持され、さらに
アライメント機構により高精度に位置決めされ露光され
る。

【０００７】しかし、図６に示す構造では、マスク保持
枠１０２を２本の位置決めピン１０７ａ、１０７ｂに押
し当てながら残りの位置決めピン１０７ｃに押し当てな
ければならない。この動作を搬送装置で行うには複雑な
機構が必要になる。また、真空吸着保持機構にトラブル
が発生した場合、マスク構造体の自重により落下する危
険性がある。

【０００８】上記問題点を解決するマスク位置決め機構
に関する発明が、特開平４−１５５８１５、特開平５−
３６５８７に開示されている。図７は、特開平４−１５
５８１５に開示されているマスク位置決め機構を示す。
マスク支持体１０３が、耐熱ガラスや金属により形成さ
れたリング状のマスク保持枠１０２に接着剤によって固
着されている。

【０００９】マスク構造体１１０を吸着保持するマスク
ステージベース１１７には図には示さない真空吸着源と
連結された真空吸着保持機構１１８、及び２本の円柱状
の位置決めピン１１４、１１５が水平方向に間隔をおい
て設けられている。マスク保持枠１０２には、位置決め
ピン１１４、１１５をそれぞれ挿通するための矩形状の
２個の孔１１３ａ、１１３ｂが設けられている。

【００１０】一方の矩形状の孔１１３ａは、各２辺が水
平、垂直方向に並行になるように形成され、他方の孔１
１３ｂは、孔１１３ａを４５°回転させた向きに形成さ
れている。このように形成されたマスク構造体１１０の
各孔１１３ａ、１１３ｂをマスクステージベース１１７
の位置決めピン１１４、１１５にそれぞれ挿通し吊り下
げ状態とする。この後、真空吸着保持機構１１８により
真空吸着することにより保持される。

【００１１】図８は、特開平５−３６５８７に開示され
ているマスク位置決め機構を示す。マスク支持体１０３
がパイレックスガラス等で形成されたリング状のマスク
保持枠１０２に接着剤によって固着されている。

【００１２】マスク保持枠１０２には、マスク保持枠１
０２の中心の高さに、その外周から４ｍｍほど内側に該
中心に向かって切り欠いて一辺１２４ａを形成し、図の
真下に向かってマスク保持枠１０２を切り欠くことによ
り、Ｌ字状の切り欠き１２４が設けられている。

【００１３】マスクステージベース１２０には、Ｔ字型
の位置決めピン１２２、及び、Ｔ字位置決めピン１２２
とマスクステージベース１２０の径方向反対側でかつＴ
字位置決めピン１２２とマスクステージベース１２０の
中心位置とを結ぶ仮想線よりも下側に位置決めピン１２
３が設けられている。

【００１４】Ｌ字状の切り欠き１２４をＴ字位置決めピ
ン１２２に突き当てるとともに、マスク保持枠１０２の
外周の任意の一点を位置決めピン１２３に突き当てるこ
とにより位置決めする。その後、真空吸引溝１２１によ
り真空吸着することにより保持される。

【００１５】

【発明が解決しようとする課題】図７、図８に示す従来
例では、比較的容易にマスク保持枠をマスクステージベ
ースに位置決めして保持することができる。この位置決
め機構においては、マスク保持枠１０２に設けられた位
置決め用の孔若しくは切り欠きの位置と、マスクマーク
１０１の位置との相対位置精度が要求される。

【００１６】しかし、Ｘ線吸収体１０１ａをパターニン
グした後に、マスク支持体１０３をマスク保持枠１０２
に接着する方法では、位置精度を要求される範囲内に納
めることは困難である。

【００１７】また、マスク位置決め方法として、マスク
ステージ側に微動機構の他に粗動機構を設け位置決めを
行う方法も考えられるが、マスクステージが複雑にな
り、ステージ剛性が落ち、位置精度が悪くなるという問
題がある。

【００１８】本発明の目的は、より高精度にかつ容易に
位置決めすることが可能なマスク位置決め装置を提供す
ることである。

【００１９】

【課題を解決するための手段】以下に、限定的意味では
なく単に理解の容易のための例示として、図面中の符号
を付しつつ説明する。

【００２０】本発明のマスク構造体は、密着係合面から
突出して設けられた少なくとも２つの位置決め手段を有
するマスク固定手段に、該位置決め手段によって吊り下
げられ、かつ吸引されて位置決めされるマスク構造体で
あって、マスクパターンが形成されたマスク基板（３）
と、前記マスク基板が接着されるマスク保持枠（２）
と、前記マスク保持枠の対向辺から突出するように、前
記マスク保持枠に接着され、一方の突出部には、前記マ
スク固定手段に設けられた一方の位置決め手段と実質的
に２点で接する切欠き部（７）を有し、他方の突出部に
は、前記マスク固定手段に設けられた他方の位置決め手
段と実質的に１点で接するように形成された係合部
（８）を有する位置決め部材（６）とを含む。

【００２１】さらに、前記マスク保持枠のマスク固定手
段と係合する面には、少なくとも３個の磁性体（９ａ、
９ｂ、９ｃ）を取り付けてもよい。本発明のマスク固定
手段は、マスクパターンが形成されたマスク構造体を吊
り下げ、かつ吸引して位置決めするマスク固定手段であ
って、マスク構造体を吸引する係合面から突出して設け
られ、前記マスク構造体を支える一方の位置決め手段
と、前記係合面上から突出して設けられ、前記マスク構
造体との接触点が上下に移動可能な他の位置決め手段と
を含む。

【００２２】

【作用】マスク基板が接着されたマスク保持枠に、さら
に位置決め用部材を接着することにより、マスク保持枠
と位置決め用部材とを接着する工程において、マスク基
板に形成されたマスクパターンと位置決め用部材とを相
対的に位置合わせすることができる。このため、マスク
基板とマスク保持枠との接着工程で発生した相対位置の
誤差を吸収することができる。これにより、マスクパタ
ーンと位置決め用部材とを精度よく位置合わせして接着
することができる。

【００２３】マスク保持枠に磁性体を取り付けることに
より、マスク固定手段に磁気力によって吸引することが
できる。磁気力による吸引は、真空吸引による吸着に比
べて接触部の面積がはるかに小さいため、ほこりの付着
の影響を受けにくいので、再現性よく安定して位置決め
して吸引することができる。

【００２４】マスク固定手段に設けられた位置決め手段
の一つを、上下に移動可能とすることにより、マスク面
内の回転方向の微調整をすることができる。これによ
り、マスク微動装置の必要ストロークを小さくすること
ができる。このため、マスク微動装置を高剛性にかつ高
精度に作製することができる。

【００２５】

【実施例】図１（Ａ）は、本発明の実施例によるマスク
構造体１０の正面図、図１（Ｂ）は、鎖線Ｂ１−Ｂ１に
沿う断面図を示す。

【００２６】厚さ２ｍｍ、直径３インチのシリコン基板
からなるマスク支持体３の表面にＸ線透過膜４が形成さ
れている。Ｘ線透過膜４の表面には、Ｘ線吸収体１ａ及
びマスク位置合わせ用のマスクマーク１がパターニング
して形成されている。Ｘ線透過膜４には、厚さ２μｍ程
度のＳｉＮ膜またはＳｉＣ膜等が用いられる。また、Ｘ
線吸収体１ａには、厚さ１μｍ以下のタングステン
（Ｗ）またはタンタル（Ｔａ）膜等が用いられる。

【００２７】マスク支持体３の中央部には、裏面からシ
リコン基板をエッチングしてほぼ正方形の開口が形成さ
れＸ線透過領域５が画定されている。マスク保持枠２
は、厚さ４ｍｍのパイレックスガラス板であり、その外
周は一辺の長さが約１２７ｍｍの正方形の各頂点が所定
の面積だけ直角二等辺三角形状に切り落とされた八角形
状をしている。また、その中央部には直径約５６ｍｍの
開口２ａが設けられている。なお、形状は必ずしも円形
である必要はなく、Ｘ線透過領域５を内包するように形
成されていればよい。

【００２８】マスク支持体３は、その中心が開口２ａの
中心と一致し、Ｘ線透過領域５の一辺がマスク保持枠２
の外周の一辺とほぼ並行になるように接着剤で接着され
ている。

【００２９】マスク保持枠２の上部の一辺には、長さ約
１５５ｍｍ、幅約１７ｍｍ、厚さ約３ｍｍの剛性の高い
位置決め用部材６が、その上部の一辺に沿って接着され
ている。位置決め用部材６の両端は、それぞれマスク保
持枠２の外周から約１４ｍｍ突出している。

【００３０】一方の突出部の下辺には、Ｖ字状の切り欠
き７が設けられている。他方の突出部の下辺には、一辺
が水平方向をなすＬ字状の切り欠き８が設けられてい
る。なお、位置決め用部材６は、左右別の部材で構成し
てもよいが、一体構造の方が位置決め操作が１回ですむ
利点がある。

【００３１】また、Ｖ字状の切り欠き部は、後述する位
置決めピンと実質的に２点で接するものであればその他
の形状でもよい。例えば、台形状であってもよい。さら
に、位置決めピンと実質的に２点で接する互いに平行で
なくかつ鉛直面を挟んで向かい合うように形成された２
つの平面を有するものであれば、切り欠き部以外のもの
でもよい。例えば、三角形状の貫通孔であってもよい。

【００３２】また、Ｌ字状の切り欠き部は、位置決めピ
ンと実質的に１点で接するものであればその他の形状で
もよい。例えば、ほぼ水平に形成された１つの平面が画
定されていれば切り欠きを設ける必要はない。

【００３３】マスク保持枠２の裏面には、開口２ａと同
心円をなす円周上にほぼ等間隔に磁性体９ａ、９ｂ、９
ｃが接着されている。磁性体９ａ、９ｂ、９ｃは、マス
ク面に対して平行平面を画定するように設けられ、マス
ク構造体１０を後述するマスクチャックに吸引して固定
するために使用される。

【００３４】位置決め用部材６をマスク保持枠２に接着
する際に、Ｖ字状切り欠き７及びＬ字状切り欠き８と、
マスクマーク１との相対位置が所定の関係になるように
精度よく接着することにより、マスク支持体３をマスク
保持枠２に接着する際に発生した相対位置の誤差を吸収
することができる。

【００３５】位置決め用部材６は、マスク支持体３より
も機械的強度が強いため、マスク支持体３を接着する場
合よりも容易に位置決めして接着することができる。次
に、図２、図３を参照して、マスク構造体１０をマスク
チャックに固定する機構について説明する。

【００３６】図２（Ａ）は、マスク構造体１０を保管し
ているマスク保管部、マスク構造体１０をマクス保管部
からマスクチャックに移載するためのハンドリングアー
ム、及びマスク微動ステージ上に設けられたマスクチャ
ックの正面図、図２（Ｂ）は、鎖線Ｂ２−Ｂ２に沿う断
面図を示す。

【００３７】図２（Ａ）の左側にマスク構造体１０を保
管するためのマスク保管部を示す。レール１１の図中左
側に複数のマスク構造体１０が紙面に垂直の方向に一列
に並んでマスクストッカ１９に保管されている。レール
１１上には、図の左右方向に移動可能な搬送チャック１
２が載置されている。露光すべき所望のマスク構造体１
０が、搬送チャック１２で取り出される位置にくるよう
にマスクストッカ１９が紙面に垂直な方向に移動する。
搬送チャック１２は、左側に移動したときに、所定の位
置のマスク構造体１０を真空吸引して保持し、その後右
側へ移動させる。

【００３８】図２（Ａ）の右側に、Ｘ線露光時にマスク
構造体１０を固定するためのマスクチャック１４を示
す。マスクチャック１４の所定の位置にはマスク構造体
１０に設けられたＶ字状及びＬ字状の切り欠き７、８を
載せてマスク構造体１０を保持するためのマスク位置決
めピン１５、１６が設けられている。

【００３９】図２（Ｂ）に示すように、マスクチャック
１４には、マスク構造体１０の３箇所に設けられている
磁性体９ａ、９ｂ、９ｃに対応する位置に、永久磁石を
磁極とする電磁石１８ａ、１８ｂ、１８ｃが設けられて
おり、マスク構造体１０を吸引して固定することができ
る。なお、電磁石と永久磁石による磁界の向きは互いに
逆向きになるように構成されている。従って、コイルに
電流を流すと、永久磁石による吸引力は打ち消され、電
流を切ると吸引力が働く。

【００４０】図２（Ｂ）のマスクチャック１４の左側に
は、被加工物を保持してマスク構造体１０との最終的な
位置合わせを行うためのマスク微動ステージ１７が配置
されている。露光時には、図の右側からＸ線が照射さ
れ、マスク構造体１０のＸ線透過領域を透過する。この
とき、一部のＸ線はＸ線透過領域に形成されたＸ線吸収
体により吸収されるため、被加工物表面が所定のパター
ンに露光される。

【００４１】マスク保管部とマスクチャック１４との間
には、ハンドリングアーム１３が配置されている。ハン
ドリングアーム１３は、搬送チャック１２によってレー
ル１１上を右側に移動された所望のマスク構造体１０を
その先端部に真空吸着して保持し、支点を中心に所定角
回転することによって、図２（Ａ）の右側のマスクチャ
ック１４の位置に運ぶことができる。

【００４２】次に、図３を参照してマスクチャック１４
の位置に運ばれたマスク構造体１０をマスクチャック１
４に保持する機構について説明する。図３（Ａ）は、ハ
ンドリングアーム１３によってマスク構造体１０がマス
クチャック１４のほぼ正面に運ばれた状態の側面図を示
す。マスク構造体１０が、位置決め用部材６とマスク位
置決めピン１５とが非接触の状態で、ハンドリングアー
ム１３によって保持されている。このとき、電磁石１８
ａ、１８ｂ、１８ｃには電流が流れており、永久磁石に
よる吸引力は打ち消されている。

【００４３】次に、図３（Ｂ）に示すように、ハンドリ
ングアームの真空チャックによる吸引を停止し、マスク
構造体の拘束をなくすと、マスクは自重で落下し、位置
決めピンに接触して停止する。ただし、ハンドリングア
ームの真空チャックとの接触による摩擦のために必ずし
も所定の位置にはない。

【００４４】次に、図３（Ｃ）に示すように、マスクチ
ャック１４とハンドリングアーム１３の両方の保持面に
設けられた図には示さないガス吹き出し口から圧縮気体
２１を吹き出すことにより、マスク１０はマスクチャッ
ク１４とハンドリングアーム１３との中間に浮いた状態
となる。このとき、マスク構造体１０は自重で落下し、
位置決め用部材６に設けられたＶ字状切り欠き７が位置
決めピン１５に納まる。同時に、図３（Ｃ）には示さな
いＬ字状切り欠き８の水平の辺が位置決めピン１６の上
に接する。

【００４５】次に、図３（Ｄ）に示すように、マスクチ
ャック１４側の圧縮気体の吹き出しを停止するとマスク
構造体１０は位置決めピンにより所定の位置に保持され
たままマスクチャック１４のマスク保持面に密着され
る。このようにして、マスク構造体１０を所定の位置に
確実に位置決めすることができる。

【００４６】最後に、図２（Ｂ）に示す電磁石１８ａ〜
１８ｃの電流を切り、永久磁石で磁気吸引することによ
り、マスク構造体１０をマスクチャック１４の所定の位
置に密着固定することができる。また、マスク構造体１
０の落下方向は、２か所の位置決めピンで支えているた
め、何らかのトラブルによりマスクの吸引力が弱くなっ
た場合でも、マスク構造体１０が落下することがない。

【００４７】上記実施例では、マスク構造体１０の位置
決め用部材６を、マスクチャック１４に固定して設けら
れた位置決めピン１５、１６で保持する場合について説
明したが、位置決めピンの一方にマスク取り付け面内で
上下方向に移動できる駆動機構を設けてもよい。例え
ば、位置決めピン１６をインチワーム式アクチュエータ
で構成してもよい。

【００４８】図４は、位置決めピン１６の代わりに使用
可能なインチワーム式アクチュエータ３０の構造を示
す。上側スライダ３２、進行用圧電素子３１、下側スラ
イダ３３がこの順に接続された移動子３５がハウジング
３４に収納されている。上側スライダ３２は、ロック用
レバー３７によって固定され、下側スライダ３３は、ロ
ック用レバー３８によって固定される。ロック用レバー
３７、３８は、それぞれロック用圧電素子３９、４０に
よって回転駆動され移動子を固定、または固定解除する
ことができる。

【００４９】例えば、下側スライダ３３のみを固定した
状態で進行用圧電素子３１に伸び変位を与え、続いて上
側スライダ３２を固定し、下側スライダ３３を固定解除
して、進行用圧電素子３１に縮み変位を与える。この動
作を繰り返すことによって、移動子３５を上方に移動す
ることができる。

【００５０】逆の動作を行えば、移動子３５を下方に移
動することができる。マスクチャック１４の位置決めピ
ン１６の代わりに、このインチワーム式アクチュエータ
３０を使用することにより、マスク構造体１０を位置決
めピン１５とインチワーム式アクチュエータ３０で保持
した後、保持面内で微小回転することができる。

【００５１】このように、位置決めピンを微小に上下移
動することにより、マスク構造体１０作成時にマスク面
内の回転方向に関する精度が不十分であった場合等に、
必要精度になるまで修正することができる。

【００５２】このため、マスク微動ステージは、最小限
のストローク及び回転ができればよく、微動ステージを
高剛性かつ高精度に作製することが可能になる。また、
微動機構がインチワーム式アクチュエータであるため、
高分解能かつ長ストロークの駆動機構を極めて微小なス
ペースで実現することができる。さらに、位置決め完了
後のロック部からマスク構造体１０支持点までの距離が
極めて短いため、ロック後の位置ずれやドリフトがな
く、安定して支持することができる。

【００５３】以上実施例に沿って本発明を説明したが、
本発明はこれらに制限されるものではない。例えば、種
々の変更、改良、組み合わせ等が可能なことは当業者に
自明であろう。

【００５４】

【発明の効果】以上説明したとおり、本発明によれば、
Ｘ線マスク構造体を、再現性よくかつ容易に位置合わせ
して、マスクチャックに固定することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施例によるマスク構造体の正面図及
び断面図である。

【図２】本発明の実施例によるマスク保管部、ハンドリ
ングアーム、マスクチャックの正面図、及びハンドリン
グアーム、マスクチャックの断面図である。

【図３】本発明の実施例によるマスクチャックとハンド
リングアームの側面図である。

【図４】本発明の実施例によるインチワーム式アクチュ
エータの断面図である。

【図５】従来例によるマスク構造体の断面図及び正面図
である。

【図６】従来例によるマスク位置決め装置の斜視図であ
る。

【図７】他の従来例によるマスク位置決め装置の斜視図
である。

【図８】さらに他の従来例によるマスク位置決め装置の
斜視図である。

【符号の説明】

１マスクマーク１ａＸ線吸収体２マスク保持枠２ａ開口３マスク支持体４Ｘ線透過膜５Ｘ線透過領域６位置決め用部材７Ｖ字状切り欠き８Ｌ字状切り欠き９ａ、９ｂ、９ｃ磁性体１０マスク構造体１１レール１２搬送チャック１３ハンドリングアーム１４マスクチャック１５、１６位置決めピン１７マスク微動ステージ１８ａ、１８ｂ、１８ｃ電磁石１９マスクストッカ２０、２１圧縮気体３０インチワーム式アクチュエータ３１進行用圧電素子３２上側スライダ３３下側スライダ３４ハウジング３５移動子３７、３８ロック用レバー３９、４０ロック用圧電素子１０１マスクマーク１０１ａＸ線吸収体１０２マスク保持枠１０３マスク支持体１０４Ｘ線透過膜１０５開口１０６マスクステージベース１０７ａ、１０７ｂ、１０７ｃ位置決めピン１１０マスク構造体１１３ａ、１１３ｂ孔１１４、１１５位置決めピン１１７マスクステージベース１１８真空吸着保持機構１２０マスク保持枠１２１真空吸着保持機構１２２Ｔ字位置決めピン１２３位置決めピン１２４Ｌ字状切り欠き１２４ａＬ字状切り欠き一辺

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】密着係合面から突出して設けられた少な
くとも２つの位置決め手段を有するマスク固定手段に、
該位置決め手段によって吊り下げられ、かつ吸引されて
位置決めされるマスク構造体であって、マスクパターンが形成されたマスク基板（３）と、前記マスク基板が接着されるマスク保持枠（２）と、前記マスク保持枠の対向辺から突出するように前記マス
ク保持枠に接着され、一方の突出部には、前記マスク固
定手段に設けられた一方の位置決め手段と実質的に２点
で接する切欠き部（７）を有し、他方の突出部には、前
記マスク固定手段に設けられた他方の位置決め手段と実
質的に１点で接するように形成された係合部（８）を有
する位置決め部材（６）とを含むマスク構造体。
【請求項２】さらに、前記マスク保持枠のマスク固定
手段と係合する面には、少なくとも３個の磁性体（９
ａ、９ｂ、９ｃ）が取り付けられている請求項１記載の
マスク構造体。
【請求項３】マスクパターンが形成されたマスク構造
体を吊り下げ、かつ吸引して位置決めするマスク固定手
段であって、マスク構造体を吸引する係合面から突出して設けられ、
前記マスク構造体を支える一方の位置決め手段と、前記係合面上から突出して設けられ、前記マスク構造体
との接触点が上下に移動可能な他の位置決め手段とを含
むマスク固定手段。