JPH07173225A - 光熱写真およびサーモグラフィ要素中のモトルを減少させる添加剤 - Google Patents
光熱写真およびサーモグラフィ要素中のモトルを減少させる添加剤Info
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- 239000000654 additive Substances 0.000 title abstract description 8
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 title abstract 2
- 238000001931 thermography Methods 0.000 title 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims abstract description 77
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims abstract description 36
- 229920002313 fluoropolymer Polymers 0.000 claims abstract description 25
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims abstract description 19
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 10
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims description 142
- 239000004332 silver Substances 0.000 claims description 142
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 88
- -1 silver halide Chemical class 0.000 claims description 83
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 claims description 38
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 35
- GGCZERPQGJTIQP-UHFFFAOYSA-N sodium;9,10-dioxoanthracene-2-sulfonic acid Chemical compound [Na+].C1=CC=C2C(=O)C3=CC(S(=O)(=O)O)=CC=C3C(=O)C2=C1 GGCZERPQGJTIQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 30
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 claims description 29
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 28
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 28
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 claims description 6
- JKFYKCYQEWQPTM-UHFFFAOYSA-N 2-azaniumyl-2-(4-fluorophenyl)acetate Chemical compound OC(=O)C(N)C1=CC=C(F)C=C1 JKFYKCYQEWQPTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910021607 Silver chloride Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910021612 Silver iodide Inorganic materials 0.000 claims description 2
- ADZWSOLPGZMUMY-UHFFFAOYSA-M silver bromide Chemical group [Ag]Br ADZWSOLPGZMUMY-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 2
- 229940045105 silver iodide Drugs 0.000 claims description 2
- HKZLPVFGJNLROG-UHFFFAOYSA-M silver monochloride Chemical compound [Cl-].[Ag+] HKZLPVFGJNLROG-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 2
- 239000002954 polymerization reaction product Substances 0.000 claims 3
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 claims 2
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 abstract description 54
- 229920002818 (Hydroxyethyl)methacrylate Polymers 0.000 abstract description 30
- WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N Hydroxyethyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCO WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 30
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 5
- MHFSPKGNTSFZOQ-UHFFFAOYSA-N [2-[ethyl(1,1,2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8-heptadecafluorooctylsulfonyl)amino]-1,1,2,2-tetrafluoroethyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC(F)(F)C(F)(F)N(CC)S(=O)(=O)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F MHFSPKGNTSFZOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 146
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 146
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 73
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 47
- 239000000463 material Substances 0.000 description 47
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 41
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 32
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 32
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 27
- 238000000034 method Methods 0.000 description 27
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 22
- 150000003378 silver Chemical class 0.000 description 21
- 238000011161 development Methods 0.000 description 19
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 17
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 15
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 14
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 12
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 description 11
- UKMSUNONTOPOIO-UHFFFAOYSA-N docosanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O UKMSUNONTOPOIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 10
- AQRYNYUOKMNDDV-UHFFFAOYSA-M silver behenate Chemical compound [Ag+].CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O AQRYNYUOKMNDDV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 10
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 9
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 9
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 9
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 9
- 230000001235 sensitizing effect Effects 0.000 description 9
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 9
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 8
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 8
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 8
- 239000000344 soap Substances 0.000 description 8
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 7
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 7
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 7
- ANRHNWWPFJCPAZ-UHFFFAOYSA-M thionine Chemical class [Cl-].C1=CC(N)=CC2=[S+]C3=CC(N)=CC=C3N=C21 ANRHNWWPFJCPAZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 7
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 7
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 7
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- CIWBSHSKHKDKBQ-JLAZNSOCSA-N Ascorbic acid Chemical compound OC[C@H](O)[C@H]1OC(=O)C(O)=C1O CIWBSHSKHKDKBQ-JLAZNSOCSA-N 0.000 description 6
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 6
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 6
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 6
- 229920001897 terpolymer Polymers 0.000 description 6
- 235000021357 Behenic acid Nutrition 0.000 description 5
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 5
- 229940116226 behenic acid Drugs 0.000 description 5
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 description 5
- DZVCFNFOPIZQKX-LTHRDKTGSA-M merocyanine Chemical compound [Na+].O=C1N(CCCC)C(=O)N(CCCC)C(=O)C1=C\C=C\C=C/1N(CCCS([O-])(=O)=O)C2=CC=CC=C2O\1 DZVCFNFOPIZQKX-LTHRDKTGSA-M 0.000 description 5
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 5
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 5
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 5
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 5
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 5
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 5
- 230000008569 process Effects 0.000 description 5
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 5
- 238000006722 reduction reaction Methods 0.000 description 5
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 5
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 5
- ONIKNECPXCLUHT-UHFFFAOYSA-N 2-chlorobenzoyl chloride Chemical compound ClC(=O)C1=CC=CC=C1Cl ONIKNECPXCLUHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 108010010803 Gelatin Proteins 0.000 description 4
- NVXLIZQNSVLKPO-UHFFFAOYSA-N Glucosereductone Chemical compound O=CC(O)C=O NVXLIZQNSVLKPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 244000068988 Glycine max Species 0.000 description 4
- 235000010469 Glycine max Nutrition 0.000 description 4
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 4
- 206010070834 Sensitisation Diseases 0.000 description 4
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000007933 aliphatic carboxylic acids Chemical class 0.000 description 4
- IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N benzothiazole Chemical class C1=CC=C2SC=NC2=C1 IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- YCIMNLLNPGFGHC-UHFFFAOYSA-N catechol Chemical compound OC1=CC=CC=C1O YCIMNLLNPGFGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 4
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 4
- 238000005187 foaming Methods 0.000 description 4
- 229920000159 gelatin Polymers 0.000 description 4
- 239000008273 gelatin Substances 0.000 description 4
- 235000019322 gelatine Nutrition 0.000 description 4
- 235000011852 gelatine desserts Nutrition 0.000 description 4
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 4
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 4
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 4
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 4
- 150000002923 oximes Chemical class 0.000 description 4
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 4
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 4
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 4
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 4
- 238000011160 research Methods 0.000 description 4
- 230000008313 sensitization Effects 0.000 description 4
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 4
- 229920001169 thermoplastic Polymers 0.000 description 4
- OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethyl prop-2-enoate Chemical compound OCCOC(=O)C=C OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CWJJAFQCTXFSTA-UHFFFAOYSA-N 4-methylphthalic acid Chemical compound CC1=CC=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=C1 CWJJAFQCTXFSTA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 3
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 3
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 3
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 3
- 229920003232 aliphatic polyester Polymers 0.000 description 3
- SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N alpha-Methyl-n-butyl acrylate Natural products CCCCOC(=O)C(C)=C SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 235000010323 ascorbic acid Nutrition 0.000 description 3
- 229960005070 ascorbic acid Drugs 0.000 description 3
- 239000011668 ascorbic acid Substances 0.000 description 3
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 3
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 3
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 3
- 229920002301 cellulose acetate Polymers 0.000 description 3
- 230000008859 change Effects 0.000 description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- 230000032798 delamination Effects 0.000 description 3
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 3
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 3
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 3
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 3
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 3
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 3
- 239000000123 paper Substances 0.000 description 3
- IJAPPYDYQCXOEF-UHFFFAOYSA-N phthalazin-1(2H)-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)NN=CC2=C1 IJAPPYDYQCXOEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 3
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 3
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 3
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 3
- 229920002689 polyvinyl acetate Polymers 0.000 description 3
- 239000011118 polyvinyl acetate Substances 0.000 description 3
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 3
- 229920001059 synthetic polymer Polymers 0.000 description 3
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- AUHHYELHRWCWEZ-UHFFFAOYSA-N tetrachlorophthalic anhydride Chemical compound ClC1=C(Cl)C(Cl)=C2C(=O)OC(=O)C2=C1Cl AUHHYELHRWCWEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KJUGUADJHNHALS-UHFFFAOYSA-N 1H-tetrazole Chemical class C=1N=NNN=1 KJUGUADJHNHALS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SULYEHHGGXARJS-UHFFFAOYSA-N 2',4'-dihydroxyacetophenone Chemical compound CC(=O)C1=CC=C(O)C=C1O SULYEHHGGXARJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JKNCOURZONDCGV-UHFFFAOYSA-N 2-(dimethylamino)ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CN(C)CCOC(=O)C(C)=C JKNCOURZONDCGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RPWDFMGIRPZGTI-UHFFFAOYSA-N 2-[1-(2-hydroxy-3,5-dimethylphenyl)-3,5,5-trimethylhexyl]-4,6-dimethylphenol Chemical compound C=1C(C)=CC(C)=C(O)C=1C(CC(C)CC(C)(C)C)C1=CC(C)=CC(C)=C1O RPWDFMGIRPZGTI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BCHZICNRHXRCHY-UHFFFAOYSA-N 2h-oxazine Chemical compound N1OC=CC=C1 BCHZICNRHXRCHY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WZHHYIOUKQNLQM-UHFFFAOYSA-N 3,4,5,6-tetrachlorophthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=C(Cl)C(Cl)=C(Cl)C(Cl)=C1C(O)=O WZHHYIOUKQNLQM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CWIYBOJLSWJGKV-UHFFFAOYSA-N 5-methyl-1,3-dihydrobenzimidazole-2-thione Chemical compound CC1=CC=C2NC(S)=NC2=C1 CWIYBOJLSWJGKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OMSOCKVRQMSMTK-UHFFFAOYSA-N 5-methyl-2-(tribromomethylsulfonyl)-3h-thiadiazole Chemical compound CC1=CNN(S(=O)(=O)C(Br)(Br)Br)S1 OMSOCKVRQMSMTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 241000251468 Actinopterygii Species 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229930185605 Bisphenol Natural products 0.000 description 2
- KHMSVOWBEUFPHS-UHFFFAOYSA-N C(C=C)(=O)O.S(=O)(=O)=N Chemical class C(C=C)(=O)O.S(=O)(=O)=N KHMSVOWBEUFPHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000000996 L-ascorbic acids Chemical class 0.000 description 2
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 2
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 2
- 229920002472 Starch Polymers 0.000 description 2
- 241001061127 Thione Species 0.000 description 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000005856 abnormality Effects 0.000 description 2
- DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N acetaldehyde Diethyl Acetal Natural products CCOC(C)OCC DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001241 acetals Chemical class 0.000 description 2
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 2
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 2
- 238000007754 air knife coating Methods 0.000 description 2
- 150000001299 aldehydes Chemical class 0.000 description 2
- LEQAOMBKQFMDFZ-UHFFFAOYSA-N alpha-ketodiacetal Natural products O=CC=O LEQAOMBKQFMDFZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 2
- XSCHRSMBECNVNS-UHFFFAOYSA-N benzopyrazine Natural products N1=CC=NC2=CC=CC=C21 XSCHRSMBECNVNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000649 benzylidene group Chemical group [H]C(=[*])C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- 229910001622 calcium bromide Inorganic materials 0.000 description 2
- WGEFECGEFUFIQW-UHFFFAOYSA-L calcium dibromide Chemical compound [Ca+2].[Br-].[Br-] WGEFECGEFUFIQW-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 2
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 2
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 2
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 2
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 2
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 2
- 230000009977 dual effect Effects 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000012467 final product Substances 0.000 description 2
- NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N fluoromethane Chemical group FC NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000006870 function Effects 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 229940093915 gynecological organic acid Drugs 0.000 description 2
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 2
- IPCSVZSSVZVIGE-UHFFFAOYSA-N hexadecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O IPCSVZSSVZVIGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- BQPIGGFYSBELGY-UHFFFAOYSA-N mercury(2+) Chemical class [Hg+2] BQPIGGFYSBELGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FBSFWRHWHYMIOG-UHFFFAOYSA-N methyl 3,4,5-trihydroxybenzoate Chemical compound COC(=O)C1=CC(O)=C(O)C(O)=C1 FBSFWRHWHYMIOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QPJVMBTYPHYUOC-UHFFFAOYSA-N methyl benzoate Chemical compound COC(=O)C1=CC=CC=C1 QPJVMBTYPHYUOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- 239000003607 modifier Substances 0.000 description 2
- NSBNSZAXNUGWDJ-UHFFFAOYSA-O monopyridin-1-ium tribromide Chemical compound Br[Br-]Br.C1=CC=[NH+]C=C1 NSBNSZAXNUGWDJ-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 2
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 2
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 2
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 2
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 2
- LFSXCDWNBUNEEM-UHFFFAOYSA-N phthalazine Chemical compound C1=NN=CC2=CC=CC=C21 LFSXCDWNBUNEEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002239 polyacrylonitrile Polymers 0.000 description 2
- 229920006267 polyester film Polymers 0.000 description 2
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 2
- 239000004848 polyfunctional curative Substances 0.000 description 2
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 2
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N pyrogallol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1O WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CYIDZMCFTVVTJO-UHFFFAOYSA-N pyromellitic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC(C(O)=O)=C(C(O)=O)C=C1C(O)=O CYIDZMCFTVVTJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 2
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 2
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 2
- ZUNKMNLKJXRCDM-UHFFFAOYSA-N silver bromoiodide Chemical compound [Ag].IBr ZUNKMNLKJXRCDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940100890 silver compound Drugs 0.000 description 2
- 150000003379 silver compounds Chemical class 0.000 description 2
- NDVLTYZPCACLMA-UHFFFAOYSA-N silver oxide Chemical compound [O-2].[Ag+].[Ag+] NDVLTYZPCACLMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CLDWGXZGFUNWKB-UHFFFAOYSA-M silver;benzoate Chemical compound [Ag+].[O-]C(=O)C1=CC=CC=C1 CLDWGXZGFUNWKB-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 2
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 2
- 239000008107 starch Substances 0.000 description 2
- 235000019698 starch Nutrition 0.000 description 2
- 125000004079 stearyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 2
- KZNICNPSHKQLFF-UHFFFAOYSA-N succinimide Chemical compound O=C1CCC(=O)N1 KZNICNPSHKQLFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SEEPANYCNGTZFQ-UHFFFAOYSA-N sulfadiazine Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1S(=O)(=O)NC1=NC=CC=N1 SEEPANYCNGTZFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000565 sulfonamide group Chemical group 0.000 description 2
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 2
- 239000000979 synthetic dye Substances 0.000 description 2
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CWERGRDVMFNCDR-UHFFFAOYSA-N thioglycolic acid Chemical compound OC(=O)CS CWERGRDVMFNCDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N thiourea Chemical class NC(N)=S UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002966 varnish Substances 0.000 description 2
- 238000011179 visual inspection Methods 0.000 description 2
- DZZAHYHMWKNGLC-UHFFFAOYSA-N (1,2,2,3,3,4,4,5,5,6,6-undecafluorocyclohexyl)methyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C1(F)F DZZAHYHMWKNGLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LUMLZKVIXLWTCI-NSCUHMNNSA-N (e)-2,3-dichloro-4-oxobut-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C(\Cl)=C(/Cl)C=O LUMLZKVIXLWTCI-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 1
- JVJVAVWMGAQRFN-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8-heptadecafluorooctyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F JVJVAVWMGAQRFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UDATXMIGEVPXTR-UHFFFAOYSA-N 1,2,4-triazolidine-3,5-dione Chemical compound O=C1NNC(=O)N1 UDATXMIGEVPXTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XBYRMPXUBGMOJC-UHFFFAOYSA-N 1,2-dihydropyrazol-3-one Chemical class OC=1C=CNN=1 XBYRMPXUBGMOJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BIGYLAKFCGVRAN-UHFFFAOYSA-N 1,3,4-thiadiazolidine-2,5-dithione Chemical compound S=C1NNC(=S)S1 BIGYLAKFCGVRAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YHMYGUUIMTVXNW-UHFFFAOYSA-N 1,3-dihydrobenzimidazole-2-thione Chemical class C1=CC=C2NC(S)=NC2=C1 YHMYGUUIMTVXNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000005207 1,3-dihydroxybenzenes Chemical class 0.000 description 1
- UHKAJLSKXBADFT-UHFFFAOYSA-N 1,3-indandione Chemical class C1=CC=C2C(=O)CC(=O)C2=C1 UHKAJLSKXBADFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZDWVOYRAWVKGHA-UHFFFAOYSA-N 1,3-thiazole-4-thiol Chemical class SC1=CSC=N1 ZDWVOYRAWVKGHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOBPZXTWZATXDG-UHFFFAOYSA-N 1,3-thiazolidine-2,4-dione Chemical compound O=C1CSC(=O)N1 ZOBPZXTWZATXDG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YNGDWRXWKFWCJY-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dihydropyridine Chemical class C1C=CNC=C1 YNGDWRXWKFWCJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZRHUHDUEXWHZMA-UHFFFAOYSA-N 1,4-dihydropyrazol-5-one Chemical compound O=C1CC=NN1 ZRHUHDUEXWHZMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000005208 1,4-dihydroxybenzenes Chemical class 0.000 description 1
- YLVACWCCJCZITJ-UHFFFAOYSA-N 1,4-dioxane-2,3-diol Chemical compound OC1OCCOC1O YLVACWCCJCZITJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBCKQZAAMUWICA-UHFFFAOYSA-N 1,4-phenylenediamine Chemical compound NC1=CC=C(N)C=C1 CBCKQZAAMUWICA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LRGBKQAXMKYMHJ-UHFFFAOYSA-N 1,5-diphenyl-1,2,5,6-tetrahydro-[1,2,4]triazolo[1,2-a][1,2,4]triazole-3,7-dithione Chemical compound S=C1NC(C=2C=CC=CC=2)N(C(N2)=S)N1C2C1=CC=CC=C1 LRGBKQAXMKYMHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SIQZJFKTROUNPI-UHFFFAOYSA-N 1-(hydroxymethyl)-5,5-dimethylhydantoin Chemical compound CC1(C)N(CO)C(=O)NC1=O SIQZJFKTROUNPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZPANWZBSGMDWON-UHFFFAOYSA-N 1-[(2-hydroxynaphthalen-1-yl)methyl]naphthalen-2-ol Chemical compound C1=CC=C2C(CC3=C4C=CC=CC4=CC=C3O)=C(O)C=CC2=C1 ZPANWZBSGMDWON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FYBFGAFWCBMEDG-UHFFFAOYSA-N 1-[3,5-di(prop-2-enoyl)-1,3,5-triazinan-1-yl]prop-2-en-1-one Chemical class C=CC(=O)N1CN(C(=O)C=C)CN(C(=O)C=C)C1 FYBFGAFWCBMEDG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UDJZTGMLYITLIQ-UHFFFAOYSA-N 1-ethenylpyrrolidine Chemical compound C=CN1CCCC1 UDJZTGMLYITLIQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WFYLHMAYBQLBEM-UHFFFAOYSA-N 1-phenyl-1,2,4-triazolidine-3,5-dione Chemical compound O=C1NC(=O)NN1C1=CC=CC=C1 WFYLHMAYBQLBEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WJFKNYWRSNBZNX-UHFFFAOYSA-N 10H-phenothiazine Chemical compound C1=CC=C2NC3=CC=CC=C3SC2=C1 WJFKNYWRSNBZNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AFBBKYQYNPNMAT-UHFFFAOYSA-N 1h-1,2,4-triazol-1-ium-3-thiolate Chemical compound SC=1N=CNN=1 AFBBKYQYNPNMAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IWDUDCDZGOLTTJ-UHFFFAOYSA-N 1h-imidazole;silver Chemical class [Ag].C1=CNC=N1 IWDUDCDZGOLTTJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZEQIWKHCJWRNTH-UHFFFAOYSA-N 1h-pyrimidine-2,4-dithione Chemical compound S=C1C=CNC(=S)N1 ZEQIWKHCJWRNTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AVRPFRMDMNDIDH-UHFFFAOYSA-N 1h-quinazolin-2-one Chemical compound C1=CC=CC2=NC(O)=NC=C21 AVRPFRMDMNDIDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SDQJTWBNWQABLE-UHFFFAOYSA-N 1h-quinazoline-2,4-dione Chemical compound C1=CC=C2C(=O)NC(=O)NC2=C1 SDQJTWBNWQABLE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HAZJTCQWIDBCCE-UHFFFAOYSA-N 1h-triazine-6-thione Chemical compound SC1=CC=NN=N1 HAZJTCQWIDBCCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KGRVJHAUYBGFFP-UHFFFAOYSA-N 2,2'-Methylenebis(4-methyl-6-tert-butylphenol) Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(C)=CC(CC=2C(=C(C=C(C)C=2)C(C)(C)C)O)=C1O KGRVJHAUYBGFFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YSQGYEYXKXGAQA-UHFFFAOYSA-N 2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8-pentadecafluorooctyl prop-2-enoate Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)COC(=O)C=C YSQGYEYXKXGAQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YTQQIHUQLOZOJI-UHFFFAOYSA-N 2,3-dihydro-1,2-thiazole Chemical compound C1NSC=C1 YTQQIHUQLOZOJI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VZYDKJOUEPFKMW-UHFFFAOYSA-N 2,3-dihydroxybenzenesulfonic acid Chemical compound OC1=CC=CC(S(O)(=O)=O)=C1O VZYDKJOUEPFKMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GLDQAMYCGOIJDV-UHFFFAOYSA-N 2,3-dihydroxybenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(O)=C1O GLDQAMYCGOIJDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZXDDPOHVAMWLBH-UHFFFAOYSA-N 2,4-Dihydroxybenzophenone Chemical compound OC1=CC(O)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 ZXDDPOHVAMWLBH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004201 2,4-dichlorophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(*)=C(Cl)C([H])=C1Cl 0.000 description 1
- ZKEGGSPWBGCPNF-UHFFFAOYSA-N 2,5-dihydroxy-5-methyl-3-(piperidin-1-ylamino)cyclopent-2-en-1-one Chemical compound O=C1C(C)(O)CC(NN2CCCCC2)=C1O ZKEGGSPWBGCPNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- INQNLBFXQRNUCZ-UHFFFAOYSA-N 2,6-ditert-butyl-4-[(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)-phenylmethyl]phenol Chemical compound CC(C)(C)C1=C(O)C(C(C)(C)C)=CC(C(C=2C=CC=CC=2)C=2C=C(C(O)=C(C=2)C(C)(C)C)C(C)(C)C)=C1 INQNLBFXQRNUCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YWECCEXWKFHHQJ-UHFFFAOYSA-N 2-(4-chlorobenzoyl)benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)C1=CC=C(Cl)C=C1 YWECCEXWKFHHQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NREKJIIPVVKRNO-UHFFFAOYSA-N 2-(tribromomethylsulfonyl)-1,3-benzothiazole Chemical compound C1=CC=C2SC(S(=O)(=O)C(Br)(Br)Br)=NC2=C1 NREKJIIPVVKRNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RZDNXBOXSFUJAK-UHFFFAOYSA-N 2-[(dimethylamino)methyl]isoindole-1,3-dione Chemical compound C1=CC=C2C(=O)N(CN(C)C)C(=O)C2=C1 RZDNXBOXSFUJAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTJZWOGSCLVJLD-UHFFFAOYSA-N 2-[1,1,2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8-heptadecafluorooctylsulfonyl(methyl)amino]ethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCN(C)S(=O)(=O)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F RTJZWOGSCLVJLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HWBWBLRREQBXCC-UHFFFAOYSA-N 2-chloro-4-oxohexa-2,5-dienoic acid Chemical compound C=CC(=O)C=C(C(=O)O)Cl HWBWBLRREQBXCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004182 2-chlorophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(Cl)=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- DKFPBXQCCCIWLC-UHFFFAOYSA-N 2-cyano-2-phenylacetic acid Chemical compound OC(=O)C(C#N)C1=CC=CC=C1 DKFPBXQCCCIWLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VKNASXZDGZNEDA-UHFFFAOYSA-N 2-cyanoethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCC#N VKNASXZDGZNEDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NEAQRZUHTPSBBM-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-3,3-dimethyl-7-nitro-4h-isoquinolin-1-one Chemical compound C1=C([N+]([O-])=O)C=C2C(=O)N(O)C(C)(C)CC2=C1 NEAQRZUHTPSBBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KTWCUGUUDHJVIH-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxybenzo[de]isoquinoline-1,3-dione Chemical compound C1=CC(C(N(O)C2=O)=O)=C3C2=CC=CC3=C1 KTWCUGUUDHJVIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CFMZSMGAMPBRBE-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyisoindole-1,3-dione Chemical compound C1=CC=C2C(=O)N(O)C(=O)C2=C1 CFMZSMGAMPBRBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FLFWJIBUZQARMD-UHFFFAOYSA-N 2-mercapto-1,3-benzoxazole Chemical compound C1=CC=C2OC(S)=NC2=C1 FLFWJIBUZQARMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIQPERPLCCTBGX-UHFFFAOYSA-N 2-phenylacetic acid;silver Chemical compound [Ag].OC(=O)CC1=CC=CC=C1 UIQPERPLCCTBGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- SCNKFUNWPYDBQX-UHFFFAOYSA-N 2-sulfanyl-3h-thiadiazol-5-amine Chemical class NC1=CNN(S)S1 SCNKFUNWPYDBQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BKZXZGWHTRCFPX-UHFFFAOYSA-N 2-tert-butyl-6-methylphenol Chemical compound CC1=CC=CC(C(C)(C)C)=C1O BKZXZGWHTRCFPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CMLFRMDBDNHMRA-UHFFFAOYSA-N 2h-1,2-benzoxazine Chemical compound C1=CC=C2C=CNOC2=C1 CMLFRMDBDNHMRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AGIJRRREJXSQJR-UHFFFAOYSA-N 2h-thiazine Chemical compound N1SC=CC=C1 AGIJRRREJXSQJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YMTYZTXUZLQUSF-UHFFFAOYSA-N 3,3'-Dimethylbisphenol A Chemical compound C1=C(O)C(C)=CC(C(C)(C)C=2C=C(C)C(O)=CC=2)=C1 YMTYZTXUZLQUSF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CNLCCGYRTCNLFL-UHFFFAOYSA-N 3,3-dimethoxycyclohexa-1,5-diene-1-carbaldehyde Chemical compound COC1(CC=CC(C=O)=C1)OC CNLCCGYRTCNLFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QGTQPTZBBLHLBV-UHFFFAOYSA-N 3,4-diphenyl-1h-1,2,4-triazole-5-thione Chemical compound C=1C=CC=CC=1N1C(=S)NN=C1C1=CC=CC=C1 QGTQPTZBBLHLBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DIUKQPZKCVGFDG-UHFFFAOYSA-N 3,5-dichlorobenzenesulfonamide;phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1.NS(=O)(=O)C1=CC(Cl)=CC(Cl)=C1 DIUKQPZKCVGFDG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AKRDSDDYNMVKCX-UHFFFAOYSA-N 3,5-dimethylpyrazole-1-carboxamide Chemical compound CC=1C=C(C)N(C(N)=O)N=1 AKRDSDDYNMVKCX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KZFMGQGVVIBTIH-UHFFFAOYSA-N 3-(4-methyl-2-sulfanylidene-1,3-thiazol-3-yl)propanoic acid Chemical compound CC1=CSC(=S)N1CCC(O)=O KZFMGQGVVIBTIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MTROFQOXRRQZST-UHFFFAOYSA-N 3-chlorooct-1-ene Chemical compound CCCCCC(Cl)C=C MTROFQOXRRQZST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GNSFRPWPOGYVLO-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxypropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCCO GNSFRPWPOGYVLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QZPSOSOOLFHYRR-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxypropyl prop-2-enoate Chemical compound OCCCOC(=O)C=C QZPSOSOOLFHYRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OXRSFHYBIRFJSF-UHFFFAOYSA-N 3-phenyl-1,4-dihydropyrazol-5-one Chemical compound N1C(=O)CC(C=2C=CC=CC=2)=N1 OXRSFHYBIRFJSF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QEQVCPKISCKMOQ-UHFFFAOYSA-N 3h-benzo[f][1,2]benzoxazine Chemical class C1=CC=CC2=C(C=CNO3)C3=CC=C21 QEQVCPKISCKMOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VPWNQTHUCYMVMZ-UHFFFAOYSA-N 4,4'-sulfonyldiphenol Chemical class C1=CC(O)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(O)C=C1 VPWNQTHUCYMVMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ODJUOZPKKHIEOZ-UHFFFAOYSA-N 4-[2-(4-hydroxy-3,5-dimethylphenyl)propan-2-yl]-2,6-dimethylphenol Chemical compound CC1=C(O)C(C)=CC(C(C)(C)C=2C=C(C)C(O)=C(C)C=2)=C1 ODJUOZPKKHIEOZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KXFRSVCWEHBKQT-UHFFFAOYSA-N 4-naphthalen-1-yl-2h-phthalazin-1-one Chemical compound C12=CC=CC=C2C(=O)NN=C1C1=CC=CC2=CC=CC=C12 KXFRSVCWEHBKQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SLBQXWXKPNIVSQ-UHFFFAOYSA-N 4-nitrophthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1C(O)=O SLBQXWXKPNIVSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PUGUFBAPNSPHHY-UHFFFAOYSA-N 4-phenyl-1h-1,2,4-triazole-5-thione Chemical class SC1=NN=CN1C1=CC=CC=C1 PUGUFBAPNSPHHY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NSPMIYGKQJPBQR-UHFFFAOYSA-N 4H-1,2,4-triazole Chemical class C=1N=CNN=1 NSPMIYGKQJPBQR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CFIUCOKDVARZGF-UHFFFAOYSA-N 5,7-dimethoxy-2h-phthalazin-1-one Chemical compound C1=NNC(=O)C2=CC(OC)=CC(OC)=C21 CFIUCOKDVARZGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HRYGOETWDCTINN-UHFFFAOYSA-N 5-[ethyl(1,1,2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8-heptadecafluorooctylsulfonyl)amino]-3,4,4,5,5-pentafluoro-2-(trifluoromethyl)pent-2-enoic acid Chemical compound CCN(C(C(C(=C(C(=O)O)C(F)(F)F)F)(F)F)(F)F)S(=O)(=O)C(C(C(C(C(C(C(C(F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)F HRYGOETWDCTINN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AFQMMWNCTDMSBG-UHFFFAOYSA-N 5-chloro-2h-benzotriazole;silver Chemical compound [Ag].ClC1=CC=C2NN=NC2=C1 AFQMMWNCTDMSBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WIYVVIUBKNTNKG-UHFFFAOYSA-N 6,7-dimethoxy-3,4-dihydronaphthalene-2-carboxylic acid Chemical compound C1CC(C(O)=O)=CC2=C1C=C(OC)C(OC)=C2 WIYVVIUBKNTNKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SSPYSWLZOPCOLO-UHFFFAOYSA-N 6-azauracil Chemical compound O=C1C=NNC(=O)N1 SSPYSWLZOPCOLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OORIFUHRGQKYEV-UHFFFAOYSA-N 6-bromo-1-(6-bromo-2-hydroxynaphthalen-1-yl)naphthalen-2-ol Chemical group BrC1=CC=C2C(C3=C4C=CC(Br)=CC4=CC=C3O)=C(O)C=CC2=C1 OORIFUHRGQKYEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDECIMXTYLBMFQ-UHFFFAOYSA-N 6-chloro-2h-phthalazin-1-one Chemical compound C1=NNC(=O)C=2C1=CC(Cl)=CC=2 XDECIMXTYLBMFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBAMYDGWXQMALO-UHFFFAOYSA-N 6-nitro-1,3-benzoxazine-2,4-dione Chemical compound O1C(=O)NC(=O)C2=CC([N+](=O)[O-])=CC=C21 SBAMYDGWXQMALO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LITUBCVUXPBCGA-WMZHIEFXSA-N Ascorbyl stearate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(=O)OC[C@H](O)[C@H]1OC(=O)C(O)=C1O LITUBCVUXPBCGA-WMZHIEFXSA-N 0.000 description 1
- 239000004261 Ascorbyl stearate Substances 0.000 description 1
- ZTQSAGDEMFDKMZ-UHFFFAOYSA-N Butyraldehyde Chemical compound CCCC=O ZTQSAGDEMFDKMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BKGOEKOJWMSNRX-UHFFFAOYSA-L C(C1(C)C(C)(C)C(C(=O)[O-])CC1)(=O)[O-].[Ag+2] Chemical compound C(C1(C)C(C)(C)C(C(=O)[O-])CC1)(=O)[O-].[Ag+2] BKGOEKOJWMSNRX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- SOPOWMHJZSPMBC-UHFFFAOYSA-L C(C1=CC=C(C(=O)[O-])C=C1)(=O)[O-].[Ag+2] Chemical compound C(C1=CC=C(C(=O)[O-])C=C1)(=O)[O-].[Ag+2] SOPOWMHJZSPMBC-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- AXVCDCGTJGNMKM-UHFFFAOYSA-L C(C=1C(C(=O)[O-])=CC=CC1)(=O)[O-].[Ag+2] Chemical compound C(C=1C(C(=O)[O-])=CC=CC1)(=O)[O-].[Ag+2] AXVCDCGTJGNMKM-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- KNYNSMHTBGSDIE-UHFFFAOYSA-N CC(C)(C)C1=C(O)C(C(C)(C)C)=CC(C=2NC(=C(N=2)C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC=CC=2)=C1 Chemical compound CC(C)(C)C1=C(O)C(C(C)(C)C)=CC(C=2NC(=C(N=2)C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC=CC=2)=C1 KNYNSMHTBGSDIE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VOLUOYVAXWKCJG-UHFFFAOYSA-N CC=1C(=C(C(=C2CCCOC12)C)O)C(C)(C)C Chemical compound CC=1C(=C(C(=C2CCCOC12)C)O)C(C)(C)C VOLUOYVAXWKCJG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YCNNZSWXUOLCSR-UHFFFAOYSA-N CC=1SC2=C(N1)C=CC=C2.[Ag] Chemical compound CC=1SC2=C(N1)C=CC=C2.[Ag] YCNNZSWXUOLCSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DQEFEBPAPFSJLV-UHFFFAOYSA-N Cellulose propionate Chemical compound CCC(=O)OCC1OC(OC(=O)CC)C(OC(=O)CC)C(OC(=O)CC)C1OC1C(OC(=O)CC)C(OC(=O)CC)C(OC(=O)CC)C(COC(=O)CC)O1 DQEFEBPAPFSJLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004709 Chlorinated polyethylene Substances 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WRUZSAOKBCCMCQ-UHFFFAOYSA-H Cl[Rh](Cl)(Cl)(Cl)(Cl)Cl.N Chemical compound Cl[Rh](Cl)(Cl)(Cl)(Cl)Cl.N WRUZSAOKBCCMCQ-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- 239000004375 Dextrin Substances 0.000 description 1
- 229920001353 Dextrin Polymers 0.000 description 1
- QSJXEFYPDANLFS-UHFFFAOYSA-N Diacetyl Chemical group CC(=O)C(C)=O QSJXEFYPDANLFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SXRSQZLOMIGNAQ-UHFFFAOYSA-N Glutaraldehyde Chemical compound O=CCCCC=O SXRSQZLOMIGNAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101000654674 Homo sapiens Semaphorin-6A Proteins 0.000 description 1
- AVXURJPOCDRRFD-UHFFFAOYSA-N Hydroxylamine Chemical compound ON AVXURJPOCDRRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 240000007472 Leucaena leucocephala Species 0.000 description 1
- 235000010643 Leucaena leucocephala Nutrition 0.000 description 1
- OYHQOLUKZRVURQ-HZJYTTRNSA-N Linoleic acid Chemical compound CCCCC\C=C/C\C=C/CCCCCCCC(O)=O OYHQOLUKZRVURQ-HZJYTTRNSA-N 0.000 description 1
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 1
- LSDPWZHWYPCBBB-UHFFFAOYSA-N Methanethiol Chemical compound SC LSDPWZHWYPCBBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000020 Nitrocellulose Substances 0.000 description 1
- 235000021314 Palmitic acid Nutrition 0.000 description 1
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 229920002732 Polyanhydride Polymers 0.000 description 1
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- 229920001328 Polyvinylidene chloride Polymers 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MJYCCEAHZRBSLG-UHFFFAOYSA-N S1C=NC2=C1C=CC=C2.C(C)C(C(=O)N)O Chemical compound S1C=NC2=C1C=CC=C2.C(C)C(C(=O)N)O MJYCCEAHZRBSLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N Selenium Chemical compound [Se] BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 102100032795 Semaphorin-6A Human genes 0.000 description 1
- FOIXSVOLVBLSDH-UHFFFAOYSA-N Silver ion Chemical compound [Ag+] FOIXSVOLVBLSDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002125 Sokalan® Polymers 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002253 Tannate Polymers 0.000 description 1
- DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-M Trifluoroacetate Chemical compound [O-]C(=O)C(F)(F)F DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 241000009298 Trigla lyra Species 0.000 description 1
- 241000287433 Turdus Species 0.000 description 1
- ISAKRJDGNUQOIC-UHFFFAOYSA-N Uracil Chemical compound O=C1C=CNC(=O)N1 ISAKRJDGNUQOIC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002433 Vinyl chloride-vinyl acetate copolymer Polymers 0.000 description 1
- FJWGYAHXMCUOOM-QHOUIDNNSA-N [(2s,3r,4s,5r,6r)-2-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-dinitrooxy-2-(nitrooxymethyl)-6-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5,6-trinitrooxy-2-(nitrooxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxan-3-yl]oxy-3,5-dinitrooxy-6-(nitrooxymethyl)oxan-4-yl] nitrate Chemical compound O([C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H](O[N+]([O-])=O)[C@H]1O[N+]([O-])=O)O[C@H]1[C@@H]([C@@H](O[N+]([O-])=O)[C@H](O[N+]([O-])=O)[C@@H](CO[N+]([O-])=O)O1)O[N+]([O-])=O)CO[N+](=O)[O-])[C@@H]1[C@@H](CO[N+]([O-])=O)O[C@@H](O[N+]([O-])=O)[C@H](O[N+]([O-])=O)[C@H]1O[N+]([O-])=O FJWGYAHXMCUOOM-QHOUIDNNSA-N 0.000 description 1
- JXFDPVZHNNCRKT-TYYBGVCCSA-L [Ag+2].[O-]C(=O)\C=C\C([O-])=O Chemical compound [Ag+2].[O-]C(=O)\C=C\C([O-])=O JXFDPVZHNNCRKT-TYYBGVCCSA-L 0.000 description 1
- SJOOOZPMQAWAOP-UHFFFAOYSA-N [Ag].BrCl Chemical compound [Ag].BrCl SJOOOZPMQAWAOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011358 absorbing material Substances 0.000 description 1
- PFLUPZGCTVGDLV-UHFFFAOYSA-N acetone azine Chemical compound CC(C)=NN=C(C)C PFLUPZGCTVGDLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WRYNUJYAXVDTCB-UHFFFAOYSA-M acetyloxymercury Chemical compound CC(=O)O[Hg] WRYNUJYAXVDTCB-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 239000004480 active ingredient Substances 0.000 description 1
- 239000002390 adhesive tape Substances 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005250 alkyl acrylate group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001361 allenes Chemical class 0.000 description 1
- 229940037003 alum Drugs 0.000 description 1
- 125000004202 aminomethyl group Chemical group [H]N([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 150000001448 anilines Chemical class 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 235000019276 ascorbyl stearate Nutrition 0.000 description 1
- QVQLCTNNEUAWMS-UHFFFAOYSA-N barium oxide Chemical compound [Ba]=O QVQLCTNNEUAWMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001864 baryta Inorganic materials 0.000 description 1
- VDEUYMSGMPQMIK-UHFFFAOYSA-N benzhydroxamic acid Chemical compound ONC(=O)C1=CC=CC=C1 VDEUYMSGMPQMIK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XJHABGPPCLHLLV-UHFFFAOYSA-N benzo[de]isoquinoline-1,3-dione Chemical compound C1=CC(C(=O)NC2=O)=C3C2=CC=CC3=C1 XJHABGPPCLHLLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001565 benzotriazoles Chemical class 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000008033 biological extinction Effects 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 244000309464 bull Species 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000003917 carbamoyl group Chemical group [H]N([H])C(*)=O 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004181 carboxyalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- OAYRYNVEFFWSHK-UHFFFAOYSA-N carsalam Chemical compound C1=CC=C2OC(=O)NC(=O)C2=C1 OAYRYNVEFFWSHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001727 cellulose butyrate Polymers 0.000 description 1
- 229920006218 cellulose propionate Polymers 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 239000013626 chemical specie Substances 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- 150000001844 chromium Chemical class 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- WYYQVWLEPYFFLP-UHFFFAOYSA-K chromium(3+);triacetate Chemical compound [Cr+3].CC([O-])=O.CC([O-])=O.CC([O-])=O WYYQVWLEPYFFLP-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 238000000975 co-precipitation Methods 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004700 cobalt complex Chemical class 0.000 description 1
- 239000000084 colloidal system Substances 0.000 description 1
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 239000013068 control sample Substances 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- 238000007766 curtain coating Methods 0.000 description 1
- OPTASPLRGRRNAP-UHFFFAOYSA-N cytosine Chemical compound NC=1C=CNC(=O)N=1 OPTASPLRGRRNAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002939 deleterious effect Effects 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 235000019425 dextrin Nutrition 0.000 description 1
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 1
- DOVUCQDMJHKBFO-UHFFFAOYSA-N diethyl 2,6-dimethoxy-1,4-dihydropyridine-3,5-dicarboxylate Chemical compound CCOC(=O)C1=C(OC)NC(OC)=C(C(=O)OCC)C1 DOVUCQDMJHKBFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940071221 dihydroxybenzoate Drugs 0.000 description 1
- 125000006222 dimethylaminomethyl group Chemical group [H]C([H])([H])N(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 150000002009 diols Chemical class 0.000 description 1
- 150000002012 dioxanes Chemical class 0.000 description 1
- ZUVOYUDQAUHLLG-OLXYHTOASA-L disilver;(2r,3r)-2,3-dihydroxybutanedioate Chemical compound [Ag+].[Ag+].[O-]C(=O)[C@H](O)[C@@H](O)C([O-])=O ZUVOYUDQAUHLLG-OLXYHTOASA-L 0.000 description 1
- 238000010981 drying operation Methods 0.000 description 1
- QELUYTUMUWHWMC-UHFFFAOYSA-N edaravone Chemical compound O=C1CC(C)=NN1C1=CC=CC=C1 QELUYTUMUWHWMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- ZEUUVJSRINKECZ-UHFFFAOYSA-N ethanedithioic acid Chemical compound CC(S)=S ZEUUVJSRINKECZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001033 ether group Chemical group 0.000 description 1
- AEOCXXJPGCBFJA-UHFFFAOYSA-N ethionamide Chemical compound CCC1=CC(C(N)=S)=CC=N1 AEOCXXJPGCBFJA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CLVFCYRZVOKCDP-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-cyano-2-(2-methylphenyl)acetate Chemical compound CCOC(=O)C(C#N)C1=CC=CC=C1C CLVFCYRZVOKCDP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- STVZJERGLQHEKB-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol dimethacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOC(=O)C(C)=C STVZJERGLQHEKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000816 ethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 1
- 238000007765 extrusion coating Methods 0.000 description 1
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 1
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 1
- 150000004665 fatty acids Chemical class 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000006260 foam Substances 0.000 description 1
- LNTHITQWFMADLM-UHFFFAOYSA-M gallate Chemical compound OC1=CC(C([O-])=O)=CC(O)=C1O LNTHITQWFMADLM-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 1
- 150000004676 glycans Chemical class 0.000 description 1
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 1
- 229940015043 glyoxal Drugs 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 125000001188 haloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002366 halogen compounds Chemical class 0.000 description 1
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 1
- 235000010299 hexamethylene tetramine Nutrition 0.000 description 1
- 239000004312 hexamethylene tetramine Substances 0.000 description 1
- VKYKSIONXSXAKP-UHFFFAOYSA-N hexamethylenetetramine Chemical compound C1N(C2)CN3CN1CN2C3 VKYKSIONXSXAKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-M hexanoate Chemical compound CCCCCC([O-])=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 150000002402 hexoses Chemical class 0.000 description 1
- 229940042795 hydrazides for tuberculosis treatment Drugs 0.000 description 1
- 150000002429 hydrazines Chemical class 0.000 description 1
- 230000005661 hydrophobic surface Effects 0.000 description 1
- 125000002768 hydroxyalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004029 hydroxymethyl group Chemical group [H]OC([H])([H])* 0.000 description 1
- 150000002460 imidazoles Chemical class 0.000 description 1
- 125000001841 imino group Chemical group [H]N=* 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 238000011065 in-situ storage Methods 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 1
- 229940079865 intestinal antiinfectives imidazole derivative Drugs 0.000 description 1
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 1
- 229920000831 ionic polymer Polymers 0.000 description 1
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 1
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004816 latex Substances 0.000 description 1
- 229920000126 latex Polymers 0.000 description 1
- QTWZICCBKBYHDM-UHFFFAOYSA-N leucomethylene blue Chemical compound C1=C(N(C)C)C=C2SC3=CC(N(C)C)=CC=C3NC2=C1 QTWZICCBKBYHDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003446 ligand Substances 0.000 description 1
- 229940049918 linoleate Drugs 0.000 description 1
- 150000004668 long chain fatty acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000006224 matting agent Substances 0.000 description 1
- 150000007974 melamines Chemical class 0.000 description 1
- 150000002730 mercury Chemical class 0.000 description 1
- NGYIMTKLQULBOO-UHFFFAOYSA-L mercury dibromide Chemical compound Br[Hg]Br NGYIMTKLQULBOO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 150000002734 metacrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 238000005649 metathesis reaction Methods 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M methacrylate group Chemical group C(C(=C)C)(=O)[O-] CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- WREDNSAXDZCLCP-UHFFFAOYSA-N methanedithioic acid Chemical compound SC=S WREDNSAXDZCLCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N methanone Chemical compound O=[14CH2] WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N 0.000 description 1
- 229940095102 methyl benzoate Drugs 0.000 description 1
- IBKQQKPQRYUGBJ-UHFFFAOYSA-N methyl gallate Natural products CC(=O)C1=CC(O)=C(O)C(O)=C1 IBKQQKPQRYUGBJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PJUIMOJAAPLTRJ-UHFFFAOYSA-N monothioglycerol Chemical compound OCC(O)CS PJUIMOJAAPLTRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAKLKBFCSHJIRI-UHFFFAOYSA-N mucochloric acid Natural products OC1OC(=O)C(Cl)=C1Cl ZAKLKBFCSHJIRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZHFBNFIXRMDULI-UHFFFAOYSA-N n,n-bis(2-ethoxyethyl)hydroxylamine Chemical compound CCOCCN(O)CCOCC ZHFBNFIXRMDULI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WQEPLUUGTLDZJY-UHFFFAOYSA-N n-Pentadecanoic acid Natural products CCCCCCCCCCCCCCC(O)=O WQEPLUUGTLDZJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BWJFEONZAZSPSG-UHFFFAOYSA-N n-amino-n-(4-methylphenyl)formamide Chemical compound CC1=CC=C(N(N)C=O)C=C1 BWJFEONZAZSPSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005445 natural material Substances 0.000 description 1
- 229920005615 natural polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000000025 natural resin Substances 0.000 description 1
- 150000002823 nitrates Chemical class 0.000 description 1
- 125000004971 nitroalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229920001220 nitrocellulos Polymers 0.000 description 1
- HMZGPNHSPWNGEP-UHFFFAOYSA-N octadecyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCOC(=O)C(C)=C HMZGPNHSPWNGEP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 description 1
- 238000005691 oxidative coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- QUBQYFYWUJJAAK-UHFFFAOYSA-N oxymethurea Chemical compound OCNC(=O)NCO QUBQYFYWUJJAAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229950005308 oxymethurea Drugs 0.000 description 1
- KLAKIAVEMQMVBT-UHFFFAOYSA-N p-hydroxy-phenacyl alcohol Natural products OCC(=O)C1=CC=C(O)C=C1 KLAKIAVEMQMVBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LPNBBFKOUUSUDB-UHFFFAOYSA-M p-toluate Chemical compound CC1=CC=C(C([O-])=O)C=C1 LPNBBFKOUUSUDB-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000036961 partial effect Effects 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 1
- JRKICGRDRMAZLK-UHFFFAOYSA-L persulfate group Chemical group S(=O)(=O)([O-])OOS(=O)(=O)[O-] JRKICGRDRMAZLK-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- CMCWWLVWPDLCRM-UHFFFAOYSA-N phenidone Chemical compound N1C(=O)CCN1C1=CC=CC=C1 CMCWWLVWPDLCRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NFBAXHOPROOJAW-UHFFFAOYSA-N phenindione Chemical compound O=C1C2=CC=CC=C2C(=O)C1C1=CC=CC=C1 NFBAXHOPROOJAW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPCINBSGQOXTMS-UHFFFAOYSA-N phenol;sulfamide Chemical compound NS(N)(=O)=O.OC1=CC=CC=C1 BPCINBSGQOXTMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001568 phenolic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 1
- 229950000688 phenothiazine Drugs 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 229930015698 phenylpropene Natural products 0.000 description 1
- 239000011941 photocatalyst Substances 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- YSZIOXAEADAJLX-UHFFFAOYSA-N phthalazine-1,4-dione Chemical compound C1=CC=C2C(=O)N=NC(=O)C2=C1 YSZIOXAEADAJLX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XKJCHHZQLQNZHY-UHFFFAOYSA-N phthalimide Chemical compound C1=CC=C2C(=O)NC(=O)C2=C1 XKJCHHZQLQNZHY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003495 polar organic solvent Substances 0.000 description 1
- 229920003227 poly(N-vinyl carbazole) Polymers 0.000 description 1
- 229920000779 poly(divinylbenzene) Polymers 0.000 description 1
- 229920001483 poly(ethyl methacrylate) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920000205 poly(isobutyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 229920002285 poly(styrene-co-acrylonitrile) Polymers 0.000 description 1
- 229920001467 poly(styrenesulfonates) Polymers 0.000 description 1
- 229920002492 poly(sulfone) Polymers 0.000 description 1
- 229920002401 polyacrylamide Polymers 0.000 description 1
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 1
- 239000004584 polyacrylic acid Substances 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920006289 polycarbonate film Polymers 0.000 description 1
- 229920002776 polycyclohexyl methacrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920001228 polyisocyanate Polymers 0.000 description 1
- 239000005056 polyisocyanate Substances 0.000 description 1
- 229920006254 polymer film Polymers 0.000 description 1
- 239000002861 polymer material Substances 0.000 description 1
- 238000000710 polymer precipitation Methods 0.000 description 1
- 229920006324 polyoxymethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001282 polysaccharide Polymers 0.000 description 1
- 239000005017 polysaccharide Substances 0.000 description 1
- 239000005033 polyvinylidene chloride Substances 0.000 description 1
- 229920000036 polyvinylpyrrolidone Polymers 0.000 description 1
- 239000001267 polyvinylpyrrolidone Substances 0.000 description 1
- 235000013855 polyvinylpyrrolidone Nutrition 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- HJWLCRVIBGQPNF-UHFFFAOYSA-N prop-2-enylbenzene Chemical compound C=CCC1=CC=CC=C1 HJWLCRVIBGQPNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BOQSSGDQNWEFSX-UHFFFAOYSA-N propan-2-yl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(C)OC(=O)C(C)=C BOQSSGDQNWEFSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NHARPDSAXCBDDR-UHFFFAOYSA-N propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCOC(=O)C(C)=C NHARPDSAXCBDDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 108090000623 proteins and genes Proteins 0.000 description 1
- 102000004169 proteins and genes Human genes 0.000 description 1
- 150000003217 pyrazoles Chemical class 0.000 description 1
- NDGRWYRVNANFNB-UHFFFAOYSA-N pyrazolidin-3-one Chemical compound O=C1CCNN1 NDGRWYRVNANFNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003230 pyrimidines Chemical class 0.000 description 1
- 229940079877 pyrogallol Drugs 0.000 description 1
- QEIQICVPDMCDHG-UHFFFAOYSA-N pyrrolo[2,3-d]triazole Chemical class N1=NC2=CC=NC2=N1 QEIQICVPDMCDHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JWVCLYRUEFBMGU-UHFFFAOYSA-N quinazoline Chemical compound N1=CN=CC2=CC=CC=C21 JWVCLYRUEFBMGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 238000006479 redox reaction Methods 0.000 description 1
- 239000012260 resinous material Substances 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 1
- MMRXYMKDBFSWJR-UHFFFAOYSA-K rhodium(3+);tribromide Chemical compound [Br-].[Br-].[Br-].[Rh+3] MMRXYMKDBFSWJR-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- VXNYVYJABGOSBX-UHFFFAOYSA-N rhodium(3+);trinitrate Chemical compound [Rh+3].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O VXNYVYJABGOSBX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011669 selenium Substances 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 1
- IZXSLAZMYLIILP-ODZAUARKSA-M silver (Z)-4-hydroxy-4-oxobut-2-enoate Chemical compound [Ag+].OC(=O)\C=C/C([O-])=O IZXSLAZMYLIILP-ODZAUARKSA-M 0.000 description 1
- NBYLLBXLDOPANK-UHFFFAOYSA-M silver 2-carboxyphenolate hydrate Chemical compound C1=CC=C(C(=C1)C(=O)O)[O-].O.[Ag+] NBYLLBXLDOPANK-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910001923 silver oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940083025 silver preparation Drugs 0.000 description 1
- YRSQDSCQMOUOKO-KVVVOXFISA-M silver;(z)-octadec-9-enoate Chemical compound [Ag+].CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC([O-])=O YRSQDSCQMOUOKO-KVVVOXFISA-M 0.000 description 1
- NRRDBSGYRFWANF-UHFFFAOYSA-M silver;2-(4-methyl-2-sulfanylidene-1,3-thiazol-3-yl)acetate Chemical class [Ag+].CC1=CSC(=S)N1CC([O-])=O NRRDBSGYRFWANF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- JRTHUBNDKBQVKY-UHFFFAOYSA-M silver;2-methylbenzoate Chemical compound [Ag+].CC1=CC=CC=C1C([O-])=O JRTHUBNDKBQVKY-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- RDZTZLBPUKUEIM-UHFFFAOYSA-M silver;4-phenylbenzoate Chemical compound [Ag+].C1=CC(C(=O)[O-])=CC=C1C1=CC=CC=C1 RDZTZLBPUKUEIM-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- RNMJYGGPIVLUSR-UHFFFAOYSA-M silver;acetamide;benzoate Chemical compound [Ag+].CC(N)=O.[O-]C(=O)C1=CC=CC=C1 RNMJYGGPIVLUSR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- JKOCEVIXVMBKJA-UHFFFAOYSA-M silver;butanoate Chemical compound [Ag+].CCCC([O-])=O JKOCEVIXVMBKJA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- MNMYRUHURLPFQW-UHFFFAOYSA-M silver;dodecanoate Chemical compound [Ag+].CCCCCCCCCCCC([O-])=O MNMYRUHURLPFQW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- LTYHQUJGIQUHMS-UHFFFAOYSA-M silver;hexadecanoate Chemical compound [Ag+].CCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O LTYHQUJGIQUHMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- ORYURPRSXLUCSS-UHFFFAOYSA-M silver;octadecanoate Chemical compound [Ag+].CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O ORYURPRSXLUCSS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- OHGHHPYRRURLHR-UHFFFAOYSA-M silver;tetradecanoate Chemical compound [Ag+].CCCCCCCCCCCCCC([O-])=O OHGHHPYRRURLHR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 159000000000 sodium salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000011343 solid material Substances 0.000 description 1
- 238000004611 spectroscopical analysis Methods 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 150000003440 styrenes Chemical class 0.000 description 1
- 125000005504 styryl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 229960002317 succinimide Drugs 0.000 description 1
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 1
- PXQLVRUNWNTZOS-UHFFFAOYSA-N sulfanyl Chemical class [SH] PXQLVRUNWNTZOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BUUPQKDIAURBJP-UHFFFAOYSA-N sulfinic acid Chemical compound OS=O BUUPQKDIAURBJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004964 sulfoalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229940124530 sulfonamide Drugs 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- 239000001040 synthetic pigment Substances 0.000 description 1
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 1
- 229910052714 tellurium Inorganic materials 0.000 description 1
- PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N tellurium atom Chemical compound [Te] PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJMYWORNLPSJQO-UHFFFAOYSA-N tert-butyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC(C)(C)C SJMYWORNLPSJQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- 239000004753 textile Substances 0.000 description 1
- 150000004897 thiazines Chemical class 0.000 description 1
- 125000000101 thioether group Chemical group 0.000 description 1
- NZFNXWQNBYZDAQ-UHFFFAOYSA-N thioridazine hydrochloride Chemical compound Cl.C12=CC(SC)=CC=C2SC2=CC=CC=C2N1CCC1CCCCN1C NZFNXWQNBYZDAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 description 1
- 229920006163 vinyl copolymer Polymers 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 1
- 239000004711 α-olefin Substances 0.000 description 1
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/494—Silver salt compositions other than silver halide emulsions; Photothermographic systems ; Thermographic systems using noble metal compounds
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- G03C1/49836—Additives
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-
- G—PHYSICS
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- G03C1/005—Silver halide emulsions; Preparation thereof; Physical treatment thereof; Incorporation of additives therein
- G03C1/06—Silver halide emulsions; Preparation thereof; Physical treatment thereof; Incorporation of additives therein with non-macromolecular additives
- G03C1/38—Dispersants; Agents facilitating spreading
- G03C1/385—Dispersants; Agents facilitating spreading containing fluorine
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- Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】 反応性モノマーから誘導されたポリマー鎖中
に少なくとも3種の異なる基を含んでなり、該モノマー
が、(a)フッ素化されたエチレン性不飽和モノマー、
(b)ヒドロキシル基を含むエチレン性不飽和モノマー
および(c)極性エチレン性不飽和モノマーを含むフッ
素化ポリマーである。 【効果】 ポリマー層の塗布に特に有用な界面活性剤で
ある。特定の溶媒系からの光熱写真およびサーモグラフ
ィ要素の塗布に用いると、モトルなどの表面異常を減少
させることができる。
に少なくとも3種の異なる基を含んでなり、該モノマー
が、(a)フッ素化されたエチレン性不飽和モノマー、
(b)ヒドロキシル基を含むエチレン性不飽和モノマー
および(c)極性エチレン性不飽和モノマーを含むフッ
素化ポリマーである。 【効果】 ポリマー層の塗布に特に有用な界面活性剤で
ある。特定の溶媒系からの光熱写真およびサーモグラフ
ィ要素の塗布に用いると、モトルなどの表面異常を減少
させることができる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、新規なフルオロケミカ
ル界面活性剤、特に光熱写真およびサーモグラフィ要素
における新規なフルオロケミカル界面活性剤に関し、フ
ルオロケミカル界面活性剤を被覆組成物中に使用するこ
とにより、光熱写真要素におけるモトル(mottle)などの
不均一性(disuniformity)が低減される。
ル界面活性剤、特に光熱写真およびサーモグラフィ要素
における新規なフルオロケミカル界面活性剤に関し、フ
ルオロケミカル界面活性剤を被覆組成物中に使用するこ
とにより、光熱写真要素におけるモトル(mottle)などの
不均一性(disuniformity)が低減される。
【0002】
【従来の技術および発明が解決しようとする課題】液体
現像によらず、熱により処理されるハロゲン化銀含有光
熱写真像形成物質(即ち、熱現像可能な写真物質)は、
写真の分野において長年知られている。これらの物質
は、「ドライ・シルバー(dry silver)」組成物または乳
剤としても知られており、一般に、基材上に、(1)照
射されると元素銀を生成する感光性物質、(2)非感光
性還元性銀源(source)、(3)非感光性還元性銀源用の
還元剤および(4)バインダーの被覆を有してなる。感
光性物質は、一般に、非感光性還元性銀源に触媒的に近
接しなければならない写真ハロゲン化銀である。触媒的
に近接するということには、2つの物質が物理的に密に
会合しており、写真ハロゲン化銀が照射または露光され
て銀の小粒または核を生成する際に、この核が非感光性
還元性銀源を還元する触媒となることが要求される。
現像によらず、熱により処理されるハロゲン化銀含有光
熱写真像形成物質(即ち、熱現像可能な写真物質)は、
写真の分野において長年知られている。これらの物質
は、「ドライ・シルバー(dry silver)」組成物または乳
剤としても知られており、一般に、基材上に、(1)照
射されると元素銀を生成する感光性物質、(2)非感光
性還元性銀源(source)、(3)非感光性還元性銀源用の
還元剤および(4)バインダーの被覆を有してなる。感
光性物質は、一般に、非感光性還元性銀源に触媒的に近
接しなければならない写真ハロゲン化銀である。触媒的
に近接するということには、2つの物質が物理的に密に
会合しており、写真ハロゲン化銀が照射または露光され
て銀の小粒または核を生成する際に、この核が非感光性
還元性銀源を還元する触媒となることが要求される。
【0003】元素銀(Ag゜)は銀イオンを還元するため
の触媒であって、感光性の写真ハロゲン化銀を多くの異
なる様式で非感光性還元性銀源に触媒的に近接して位置
させることができると長らく理解されてきている。その
様式には例えば、還元性銀源のハロゲン含有源による部
分的複分解(米国特許第3,457,075号参照)、ハ
ロゲン化銀と還元性銀源物質との共沈殿(米国特許第
3,839,049号)および感光性写真ハロゲン化銀と
非感光性還元性銀源とを密に会合させる他の方法などが
ある。
の触媒であって、感光性の写真ハロゲン化銀を多くの異
なる様式で非感光性還元性銀源に触媒的に近接して位置
させることができると長らく理解されてきている。その
様式には例えば、還元性銀源のハロゲン含有源による部
分的複分解(米国特許第3,457,075号参照)、ハ
ロゲン化銀と還元性銀源物質との共沈殿(米国特許第
3,839,049号)および感光性写真ハロゲン化銀と
非感光性還元性銀源とを密に会合させる他の方法などが
ある。
【0004】非感光性還元性銀源は、銀イオンを含む物
質である。好ましい非感光性還元性銀源は、一般に10
〜30個の炭素原子を有する長鎖脂肪族カルボン酸の銀
塩を含む。ベヘン酸または同程度の分子量の酸の混合物
の銀塩が一般に使用される。他の有機酸の塩または他の
有機物質、例えばイミダゾール銀塩などが提案されてお
り、米国特許第4,260,677号は無機または有機銀
塩の錯体を非感光性還元性銀源として使用することを開
示している。
質である。好ましい非感光性還元性銀源は、一般に10
〜30個の炭素原子を有する長鎖脂肪族カルボン酸の銀
塩を含む。ベヘン酸または同程度の分子量の酸の混合物
の銀塩が一般に使用される。他の有機酸の塩または他の
有機物質、例えばイミダゾール銀塩などが提案されてお
り、米国特許第4,260,677号は無機または有機銀
塩の錯体を非感光性還元性銀源として使用することを開
示している。
【0005】写真および光熱写真乳剤の両者において、
写真ハロゲン化銀を露光すると銀原子(Ag゜)の小さな
クラスターが生成する。これらのクラスターの像形成分
布は、潜像として当業者に知られている。一般に、この
潜像は通常の手段では目に見えず、可視像を形成するた
めには感光性乳剤を更に処理しなければならない。可視
像は、銀原子のクラスター、即ち潜像を有するハロゲン
化銀粒子に対して触媒的に近接している銀イオンを還元
することにより形成される。これにより白黒像が形成さ
れる。
写真ハロゲン化銀を露光すると銀原子(Ag゜)の小さな
クラスターが生成する。これらのクラスターの像形成分
布は、潜像として当業者に知られている。一般に、この
潜像は通常の手段では目に見えず、可視像を形成するた
めには感光性乳剤を更に処理しなければならない。可視
像は、銀原子のクラスター、即ち潜像を有するハロゲン
化銀粒子に対して触媒的に近接している銀イオンを還元
することにより形成される。これにより白黒像が形成さ
れる。
【0006】可視像は完全に元素銀(Ag゜)により形成
されるので、最大像濃度を低下させずに乳剤中の銀の量
を減少させることは容易にできない。しかし、乳剤中に
使用する原料コストを低減するため、銀の量を減少させ
ることがしばしば望ましい。乳剤層中の銀の量を増加す
ることなく、白黒の写真および光熱写真乳剤の最大像濃
度を向上させる試みの一つの方法は、乳剤中に調色剤(t
oning agent)を混ぜることである。米国特許第3,84
6,136号、同第3,994,732号および同第4,0
21,249号に記載されているように、調色剤は光熱
写真乳剤の銀像の発色を向上させる。
されるので、最大像濃度を低下させずに乳剤中の銀の量
を減少させることは容易にできない。しかし、乳剤中に
使用する原料コストを低減するため、銀の量を減少させ
ることがしばしば望ましい。乳剤層中の銀の量を増加す
ることなく、白黒の写真および光熱写真乳剤の最大像濃
度を向上させる試みの一つの方法は、乳剤中に調色剤(t
oning agent)を混ぜることである。米国特許第3,84
6,136号、同第3,994,732号および同第4,0
21,249号に記載されているように、調色剤は光熱
写真乳剤の銀像の発色を向上させる。
【0007】乳剤層中の銀の量を増加することなく、写
真および光熱写真乳剤の最大像濃度を向上させるもう一
つの方法は、乳剤中に染料(色素)形成物質を混ぜるこ
とである。例えば、カラー像は、ロイコ染料を乳剤中に
混ぜることにより形成することができる。ロイコ染料は
有色染料の還元された形態である。像形成の際には、ロ
イコ染料が酸化され、露光領域に有色染料および還元さ
れた銀像が同時に生成する。例えば、米国特許第3,5
31,286号、同第4,187,108号、同第4,42
6,441号、同第4,374,921号および同第4,4
60,681号に示されるように、この方法で、染料に
より向上した銀像を形成することができる。
真および光熱写真乳剤の最大像濃度を向上させるもう一
つの方法は、乳剤中に染料(色素)形成物質を混ぜるこ
とである。例えば、カラー像は、ロイコ染料を乳剤中に
混ぜることにより形成することができる。ロイコ染料は
有色染料の還元された形態である。像形成の際には、ロ
イコ染料が酸化され、露光領域に有色染料および還元さ
れた銀像が同時に生成する。例えば、米国特許第3,5
31,286号、同第4,187,108号、同第4,42
6,441号、同第4,374,921号および同第4,4
60,681号に示されるように、この方法で、染料に
より向上した銀像を形成することができる。
【0008】多色光熱写真像形成物品は、一般に、バリ
ヤー層により互いに隔離された状態に維持される二種ま
たはそれ以上の単色発色乳剤層を含んでおり、各乳剤層
は発色反応体を含む2層の組合せをしばしば含んででき
ている。感光性光熱写真乳剤層の上に重なるバリヤー層
は、隣接する感光性光熱写真乳剤層中の溶剤には不溶性
である。少なくとも2または3種の、隔離された発色乳
剤層を有する光熱写真物品が、米国特許第4,021,2
40号および同第4,460,681号に開示されてい
る。写真カラー発色剤(coupler)およびロイコ染料によ
り染料像および多色像を形成する種々の方法が、米国特
許第4,022,617号、同第3,531,286号、同
第3,180,731号、同第3,761,270号、同第
4,460,681号、同第4,883,747号および
「リサーチ・ディスクロージャー(Research Disclosur
e)」1989年3月、項目番号第29963号に代表さ
れる従来技術においてよく知られている。
ヤー層により互いに隔離された状態に維持される二種ま
たはそれ以上の単色発色乳剤層を含んでおり、各乳剤層
は発色反応体を含む2層の組合せをしばしば含んででき
ている。感光性光熱写真乳剤層の上に重なるバリヤー層
は、隣接する感光性光熱写真乳剤層中の溶剤には不溶性
である。少なくとも2または3種の、隔離された発色乳
剤層を有する光熱写真物品が、米国特許第4,021,2
40号および同第4,460,681号に開示されてい
る。写真カラー発色剤(coupler)およびロイコ染料によ
り染料像および多色像を形成する種々の方法が、米国特
許第4,022,617号、同第3,531,286号、同
第3,180,731号、同第3,761,270号、同第
4,460,681号、同第4,883,747号および
「リサーチ・ディスクロージャー(Research Disclosur
e)」1989年3月、項目番号第29963号に代表さ
れる従来技術においてよく知られている。
【0009】液体現像によらず、熱により処理されるサ
ーモグラフィ写真像形成の構成(即ち、熱現像物質)
は、像形成技術分野において周知であり、熱を使用する
ことにより、像の形成が促進される。一般に約60〜2
25℃の範囲で加熱すると、加熱された領域においての
み反応が起り、像が形成される。
ーモグラフィ写真像形成の構成(即ち、熱現像物質)
は、像形成技術分野において周知であり、熱を使用する
ことにより、像の形成が促進される。一般に約60〜2
25℃の範囲で加熱すると、加熱された領域においての
み反応が起り、像が形成される。
【0010】像形成層がベヘン酸銀などの長鎖脂肪酸の
銀塩をベースとしているサーモグラフィ要素も知られて
いる。これらの要素は、一般に、表面に、(1)感熱性還
元性銀源、(2)感熱性還元性銀源用の還元剤および(3)
バインダーの被覆を有する基材または支持体(例えば、
紙、プラスチック、金属、ガラスなど)を含む。加熱さ
れると、ベヘン酸銀は、銀イオン用の還元剤、例えば没
食子酸メチル、ヒドロキノン、置換ヒドロキノン、ヒン
ダードフェノール、カテコール、ピロガロール、アスコ
ルビン酸、アスコルビン酸誘導体、ロイコ染料などによ
り還元され、それにより元素銀を含む像が形成される。
銀塩をベースとしているサーモグラフィ要素も知られて
いる。これらの要素は、一般に、表面に、(1)感熱性還
元性銀源、(2)感熱性還元性銀源用の還元剤および(3)
バインダーの被覆を有する基材または支持体(例えば、
紙、プラスチック、金属、ガラスなど)を含む。加熱さ
れると、ベヘン酸銀は、銀イオン用の還元剤、例えば没
食子酸メチル、ヒドロキノン、置換ヒドロキノン、ヒン
ダードフェノール、カテコール、ピロガロール、アスコ
ルビン酸、アスコルビン酸誘導体、ロイコ染料などによ
り還元され、それにより元素銀を含む像が形成される。
【0011】光熱写真およびサーモグラフィの構成は、
通常、溶液からの塗布および乾燥による塗布溶剤の大部
分の除去により調製される。光熱写真系の塗布の際に存
在する共通の問題の一つは、塗布欠陥が生じることであ
る。最終生成物中に生成する多くの欠陥および問題点
は、塗布および乾燥操作中に起る現象に帰することがで
きる。塗布後のポリマーフィルム層の乾燥の際に起るも
のとして知られる問題の中に、層内での固体物質の分布
が不均一になることがある。生じる塗布欠陥の特有の種
類の例は、「オレンジピール(orange peel)」、「モト
リング(mottling)」および「フィッシュアイ(fish ey
e)」である。「オレンジピール」は、通常、塗布組成中
の物質の溶媒の作用のために乾燥した被覆フィルム上に
生じる、かなり規則的な粒状の表面である。「モトリン
グ」は、塗布組成からの溶媒の除去が不均一なためにし
ばしば生じる。「フィッシュアイ」は、通常、乾燥中に
成分が分離することによって生じる別種の塗布の問題で
ある。乾燥溶液内に異なる成分のポケット(pocket)があ
り、これらのポケットが乾燥すると不均一な塗布異常と
なる。
通常、溶液からの塗布および乾燥による塗布溶剤の大部
分の除去により調製される。光熱写真系の塗布の際に存
在する共通の問題の一つは、塗布欠陥が生じることであ
る。最終生成物中に生成する多くの欠陥および問題点
は、塗布および乾燥操作中に起る現象に帰することがで
きる。塗布後のポリマーフィルム層の乾燥の際に起るも
のとして知られる問題の中に、層内での固体物質の分布
が不均一になることがある。生じる塗布欠陥の特有の種
類の例は、「オレンジピール(orange peel)」、「モト
リング(mottling)」および「フィッシュアイ(fish ey
e)」である。「オレンジピール」は、通常、塗布組成中
の物質の溶媒の作用のために乾燥した被覆フィルム上に
生じる、かなり規則的な粒状の表面である。「モトリン
グ」は、塗布組成からの溶媒の除去が不均一なためにし
ばしば生じる。「フィッシュアイ」は、通常、乾燥中に
成分が分離することによって生じる別種の塗布の問題で
ある。乾燥溶液内に異なる成分のポケット(pocket)があ
り、これらのポケットが乾燥すると不均一な塗布異常と
なる。
【0012】これらの種類の問題を修正するため、塗布
組成物の溶剤を変化させることに加えて、界面活性剤が
しばしば使用されてきている。界面活性剤により問題が
修正されない場合があるし、界面活性剤が最初の問題を
解決しても他の問題を生じる場合もある。市販の製品を
特定種類の欠陥の修正に使用することが勧められる場合
であっても、特定種類の系に適するものが見出されるま
でに、多くの市販の界面活性剤を研究することが必要に
なることもある。
組成物の溶剤を変化させることに加えて、界面活性剤が
しばしば使用されてきている。界面活性剤により問題が
修正されない場合があるし、界面活性剤が最初の問題を
解決しても他の問題を生じる場合もある。市販の製品を
特定種類の欠陥の修正に使用することが勧められる場合
であっても、特定種類の系に適するものが見出されるま
でに、多くの市販の界面活性剤を研究することが必要に
なることもある。
【0013】像形成要素中において界面活性剤が有用で
あるには、いくつかの性質を有する必要がある。塗布溶
液または乳剤に可溶性でなければならない。そうでなけ
れば、「フィシュアイ」および縞(streak)などの他の欠
陥が乾燥後の被覆中に生じる。塗布溶液中の泡または気
泡は乾燥後の被覆中に縞を生じるので、界面活性剤は泡
または気泡を安定化させてはならない。これらの欠陥は
容易に目視することができ、仕上がった要素中には許容
されない。更に、界面活性剤が、感度(speed)、コント
ラスト、最小濃度および最大濃度などの像形成要素のセ
ンシトメトリー特性を著しく変えることがあってはなら
ない。
あるには、いくつかの性質を有する必要がある。塗布溶
液または乳剤に可溶性でなければならない。そうでなけ
れば、「フィシュアイ」および縞(streak)などの他の欠
陥が乾燥後の被覆中に生じる。塗布溶液中の泡または気
泡は乾燥後の被覆中に縞を生じるので、界面活性剤は泡
または気泡を安定化させてはならない。これらの欠陥は
容易に目視することができ、仕上がった要素中には許容
されない。更に、界面活性剤が、感度(speed)、コント
ラスト、最小濃度および最大濃度などの像形成要素のセ
ンシトメトリー特性を著しく変えることがあってはなら
ない。
【0014】フルオロケミカル界面活性剤は、モトルを
減少させる塗布用途に有用である。塗布溶液の乾燥を工
業用オーブン内で高速で行う場合、得られるフィルムは
モトルパターンをしばしば含む。このモトルパターン
は、一様でない乾燥条件によって生じる表面張力の勾配
の結果であることが多い。適当なフルオロケミカル界面
活性剤を塗布溶液に加える場合、界面活性剤により表面
張力は、一定の値であるが、低く維持される。これによ
りモトルを含まない均一なフィルムが得られる。フルオ
ロケミカル界面活性剤が使用されるのは、2−ブタノン
(メチルエチルケトンもしくはMEKとしても知られ
る)などの有機溶媒が既にそのような低い表面エネルギ
ー(24.9ダイン/cm)を有しているため、炭化水素
系界面活性剤が有効でないからである。
減少させる塗布用途に有用である。塗布溶液の乾燥を工
業用オーブン内で高速で行う場合、得られるフィルムは
モトルパターンをしばしば含む。このモトルパターン
は、一様でない乾燥条件によって生じる表面張力の勾配
の結果であることが多い。適当なフルオロケミカル界面
活性剤を塗布溶液に加える場合、界面活性剤により表面
張力は、一定の値であるが、低く維持される。これによ
りモトルを含まない均一なフィルムが得られる。フルオ
ロケミカル界面活性剤が使用されるのは、2−ブタノン
(メチルエチルケトンもしくはMEKとしても知られ
る)などの有機溶媒が既にそのような低い表面エネルギ
ー(24.9ダイン/cm)を有しているため、炭化水素
系界面活性剤が有効でないからである。
【0015】係属中であり、特許性が認められた米国特
許出願第07/966,458号は、フルオロケミカル
界面活性剤を使用して、版面などのポジティブ作用もし
くはネガティブ作用レジスト系および他の非レジスト像
形成性重合系におけるモトル、フィッシュアイならびに
発泡などの塗布不均一性を低減することを記載してい
る。これらのポリマーは、フルオロケミカルアクリレー
ト、短鎖アルキルアクリレートおよび極性モノマーを含
んでいる。これらの物質を光熱写真またはサーモグラフ
ィ要素中に使用することは述べられていない。
許出願第07/966,458号は、フルオロケミカル
界面活性剤を使用して、版面などのポジティブ作用もし
くはネガティブ作用レジスト系および他の非レジスト像
形成性重合系におけるモトル、フィッシュアイならびに
発泡などの塗布不均一性を低減することを記載してい
る。これらのポリマーは、フルオロケミカルアクリレー
ト、短鎖アルキルアクリレートおよび極性モノマーを含
んでいる。これらの物質を光熱写真またはサーモグラフ
ィ要素中に使用することは述べられていない。
【0016】米国特許第4,764,450号および同第
4,853,314号は、溶媒系に特定の変更を加えて、
ポジティブ作用光レジスト像形成系の表面欠陥を改良す
ることを記載している。米国特許第4,557,837号
は、ガス井の清浄化に使用されるような発泡性組成物の
調製において有用なフルオロケミカル剤を記載してい
る。記載されたポリマーは、フルオロケミカルモノマー
とヒドロキシエチルアクリレートとのコポリマーならび
に、フルオロケミカルモノマー、アクリル酸および短鎖
アクリレートのコポリマーを含む。日本国特開平1−2
23168号は、ワニス製剤に加えるのに有用な添加剤
であるフッ素化ターポリマーを記載している。これらは
ワニスの耐汚染性を向上させている。日本国特開昭57
−40579号は、接着テープ用の剥離被覆として有用
なフッ素化ターポリマーを記載している。
4,853,314号は、溶媒系に特定の変更を加えて、
ポジティブ作用光レジスト像形成系の表面欠陥を改良す
ることを記載している。米国特許第4,557,837号
は、ガス井の清浄化に使用されるような発泡性組成物の
調製において有用なフルオロケミカル剤を記載してい
る。記載されたポリマーは、フルオロケミカルモノマー
とヒドロキシエチルアクリレートとのコポリマーならび
に、フルオロケミカルモノマー、アクリル酸および短鎖
アクリレートのコポリマーを含む。日本国特開平1−2
23168号は、ワニス製剤に加えるのに有用な添加剤
であるフッ素化ターポリマーを記載している。これらは
ワニスの耐汚染性を向上させている。日本国特開昭57
−40579号は、接着テープ用の剥離被覆として有用
なフッ素化ターポリマーを記載している。
【0017】米国特許第3,950,298号は、カーペ
ットおよび繊維製品などのポリマー物質用の塗布溶液に
有用な非発泡性添加剤を記載している。塗布組成物は、
塗布された表面に疎油性を与える。米国特許第4,05
1,278号は、塗布したウェブを乾燥に用いる衝突空
気(impingement air)から保護するために、有孔シール
ド(スクリーンまたは孔あきプレートなど)を使用する
方法を記載している。溶媒を多く含む空気および溶媒を
あまり含まない空気のいずれもこのシールドを通して流
すことができる。多孔シールドにより空気の速度および
乱流が減少する。この方法はモトルの程度を減少すると
特許請求の範囲に記載されているが、衝突空気の流量が
増すことにより、モトルの量および存在は影響される。
ットおよび繊維製品などのポリマー物質用の塗布溶液に
有用な非発泡性添加剤を記載している。塗布組成物は、
塗布された表面に疎油性を与える。米国特許第4,05
1,278号は、塗布したウェブを乾燥に用いる衝突空
気(impingement air)から保護するために、有孔シール
ド(スクリーンまたは孔あきプレートなど)を使用する
方法を記載している。溶媒を多く含む空気および溶媒を
あまり含まない空気のいずれもこのシールドを通して流
すことができる。多孔シールドにより空気の速度および
乱流が減少する。この方法はモトルの程度を減少すると
特許請求の範囲に記載されているが、衝突空気の流量が
増すことにより、モトルの量および存在は影響される。
【0018】米国特許第4,999,927号は、ウェブ
に沿う空気流境界層が層状のまま保たれるオーブンシス
テムを記載している。これは乾燥室を通る空気流を加速
することにより達成される。米国特許第4,894,92
7号は、不活性ガス系と小さな乾燥室とを組合せること
によりモトルを減らす技術を記載している。この方法を
用いると、空気流はウェブ上において層状のまま保たれ
る。米国特許第3,573,916号は、スルホ置換シア
ニン染料を使用して、電子線照射した疎水性表面に塗布
された有色ハロゲン化銀乳剤中のモトルを減少させるこ
とを記載している。
に沿う空気流境界層が層状のまま保たれるオーブンシス
テムを記載している。これは乾燥室を通る空気流を加速
することにより達成される。米国特許第4,894,92
7号は、不活性ガス系と小さな乾燥室とを組合せること
によりモトルを減らす技術を記載している。この方法を
用いると、空気流はウェブ上において層状のまま保たれ
る。米国特許第3,573,916号は、スルホ置換シア
ニン染料を使用して、電子線照射した疎水性表面に塗布
された有色ハロゲン化銀乳剤中のモトルを減少させるこ
とを記載している。
【0019】
【課題を解決するための手段】本発明は、 a)フッ素化されたエチレン性不飽和モノマー、 b)ヒドロキシル基を含むエチレン性不飽和モノマーお
よび c)極性エチレン性不飽和モノマー を含んでなる反応性モノマーから誘導され、ポリマー鎖
中に少なくとも3種の異なる基を有するフッ素化ポリマ
ーについて説明する。上記のモノマーを重合して生成す
るフッ素化ターポリマーによれば、ポリマー物質層の塗
布において特に有用な無泡性ないし低気泡性界面活性剤
が与えられる。この界面活性剤を特定の溶媒系において
使用すると、モトルなどの表面異常を減少することがで
きる。
よび c)極性エチレン性不飽和モノマー を含んでなる反応性モノマーから誘導され、ポリマー鎖
中に少なくとも3種の異なる基を有するフッ素化ポリマ
ーについて説明する。上記のモノマーを重合して生成す
るフッ素化ターポリマーによれば、ポリマー物質層の塗
布において特に有用な無泡性ないし低気泡性界面活性剤
が与えられる。この界面活性剤を特定の溶媒系において
使用すると、モトルなどの表面異常を減少することがで
きる。
【0020】別の態様において、本発明は、基材上に被
覆される光熱写真要素であって、光熱写真組成物が、
(a)感光性ハロゲン化銀、(b)非感光性還元性銀源、
(c)非感光性還元性銀源用の還元剤、(d)バインダーお
よび(e)反応性モノマーから誘導されたポリマー鎖中に
少なくとも3種の異なる基を含んでなり、その基が、
(i)フッ素化されたエチレン性不飽和モノマー、(ii)ヒ
ドロキシル基を含むエチレン性不飽和モノマーおよび(i
ii)極性エチレン性不飽和モノマーを含むフッ素化ポリ
マーを含んでなる光熱写真要素を提供する。
覆される光熱写真要素であって、光熱写真組成物が、
(a)感光性ハロゲン化銀、(b)非感光性還元性銀源、
(c)非感光性還元性銀源用の還元剤、(d)バインダーお
よび(e)反応性モノマーから誘導されたポリマー鎖中に
少なくとも3種の異なる基を含んでなり、その基が、
(i)フッ素化されたエチレン性不飽和モノマー、(ii)ヒ
ドロキシル基を含むエチレン性不飽和モノマーおよび(i
ii)極性エチレン性不飽和モノマーを含むフッ素化ポリ
マーを含んでなる光熱写真要素を提供する。
【0021】更に別の態様において、本発明は、基材が
サーモグラフィ組成物により被覆され、該サーモグラフ
ィ組成物が、(a)非感光性還元性銀源、(b)非感光性還
元性銀源用の還元剤、(c)バインダーおよび(d)反応性
モノマーから誘導されたポリマー鎖中に少なくとも3種
の異なる基を含んでなり、その基が、(i)フッ素化され
たエチレン性不飽和モノマー、(ii)ヒドロキシル基を含
むエチレン性不飽和モノマーおよび(iii)極性エチレン
性不飽和モノマーを含むフッ素化ポリマーを含んでなる
サーモグラフィ要素を提供する。
サーモグラフィ組成物により被覆され、該サーモグラフ
ィ組成物が、(a)非感光性還元性銀源、(b)非感光性還
元性銀源用の還元剤、(c)バインダーおよび(d)反応性
モノマーから誘導されたポリマー鎖中に少なくとも3種
の異なる基を含んでなり、その基が、(i)フッ素化され
たエチレン性不飽和モノマー、(ii)ヒドロキシル基を含
むエチレン性不飽和モノマーおよび(iii)極性エチレン
性不飽和モノマーを含むフッ素化ポリマーを含んでなる
サーモグラフィ要素を提供する。
【0022】非感光性還元性銀源用の還元剤は、場合に
より、酸化されて染料を形成または放出することができ
る化合物を含んでいてよい。染料生成物質はロイコ染料
が好ましい。本発明のポリマーは、光熱写真およびサー
モグラフィ乳剤の塗布を、ケトンまたはアルコールなど
の極性有機溶媒から行う場合に、モトルなどの被覆欠陥
を減少または排除するのに効果的である。これらの化合
物は極少量加えられ、光熱写真物質の像形成またはセン
シトメトリー特性に著しいまたは悪い影響を及ぼすこと
がない。
より、酸化されて染料を形成または放出することができ
る化合物を含んでいてよい。染料生成物質はロイコ染料
が好ましい。本発明のポリマーは、光熱写真およびサー
モグラフィ乳剤の塗布を、ケトンまたはアルコールなど
の極性有機溶媒から行う場合に、モトルなどの被覆欠陥
を減少または排除するのに効果的である。これらの化合
物は極少量加えられ、光熱写真物質の像形成またはセン
シトメトリー特性に著しいまたは悪い影響を及ぼすこと
がない。
【0023】ここで使用する場合、「乳剤層」という用
語は、感光性銀塩および非感光性還元性銀源物質を含む
光熱写真要素の層、または非感光性還元性銀源物質を含
むサーモグラフィ要素の層を意味する。この技術分野に
おいてよく理解されているように、本発明の化合物にお
いて、高度の置換は許容されるだけでなくしばしば有利
でもあり、置換は予想されてもいる。置換基の記載を簡
単にするため、「基」(もしくは「核(nucleus)」)お
よび「部分(moiety)」を用いて、置換されうる化学種と
置換されえない化学種とを区別する。即ち、「基」、
「アリル基」もしくは「中心核」という用語を用いて置
換基を説明する場合、該置換基は基本となる基の文字通
りの定義を越えた追加の置換基を用いることが含まれ
る。置換基の説明に「部分」という語を使用する場合、
置換されていない基のみを含むことを意味する。
語は、感光性銀塩および非感光性還元性銀源物質を含む
光熱写真要素の層、または非感光性還元性銀源物質を含
むサーモグラフィ要素の層を意味する。この技術分野に
おいてよく理解されているように、本発明の化合物にお
いて、高度の置換は許容されるだけでなくしばしば有利
でもあり、置換は予想されてもいる。置換基の記載を簡
単にするため、「基」(もしくは「核(nucleus)」)お
よび「部分(moiety)」を用いて、置換されうる化学種と
置換されえない化学種とを区別する。即ち、「基」、
「アリル基」もしくは「中心核」という用語を用いて置
換基を説明する場合、該置換基は基本となる基の文字通
りの定義を越えた追加の置換基を用いることが含まれ
る。置換基の説明に「部分」という語を使用する場合、
置換されていない基のみを含むことを意味する。
【0024】例えば、「アルキル基」という語句は、メ
チル、エチル、プロピル、t−ブチル、シクロヘキシ
ル、イソオクチル、オクタデシルなどの純粋な炭化水素
アルキル鎖のみでなく、ヒドロキシル、アルコキシ、フ
ェニル、ハロ(F、Cl、BrおよびI)、シアノ、ニト
ロ、アミノ、カルボキシルなど、ならびにO、Nおよび
Sなどのヘテロ原子などの従来技術において既知の置換
基を有するアルキル鎖をも含む。例えば、アルキル基
は、カルボキシアルキル、ヒドロキシアルキル、エーテ
ル基(例えば、CH3-CH2-CH2-O-CH2-)、ハロ
アルキル、ニトロアルキル、スルホアルキルなどを含
む。他方、「アルキル部分」という語句は、メチル、エ
チル、プロピル、t−ブチル、シクロヘキシル、イソオ
クチル、オクタデシルなどの純粋な炭化水素アルキル鎖
のみを含むと限定される。例えば非常に強い求電子性ま
たは酸化性置換基などの活性成分と反応する置換基は、
当然ながら、不活性または無害でないために当業者によ
り排除されるであろう。本発明の他の観点、利点および
利益は、詳細な説明、実施例および請求の範囲から明ら
かである。
チル、エチル、プロピル、t−ブチル、シクロヘキシ
ル、イソオクチル、オクタデシルなどの純粋な炭化水素
アルキル鎖のみでなく、ヒドロキシル、アルコキシ、フ
ェニル、ハロ(F、Cl、BrおよびI)、シアノ、ニト
ロ、アミノ、カルボキシルなど、ならびにO、Nおよび
Sなどのヘテロ原子などの従来技術において既知の置換
基を有するアルキル鎖をも含む。例えば、アルキル基
は、カルボキシアルキル、ヒドロキシアルキル、エーテ
ル基(例えば、CH3-CH2-CH2-O-CH2-)、ハロ
アルキル、ニトロアルキル、スルホアルキルなどを含
む。他方、「アルキル部分」という語句は、メチル、エ
チル、プロピル、t−ブチル、シクロヘキシル、イソオ
クチル、オクタデシルなどの純粋な炭化水素アルキル鎖
のみを含むと限定される。例えば非常に強い求電子性ま
たは酸化性置換基などの活性成分と反応する置換基は、
当然ながら、不活性または無害でないために当業者によ
り排除されるであろう。本発明の他の観点、利点および
利益は、詳細な説明、実施例および請求の範囲から明ら
かである。
【0025】本発明の新規なポリマー界面活性剤は、ポ
リマー被覆の製造、特に表面異常を最小限度に維持しな
ければならない光熱写真およびサーモグラフィ要素の製
造において特に有用である。フッ素化ポリマーは、少な
くとも3種の異なる基を含み、3種の異なる共重合モノ
マーから誘導される。3種のモノマーは、フッ素化され
たエチレン性不飽和モノマー、ヒドロキシル基を含むエ
チレン性不飽和モノマーおよび極性エチレン性不飽和モ
ノマーを含む。
リマー被覆の製造、特に表面異常を最小限度に維持しな
ければならない光熱写真およびサーモグラフィ要素の製
造において特に有用である。フッ素化ポリマーは、少な
くとも3種の異なる基を含み、3種の異なる共重合モノ
マーから誘導される。3種のモノマーは、フッ素化され
たエチレン性不飽和モノマー、ヒドロキシル基を含むエ
チレン性不飽和モノマーおよび極性エチレン性不飽和モ
ノマーを含む。
【0026】ポリマーの調製は、それによって生成する
ポリマー主鎖が必要なペンダント官能価を有するように
行うのが便利である。これは既にモノマー上に存在する
所望のペンダント官能価を有する適当なエチレン性不飽
和モノマーを選択すると便利に行うことができ、そのペ
ンダント官能価もポリマー主鎖上に付着する。アクリレ
ートは役に立つであろう唯一の物質ではないが、主鎖に
は好ましい。
ポリマー主鎖が必要なペンダント官能価を有するように
行うのが便利である。これは既にモノマー上に存在する
所望のペンダント官能価を有する適当なエチレン性不飽
和モノマーを選択すると便利に行うことができ、そのペ
ンダント官能価もポリマー主鎖上に付着する。アクリレ
ートは役に立つであろう唯一の物質ではないが、主鎖に
は好ましい。
【0027】ポリマーは、3種のモノマーを最終生成物
に望まれる割合でフリーラジカル重合して調製される。
ポリマー中に存在するモノマーは、フッ素化されたエチ
レン性不飽和モノマー約10〜35モル%、ヒドロキシ
ル基を含むエチレン性不飽和モノマーが約30〜60モ
ル%および極性エチレン性不飽和モノマーが20〜60
モル%であり、3種のモノマーがそれぞれ27、39お
よび34モル%であることが好ましい。重合は、酢酸エ
チル、2−ブタノン、エタノール、2−プロパノール、
アセトンなどの溶媒中で行われる。
に望まれる割合でフリーラジカル重合して調製される。
ポリマー中に存在するモノマーは、フッ素化されたエチ
レン性不飽和モノマー約10〜35モル%、ヒドロキシ
ル基を含むエチレン性不飽和モノマーが約30〜60モ
ル%および極性エチレン性不飽和モノマーが20〜60
モル%であり、3種のモノマーがそれぞれ27、39お
よび34モル%であることが好ましい。重合は、酢酸エ
チル、2−ブタノン、エタノール、2−プロパノール、
アセトンなどの溶媒中で行われる。
【0028】最も簡単な形態において、フッ素化された
エチレン性不飽和モノマーは、エチレン性不飽和基に結
合したフッ化炭素基を含む。また、フッ化炭素基が炭化
水素部分に結合し、これが続いてエチレン性不飽和基に
結合することも好ましい。フルオロケミカル基の炭化水
素基への結合は、直接行ってもよいし、あるいはスルホ
ンアミド基などの架橋基を介して行ってもよい。好まし
いモノマーのエチレン性不飽和部分は、アクリレート基
またはメタクリレート基である。好ましい架橋基はスル
ホンアミド基である。
エチレン性不飽和モノマーは、エチレン性不飽和基に結
合したフッ化炭素基を含む。また、フッ化炭素基が炭化
水素部分に結合し、これが続いてエチレン性不飽和基に
結合することも好ましい。フルオロケミカル基の炭化水
素基への結合は、直接行ってもよいし、あるいはスルホ
ンアミド基などの架橋基を介して行ってもよい。好まし
いモノマーのエチレン性不飽和部分は、アクリレート基
またはメタクリレート基である。好ましい架橋基はスル
ホンアミド基である。
【0029】代表的なフッ素化されたエチレン性不飽和
モノマーは以下の化合物およびそれらの組合せである。
モノマーは以下の化合物およびそれらの組合せである。
【0030】
【化1】
【0031】好ましいフッ素化されたエチレン性不飽和
モノマーは、パーフルオロ脂肪族スルホニルアミドアク
リレートおよびそれらの組合せである。パーフルオロ脂
肪族スルホニルアミドアクリレートの例は、以下の化合
物を含む。
モノマーは、パーフルオロ脂肪族スルホニルアミドアク
リレートおよびそれらの組合せである。パーフルオロ脂
肪族スルホニルアミドアクリレートの例は、以下の化合
物を含む。
【0032】
【化2】
【0033】ヒドロキシル基を含むエチレン性不飽和モ
ノマーは、アクリル重合に適する重合可能な基およびペ
ンダントのヒドロキシル基を有しなければならない。好
ましいヒドロキシル基を含むエチレン性不飽和モノマー
は、ヒドロキシエチルメタクリレート(HEMA)、ヒ
ドロキシエチルアクリレート(HEA)、ヒドロキシプ
ロピルメタクリレートおよびヒドロキシプロピルアクリ
レートなどのアクリレートモノマーである。
ノマーは、アクリル重合に適する重合可能な基およびペ
ンダントのヒドロキシル基を有しなければならない。好
ましいヒドロキシル基を含むエチレン性不飽和モノマー
は、ヒドロキシエチルメタクリレート(HEMA)、ヒ
ドロキシエチルアクリレート(HEA)、ヒドロキシプ
ロピルメタクリレートおよびヒドロキシプロピルアクリ
レートなどのアクリレートモノマーである。
【0034】本発明において用いる極性エチレン性不飽
和モノマーは、アクリル重合に適する重合可能な基、即
ち酸性スチレン誘導体の場合におけるようなエチレン性
不飽和を有しなければならない。そのような調製におい
て有用なエチレン性不飽和極性モノマーの例は、以下の
化合物およびそれらの組合せを含む。
和モノマーは、アクリル重合に適する重合可能な基、即
ち酸性スチレン誘導体の場合におけるようなエチレン性
不飽和を有しなければならない。そのような調製におい
て有用なエチレン性不飽和極性モノマーの例は、以下の
化合物およびそれらの組合せを含む。
【0035】
【化3】
【0036】好ましい極性モノマーは、アクリレート
(メタクリレートを含む)の酸性モノマー、特に少なく
とも極性であるもの、好ましくはヒドロキシエチルメタ
クリレート(HEMA)よりも極性の高いものである。
好ましいフッ素化ポリマーは、約2000〜20000
の範囲の重量平均分子量を有する。最も好ましいフッ素
化ポリマーは、2000〜7000の重量平均分子量を
有する。本発明において有用なポリマーは、有機溶媒、
特に2−ブタノン(メチルエチルケトンもしくはMEK
としても知られる)、エタノールならびに、2−ブタノ
ンとエタノールの90/10混合物に可溶性であるかま
たは分散性である任意のポリマーである。
(メタクリレートを含む)の酸性モノマー、特に少なく
とも極性であるもの、好ましくはヒドロキシエチルメタ
クリレート(HEMA)よりも極性の高いものである。
好ましいフッ素化ポリマーは、約2000〜20000
の範囲の重量平均分子量を有する。最も好ましいフッ素
化ポリマーは、2000〜7000の重量平均分子量を
有する。本発明において有用なポリマーは、有機溶媒、
特に2−ブタノン(メチルエチルケトンもしくはMEK
としても知られる)、エタノールならびに、2−ブタノ
ンとエタノールの90/10混合物に可溶性であるかま
たは分散性である任意のポリマーである。
【0037】フィルムの像均一性を試験するためには、
均一な光強度パターンに露光した後、均一に熱処理しな
ければならない。このときに、フィルムを像密度の立体
的な変動について調べることができる。本発明のフルオ
ロケミカル界面活性剤は、光熱写真要素の塗布または像
特性において有害な他の副作用を生じることなく、光熱
写真要素における被覆欠陥を低減する。
均一な光強度パターンに露光した後、均一に熱処理しな
ければならない。このときに、フィルムを像密度の立体
的な変動について調べることができる。本発明のフルオ
ロケミカル界面活性剤は、光熱写真要素の塗布または像
特性において有害な他の副作用を生じることなく、光熱
写真要素における被覆欠陥を低減する。
【0038】別の態様において、本発明は、基材が光熱
写真組成物により被覆され、該光熱写真組成物が、(a)
感光性ハロゲン化銀、(b)非感光性還元性銀源、(c)非
感光性還元性銀源用の還元剤、(d)バインダーおよび
(e)反応性モノマーから誘導されたポリマー鎖中に少な
くとも3種の異なる基を含み、該モノマーが、(i)フッ
素化されたエチレン性不飽和モノマー、(ii)ヒドロキシ
ル基を含むエチレン性不飽和モノマーおよび(iii)極性
エチレン性不飽和モノマーを含むフッ素化ポリマーを含
んでなる光熱写真要素を提供する。本発明の光熱写真物
品において、感光性ハロゲン化銀および非感光性還元性
銀源を含む層を、本明細書では乳剤層と称する。
写真組成物により被覆され、該光熱写真組成物が、(a)
感光性ハロゲン化銀、(b)非感光性還元性銀源、(c)非
感光性還元性銀源用の還元剤、(d)バインダーおよび
(e)反応性モノマーから誘導されたポリマー鎖中に少な
くとも3種の異なる基を含み、該モノマーが、(i)フッ
素化されたエチレン性不飽和モノマー、(ii)ヒドロキシ
ル基を含むエチレン性不飽和モノマーおよび(iii)極性
エチレン性不飽和モノマーを含むフッ素化ポリマーを含
んでなる光熱写真要素を提供する。本発明の光熱写真物
品において、感光性ハロゲン化銀および非感光性還元性
銀源を含む層を、本明細書では乳剤層と称する。
【0039】更に別の態様において、本発明は、基材が
サーモグラフィ組成物により被覆され、該サーモグラフ
ィ組成物が、(a)非感光性還元性銀源、(b)非感光性還
元性銀源用の還元剤、(c)バインダーおよび(d)反応性
モノマーから誘導されたポリマー鎖中に少なくとも3種
の異なる基を含み、該モノマーが、(i)フッ素化された
エチレン性不飽和モノマー、(ii)ヒドロキシル基を含む
エチレン性不飽和モノマーおよび(iii)極性エチレン性
不飽和モノマーを含むフッ素化ポリマーを含んでなるサ
ーモグラフィ要素を提供する。本発明のサーモグラフィ
物品において、非感光性銀源物質を含む層を、本明細書
では乳剤層と称する。
サーモグラフィ組成物により被覆され、該サーモグラフ
ィ組成物が、(a)非感光性還元性銀源、(b)非感光性還
元性銀源用の還元剤、(c)バインダーおよび(d)反応性
モノマーから誘導されたポリマー鎖中に少なくとも3種
の異なる基を含み、該モノマーが、(i)フッ素化された
エチレン性不飽和モノマー、(ii)ヒドロキシル基を含む
エチレン性不飽和モノマーおよび(iii)極性エチレン性
不飽和モノマーを含むフッ素化ポリマーを含んでなるサ
ーモグラフィ要素を提供する。本発明のサーモグラフィ
物品において、非感光性銀源物質を含む層を、本明細書
では乳剤層と称する。
【0040】本発明によれば、フッ素化ポリマーを、一
種またはそれ以上の乳剤層に隣接する一層またはそれ以
上の層に加えることが好ましい。乳剤層に隣接する層
は、例えば、プライマー層、像受容層、中間層、隠蔽
層、ハレーション防止層、バリヤー層、助剤層などであ
ってよい。本発明の光熱写真およびサーモグラフィ物品
は、本発明のフッ素化界面活性剤化合物ならびに、貯蔵
寿命安定剤、トナー、現像促進剤およびその他の像変性
剤などの他の添加剤に、他の添加剤を組合せて含むこと
ができる。
種またはそれ以上の乳剤層に隣接する一層またはそれ以
上の層に加えることが好ましい。乳剤層に隣接する層
は、例えば、プライマー層、像受容層、中間層、隠蔽
層、ハレーション防止層、バリヤー層、助剤層などであ
ってよい。本発明の光熱写真およびサーモグラフィ物品
は、本発明のフッ素化界面活性剤化合物ならびに、貯蔵
寿命安定剤、トナー、現像促進剤およびその他の像変性
剤などの他の添加剤に、他の添加剤を組合せて含むこと
ができる。
【0041】本発明に従って乳剤層またはトップコート
層に加えられる上記の成分の量は、使用する個々の化合
物および乳剤層の種類(即ち、白黒であるかまたはカラ
ーであるか)により変化する。しかし、トップコート層
に加えるフッ素化ポリマーは、層重量の0.05〜10
%、より好ましくは0.1〜1%の量であることが好ま
しい。
層に加えられる上記の成分の量は、使用する個々の化合
物および乳剤層の種類(即ち、白黒であるかまたはカラ
ーであるか)により変化する。しかし、トップコート層
に加えるフッ素化ポリマーは、層重量の0.05〜10
%、より好ましくは0.1〜1%の量であることが好ま
しい。
【0042】感光性ハロゲン化銀 感光性ハロゲン化銀は、臭化銀、ヨウ化銀、塩化銀、臭
化ヨウ化銀、塩化臭化ヨウ化銀、塩化臭化銀などの任意
の感光性ハロゲン化銀であってよい。乳剤層への感光性
ハロゲン化銀の添加は、還元性銀源として作用する有機
銀化合物に触媒的に近接して位置することができるなら
ば、任意の様式で行うことができる。本発明において用
いる感光性ハロゲン化銀は、銀塩1モルあたり、0.0
05モル〜0.5モル、好ましくは0.01モル〜0.1
5モルの範囲で使用することができる。ハロゲン化銀を
乳剤層に加えるのは、ハロゲン化銀を銀源に触媒的に近
接して位置する方法であれば、任意の方法で行うことが
できる。
化ヨウ化銀、塩化臭化ヨウ化銀、塩化臭化銀などの任意
の感光性ハロゲン化銀であってよい。乳剤層への感光性
ハロゲン化銀の添加は、還元性銀源として作用する有機
銀化合物に触媒的に近接して位置することができるなら
ば、任意の様式で行うことができる。本発明において用
いる感光性ハロゲン化銀は、銀塩1モルあたり、0.0
05モル〜0.5モル、好ましくは0.01モル〜0.1
5モルの範囲で使用することができる。ハロゲン化銀を
乳剤層に加えるのは、ハロゲン化銀を銀源に触媒的に近
接して位置する方法であれば、任意の方法で行うことが
できる。
【0043】本発明に用いられるハロゲン化銀は、変性
させずに使用することができる。しかし、このハロゲン
化銀は、常套の湿式プロセスハロゲン化銀または従来技
術の熱現像可能な写真物質を増感させるために用いられ
る方法と同様の方法で、化学的およびスペクトル的に増
感させることができる。化学的増感は、例えば、硫黄、
セレンもしくはテルルなどを含む化合物、金、白金、パ
ラジウム、ルテニウム、ロジウムもしくはイリジウムな
どを含む化合物、ハロゲン化スズなどの還元剤またはこ
れらの組合せなどのような化学増感剤により行うことが
できる。これらの手順の詳細は、ティー・エイチ・ジェ
ームズ(T. H. James)著「ザ・セオリー・オブ・ザ・フ
ォトグラフィック・プロセス(The Theory of the Photo
graphicProcess)」、第4版、第5章、第149〜16
9頁に記載されている。適当な化学増感の手順は、米国
特許第1,623,499号(シェパード(Shepard))、同
第2,399,083号(ウォーラー(Waller))、同第3,
297,447号(マック・ヴェイ(McVeigh))および同
第3,297,446号(ダン(Dunn))にも記載されてい
る。
させずに使用することができる。しかし、このハロゲン
化銀は、常套の湿式プロセスハロゲン化銀または従来技
術の熱現像可能な写真物質を増感させるために用いられ
る方法と同様の方法で、化学的およびスペクトル的に増
感させることができる。化学的増感は、例えば、硫黄、
セレンもしくはテルルなどを含む化合物、金、白金、パ
ラジウム、ルテニウム、ロジウムもしくはイリジウムな
どを含む化合物、ハロゲン化スズなどの還元剤またはこ
れらの組合せなどのような化学増感剤により行うことが
できる。これらの手順の詳細は、ティー・エイチ・ジェ
ームズ(T. H. James)著「ザ・セオリー・オブ・ザ・フ
ォトグラフィック・プロセス(The Theory of the Photo
graphicProcess)」、第4版、第5章、第149〜16
9頁に記載されている。適当な化学増感の手順は、米国
特許第1,623,499号(シェパード(Shepard))、同
第2,399,083号(ウォーラー(Waller))、同第3,
297,447号(マック・ヴェイ(McVeigh))および同
第3,297,446号(ダン(Dunn))にも記載されてい
る。
【0044】感光性ハロゲン化銀のスペクトル(分光)
増感は、ハロゲン化銀をスペクトル増感する種々の既知
の染料により行うことができる。使用しうる増感染料の
例は、シアニン染料、メロシアニン染料、複合シアニン
染料、複合メロシアニン染料、ホロポーラー(holopola
r)染料、ヘミシアニン染料、スチリル染料およびヘミオ
キサノール染料を含むが、これらに限定されない。これ
らの染料の中で、シアニン染料、メロシアニン染料およ
び複合メロシアニン染料が特に有用である。加える増感
染料のおおよその量は、一般に、ハロゲン化銀1モルあ
たり、約10-10〜10-1モル、好ましくは約10-8〜
10-3モルである。
増感は、ハロゲン化銀をスペクトル増感する種々の既知
の染料により行うことができる。使用しうる増感染料の
例は、シアニン染料、メロシアニン染料、複合シアニン
染料、複合メロシアニン染料、ホロポーラー(holopola
r)染料、ヘミシアニン染料、スチリル染料およびヘミオ
キサノール染料を含むが、これらに限定されない。これ
らの染料の中で、シアニン染料、メロシアニン染料およ
び複合メロシアニン染料が特に有用である。加える増感
染料のおおよその量は、一般に、ハロゲン化銀1モルあ
たり、約10-10〜10-1モル、好ましくは約10-8〜
10-3モルである。
【0045】非感光性還元性銀源物質 非感光性還元性銀源物質は、還元されうる銀イオン源を
含む任意の物質であってよい。有機酸の銀塩、特に長鎖
脂肪カルボン酸の銀塩が好ましい。鎖は、一般に、10
〜30個、好ましくは15〜28個の炭素原子を含む。
有機または無機銀塩の錯体であって、配位子が銀イオン
について4.0〜10.0の高い安定定数を有する錯体が
本発明には有用である。還元性銀源物質は、一般に、乳
剤層の20〜70重量%を構成する。乳剤層の30〜5
5重量%のレベルで存在することが好ましい。
含む任意の物質であってよい。有機酸の銀塩、特に長鎖
脂肪カルボン酸の銀塩が好ましい。鎖は、一般に、10
〜30個、好ましくは15〜28個の炭素原子を含む。
有機または無機銀塩の錯体であって、配位子が銀イオン
について4.0〜10.0の高い安定定数を有する錯体が
本発明には有用である。還元性銀源物質は、一般に、乳
剤層の20〜70重量%を構成する。乳剤層の30〜5
5重量%のレベルで存在することが好ましい。
【0046】本発明において用いることができる有機銀
塩は、光に対しては比較的安定であるが、露光された光
触媒(ハロゲン化銀など)および還元剤の存在下、80
℃またはそれ以上の温度に加熱された場合に銀像を形成
する銀塩である。適当な有機銀塩は、カルボキシル基を
有する有機化合物の銀塩を含む。これらの好ましい例
は、脂肪族カルボン酸の銀塩および芳香族カルボン酸の
銀塩を含む。脂肪族カルボン酸の銀塩の好ましい例は、
ベヘン酸銀、ステアリン酸銀、オレイン酸銀、ラウリン
酸銀、カプロン酸銀、ミリスチン酸銀、パルミチン酸
銀、マレイン酸銀、フマル酸銀、酒石酸銀、リノール酸
銀、酪酸銀および樟脳酸銀ならびにこれらの混合物など
を含む。
塩は、光に対しては比較的安定であるが、露光された光
触媒(ハロゲン化銀など)および還元剤の存在下、80
℃またはそれ以上の温度に加熱された場合に銀像を形成
する銀塩である。適当な有機銀塩は、カルボキシル基を
有する有機化合物の銀塩を含む。これらの好ましい例
は、脂肪族カルボン酸の銀塩および芳香族カルボン酸の
銀塩を含む。脂肪族カルボン酸の銀塩の好ましい例は、
ベヘン酸銀、ステアリン酸銀、オレイン酸銀、ラウリン
酸銀、カプロン酸銀、ミリスチン酸銀、パルミチン酸
銀、マレイン酸銀、フマル酸銀、酒石酸銀、リノール酸
銀、酪酸銀および樟脳酸銀ならびにこれらの混合物など
を含む。
【0047】ハロゲン原子または水酸基により置換可能
な銀塩も効果的に使用することができる。芳香族カルボ
ン酸および他のカルボキシル基含有化合物の銀塩の好ま
しい例は、安息香酸銀、置換安息香酸銀、例えば3,5
−ジヒドロキシ安息香酸銀、o−メチル安息香酸銀、m
−メチル安息香酸銀、p−メチル安息香酸銀、2,4−
ジクロロ安息香酸銀、アセトアミド安息香酸銀、p−フ
ェニル安息香酸銀など、没食子酸銀、タンニン酸銀、フ
タル酸銀、テレフタル酸銀、サリチル酸銀、フェニル酢
酸銀、ピロメリット酸銀、米国特許第3,785,830
号に記載のような3−カルボキシメチル−4−メチル−
4−チアゾリン−2−チオンの銀塩など、ならびに米国
特許第3,330,663号に記載のようなチオエーテル
基を含む脂肪族カルボン酸の銀塩を含む。
な銀塩も効果的に使用することができる。芳香族カルボ
ン酸および他のカルボキシル基含有化合物の銀塩の好ま
しい例は、安息香酸銀、置換安息香酸銀、例えば3,5
−ジヒドロキシ安息香酸銀、o−メチル安息香酸銀、m
−メチル安息香酸銀、p−メチル安息香酸銀、2,4−
ジクロロ安息香酸銀、アセトアミド安息香酸銀、p−フ
ェニル安息香酸銀など、没食子酸銀、タンニン酸銀、フ
タル酸銀、テレフタル酸銀、サリチル酸銀、フェニル酢
酸銀、ピロメリット酸銀、米国特許第3,785,830
号に記載のような3−カルボキシメチル−4−メチル−
4−チアゾリン−2−チオンの銀塩など、ならびに米国
特許第3,330,663号に記載のようなチオエーテル
基を含む脂肪族カルボン酸の銀塩を含む。
【0048】メルカプトまたはチオン基を含む化合物の
銀塩およびこれらの誘導体を使用することもできる。こ
れらの化合物の好ましい例は、3−メルカプト−4−フ
ェニル−1,2,4−トリアゾールの銀塩、2−メルカプ
トベンズイミダゾールの銀塩、2−メルカプト−5−ア
ミノチアジアゾールの銀塩、2−(2−エチルグリコー
ルアミド)ベンゾチアゾールの銀塩、日本国特開昭48
−28221号に記載のようなS−アルキルチオグリコ
ール酸(ここで、アルキル基の炭素数は12〜22であ
る)の銀塩などのチオグリコール酸の銀塩、ジチオ酢酸
の銀塩などのジチオカルボン酸の銀塩、チオアミドの銀
塩、5−カルボキシル−1−メチル−2−フェニル−4
−チオピリジンの銀塩、メルカプトトリアジンの銀塩、
2−メルカプトベンズオキサゾールの銀塩、米国特許第
4,123,274号に記載の銀塩、例えば、3−アミノ
−5−ベンジルチオ−1,2,4−チアゾールの銀塩など
の1,2,4−メルカプトチアゾール誘導体の銀塩、米国
特許第3,201,678号に記載の3−(2−カルボキ
シエチル)−4−メチル−4−チアゾリン−2−チオン
の銀塩などのチオン化合物の銀塩を含む。
銀塩およびこれらの誘導体を使用することもできる。こ
れらの化合物の好ましい例は、3−メルカプト−4−フ
ェニル−1,2,4−トリアゾールの銀塩、2−メルカプ
トベンズイミダゾールの銀塩、2−メルカプト−5−ア
ミノチアジアゾールの銀塩、2−(2−エチルグリコー
ルアミド)ベンゾチアゾールの銀塩、日本国特開昭48
−28221号に記載のようなS−アルキルチオグリコ
ール酸(ここで、アルキル基の炭素数は12〜22であ
る)の銀塩などのチオグリコール酸の銀塩、ジチオ酢酸
の銀塩などのジチオカルボン酸の銀塩、チオアミドの銀
塩、5−カルボキシル−1−メチル−2−フェニル−4
−チオピリジンの銀塩、メルカプトトリアジンの銀塩、
2−メルカプトベンズオキサゾールの銀塩、米国特許第
4,123,274号に記載の銀塩、例えば、3−アミノ
−5−ベンジルチオ−1,2,4−チアゾールの銀塩など
の1,2,4−メルカプトチアゾール誘導体の銀塩、米国
特許第3,201,678号に記載の3−(2−カルボキ
シエチル)−4−メチル−4−チアゾリン−2−チオン
の銀塩などのチオン化合物の銀塩を含む。
【0049】更に、イミノ基を含む化合物の銀塩を使用
することができる。これらの化合物の好ましい例は、日
本国特公昭44−30270号および同45−1814
6号に記載のようなベンゾチアゾールの銀塩およびそれ
らの誘導体、例えばメチルベンゾチアゾール銀などのベ
ンゾチアゾールの銀塩、5−クロロベンゾトリアゾール
銀などのハロゲン置換ベンゾトリアゾールの銀塩、米国
特許第4,220,709号に記載のような1,2,4−ト
リアゾールまたは1H−テトラゾールの銀塩、イミダゾ
ールおよびイミダゾール誘導体の銀塩などを含む。
することができる。これらの化合物の好ましい例は、日
本国特公昭44−30270号および同45−1814
6号に記載のようなベンゾチアゾールの銀塩およびそれ
らの誘導体、例えばメチルベンゾチアゾール銀などのベ
ンゾチアゾールの銀塩、5−クロロベンゾトリアゾール
銀などのハロゲン置換ベンゾトリアゾールの銀塩、米国
特許第4,220,709号に記載のような1,2,4−ト
リアゾールまたは1H−テトラゾールの銀塩、イミダゾ
ールおよびイミダゾール誘導体の銀塩などを含む。
【0050】銀の半セッケンが便利であることもわかっ
ており、中でも市販のベヘン酸のナトリウム塩水溶液か
ら沈殿により調製され、分析による銀が約14.5%で
あるベヘン酸銀およびベヘン酸の等モル混合物が好まし
い例である。透明フィルム裏基材上の透明シート物質は
透明被覆を必要とするので、そのために約4〜5%を越
えない量の遊離ベヘン酸を含み、分析による銀が約2
5.2%であるベヘン酸全セッケンを使用してもよい。
銀セッケン分散液を調製するために用いられる方法は当
該技術分野において既知であり、「リサーチ・ディスク
ロージャー」1983年4月、項目番号第22812
号、「リサーチ・ディスクロージャー」1983年10
月、項目番号第23419号および米国特許第3,98
5,565号に開示されている。
ており、中でも市販のベヘン酸のナトリウム塩水溶液か
ら沈殿により調製され、分析による銀が約14.5%で
あるベヘン酸銀およびベヘン酸の等モル混合物が好まし
い例である。透明フィルム裏基材上の透明シート物質は
透明被覆を必要とするので、そのために約4〜5%を越
えない量の遊離ベヘン酸を含み、分析による銀が約2
5.2%であるベヘン酸全セッケンを使用してもよい。
銀セッケン分散液を調製するために用いられる方法は当
該技術分野において既知であり、「リサーチ・ディスク
ロージャー」1983年4月、項目番号第22812
号、「リサーチ・ディスクロージャー」1983年10
月、項目番号第23419号および米国特許第3,98
5,565号に開示されている。
【0051】バインダー内で別々に生成するハロゲン化
銀および有機銀塩は、使用前に混合されて塗布溶液が調
製されるが、両者をボールミル中で長時間混合してもよ
い。更に、有機銀塩の銀を部分的にハロゲン化銀に転化
して調製される有機銀塩中に、ハロゲン含有化合物を添
加することを含むプロセスを使用すると効果的である。
これらのハロゲン化銀および有機銀塩の調製方法ならび
にこれらを混合する方法は、「リサーチ・ディスクロー
ジャー」第17029号、日本国特開昭50−3292
8号および同51−42529号、米国特許第3,70
0,458号ならびに日本国特開昭49−13224号
および同50−17216号に記載されている。
銀および有機銀塩は、使用前に混合されて塗布溶液が調
製されるが、両者をボールミル中で長時間混合してもよ
い。更に、有機銀塩の銀を部分的にハロゲン化銀に転化
して調製される有機銀塩中に、ハロゲン含有化合物を添
加することを含むプロセスを使用すると効果的である。
これらのハロゲン化銀および有機銀塩の調製方法ならび
にこれらを混合する方法は、「リサーチ・ディスクロー
ジャー」第17029号、日本国特開昭50−3292
8号および同51−42529号、米国特許第3,70
0,458号ならびに日本国特開昭49−13224号
および同50−17216号に記載されている。
【0052】現像の出発点となるハロゲン化銀および非
感光性還元性銀源物質は、反応的に組合せられるべきで
ある。「反応的な組合せ」とは、両者が同じ層、隣接す
る層、または1μm未満の厚さの中間層により互いに隔
てられる層に存在することを意味する。ハロゲン化銀お
よび非感光性還元性銀源物質が同じ層に存在するのが好
ましい。本発明に従い前もって生成されたハロゲン化銀
を含有する光熱写真乳剤は、上記のような化学増感剤ま
たは分光増感剤により増感することができる。
感光性還元性銀源物質は、反応的に組合せられるべきで
ある。「反応的な組合せ」とは、両者が同じ層、隣接す
る層、または1μm未満の厚さの中間層により互いに隔
てられる層に存在することを意味する。ハロゲン化銀お
よび非感光性還元性銀源物質が同じ層に存在するのが好
ましい。本発明に従い前もって生成されたハロゲン化銀
を含有する光熱写真乳剤は、上記のような化学増感剤ま
たは分光増感剤により増感することができる。
【0053】非感光性還元性銀源用の還元剤 有機銀塩用の還元剤は、銀イオンを金属銀に還元する任
意の物質、好ましくは有機物質であってよい。フェニド
ン、ヒドロキノンおよびカテコールなどの常套の写真現
像剤が有用であるが、ヒンダードフェノール還元剤が好
ましい。
意の物質、好ましくは有機物質であってよい。フェニド
ン、ヒドロキノンおよびカテコールなどの常套の写真現
像剤が有用であるが、ヒンダードフェノール還元剤が好
ましい。
【0054】ドライシルバー系においては広範囲の還元
剤が開示されており、それには、フェニルアミドオキシ
ム、2−チエニルアミドオキシムおよびp−フェノキシ
フェニルアミドオキシムなどのアミドオキシム;アジン
(例えば4−ヒドロキシ−3,5−ジメトキシベンズア
ルデヒドアジンなど);2,2'−ビス(ヒドロキシメチ
ル)プロピオニル−β−フェニルヒドラジドとアスコル
ビン酸との組合せのような脂肪族カルボン酸アリールヒ
ドラジドとアスコルビン酸との組合せ;ポリヒドロキシ
ベンゼンと、ヒドロキシルアミン、レダクトンおよび/
またはヒドラジンの組合せ(例えばヒドロキノンと、ビ
ス(エトキシエチル)ヒドロキシルアミン、ピペリジノ
ヘキソースレダクトンまたはホルミル−4−メチルフェ
ニルヒドラジンの組合せなど);フェニルヒドロキサム
酸、p−ヒドロキシフェニルヒドロキサム酸およびo−
アリニンヒドロキサム酸などのヒドロキサム酸;アジン
とスルホンアミドフェノールとの組合せ(例えば、フェ
ノチアジンと2,6−ジクロロ−4−ベンゼンスルホン
アミドフェノールなど);エチル−α−シアノ−2−メ
チルフェニルアセテート、エチル−α−シアノフェニル
アセテートなどのα−シアノフェニル酢酸誘導体;2,
2'−ジヒドロキシ−1,1'−ビナフチル、6,6'−ジ
ブロモ−2,2'−ジヒドロキシ−1,1'−ビナフチルお
よびビス(2−ヒドロキシ−1−ナフチル)メタンに例
示されるようなビス−o−ナフトール;ビス−o−ナフ
トールと1,3−ジヒドロキシベンゼン誘導体(例え
ば、2,4−ジヒドロキシベンゾフェノンまたは2,4−
ジヒドロキシアセトフェノンなど)の組合せ;3−メチ
ル−1−フェニル−5−ピラゾロンなどの5−ピラゾロ
ン;ジメチルアミノヘキソースレダクトン、アンヒドロ
ジヒドロアミノヘキソースレダクトンおよびアンヒドロ
ジヒドロピペリドンヘキソースレダクトンに例示される
ようなレダクトン;2,6−ジクロロ−4−ベンゼンス
ルホンアミドフェノールおよびp−ベンゼンスルホンア
ミドフェノールなどのスルファミドフェノール還元剤;
2−フェニルインダン−1,3−ジオンなど; 2,2−
ジメチル−7−t−ブチル−6−ヒドロキシクロマンな
どのクロマン;2,6−ジメトキシ−3,5−ジカルボエ
トキシ−1,4−ジヒドロピリジンなどの1,4−ジヒド
ロピリジン;ビスフェノール(例えば、ビス(2−ヒド
ロキシ−3−t−ブチル−5−メチルフェニル)メタ
ン、2,2−ビス(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニ
ル)プロパン、4,4−エチリデン−ビス(2−t−ブ
チル−6−メチルフェノール)および2,2−ビス(3,
5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)プロパンな
ど);アスコルビン酸誘導体(例えば、パルミチン酸1
−アスコルビル、ステアリン酸アスコルビルなど)なら
びにベンジルおよびジアセチルなどの不飽和アルデヒド
およびケトン;3−ピラゾリドンおよびある種のインダ
ン−1,3−ジオンが含まれる。
剤が開示されており、それには、フェニルアミドオキシ
ム、2−チエニルアミドオキシムおよびp−フェノキシ
フェニルアミドオキシムなどのアミドオキシム;アジン
(例えば4−ヒドロキシ−3,5−ジメトキシベンズア
ルデヒドアジンなど);2,2'−ビス(ヒドロキシメチ
ル)プロピオニル−β−フェニルヒドラジドとアスコル
ビン酸との組合せのような脂肪族カルボン酸アリールヒ
ドラジドとアスコルビン酸との組合せ;ポリヒドロキシ
ベンゼンと、ヒドロキシルアミン、レダクトンおよび/
またはヒドラジンの組合せ(例えばヒドロキノンと、ビ
ス(エトキシエチル)ヒドロキシルアミン、ピペリジノ
ヘキソースレダクトンまたはホルミル−4−メチルフェ
ニルヒドラジンの組合せなど);フェニルヒドロキサム
酸、p−ヒドロキシフェニルヒドロキサム酸およびo−
アリニンヒドロキサム酸などのヒドロキサム酸;アジン
とスルホンアミドフェノールとの組合せ(例えば、フェ
ノチアジンと2,6−ジクロロ−4−ベンゼンスルホン
アミドフェノールなど);エチル−α−シアノ−2−メ
チルフェニルアセテート、エチル−α−シアノフェニル
アセテートなどのα−シアノフェニル酢酸誘導体;2,
2'−ジヒドロキシ−1,1'−ビナフチル、6,6'−ジ
ブロモ−2,2'−ジヒドロキシ−1,1'−ビナフチルお
よびビス(2−ヒドロキシ−1−ナフチル)メタンに例
示されるようなビス−o−ナフトール;ビス−o−ナフ
トールと1,3−ジヒドロキシベンゼン誘導体(例え
ば、2,4−ジヒドロキシベンゾフェノンまたは2,4−
ジヒドロキシアセトフェノンなど)の組合せ;3−メチ
ル−1−フェニル−5−ピラゾロンなどの5−ピラゾロ
ン;ジメチルアミノヘキソースレダクトン、アンヒドロ
ジヒドロアミノヘキソースレダクトンおよびアンヒドロ
ジヒドロピペリドンヘキソースレダクトンに例示される
ようなレダクトン;2,6−ジクロロ−4−ベンゼンス
ルホンアミドフェノールおよびp−ベンゼンスルホンア
ミドフェノールなどのスルファミドフェノール還元剤;
2−フェニルインダン−1,3−ジオンなど; 2,2−
ジメチル−7−t−ブチル−6−ヒドロキシクロマンな
どのクロマン;2,6−ジメトキシ−3,5−ジカルボエ
トキシ−1,4−ジヒドロピリジンなどの1,4−ジヒド
ロピリジン;ビスフェノール(例えば、ビス(2−ヒド
ロキシ−3−t−ブチル−5−メチルフェニル)メタ
ン、2,2−ビス(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニ
ル)プロパン、4,4−エチリデン−ビス(2−t−ブ
チル−6−メチルフェノール)および2,2−ビス(3,
5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)プロパンな
ど);アスコルビン酸誘導体(例えば、パルミチン酸1
−アスコルビル、ステアリン酸アスコルビルなど)なら
びにベンジルおよびジアセチルなどの不飽和アルデヒド
およびケトン;3−ピラゾリドンおよびある種のインダ
ン−1,3−ジオンが含まれる。
【0055】還元剤は、像形成層の1〜12重量%で存
在すべきである。多層の構成において、還元剤を乳剤層
以外の層に加える場合は、わずかに高い割合である約2
〜15%がより望ましい傾向がある。
在すべきである。多層の構成において、還元剤を乳剤層
以外の層に加える場合は、わずかに高い割合である約2
〜15%がより望ましい傾向がある。
【0056】適宜使用する染料放出物質 還元性銀源用の還元剤は、直接または間接的に酸化され
て、染料を形成もしくは放出する化合物であってよい。
染料を形成または放出する物質は、加熱、好ましくは約
80℃〜約250℃(176゜F〜482゜F)の温度
に約0.5〜約300秒間加熱された場合に、酸化され
て有色形態になりうる任意の無色ないし淡色化合物であ
ってよい。染料受容層と共に使用する場合、染料は、乳
剤層および中間層を介して本発明の物品の像受容層内に
拡散されてよい。
て、染料を形成もしくは放出する化合物であってよい。
染料を形成または放出する物質は、加熱、好ましくは約
80℃〜約250℃(176゜F〜482゜F)の温度
に約0.5〜約300秒間加熱された場合に、酸化され
て有色形態になりうる任意の無色ないし淡色化合物であ
ってよい。染料受容層と共に使用する場合、染料は、乳
剤層および中間層を介して本発明の物品の像受容層内に
拡散されてよい。
【0057】ロイコ染料は、酸化により染料を形成する
染料放出物質の一種である。銀イオンにより酸化されて
可視像を形成しうる任意のロイコ染料を、本発明に使用
することができる。pH感受性かつ酸化可能であるロイ
コ染料を使用することはできるが、好ましくない。pH
の変化のみに感受性を有するロイコ染料は、酸化されて
有色形態とならないので、本発明において有用な染料の
範囲には含まれない。ここで用いるように、「色の変
化」という用語は、(1)無色ないし淡色状態(光学濃
度が0.2未満)から発色状態(光学濃度が少なくとも
0.2単位上昇)への変化および(2)色相の実質的変
化を含む。
染料放出物質の一種である。銀イオンにより酸化されて
可視像を形成しうる任意のロイコ染料を、本発明に使用
することができる。pH感受性かつ酸化可能であるロイ
コ染料を使用することはできるが、好ましくない。pH
の変化のみに感受性を有するロイコ染料は、酸化されて
有色形態とならないので、本発明において有用な染料の
範囲には含まれない。ここで用いるように、「色の変
化」という用語は、(1)無色ないし淡色状態(光学濃
度が0.2未満)から発色状態(光学濃度が少なくとも
0.2単位上昇)への変化および(2)色相の実質的変
化を含む。
【0058】本発明において使用するのに適するロイコ
染料の代表的種類は、ビスフェノールおよびビスナフト
ールロイコ染料、フェノール系ロイコ染料、インドアニ
リンロイコ染料、イミダゾールロイコ染料、アジンロイ
コ染料、オキサジンロイコ染料、ジアジンロイコ染料お
よびチアジンロイコ染料を含むが、これらに限定されな
い。染料の好ましい種類は、米国特許第4,460,68
1号および同第4,594,307号に記載されている。
本発明において有用なロイコ染料の一種は、イミダゾー
ル染料から誘導される染料である。イミダゾールロイコ
染料は、米国特許第3,985,565号に記載されてい
る。
染料の代表的種類は、ビスフェノールおよびビスナフト
ールロイコ染料、フェノール系ロイコ染料、インドアニ
リンロイコ染料、イミダゾールロイコ染料、アジンロイ
コ染料、オキサジンロイコ染料、ジアジンロイコ染料お
よびチアジンロイコ染料を含むが、これらに限定されな
い。染料の好ましい種類は、米国特許第4,460,68
1号および同第4,594,307号に記載されている。
本発明において有用なロイコ染料の一種は、イミダゾー
ル染料から誘導される染料である。イミダゾールロイコ
染料は、米国特許第3,985,565号に記載されてい
る。
【0059】本発明において有用な別種のロイコ染料
は、いわゆる「発色染料」から誘導される染料である。
これらの染料は、p−フェニレンジアミンと、フェノー
ル系またはアニリン系化合物との酸化的カップリングに
より調製される。この種のロイコ染料は、米国特許第
4,594,307号に記載されている。短鎖のカルバモ
イル保護基を有するロイコ発色染料は、係属中の米国特
許出願第07/939,093号に記載されている。本
発明において有用な第3の種類の染料は、「アルダジ
ン」および「ケタジン」染料である。この種の染料は、
米国特許第4,587,211号および同第4,795,6
97号に記載されている。
は、いわゆる「発色染料」から誘導される染料である。
これらの染料は、p−フェニレンジアミンと、フェノー
ル系またはアニリン系化合物との酸化的カップリングに
より調製される。この種のロイコ染料は、米国特許第
4,594,307号に記載されている。短鎖のカルバモ
イル保護基を有するロイコ発色染料は、係属中の米国特
許出願第07/939,093号に記載されている。本
発明において有用な第3の種類の染料は、「アルダジ
ン」および「ケタジン」染料である。この種の染料は、
米国特許第4,587,211号および同第4,795,6
97号に記載されている。
【0060】ロイコ染料の他の好ましい種類は、ジアジ
ン、オキサジンまたはチアジン核を有する還元された形
態の染料である。この種のロイコ染料は、有色染料の形
態を還元およびアシル化して調製することができる。こ
の種のロイコ染料の調製方法は、日本国特開昭第52−
89131号ならびに米国特許第2,784,186号、
同第4,439,280号、同第4,563,415号、同
第4,570,171号、同第4,622,395号および
同第4,647,525号に記載されている。酸化により
染料を形成する染料放出物質の他の種類は、予め形成さ
れた染料放出(PDR)またはレドックス染料放出(R
DR)物質として知られる。これらの物質では、有機銀
化合物のための還元剤が、酸化により予め形成されてい
た染料を放出する。これらの物質の例は米国特許第4,
981,775号(スウェイン(Swain))に開示されてい
る。
ン、オキサジンまたはチアジン核を有する還元された形
態の染料である。この種のロイコ染料は、有色染料の形
態を還元およびアシル化して調製することができる。こ
の種のロイコ染料の調製方法は、日本国特開昭第52−
89131号ならびに米国特許第2,784,186号、
同第4,439,280号、同第4,563,415号、同
第4,570,171号、同第4,622,395号および
同第4,647,525号に記載されている。酸化により
染料を形成する染料放出物質の他の種類は、予め形成さ
れた染料放出(PDR)またはレドックス染料放出(R
DR)物質として知られる。これらの物質では、有機銀
化合物のための還元剤が、酸化により予め形成されてい
た染料を放出する。これらの物質の例は米国特許第4,
981,775号(スウェイン(Swain))に開示されてい
る。
【0061】2−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒド
ロキシフェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾールま
たはビス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフ
ェニル)フェニルメタンなどの中性フェノール系ロイコ
染料も有用である。本発明において実際に有用である他
のフェノール系ロイコ染料は、米国特許第4,374,9
21号、同第4,460,681号、同第4,594,30
7号および同第4,782,010号に開示されている。
像形成層に他のロイコ染料、例えば、米国特許第4,9
23,792号に引用されたベンジリデンロイコ化合物
を使用してもよい。還元された形態の染料は、電磁スペ
クトルの可視光領域においてあまり吸収を示すべきでな
く、銀イオンにより酸化されて元の発色形態の染料に戻
る。ベンジリデン染料は、グレーレベルが低く、高い発
色純度を与える極端にシャープなスペクトル特性を有す
る。この染料は、一般に、104〜105l/モル-cmの
オーダーの高い吸光係数、ならびに良好な相溶性および
熱安定性を有する。染料の合成は容易であり、化合物が
還元されたロイコ型が非常に安定である。米国特許第
3,442,224号、同第4,021,250号、同第
4,022,617号および同第4,368,247号に開
示されたようなロイコ染料も、本発明において有用であ
る。
ロキシフェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾールま
たはビス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフ
ェニル)フェニルメタンなどの中性フェノール系ロイコ
染料も有用である。本発明において実際に有用である他
のフェノール系ロイコ染料は、米国特許第4,374,9
21号、同第4,460,681号、同第4,594,30
7号および同第4,782,010号に開示されている。
像形成層に他のロイコ染料、例えば、米国特許第4,9
23,792号に引用されたベンジリデンロイコ化合物
を使用してもよい。還元された形態の染料は、電磁スペ
クトルの可視光領域においてあまり吸収を示すべきでな
く、銀イオンにより酸化されて元の発色形態の染料に戻
る。ベンジリデン染料は、グレーレベルが低く、高い発
色純度を与える極端にシャープなスペクトル特性を有す
る。この染料は、一般に、104〜105l/モル-cmの
オーダーの高い吸光係数、ならびに良好な相溶性および
熱安定性を有する。染料の合成は容易であり、化合物が
還元されたロイコ型が非常に安定である。米国特許第
3,442,224号、同第4,021,250号、同第
4,022,617号および同第4,368,247号に開
示されたようなロイコ染料も、本発明において有用であ
る。
【0062】種々の発色層においてロイコ染料から形成
される染料は、当然ながら、異なる。反射極大吸収にお
いて少なくとも60nmの差があることが好ましい。形成
された染料の吸収極大が少なくとも80〜100nm異な
るのが更に好ましい。3種の染料を形成する場合、2種
は少なくともこの最小値だけ異なるのが好ましく、第3
の染料は、他の少なくとも1種の染料から少なくとも1
50nm、より好ましくは少なくとも200nm異なるのが
好ましい。前述のように、銀イオンにより酸化されて可
視染料を形成することができる任意のロイコ染料が、本
発明において有用である。本発明の要素において使用さ
れる、ロイコ化合物により生成する染料は既知であり、
例えば、「ザ・カラー・インデックス(The Colour Inde
x)」;ザ・ソサイエティー・オブ・ダイズ・アンド・カ
ラリスツ(The Society of Dyes and Colourists):ヨー
クシャー、英国、1971年、第4巻、第4437頁;
およびヴェンカタラマン・ケイ(Venkataraman.K)、ザ・
ケミストリー・オブ・シンセティック・ダイズ(The Che
mistry of Synthetic Dyes)、アカデミック・プレス(Ac
ademic Press)、ニューヨーク、1952年、第2巻、
第1206頁;米国特許第4,478,927号ならびにハ
マー・エフ・エム(Hammer,F.M.)、ザ・シアニン・ダイ
ズ・アンド・リレイテッド・コンパウンズ(The Cyanine
Dyes and Related Compounds);インターサイエンス・
パブリッシャーズ(Interscience Publishers)、ニュー
ヨーク、1964年、第492頁などに開示されてい
る。
される染料は、当然ながら、異なる。反射極大吸収にお
いて少なくとも60nmの差があることが好ましい。形成
された染料の吸収極大が少なくとも80〜100nm異な
るのが更に好ましい。3種の染料を形成する場合、2種
は少なくともこの最小値だけ異なるのが好ましく、第3
の染料は、他の少なくとも1種の染料から少なくとも1
50nm、より好ましくは少なくとも200nm異なるのが
好ましい。前述のように、銀イオンにより酸化されて可
視染料を形成することができる任意のロイコ染料が、本
発明において有用である。本発明の要素において使用さ
れる、ロイコ化合物により生成する染料は既知であり、
例えば、「ザ・カラー・インデックス(The Colour Inde
x)」;ザ・ソサイエティー・オブ・ダイズ・アンド・カ
ラリスツ(The Society of Dyes and Colourists):ヨー
クシャー、英国、1971年、第4巻、第4437頁;
およびヴェンカタラマン・ケイ(Venkataraman.K)、ザ・
ケミストリー・オブ・シンセティック・ダイズ(The Che
mistry of Synthetic Dyes)、アカデミック・プレス(Ac
ademic Press)、ニューヨーク、1952年、第2巻、
第1206頁;米国特許第4,478,927号ならびにハ
マー・エフ・エム(Hammer,F.M.)、ザ・シアニン・ダイ
ズ・アンド・リレイテッド・コンパウンズ(The Cyanine
Dyes and Related Compounds);インターサイエンス・
パブリッシャーズ(Interscience Publishers)、ニュー
ヨーク、1964年、第492頁などに開示されてい
る。
【0063】ロイコ染料化合物は、当該技術分野におい
て既知の技術により容易に合成することができる。適当
な方法が、例えば、エフ・エクス・スミス(F.X.Smith)
ら、テトラヘドロン・レターズ(Tetrahedron Lett.)、
1983年、第24(45)号、第4951〜4954
頁;エクス・ハン(X.Huang)、エル・ゼ(L.Xe)、シンセ
ティック・コミュニケーションズ(Synth. Commun.)、1
986年、第16(13)号、第1701〜1707頁;
エイチ・ツィマー(H.Zimmer)ら、ジャーナル・オブ・オ
ーガニック・ケミストリー(J. Org. Chem.)、1960
年、第25巻、第1234〜5頁;エム・セキヤ(M. Se
kiya)ら、ケミカル・アンド・ファーマシューティカル
・ブルチン(Chem. Pharm. Bull.)、1972年、20
(2)号、343頁およびティ・ソーダ(T.Sohda)ら、ケ
ミカル・アンド・ファーマシューティカル・ブルチン、
1983年、31(2)号、第560〜5頁;エイチ・エ
ー・ラブス(H. A. Lubs)、ザ・ケミストリー・オブ・シ
ンセティック・ダイズ・アンド・ピグメンツ(The Chemi
stry of Synthetic Dyes and Pigments)、ハフナー(Haf
ner)、ニューヨーク、ニューヨーク、1955年、第5
章、エイチ・ツォリンガー(H. Zollinger)のカラー・ケ
ミストリー(Color Chemistry)中、シンセシス,プロパ
ティーズ・アンド・アプリケーションズ・オブ・オーガ
ニック・ダイズ・アンド・ピグメンツ(Synthesis, Prop
erties and Applicaitons of OrganicDyes and Pigment
s)、ヴィ・シー・エイチ(VCH)、ニューヨーク、ニュ
ーヨーク、第67〜73頁、1987年、ならびに米国
特許第5,149,807号および欧州特許出願公開第
0,244,399号などに開示されている。
て既知の技術により容易に合成することができる。適当
な方法が、例えば、エフ・エクス・スミス(F.X.Smith)
ら、テトラヘドロン・レターズ(Tetrahedron Lett.)、
1983年、第24(45)号、第4951〜4954
頁;エクス・ハン(X.Huang)、エル・ゼ(L.Xe)、シンセ
ティック・コミュニケーションズ(Synth. Commun.)、1
986年、第16(13)号、第1701〜1707頁;
エイチ・ツィマー(H.Zimmer)ら、ジャーナル・オブ・オ
ーガニック・ケミストリー(J. Org. Chem.)、1960
年、第25巻、第1234〜5頁;エム・セキヤ(M. Se
kiya)ら、ケミカル・アンド・ファーマシューティカル
・ブルチン(Chem. Pharm. Bull.)、1972年、20
(2)号、343頁およびティ・ソーダ(T.Sohda)ら、ケ
ミカル・アンド・ファーマシューティカル・ブルチン、
1983年、31(2)号、第560〜5頁;エイチ・エ
ー・ラブス(H. A. Lubs)、ザ・ケミストリー・オブ・シ
ンセティック・ダイズ・アンド・ピグメンツ(The Chemi
stry of Synthetic Dyes and Pigments)、ハフナー(Haf
ner)、ニューヨーク、ニューヨーク、1955年、第5
章、エイチ・ツォリンガー(H. Zollinger)のカラー・ケ
ミストリー(Color Chemistry)中、シンセシス,プロパ
ティーズ・アンド・アプリケーションズ・オブ・オーガ
ニック・ダイズ・アンド・ピグメンツ(Synthesis, Prop
erties and Applicaitons of OrganicDyes and Pigment
s)、ヴィ・シー・エイチ(VCH)、ニューヨーク、ニュ
ーヨーク、第67〜73頁、1987年、ならびに米国
特許第5,149,807号および欧州特許出願公開第
0,244,399号などに開示されている。
【0064】更に、日本国特開昭59−165054号
に記載されているように、他の像形成物質として、高温
でのハロゲン化銀または有機銀塩による酸化−還元反応
の結果として、染料部分を有する化合物の移動度が変化
する物質を使用することができる。上記の多くの物質
は、露光に対応した、移動染料の像を形成する分布が、
熱現像によって感光性物質中に形成される物質である。
像の染料を染料定着物質に移動させることにより可視像
を得るプロセス(拡散転写)は、日本国特開昭59−1
68439号および同59−182447号に記載され
ている。
に記載されているように、他の像形成物質として、高温
でのハロゲン化銀または有機銀塩による酸化−還元反応
の結果として、染料部分を有する化合物の移動度が変化
する物質を使用することができる。上記の多くの物質
は、露光に対応した、移動染料の像を形成する分布が、
熱現像によって感光性物質中に形成される物質である。
像の染料を染料定着物質に移動させることにより可視像
を得るプロセス(拡散転写)は、日本国特開昭59−1
68439号および同59−182447号に記載され
ている。
【0065】更に、還元剤は、従来技術において知られ
ている、酸化による通常の写真染料発色剤または現像剤
を放出する化合物であってもよい。本発明の写真物質
を、像を形成する露光後または同時に、実質的に無水の
条件で熱現像すると、露光領域または露光された感光性
ハロゲン化銀を有する非露光領域のいずれかにおいて、
銀像が形成されるのと同時に移動染料像が得られる。本
発明において利用される還元剤の総量は、還元剤を使用
する個々の層の全重量基準で、好ましくは0.5〜25
重量%、より好ましくは1〜10重量%となるべきであ
る。
ている、酸化による通常の写真染料発色剤または現像剤
を放出する化合物であってもよい。本発明の写真物質
を、像を形成する露光後または同時に、実質的に無水の
条件で熱現像すると、露光領域または露光された感光性
ハロゲン化銀を有する非露光領域のいずれかにおいて、
銀像が形成されるのと同時に移動染料像が得られる。本
発明において利用される還元剤の総量は、還元剤を使用
する個々の層の全重量基準で、好ましくは0.5〜25
重量%、より好ましくは1〜10重量%となるべきであ
る。
【0066】バインダー 本発明において使用する感光性ハロゲン化銀および有機
銀塩酸化剤は、一般に、少なくとも一種の以下に記載す
るようなバインダーに加えられる。バインダーは、溶液
状態の乳剤の他の成分を保持するのに十分な極性を有す
ることが好ましい。バインダーは、例えば、ゼラチン、
ポリビニルアセタール、ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニ
ル、酢酸セルロース、ポリオレフィン、ポリエステル、
ポリスチレン、ポリアクリロニトリル、ポリカーボネー
ト、メタクリレートコポリマー、無水マレイン酸エステ
ルコポリマー、ブタジエン−スチレンコポリマーなどの
天然および合成樹脂などのポリマー物質から選択するこ
とが好ましい。例えば、ターポリマーなどのコポリマー
もポリマーの定義に含まれる。
銀塩酸化剤は、一般に、少なくとも一種の以下に記載す
るようなバインダーに加えられる。バインダーは、溶液
状態の乳剤の他の成分を保持するのに十分な極性を有す
ることが好ましい。バインダーは、例えば、ゼラチン、
ポリビニルアセタール、ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニ
ル、酢酸セルロース、ポリオレフィン、ポリエステル、
ポリスチレン、ポリアクリロニトリル、ポリカーボネー
ト、メタクリレートコポリマー、無水マレイン酸エステ
ルコポリマー、ブタジエン−スチレンコポリマーなどの
天然および合成樹脂などのポリマー物質から選択するこ
とが好ましい。例えば、ターポリマーなどのコポリマー
もポリマーの定義に含まれる。
【0067】本発明において使用できるバインダーは、
個別にまたは互いに組合わせて使用することができる。
バインダーは親水性であっても疎水性であってもよい。
典型的な親水性バインダーは、透明または半透明の親水
性コロイドであって、その例には、天然物質、例えばゼ
ラチン、ゼラチン誘導体、セルロース誘導体などのタン
パク質、デンプン、アラビアゴム、プルラン(pullula
n)、デキストリンなどのポリサッカライド、ならびに合
成ポリマー、例えばポリビニルアルコール、ポリビニル
ピロリドン、アクリルアミドポリマーなどの水溶性ポリ
ビニル化合物などを含む。親水性バインダーのもう一つ
の例は、ラテックス形態に分散されたビニル化合物であ
り、これは写真物質の寸法安定性を増すために使用され
る。
個別にまたは互いに組合わせて使用することができる。
バインダーは親水性であっても疎水性であってもよい。
典型的な親水性バインダーは、透明または半透明の親水
性コロイドであって、その例には、天然物質、例えばゼ
ラチン、ゼラチン誘導体、セルロース誘導体などのタン
パク質、デンプン、アラビアゴム、プルラン(pullula
n)、デキストリンなどのポリサッカライド、ならびに合
成ポリマー、例えばポリビニルアルコール、ポリビニル
ピロリドン、アクリルアミドポリマーなどの水溶性ポリ
ビニル化合物などを含む。親水性バインダーのもう一つ
の例は、ラテックス形態に分散されたビニル化合物であ
り、これは写真物質の寸法安定性を増すために使用され
る。
【0068】ポリビニルブチラールおよびポリビニルホ
ルマールなどのポリビニルアセタールならびにポリ酢酸
ビニルおよびポリ塩化ビニルなどのビニルコポリマーが
特に好ましい。光熱写真物質に好ましいバインダーは、
ポリビニルブチラールである。バインダーを個別にまた
は互いに組合わせて使用してもよい。バインダーは親水
性であっても疎水性であってよいが、疎水性である方が
好ましい。バインダーは、一般に、乳剤層の約20〜約
75重量%、好ましくは約30〜約55重量%のレベル
で使用される。ロイコ染料の割合および添加剤のために
特定の現像時間および温度が必要とされる場合、バイン
ダーはこれらの条件に耐えられなければならない。バイ
ンダーは、一般に、200゜F(90℃)に30秒間あ
ってもその組成の全体が分解したり損なわれたりせず、
300゜F(149℃)に30秒間あっても組成の全体
が分解したり損なわれたりしないことがより好ましい。
ルマールなどのポリビニルアセタールならびにポリ酢酸
ビニルおよびポリ塩化ビニルなどのビニルコポリマーが
特に好ましい。光熱写真物質に好ましいバインダーは、
ポリビニルブチラールである。バインダーを個別にまた
は互いに組合わせて使用してもよい。バインダーは親水
性であっても疎水性であってよいが、疎水性である方が
好ましい。バインダーは、一般に、乳剤層の約20〜約
75重量%、好ましくは約30〜約55重量%のレベル
で使用される。ロイコ染料の割合および添加剤のために
特定の現像時間および温度が必要とされる場合、バイン
ダーはこれらの条件に耐えられなければならない。バイ
ンダーは、一般に、200゜F(90℃)に30秒間あ
ってもその組成の全体が分解したり損なわれたりせず、
300゜F(149℃)に30秒間あっても組成の全体
が分解したり損なわれたりしないことがより好ましい。
【0069】場合により、これらのポリマーを二種また
はそれ以上組合せて使用することができる。そのような
ポリマーは、その中に分散される成分を坦持するのに十
分な量、即ち、バインダーとして機能するのに効果的な
範囲で用いられる。効果的な範囲は、当業者によれば大
体決定することができる。少なくとも有機銀塩を坦持す
る場合の指針として、バインダー対有機銀塩の好ましい
割合の範囲は、15:1〜1:2、特に8:1〜1:1
であると言うことができる。
はそれ以上組合せて使用することができる。そのような
ポリマーは、その中に分散される成分を坦持するのに十
分な量、即ち、バインダーとして機能するのに効果的な
範囲で用いられる。効果的な範囲は、当業者によれば大
体決定することができる。少なくとも有機銀塩を坦持す
る場合の指針として、バインダー対有機銀塩の好ましい
割合の範囲は、15:1〜1:2、特に8:1〜1:1
であると言うことができる。
【0070】ドライシルバー製剤 光熱写真乳剤層としての処方は、バインダー、感光性ハ
ロゲン化銀、非感光性還元性銀源、非感光性還元性銀源
用の還元剤(例えば、所望によるロイコ染料として)、
本発明のフッ素化ポリマーおよび適宜使用される添加剤
を、例えばトルエン、2−ブタノンまたはテトラヒドロ
フランなどの不活性有機溶媒中に溶解および分散させて
調製することができる。像形成を向上する「トナー」ま
たはそれらの誘導体を使用することは非常に望ましい
が、要素に必須のものではない。トナーは、乳剤層の
0.01〜10重量%、好ましくは0.1〜10重量%の
量で存在することができる。トナーは、米国特許第3,
080,254号、同第3,847,612号および同第
4,123,282号に示されるように、光熱写真技術に
おいて周知の物質である。
ロゲン化銀、非感光性還元性銀源、非感光性還元性銀源
用の還元剤(例えば、所望によるロイコ染料として)、
本発明のフッ素化ポリマーおよび適宜使用される添加剤
を、例えばトルエン、2−ブタノンまたはテトラヒドロ
フランなどの不活性有機溶媒中に溶解および分散させて
調製することができる。像形成を向上する「トナー」ま
たはそれらの誘導体を使用することは非常に望ましい
が、要素に必須のものではない。トナーは、乳剤層の
0.01〜10重量%、好ましくは0.1〜10重量%の
量で存在することができる。トナーは、米国特許第3,
080,254号、同第3,847,612号および同第
4,123,282号に示されるように、光熱写真技術に
おいて周知の物質である。
【0071】トナーの例は、フタルイミドおよびN−ヒ
ドロキシフタルイミド;スクシンイミド、ピラゾリン−
5−オンならびにキナゾリノン、1−フェニルウラゾー
ル、3−フェニル−2−ピラゾリン−5−オン、キナゾ
リンおよび2,4−チアゾリジンジオンのような環状イ
ミド;N−ヒドロキシ−1,8−ナフタルイミドなどの
ナフタルイミド;コバルトヘキサミントリフルオロアセ
テートなどのコバルト錯体;3−メルカプト−1,2,4
−トリアゾール、2,4−ジメルカプトピリミジン、3
−メルカプト−4,5−ジフェニル−1,2,4−トリア
ゾールおよび2,5−ジメルカプト−1,3,4−チアジ
アゾールに例示されるメルカプタン;例えば、(N−ジ
メチルアミノメチル)フタルイミドおよびN−(ジメチ
ルアミノメチル)−ナフタレン−2,3−ジカルボキシ
イミドなどのN−(アミノメチル)アリールジカルボキ
シイミド;ならびにブロック化ピラゾール、イソチウロ
ニウム誘導体およびある種の光退色剤、例えば、N,N'
−ヘキサメチレンビス(1−カルバモイル−3,5−ジ
メチルピラゾール)、1,8−(3,6−ジアザオクタ
ン)−ビス(イソチウロニウム)トリフルオロアセテー
トおよび2−(トリブロモメチルスルホニルベンゾチア
ゾール)などの組合せ;ならびに3−エチル−5[(3
−エチル−2−ベンゾチアゾリニリデン)−1−メチル
エチリデン]−2−チオ−2,4−o−オキサゾリジン
ジオンなどのメロシアニン染料;フタラジノン、フタラ
ジノン誘導体もしくは金属塩または4−(1−ナフチ
ル)フタラジノン、6−クロロフタラジノン、5,7−
ジメトキシフタラジノンおよび2,3−ジヒドロ−1,4
−フタラジンジオンなどの誘導体;フタラジノンにスル
フィン酸を加えた誘導体、例えば、フタル酸、4−メチ
ルフタル酸、4−ニトロフタル酸およびテトラクロロ無
水フタル酸などの組合せ;キナゾリンジオン、ベンズオ
キサジンまたはナフトオキサジン誘導体;トーン調節剤
としてだけでなくその場でハロゲン化銀生成のためのハ
ライドイオンの源としても機能するロジウム錯体、例え
ばヘキサクロロロジウム(III)酸アンモニウム、臭化ロ
ジウム、硝酸ロジウムおよびヘキサクロロロジウム(II
I)酸カリウムなど;無機過酸化物および過硫酸塩、例え
ば、過酸化二硫化アンモニウムおよび過酸化水素;1,
3−ベンズオキサジン−2,4−ジオン、8−メチル−
1,3−ベンズオキサジン−2,4−ジオンおよび6−ニ
トロ−1,3−ベンズオキサジン−2,4−ジオンなどの
ベンズオキサジン−2,4−ジオン;ピリミジンおよび
不斉−トリアジン、例えば、2,4−ジヒドロキシピリ
ミジン、2−ヒドロキシ−4−アミノピリミジンなど、
アザウラシル、およびテトラアザペンタレン誘導体、例
えば、3,6−ジメルカプト−1,4−ジフェニル−1
H,4H−2,3a,5,6a−テトラアザペンタレン、お
よび1,4−ジ(o−クロロフェニル)−3,6−ジメル
カプト−1H,4H−2,3a,5,6a−テトラアザペン
タレンなどを含む。
ドロキシフタルイミド;スクシンイミド、ピラゾリン−
5−オンならびにキナゾリノン、1−フェニルウラゾー
ル、3−フェニル−2−ピラゾリン−5−オン、キナゾ
リンおよび2,4−チアゾリジンジオンのような環状イ
ミド;N−ヒドロキシ−1,8−ナフタルイミドなどの
ナフタルイミド;コバルトヘキサミントリフルオロアセ
テートなどのコバルト錯体;3−メルカプト−1,2,4
−トリアゾール、2,4−ジメルカプトピリミジン、3
−メルカプト−4,5−ジフェニル−1,2,4−トリア
ゾールおよび2,5−ジメルカプト−1,3,4−チアジ
アゾールに例示されるメルカプタン;例えば、(N−ジ
メチルアミノメチル)フタルイミドおよびN−(ジメチ
ルアミノメチル)−ナフタレン−2,3−ジカルボキシ
イミドなどのN−(アミノメチル)アリールジカルボキ
シイミド;ならびにブロック化ピラゾール、イソチウロ
ニウム誘導体およびある種の光退色剤、例えば、N,N'
−ヘキサメチレンビス(1−カルバモイル−3,5−ジ
メチルピラゾール)、1,8−(3,6−ジアザオクタ
ン)−ビス(イソチウロニウム)トリフルオロアセテー
トおよび2−(トリブロモメチルスルホニルベンゾチア
ゾール)などの組合せ;ならびに3−エチル−5[(3
−エチル−2−ベンゾチアゾリニリデン)−1−メチル
エチリデン]−2−チオ−2,4−o−オキサゾリジン
ジオンなどのメロシアニン染料;フタラジノン、フタラ
ジノン誘導体もしくは金属塩または4−(1−ナフチ
ル)フタラジノン、6−クロロフタラジノン、5,7−
ジメトキシフタラジノンおよび2,3−ジヒドロ−1,4
−フタラジンジオンなどの誘導体;フタラジノンにスル
フィン酸を加えた誘導体、例えば、フタル酸、4−メチ
ルフタル酸、4−ニトロフタル酸およびテトラクロロ無
水フタル酸などの組合せ;キナゾリンジオン、ベンズオ
キサジンまたはナフトオキサジン誘導体;トーン調節剤
としてだけでなくその場でハロゲン化銀生成のためのハ
ライドイオンの源としても機能するロジウム錯体、例え
ばヘキサクロロロジウム(III)酸アンモニウム、臭化ロ
ジウム、硝酸ロジウムおよびヘキサクロロロジウム(II
I)酸カリウムなど;無機過酸化物および過硫酸塩、例え
ば、過酸化二硫化アンモニウムおよび過酸化水素;1,
3−ベンズオキサジン−2,4−ジオン、8−メチル−
1,3−ベンズオキサジン−2,4−ジオンおよび6−ニ
トロ−1,3−ベンズオキサジン−2,4−ジオンなどの
ベンズオキサジン−2,4−ジオン;ピリミジンおよび
不斉−トリアジン、例えば、2,4−ジヒドロキシピリ
ミジン、2−ヒドロキシ−4−アミノピリミジンなど、
アザウラシル、およびテトラアザペンタレン誘導体、例
えば、3,6−ジメルカプト−1,4−ジフェニル−1
H,4H−2,3a,5,6a−テトラアザペンタレン、お
よび1,4−ジ(o−クロロフェニル)−3,6−ジメル
カプト−1H,4H−2,3a,5,6a−テトラアザペン
タレンなどを含む。
【0072】本発明において使用されるハロゲン化銀乳
剤は、余計なかぶりが発生しないように更に保護するこ
とができ、保存中に感度が低下しないように安定化する
ことができる。本発明を実施するために必要とはされな
いが、乳剤層に曇り防止剤として水銀(II)塩を加えると
有利なことがある。この目的に好ましい水銀(II)塩は、
酢酸水銀および臭化水銀である。単独でまたは組合せて
使用することができる適当な曇り防止剤および安定剤
は、米国特許第2,131,038号(スタウド(Staud))
および同第2,694,716号(アレン(Allen))に記載
のチアゾニウム塩、米国特許第2,886,437号(パ
イパー(Piper))および同第2,444,605号(ヘイム
バック(Heimbach))に記載のアザインデン、米国特許第
2,728,663号(アレン)に記載の水銀塩、米国特
許第3,287,135号(アンダーソン(Anderson))に
記載のウラゾール、米国特許第3,235,652号(ケ
ンナード(Kennard))に記載のスルホカテコール、英国特
許第623,448号(キャロル(Carrol)ら)に記載の
オキシム、米国特許第2,839,405号(ジョーンズ
(Jones))に記載の多価金属塩、米国特許第3,220,8
39号(ハーツ(Herz))に記載のチウロニウム塩、なら
びに米国特許第2,566,263号(トリヴェリ(Trive
lli))および同第2,597,915号(ダムシュローダ
ー(Damschroder))に記載のパラジウム、白金および金塩
を含む。
剤は、余計なかぶりが発生しないように更に保護するこ
とができ、保存中に感度が低下しないように安定化する
ことができる。本発明を実施するために必要とはされな
いが、乳剤層に曇り防止剤として水銀(II)塩を加えると
有利なことがある。この目的に好ましい水銀(II)塩は、
酢酸水銀および臭化水銀である。単独でまたは組合せて
使用することができる適当な曇り防止剤および安定剤
は、米国特許第2,131,038号(スタウド(Staud))
および同第2,694,716号(アレン(Allen))に記載
のチアゾニウム塩、米国特許第2,886,437号(パ
イパー(Piper))および同第2,444,605号(ヘイム
バック(Heimbach))に記載のアザインデン、米国特許第
2,728,663号(アレン)に記載の水銀塩、米国特
許第3,287,135号(アンダーソン(Anderson))に
記載のウラゾール、米国特許第3,235,652号(ケ
ンナード(Kennard))に記載のスルホカテコール、英国特
許第623,448号(キャロル(Carrol)ら)に記載の
オキシム、米国特許第2,839,405号(ジョーンズ
(Jones))に記載の多価金属塩、米国特許第3,220,8
39号(ハーツ(Herz))に記載のチウロニウム塩、なら
びに米国特許第2,566,263号(トリヴェリ(Trive
lli))および同第2,597,915号(ダムシュローダ
ー(Damschroder))に記載のパラジウム、白金および金塩
を含む。
【0073】本発明に使用する安定化された乳剤は、例
えば、米国特許第2,960,404号(ミルトン(Milto
n))に記載された種類のグリセリンおよびジオールなど
の多価アルコール、米国特許第2,588,765号(ロ
ビンス(Robins))および同第3,121,060号(デュ
アン(Duane))に記載のような脂肪酸またはエステルな
ど、英国特許第955,061号に記載されたようなシ
リコーン樹脂などの可塑剤および潤滑剤を含む。光熱写
真要素は像染料安定剤を含むことができる。そのような
像染料安定剤は、英国特許第1,326,889号、米国
特許第3,432,300号、同第3,698,909号、
同第3,574,627号、同第3,573,050号、同
第3,764,337号および同第4,042,394号に
例示されている。
えば、米国特許第2,960,404号(ミルトン(Milto
n))に記載された種類のグリセリンおよびジオールなど
の多価アルコール、米国特許第2,588,765号(ロ
ビンス(Robins))および同第3,121,060号(デュ
アン(Duane))に記載のような脂肪酸またはエステルな
ど、英国特許第955,061号に記載されたようなシ
リコーン樹脂などの可塑剤および潤滑剤を含む。光熱写
真要素は像染料安定剤を含むことができる。そのような
像染料安定剤は、英国特許第1,326,889号、米国
特許第3,432,300号、同第3,698,909号、
同第3,574,627号、同第3,573,050号、同
第3,764,337号および同第4,042,394号に
例示されている。
【0074】光熱写真要素は、更に無機または有機硬膜
剤を含むことができる。親水性バインダーと共に使用す
る場合、クロムミョウバン、酢酸クロムなどのクロム
塩;ホルムアルデヒド、グリオキサール、グルタルアル
デヒドなどのアルデヒド;ジメチロールウレア、メチロ
ールジメチルヒダントインなどのN−メチロール化合
物;2,3−ジヒドロキシジオキサンなどのジオキサン
誘導体;1,3,5−トリアクリロイルヘキサヒドロ−s
−トリアジン、1,3−ビニルスルホニル−2−プロパ
ノールなどの活性ビニル化合物;2,4−ジクロロ−6
−ヒドロキシ−s−トリアジンなどの活性ハロゲン化合
物;ムコクロル酸、ムコフェノキシクロル酸などのムコ
ハロゲン酸を使用することができ、これらは単独でまた
は組合せて使用することができる。疎水性バインダーと
共に使用する場合、ポリイソシアネート、エポキシ樹
脂、メラミン、フェノール樹脂およびジアルデヒドなど
の化合物を硬膜剤として使用することができる。
剤を含むことができる。親水性バインダーと共に使用す
る場合、クロムミョウバン、酢酸クロムなどのクロム
塩;ホルムアルデヒド、グリオキサール、グルタルアル
デヒドなどのアルデヒド;ジメチロールウレア、メチロ
ールジメチルヒダントインなどのN−メチロール化合
物;2,3−ジヒドロキシジオキサンなどのジオキサン
誘導体;1,3,5−トリアクリロイルヘキサヒドロ−s
−トリアジン、1,3−ビニルスルホニル−2−プロパ
ノールなどの活性ビニル化合物;2,4−ジクロロ−6
−ヒドロキシ−s−トリアジンなどの活性ハロゲン化合
物;ムコクロル酸、ムコフェノキシクロル酸などのムコ
ハロゲン酸を使用することができ、これらは単独でまた
は組合せて使用することができる。疎水性バインダーと
共に使用する場合、ポリイソシアネート、エポキシ樹
脂、メラミン、フェノール樹脂およびジアルデヒドなど
の化合物を硬膜剤として使用することができる。
【0075】安定化された乳剤層を含む光熱写真要素
は、米国特許第3,253,921号(ソーディ(Sawda
y))、同第2,274,782号(ガスパー(Gaspar))、同
第2,527,583号(キャロルら)および同第2,9
56,879号(ヴァン・キャンペン(Van Campen))に記
載されているような光吸収物質およびフィルター染料を
含む写真要素において使用することができる。所望によ
り、例えば米国特許第3,282,699号(ミルトン)
に記載のように染料を媒染することもできる。安定化さ
れた乳剤層を含む光熱写真要素は、例えばデンプン、二
酸化チタン、酸化亜鉛、シリカ、米国特許第2,992,
101号(ジェリー(Jelly)ら)および同第2,701,
245号(リン(Lynn))に記載された種類のビーズを含
むポリマービーズなどの艶消剤を含有することができ
る。
は、米国特許第3,253,921号(ソーディ(Sawda
y))、同第2,274,782号(ガスパー(Gaspar))、同
第2,527,583号(キャロルら)および同第2,9
56,879号(ヴァン・キャンペン(Van Campen))に記
載されているような光吸収物質およびフィルター染料を
含む写真要素において使用することができる。所望によ
り、例えば米国特許第3,282,699号(ミルトン)
に記載のように染料を媒染することもできる。安定化さ
れた乳剤層を含む光熱写真要素は、例えばデンプン、二
酸化チタン、酸化亜鉛、シリカ、米国特許第2,992,
101号(ジェリー(Jelly)ら)および同第2,701,
245号(リン(Lynn))に記載された種類のビーズを含
むポリマービーズなどの艶消剤を含有することができ
る。
【0076】安定化された乳剤は、帯電防止または導電
性層、例えば、塩化物、硝酸塩などの可溶性塩、蒸着金
属層、米国特許第2,861,056号および同第3,2
06,312号(ミンスク(Minsk))に記載のようなイオ
ン性ポリマーまたは米国特許第3,428,451号(ト
レヴォイ(Trevoy))に記載のような不溶性無機塩などを
含む層などを含む光熱写真要素に用いることができる。
本発明の光熱写真ドライシルバー乳剤は、基材上に一層
またはそれ以上の層で構成される。一層の構成では、銀
源物質、ハロゲン化銀、現像剤およびバインダー、なら
びにトナー、被覆助剤、ロイコ染料および他の補助剤な
どの所望による物質を含まなければならない。二層の構
成では、第1乳剤層(通常は基材に隣接した層)中に銀
源およびハロゲン化銀を含み、第2層または両層中にい
くつかの他の成分を含まなければならないが、全ての成
分を含む単一乳剤層および保護トップコートを含む二層
の構成も考えられる。多色光熱写真ドライシルバーの構
成は、各色についてこれらの二層の組合せを含んでもよ
いし、米国特許第4,708,928号に記載されている
ように単一層内に全ての成分を含んでいてもよい。多層
多色光熱写真物品の場合、米国特許第4,460,681
号に記載されているように、一般に、各感光層の間の官
能性もしくは非官能性のバリアー層により、各乳剤層が
互いに隔離された状態に維持される。
性層、例えば、塩化物、硝酸塩などの可溶性塩、蒸着金
属層、米国特許第2,861,056号および同第3,2
06,312号(ミンスク(Minsk))に記載のようなイオ
ン性ポリマーまたは米国特許第3,428,451号(ト
レヴォイ(Trevoy))に記載のような不溶性無機塩などを
含む層などを含む光熱写真要素に用いることができる。
本発明の光熱写真ドライシルバー乳剤は、基材上に一層
またはそれ以上の層で構成される。一層の構成では、銀
源物質、ハロゲン化銀、現像剤およびバインダー、なら
びにトナー、被覆助剤、ロイコ染料および他の補助剤な
どの所望による物質を含まなければならない。二層の構
成では、第1乳剤層(通常は基材に隣接した層)中に銀
源およびハロゲン化銀を含み、第2層または両層中にい
くつかの他の成分を含まなければならないが、全ての成
分を含む単一乳剤層および保護トップコートを含む二層
の構成も考えられる。多色光熱写真ドライシルバーの構
成は、各色についてこれらの二層の組合せを含んでもよ
いし、米国特許第4,708,928号に記載されている
ように単一層内に全ての成分を含んでいてもよい。多層
多色光熱写真物品の場合、米国特許第4,460,681
号に記載されているように、一般に、各感光層の間の官
能性もしくは非官能性のバリアー層により、各乳剤層が
互いに隔離された状態に維持される。
【0077】光熱写真ドライシルバー乳剤の基材への塗
布は、デュアル−ナイフコーティング(dual-knife coat
ing)、デュアル−ロールコーティング、デュアル−スロ
ット(slot)コーティング、デュアル−スライド(slide)
コーティングおよびデュアル−カーテン(curtain)コー
ティングなどのいずれかの適当な「同時ウェット−オン
−ウェット(simultaneous wet-on-wet)」塗布方法によ
り行うことができる。本発明において使用する光熱写真
またはサーモグラフィ乳剤層の塗布量は、10g/m2〜3
0g/m2、好ましくは18g/m2〜22g/m2である。塗布し
た構成体は、例えば、オーブン、向流平行気流、衝突空
気、赤外光、照射加熱、マイクロウェーブまたは加熱ロ
ールなどを使用するいずれかの適当な方法を用いて乾燥
させることができる。
布は、デュアル−ナイフコーティング(dual-knife coat
ing)、デュアル−ロールコーティング、デュアル−スロ
ット(slot)コーティング、デュアル−スライド(slide)
コーティングおよびデュアル−カーテン(curtain)コー
ティングなどのいずれかの適当な「同時ウェット−オン
−ウェット(simultaneous wet-on-wet)」塗布方法によ
り行うことができる。本発明において使用する光熱写真
またはサーモグラフィ乳剤層の塗布量は、10g/m2〜3
0g/m2、好ましくは18g/m2〜22g/m2である。塗布し
た構成体は、例えば、オーブン、向流平行気流、衝突空
気、赤外光、照射加熱、マイクロウェーブまたは加熱ロ
ールなどを使用するいずれかの適当な方法を用いて乾燥
させることができる。
【0078】現像条件は使用する構成によって変化する
が、像を形成するように露光された物質の加熱は、適当
な高温、例えば、約80℃〜約250℃、好ましくは約
120℃〜約200℃で、一般に1秒〜2分の十分な時
間行うことが一般に含まれる。現像を2工程で行う場合
がある。熱現像を例えば約150℃のより高い温度で約
10秒間行った後、熱拡散を移動溶媒の存在下、例えば
80℃のより低い温度で行う。より低い温度における第
2の加熱工程は、更に現像されることを防止し、既に形
成された染料が乳剤層から受容層へ拡散させる。
が、像を形成するように露光された物質の加熱は、適当
な高温、例えば、約80℃〜約250℃、好ましくは約
120℃〜約200℃で、一般に1秒〜2分の十分な時
間行うことが一般に含まれる。現像を2工程で行う場合
がある。熱現像を例えば約150℃のより高い温度で約
10秒間行った後、熱拡散を移動溶媒の存在下、例えば
80℃のより低い温度で行う。より低い温度における第
2の加熱工程は、更に現像されることを防止し、既に形
成された染料が乳剤層から受容層へ拡散させる。
【0079】基材 本発明において使用する光熱写真またはサーモグラフィ
乳剤は、種々の基材に塗布することができる。基材また
は支持体は、像形成の要求に応じて、広範な物質から選
択することができる。典型的な基材は、ポリエステルフ
ィルム、下塗りポリエステルフィルム、ポリ(エチレン
テレフタレート)フィルム、硝酸セルロースフィルム、
セルロースエステルフィルム、ポリ(ビニルアセター
ル)フィルム、ポリカーボネートフィルムおよび関連す
るまたは樹脂状の物質、ならびにガラス、紙、金属など
を含む。一般に、可撓性基材、特に、部分的にアセチル
化された、もしくはバライタおよび/またはα−オレフ
ィンポリマー、特にポリエチレン、ポリプロピレン、エ
チレン−ブテンコポリマーなどの炭素数2〜10のα−
オレフィンのポリマーによりコートされた紙基材が、一
般に用いられる。基材として好ましいポリマー物質は、
ポリエステルなどの良好な熱安定性を有するポリマーを
含む。特に好ましいポリエステルは、ポリエチレンテレ
フタレートである。
乳剤は、種々の基材に塗布することができる。基材また
は支持体は、像形成の要求に応じて、広範な物質から選
択することができる。典型的な基材は、ポリエステルフ
ィルム、下塗りポリエステルフィルム、ポリ(エチレン
テレフタレート)フィルム、硝酸セルロースフィルム、
セルロースエステルフィルム、ポリ(ビニルアセター
ル)フィルム、ポリカーボネートフィルムおよび関連す
るまたは樹脂状の物質、ならびにガラス、紙、金属など
を含む。一般に、可撓性基材、特に、部分的にアセチル
化された、もしくはバライタおよび/またはα−オレフ
ィンポリマー、特にポリエチレン、ポリプロピレン、エ
チレン−ブテンコポリマーなどの炭素数2〜10のα−
オレフィンのポリマーによりコートされた紙基材が、一
般に用いられる。基材として好ましいポリマー物質は、
ポリエステルなどの良好な熱安定性を有するポリマーを
含む。特に好ましいポリエステルは、ポリエチレンテレ
フタレートである。
【0080】本発明に使用する光熱写真またはサーモグ
ラフィ乳剤の塗布は、線巻ロッドコーティング、浸漬コ
ーティング、エアナイフコーティング、フローコーティ
ングまたは、米国特許第2,681,294号に記載の種
類のホッパーを用いる押出コーティングを含む種々のコ
ーティング操作により塗布することができる。所望によ
り、米国特許第2,761,791号および英国特許第8
37,095号に記載の方法により2層またはそれ以上
の層を同時に塗布することができる。乳剤層の典型的湿
潤厚さは、約10〜約100μmの範囲であってよく、
層の乾燥は押込空気中20℃〜100℃の範囲の温度で
行うことができる。染料の色の補色となる色フィルタを
使用するマクベス(MacBeth)色濃度計モデルTD504
により測定して、0.2を越え、好ましくは0.5〜2.
5の範囲の最大像濃度が得られるように、層の厚さを選
択することことが好ましい。
ラフィ乳剤の塗布は、線巻ロッドコーティング、浸漬コ
ーティング、エアナイフコーティング、フローコーティ
ングまたは、米国特許第2,681,294号に記載の種
類のホッパーを用いる押出コーティングを含む種々のコ
ーティング操作により塗布することができる。所望によ
り、米国特許第2,761,791号および英国特許第8
37,095号に記載の方法により2層またはそれ以上
の層を同時に塗布することができる。乳剤層の典型的湿
潤厚さは、約10〜約100μmの範囲であってよく、
層の乾燥は押込空気中20℃〜100℃の範囲の温度で
行うことができる。染料の色の補色となる色フィルタを
使用するマクベス(MacBeth)色濃度計モデルTD504
により測定して、0.2を越え、好ましくは0.5〜2.
5の範囲の最大像濃度が得られるように、層の厚さを選
択することことが好ましい。
【0081】また、処方を噴霧乾燥またはカプセル化し
て固体粒子とし、第2の、可能ならば異なるバインダー
中に再分散させた後、基材上に塗布することができる。
乳剤層用の処方は、フッ化脂肪族ポリエステルなどの塗
布助剤を含むこともできる。バリヤー層は、ポリマー物
質を含むことが好ましく、本発明の光熱写真要素中に存
在してもよい。バリヤー層の材料としてのポリマーは、
ゼラチン、ポリビニルアルコール、ポリアクリル酸、ス
ルホン化ポリスチレンなどの天然および合成ポリマーか
ら選択することができる。場合によって、ポリマーにシ
リカなどのバリヤー助剤が混合されてもよい。米国特許
第4,460,681号および同第4,374,921号に
示されるような裏面抵抗性加熱層(backside resistive
heating layer)を光熱写真像系に使用することもでき
る。
て固体粒子とし、第2の、可能ならば異なるバインダー
中に再分散させた後、基材上に塗布することができる。
乳剤層用の処方は、フッ化脂肪族ポリエステルなどの塗
布助剤を含むこともできる。バリヤー層は、ポリマー物
質を含むことが好ましく、本発明の光熱写真要素中に存
在してもよい。バリヤー層の材料としてのポリマーは、
ゼラチン、ポリビニルアルコール、ポリアクリル酸、ス
ルホン化ポリスチレンなどの天然および合成ポリマーか
ら選択することができる。場合によって、ポリマーにシ
リカなどのバリヤー助剤が混合されてもよい。米国特許
第4,460,681号および同第4,374,921号に
示されるような裏面抵抗性加熱層(backside resistive
heating layer)を光熱写真像系に使用することもでき
る。
【0082】染料受容層 酸化されて染料を形成または放出することができる化合
物を含む光熱写真系の反応体および反応生成物が、像形
成後に接触して残る場合、いくつかの問題が生じる。例
えば、熱現像によってしばしば濁りおよび曇りを有する
カラー像が生じるが、それは乳剤の露光領域において、
還元された金属銀像の染料が汚染されるためである。更
に、得られるプリントは、像を形成しないバックグラウ
ンド領域において発色しやすい。この「バックグラウン
ド汚染(stain)」は、貯蔵中における、染料を形成また
は放出する化合物と還元剤との間のゆっくりとした反応
により生じる。従って、像を形成する際に形成される染
料を受容体に移動させることが望ましい。受容体はしば
しば像受容層または染料受容層と称される。
物を含む光熱写真系の反応体および反応生成物が、像形
成後に接触して残る場合、いくつかの問題が生じる。例
えば、熱現像によってしばしば濁りおよび曇りを有する
カラー像が生じるが、それは乳剤の露光領域において、
還元された金属銀像の染料が汚染されるためである。更
に、得られるプリントは、像を形成しないバックグラウ
ンド領域において発色しやすい。この「バックグラウン
ド汚染(stain)」は、貯蔵中における、染料を形成また
は放出する化合物と還元剤との間のゆっくりとした反応
により生じる。従って、像を形成する際に形成される染
料を受容体に移動させることが望ましい。受容体はしば
しば像受容層または染料受容層と称される。
【0083】光熱写真要素は、更に染料受容層を含んで
よい。乳剤層の露光領域の熱現像の際に生成する染料
は、現像条件において、像受容層または染料受容層に移
動し、そこで保持される。酸化されて、例えばロイコ染
料などの染料を形成または放出することができる化合物
を使用する光熱写真要素から得られる像は、一般に、染
料受容層に移行する。染料受容層は、使用する染料と親
和性を有するポリマー物質からなっていてよい。染料受
容層は、必然的に、染料のイオン性または中性特性によ
って変わることになる。
よい。乳剤層の露光領域の熱現像の際に生成する染料
は、現像条件において、像受容層または染料受容層に移
動し、そこで保持される。酸化されて、例えばロイコ染
料などの染料を形成または放出することができる化合物
を使用する光熱写真要素から得られる像は、一般に、染
料受容層に移行する。染料受容層は、使用する染料と親
和性を有するポリマー物質からなっていてよい。染料受
容層は、必然的に、染料のイオン性または中性特性によ
って変わることになる。
【0084】本発明の染料受容層は、任意の熱可塑性ポ
リマー製の可撓性または硬質の透明層であってよい。染
料受容層は、少なくとも0.1μm、より好ましくは約1
〜約10μmの厚さおよび約20℃〜約200℃のガラ
ス転位点を有することが好ましい。本発明において、ポ
リマーが染料を吸収および定着できるのであれば、任意
の熱可塑性ポリマーまたはポリマーの組合せを使用する
ことができる。ポリマーが染料媒染剤として作用するの
で、更に定着剤を必要とはしない。染料受容層を調製す
るために使用することができる熱可塑性ポリマーは、ポ
リエチレンテレフタレートなどのポリエステル、ポリエ
チレンなどのポリオレフィン、酢酸セルロース、酪酸セ
ルロース、プロピオン酸セルロースなどのセルロース、
ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、
ポリ酢酸ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニルコポリマー、
塩化ビニリデン−アクリロニトリルコポリマー、スチレ
ン−アクリロニトリルコポリマーなどを含む。
リマー製の可撓性または硬質の透明層であってよい。染
料受容層は、少なくとも0.1μm、より好ましくは約1
〜約10μmの厚さおよび約20℃〜約200℃のガラ
ス転位点を有することが好ましい。本発明において、ポ
リマーが染料を吸収および定着できるのであれば、任意
の熱可塑性ポリマーまたはポリマーの組合せを使用する
ことができる。ポリマーが染料媒染剤として作用するの
で、更に定着剤を必要とはしない。染料受容層を調製す
るために使用することができる熱可塑性ポリマーは、ポ
リエチレンテレフタレートなどのポリエステル、ポリエ
チレンなどのポリオレフィン、酢酸セルロース、酪酸セ
ルロース、プロピオン酸セルロースなどのセルロース、
ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、
ポリ酢酸ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニルコポリマー、
塩化ビニリデン−アクリロニトリルコポリマー、スチレ
ン−アクリロニトリルコポリマーなどを含む。
【0085】本発明の染料受容物質中に使用される有機
ポリマー物質の例は、分子量2000〜85000のポ
リスチレン、炭素数が4を越えない置換基を有するポリ
スチレン誘導体、ポリ(ビニルクロロヘキサン)、ポリ
(ジビニルベンゼン)、ポリ(N−ビニルピロリジ
ン)、ポリ(ビニルカルバゾール)、ポリ(アリルベン
ゼン)、ポリ(ビニルアルコール)、ポリビニルホルマ
ールおよびポリビニルブチラールなどのポリアセター
ル、ポリ塩化ビニル、塩素化ポリエチレン、ポリ三フッ
化エチレン、ポリアクリロニトリル、ポリ(N,N−ジ
メチル−アリルアミド)、p−シアノフェニル基、ペン
タクロロフェニル基または2,4−ジクロロフェニル基
を有するポリアクリレート、ポリ(アクリルクロロアク
リレート)、ポリ(メチルメタクリレート)、ポリ(エ
チルメタクリレート)、ポリ(プロピルメタクリレー
ト)、ポリ(イソプロピルメタクリレート)、ポリ(イ
ソブチルメタクリレート)、ポリ(tert−ブチルメタク
リレート)、ポリ(シクロヘキシルメタクリレート)、
ポリエチレングリコールジメタクリレート、ポリ(シア
ノエチルメタクリレート)、ポリエチレンテレフタレー
トなどのポリエステル、ポリスルホンビスフェノールA
ポリカーボネート、ポリカーボネート、ポリアンヒドリ
ド、ポリアミドおよび酢酸セルロースを含む。「ポリマ
ー・ハンドブック(Polymer Handbook)」、第2版(ジェ
イ・ブランドラップ(J. Brandrup)およびイー・エイチ
・イマガット(E. H. Immergut)編、ジョン・ウィリー・
アンド・サンズ・インコーポレイテッド(John Wiley an
d Sons Inc.)出版)に記載された合成ポリマーも有用で
ある。これらのポリマー物質は単独で使用することもで
きるし、複数のものをコポリマーの形態で使用すること
もできる。
ポリマー物質の例は、分子量2000〜85000のポ
リスチレン、炭素数が4を越えない置換基を有するポリ
スチレン誘導体、ポリ(ビニルクロロヘキサン)、ポリ
(ジビニルベンゼン)、ポリ(N−ビニルピロリジ
ン)、ポリ(ビニルカルバゾール)、ポリ(アリルベン
ゼン)、ポリ(ビニルアルコール)、ポリビニルホルマ
ールおよびポリビニルブチラールなどのポリアセター
ル、ポリ塩化ビニル、塩素化ポリエチレン、ポリ三フッ
化エチレン、ポリアクリロニトリル、ポリ(N,N−ジ
メチル−アリルアミド)、p−シアノフェニル基、ペン
タクロロフェニル基または2,4−ジクロロフェニル基
を有するポリアクリレート、ポリ(アクリルクロロアク
リレート)、ポリ(メチルメタクリレート)、ポリ(エ
チルメタクリレート)、ポリ(プロピルメタクリレー
ト)、ポリ(イソプロピルメタクリレート)、ポリ(イ
ソブチルメタクリレート)、ポリ(tert−ブチルメタク
リレート)、ポリ(シクロヘキシルメタクリレート)、
ポリエチレングリコールジメタクリレート、ポリ(シア
ノエチルメタクリレート)、ポリエチレンテレフタレー
トなどのポリエステル、ポリスルホンビスフェノールA
ポリカーボネート、ポリカーボネート、ポリアンヒドリ
ド、ポリアミドおよび酢酸セルロースを含む。「ポリマ
ー・ハンドブック(Polymer Handbook)」、第2版(ジェ
イ・ブランドラップ(J. Brandrup)およびイー・エイチ
・イマガット(E. H. Immergut)編、ジョン・ウィリー・
アンド・サンズ・インコーポレイテッド(John Wiley an
d Sons Inc.)出版)に記載された合成ポリマーも有用で
ある。これらのポリマー物質は単独で使用することもで
きるし、複数のものをコポリマーの形態で使用すること
もできる。
【0086】染料受容層中の染料像の光学濃度および染
料像の実際の色さえも、染料受容層のポリマーの特性に
非常に依存しており、これらは染料媒染剤として作用
し、それ自体が染料を吸収および定着することができ
る。本発明により、0.3〜3.5(好ましくは1.5〜
3.5)の範囲の反射光学濃度または0.2〜2.5(好
ましくは1.0〜2.5)の範囲の透過光学濃度を有する
染料像が得られる。染料受容層は、少なくとも一種の熱
可塑性ポリマーを有機溶媒(例えば、2−ブタノン、ア
セトン、テトラヒロドフランなど)中に溶解し、得られ
る溶液を基材ベースまたは支持体に塗布して形成する
が、その方法は従来技術において知られる種々の塗布方
法、例えばフローコーティング、押出しコーディング、
浸漬コーディング、エアナイフコーティング、ホッパー
コーティングおよび溶液塗布に用いられるその他任意の
塗布方法による。溶液を塗布した後、染料受容層を(例
えばオーブンなどの中で)乾燥して溶媒を追い出す。染
料受容層は光熱写真要素に剥離可能なように付着するこ
とができる。剥離可能な像受容層は、米国特許第4,5
94,307号に記載されている。
料像の実際の色さえも、染料受容層のポリマーの特性に
非常に依存しており、これらは染料媒染剤として作用
し、それ自体が染料を吸収および定着することができ
る。本発明により、0.3〜3.5(好ましくは1.5〜
3.5)の範囲の反射光学濃度または0.2〜2.5(好
ましくは1.0〜2.5)の範囲の透過光学濃度を有する
染料像が得られる。染料受容層は、少なくとも一種の熱
可塑性ポリマーを有機溶媒(例えば、2−ブタノン、ア
セトン、テトラヒロドフランなど)中に溶解し、得られ
る溶液を基材ベースまたは支持体に塗布して形成する
が、その方法は従来技術において知られる種々の塗布方
法、例えばフローコーティング、押出しコーディング、
浸漬コーディング、エアナイフコーティング、ホッパー
コーティングおよび溶液塗布に用いられるその他任意の
塗布方法による。溶液を塗布した後、染料受容層を(例
えばオーブンなどの中で)乾燥して溶媒を追い出す。染
料受容層は光熱写真要素に剥離可能なように付着するこ
とができる。剥離可能な像受容層は、米国特許第4,5
94,307号に記載されている。
【0087】乳剤層の調製に使用するバインダーおよび
溶媒の選定によっては、感光性要素からの染料受容層の
剥離性が影響を受ける。像受容層用のバインダーが乳剤
層を塗布するために用いる溶媒を浸透させず、乳剤層に
使用するバインダーと相溶性がないことが好ましい。好
ましいバインダーおよび溶媒を選択することにより、乳
剤層と染料受容層の間に弱い付着が形成され、乳剤層の
良好な剥離性が促進される。光熱写真要素は、乳剤層の
剥離性を向上するために塗布助剤を含むこともできる。
例えば、酢酸エチルに溶解させたフッ素化脂肪族ポリエ
ステルを、乳剤層の約0.02〜約0.5重量%、好まし
くは約0.1〜約0.3重量%の量で加えることができ
る。そのようなフッ素化脂肪族ポリエステルの代表例
は、「フルオラド(FLUORAD)FC431」(フッ素化界
面活性剤、ミネソタ州、セント・ポールの3M社から入
手可能)である。塗布助剤を同じ重量の範囲で染料受容
層に加えて、剥離性を向上させることもできる。剥離プ
ロセスにおいて溶媒を使用する必要はない。剥離可能な
層は、1〜50g/cmの離層抵抗および、離層抵抗より大
きい、好ましくは離層抵抗の少なくとも2倍を越える引
張強度を有することが好ましい。
溶媒の選定によっては、感光性要素からの染料受容層の
剥離性が影響を受ける。像受容層用のバインダーが乳剤
層を塗布するために用いる溶媒を浸透させず、乳剤層に
使用するバインダーと相溶性がないことが好ましい。好
ましいバインダーおよび溶媒を選択することにより、乳
剤層と染料受容層の間に弱い付着が形成され、乳剤層の
良好な剥離性が促進される。光熱写真要素は、乳剤層の
剥離性を向上するために塗布助剤を含むこともできる。
例えば、酢酸エチルに溶解させたフッ素化脂肪族ポリエ
ステルを、乳剤層の約0.02〜約0.5重量%、好まし
くは約0.1〜約0.3重量%の量で加えることができ
る。そのようなフッ素化脂肪族ポリエステルの代表例
は、「フルオラド(FLUORAD)FC431」(フッ素化界
面活性剤、ミネソタ州、セント・ポールの3M社から入
手可能)である。塗布助剤を同じ重量の範囲で染料受容
層に加えて、剥離性を向上させることもできる。剥離プ
ロセスにおいて溶媒を使用する必要はない。剥離可能な
層は、1〜50g/cmの離層抵抗および、離層抵抗より大
きい、好ましくは離層抵抗の少なくとも2倍を越える引
張強度を有することが好ましい。
【0088】染料受容層が乳剤層に隣接して、像を形成
するように露光された乳剤層を、例えば、加熱されたシ
ュー-アンド-ローラー型加熱プロセッサー(shoe-and-ro
llertype heat processor)などの中で熱現像に付した後
に生成する染料の移動を容易にすることが好ましい。本
発明の黄色ロイコ染料を含有する青色感受性乳剤層を含
む多層構成に、本発明のマゼンタロイコ染料を含有する
緑色感受性乳剤層をオーバーコートしてもよい。これら
の層に、続いて、シアンロイコ染料を含有する赤色感受
性乳剤層をオーバーコートしてもよい。像形成および加
熱により、像を形成する様式で、黄、マゼンタおよびシ
アン像が形成される。そのように形成された染料は像受
容層に移行することができる。像受容層は構成の不変の
部分であってもよいし、除去できる、“即ち、剥離可能
なように付着され”、その後構成から剥離されてもよ
い。色形成層は、米国特許第4,460,681号に記載
されているように、各感光層の間に官能性もしくは非官
能性のバリアー層を使用することにより、互いに隔離さ
れた状態に維持することができる。感度および染料の生
成の間における青色−黄色、緑色−マゼンタまたは赤色
−シアンの関係でなく、米国特許第4,619,892号
に示されているような偽カラーアドレス(false color a
ddress)を使用することもできる。
するように露光された乳剤層を、例えば、加熱されたシ
ュー-アンド-ローラー型加熱プロセッサー(shoe-and-ro
llertype heat processor)などの中で熱現像に付した後
に生成する染料の移動を容易にすることが好ましい。本
発明の黄色ロイコ染料を含有する青色感受性乳剤層を含
む多層構成に、本発明のマゼンタロイコ染料を含有する
緑色感受性乳剤層をオーバーコートしてもよい。これら
の層に、続いて、シアンロイコ染料を含有する赤色感受
性乳剤層をオーバーコートしてもよい。像形成および加
熱により、像を形成する様式で、黄、マゼンタおよびシ
アン像が形成される。そのように形成された染料は像受
容層に移行することができる。像受容層は構成の不変の
部分であってもよいし、除去できる、“即ち、剥離可能
なように付着され”、その後構成から剥離されてもよ
い。色形成層は、米国特許第4,460,681号に記載
されているように、各感光層の間に官能性もしくは非官
能性のバリアー層を使用することにより、互いに隔離さ
れた状態に維持することができる。感度および染料の生
成の間における青色−黄色、緑色−マゼンタまたは赤色
−シアンの関係でなく、米国特許第4,619,892号
に示されているような偽カラーアドレス(false color a
ddress)を使用することもできる。
【0089】別の態様では、乳剤層に放出された発色染
料の別に塗布された染料受容シート上への移行は、露光
された乳剤層を染料受容層に密接に面接触(face-to-fac
e contact)させて、得られる複合構成体を加熱すること
により行われる。層の均一な接触が0.5〜300秒
間、約80〜約220℃の温度で行われる場合、この第
2の態様で良好な結果が達成される。上記のように調製
した像が形成され染料受容層をレジスター(register)内
でスーパーインポーズ(superimposing)することによ
り、多色像を調製することができる。像を形成した各像
受容層のポリマーは、一枚の基材上に有用な多色の再現
を行うのに十分な接着性を有しなければならない。
料の別に塗布された染料受容シート上への移行は、露光
された乳剤層を染料受容層に密接に面接触(face-to-fac
e contact)させて、得られる複合構成体を加熱すること
により行われる。層の均一な接触が0.5〜300秒
間、約80〜約220℃の温度で行われる場合、この第
2の態様で良好な結果が達成される。上記のように調製
した像が形成され染料受容層をレジスター(register)内
でスーパーインポーズ(superimposing)することによ
り、多色像を調製することができる。像を形成した各像
受容層のポリマーは、一枚の基材上に有用な多色の再現
を行うのに十分な接着性を有しなければならない。
【0090】
【実施例】以下の実施例により本発明の対象と利点を説
明するが、これらの実施例で引用する特定の物質とその
量ならびにその他の条件および詳細な点により、本発明
が不当に限定されるように解釈してはならない。特に断
らない限り、%は全て重量%である。
明するが、これらの実施例で引用する特定の物質とその
量ならびにその他の条件および詳細な点により、本発明
が不当に限定されるように解釈してはならない。特に断
らない限り、%は全て重量%である。
【0091】特に記載しない限り、以下の実施例におい
て使用する物質は全て、アルドリッチ・ケミカル・カン
パニー(Aldrich Chemical Company)(ウィスコンシン
州、ミルウォーキー)などの標準的市販元から容易に入
手することができる。BL-2 ポリ(ビニルブチラール)
は、セキスイ社(Sekisui company)(日本)から入手可
能である。BX-5 ポリ(ビニルブチラール) は、セキ
スイ社(日本)から入手可能である。パーマナックス(P
ermanax)WSOは、1,1−ビス(2−ヒドロキシ−3,
5−ジメチルフェニル)−3,5,5−トリメチルヘキサ
ン[CAS RN=7292−14−0]である。これは
ヴルナックス・インターナショナル社(Vulnax Internat
ional Ltd.)から入手することができ、ノノックス(Nono
x)WSOとしても知られている。増感染料Aは以下の式
で示される。
て使用する物質は全て、アルドリッチ・ケミカル・カン
パニー(Aldrich Chemical Company)(ウィスコンシン
州、ミルウォーキー)などの標準的市販元から容易に入
手することができる。BL-2 ポリ(ビニルブチラール)
は、セキスイ社(Sekisui company)(日本)から入手可
能である。BX-5 ポリ(ビニルブチラール) は、セキ
スイ社(日本)から入手可能である。パーマナックス(P
ermanax)WSOは、1,1−ビス(2−ヒドロキシ−3,
5−ジメチルフェニル)−3,5,5−トリメチルヘキサ
ン[CAS RN=7292−14−0]である。これは
ヴルナックス・インターナショナル社(Vulnax Internat
ional Ltd.)から入手することができ、ノノックス(Nono
x)WSOとしても知られている。増感染料Aは以下の式
で示される。
【0092】
【化4】
【0093】増感染料Bは以下の式で示される。
【0094】
【化5】
【0095】増感染料Cは以下の式で示される。
【0096】
【化6】
【0097】Et−FOSEMAは、N−エチルパーフ
ルオロオクタンスルホンアミドエチルメタクリレートの
略であり、以下の構造式を有する: C8F17SO2N(C2H5)CH2CH2OCOC(CH3)=
CH2。 これは、ミネソタ州、セント・ポールの3M社から入手
可能である。Bu−FOSEAは、N−ブチルパーフル
オロオクタンスルホンアミドエチルアクリレートの略で
あり、以下の構造式を有する: C8F17SO2N(C4H9)CH2CH2OCOCH=C
H2。 これは、ミネソタ州、セント・ポールの3M社から入手
可能である。Me−FOSEAは、N−メチルパーフル
オロオクタンスルホンアミドエチルアクリレートの略で
あり、以下の構造式を有する: C8F17SO2N(CH3)CH2CH2OCOCH=CH2。 これは、ミネソタ州、セント・ポールの3M社から入手
可能である。FOMAは、1,1−ジヒロドパーフルオ
ロオクチルメタクリレートの略であり、以下の構造式を
有する: C7F15CH2OCOC(CH3)=CH2。 これは、ミネソタ州、セント・ポールの3M社から入手
可能である。FOAは、1,1−ジヒロドパーフルオロ
オクチルアクリレートの略であり、以下の構造式を有す
る: C7F15CH2O2CCH=CH2。 これは、ミネソタ州、セント・ポールの3M社から入手
可能である。
ルオロオクタンスルホンアミドエチルメタクリレートの
略であり、以下の構造式を有する: C8F17SO2N(C2H5)CH2CH2OCOC(CH3)=
CH2。 これは、ミネソタ州、セント・ポールの3M社から入手
可能である。Bu−FOSEAは、N−ブチルパーフル
オロオクタンスルホンアミドエチルアクリレートの略で
あり、以下の構造式を有する: C8F17SO2N(C4H9)CH2CH2OCOCH=C
H2。 これは、ミネソタ州、セント・ポールの3M社から入手
可能である。Me−FOSEAは、N−メチルパーフル
オロオクタンスルホンアミドエチルアクリレートの略で
あり、以下の構造式を有する: C8F17SO2N(CH3)CH2CH2OCOCH=CH2。 これは、ミネソタ州、セント・ポールの3M社から入手
可能である。FOMAは、1,1−ジヒロドパーフルオ
ロオクチルメタクリレートの略であり、以下の構造式を
有する: C7F15CH2OCOC(CH3)=CH2。 これは、ミネソタ州、セント・ポールの3M社から入手
可能である。FOAは、1,1−ジヒロドパーフルオロ
オクチルアクリレートの略であり、以下の構造式を有す
る: C7F15CH2O2CCH=CH2。 これは、ミネソタ州、セント・ポールの3M社から入手
可能である。
【0098】PcHMAは、パーフルオロシクロヘキシ
ルメチルメタクリレートの略であり、以下の構造式を有
する: C6F11CH2OCOC(CH3)=CH2。 これは、ミネソタ州、セント・ポールの3M社から入手
可能である。HEMAは、ヒドロキシエチルメタクリレ
ートの略であり、以下の構造式を有する: HOCH2CH2OCOC(CH3)=CH2。 これは、ミネソタ州、セント・ポールの3M社から入手
可能である。BuMAは、ブチルメタクリレートの略で
ある。ODMAは、オクタデシルメタクリレートの略で
あり、ペンシルバニア州、フィラデルフィア、ローム・
アンド・ハース(Rohm and Haas)社から入手可能であ
る。DMAEMAは、(CH3)2NCH2CH2O2CC(C
H3)=CH2[2−(ジメチルアミノ)エチルメタクリ
レート]の略であり、アルドリッチ・ケミカル・カンパ
ニーから入手可能である。FC−430およびFC−4
31は、フルオロケミカル界面活性剤であり、ミネソタ
州、セント・ポールの3M社から入手可能である。AA
はアクリル酸の略であり、以下の構造式を有する: HO2CCH=CH2。
ルメチルメタクリレートの略であり、以下の構造式を有
する: C6F11CH2OCOC(CH3)=CH2。 これは、ミネソタ州、セント・ポールの3M社から入手
可能である。HEMAは、ヒドロキシエチルメタクリレ
ートの略であり、以下の構造式を有する: HOCH2CH2OCOC(CH3)=CH2。 これは、ミネソタ州、セント・ポールの3M社から入手
可能である。BuMAは、ブチルメタクリレートの略で
ある。ODMAは、オクタデシルメタクリレートの略で
あり、ペンシルバニア州、フィラデルフィア、ローム・
アンド・ハース(Rohm and Haas)社から入手可能であ
る。DMAEMAは、(CH3)2NCH2CH2O2CC(C
H3)=CH2[2−(ジメチルアミノ)エチルメタクリ
レート]の略であり、アルドリッチ・ケミカル・カンパ
ニーから入手可能である。FC−430およびFC−4
31は、フルオロケミカル界面活性剤であり、ミネソタ
州、セント・ポールの3M社から入手可能である。AA
はアクリル酸の略であり、以下の構造式を有する: HO2CCH=CH2。
【0099】界面活性剤の調製 以下、本発明の界面活性剤の典型的調製法を説明する。
適当な物質に置き換えることにより、同様の方法で他の
界面活性剤が調製される。Et−FOSEMA(3M
社)7.0g(0.011モル)、ヒドロキシエチルメタ
クリレート(アルドリッチ社)2.0g(0.015モ
ル)、アクリル酸(アルドリッチ社)1.0g(0.01
4モル)、t−ブチルパーオクトエート(ペンシルバニ
ア州、フィラデルフィア、アトケム・ノースアメリカ(A
tochem North America)社)0.4gおよび3−メルカプ
ト−1,2−プロパンジオール(アルドリッチ社)0.2
gを酢酸エチル47gに溶解させて、Et−FOSEM
A/HEMA/AAのターポリマー界面活性剤を、調製
した。重合溶液の窒素によるパージを、浸漬したチュー
ブを介して2分間行い、その後シールした。シールした
瓶を85℃で4時間振盪した後、瓶を室温に冷却し空気
を入れた。ポリマーの沈殿がいくらか認められたが、こ
れにイソプロピルアルコール28gを加えて混合物をか
き混ぜた。すると溶液は均質に見えるようになった。ポ
リマーは、以下に示す構造を有しており、式中、m、n
およびpは整数であって、重合がランダムであることを
意味する。
適当な物質に置き換えることにより、同様の方法で他の
界面活性剤が調製される。Et−FOSEMA(3M
社)7.0g(0.011モル)、ヒドロキシエチルメタ
クリレート(アルドリッチ社)2.0g(0.015モ
ル)、アクリル酸(アルドリッチ社)1.0g(0.01
4モル)、t−ブチルパーオクトエート(ペンシルバニ
ア州、フィラデルフィア、アトケム・ノースアメリカ(A
tochem North America)社)0.4gおよび3−メルカプ
ト−1,2−プロパンジオール(アルドリッチ社)0.2
gを酢酸エチル47gに溶解させて、Et−FOSEM
A/HEMA/AAのターポリマー界面活性剤を、調製
した。重合溶液の窒素によるパージを、浸漬したチュー
ブを介して2分間行い、その後シールした。シールした
瓶を85℃で4時間振盪した後、瓶を室温に冷却し空気
を入れた。ポリマーの沈殿がいくらか認められたが、こ
れにイソプロピルアルコール28gを加えて混合物をか
き混ぜた。すると溶液は均質に見えるようになった。ポ
リマーは、以下に示す構造を有しており、式中、m、n
およびpは整数であって、重合がランダムであることを
意味する。
【0100】実施例1−5は、本発明のフルオロケミカ
ル界面活性剤を、光熱写真被覆の調製および使用に用い
ることを示している。実施例1では、試料をオーブン中
に入れて乾燥した。実施例2では、向流平行気流を使用
して試料を乾燥した。実施例3では、衝突空気を使用し
て試料を乾燥した。以下に示すように、本発明のフルオ
ロケミカル界面活性剤は、試料の乾燥に用いた方法にか
かわりなくモトルの減少に有効であった。
ル界面活性剤を、光熱写真被覆の調製および使用に用い
ることを示している。実施例1では、試料をオーブン中
に入れて乾燥した。実施例2では、向流平行気流を使用
して試料を乾燥した。実施例3では、衝突空気を使用し
て試料を乾燥した。以下に示すように、本発明のフルオ
ロケミカル界面活性剤は、試料の乾燥に用いた方法にか
かわりなくモトルの減少に有効であった。
【0101】
【化7】
【0102】実施例1 米国特許第3,839,049号に記載された方法によ
り、ハロゲン化銀−ベヘン酸銀乾セッケンを調製した。
ハロゲン化銀が合計で銀全体の9モル%であり、ベヘン
酸銀は銀全体の91モル%を占めた。ハロゲン化銀は、
2%のヨウ素を含む0.055μmの臭化ヨウ化銀エマル
ジョンであった。ハロゲン化銀/ベヘン酸銀乾セッケ
ン、BL−2ポリ(ビニルブチラール)、トルエンおよ
び2−ブタノンを以下に示す割合で混合して、ベヘン酸
銀予備形成セッケンの分散液を調製した。
り、ハロゲン化銀−ベヘン酸銀乾セッケンを調製した。
ハロゲン化銀が合計で銀全体の9モル%であり、ベヘン
酸銀は銀全体の91モル%を占めた。ハロゲン化銀は、
2%のヨウ素を含む0.055μmの臭化ヨウ化銀エマル
ジョンであった。ハロゲン化銀/ベヘン酸銀乾セッケ
ン、BL−2ポリ(ビニルブチラール)、トルエンおよ
び2−ブタノンを以下に示す割合で混合して、ベヘン酸
銀予備形成セッケンの分散液を調製した。
【0103】
【表1】
【0104】予備形成した銀セッケン分散液183.5
7gに、2−ブタノン47.31gおよびピリジニウム
ヒドロブロマイドパーブロマイド0.22gを加えた。
10分間混合した後、臭化カルシウム1.428gをエ
タノール中に10.3重量%で含む混合物を加え、15
分間混合した。続いて、セキスイBL−2 ポリ(ビニ
ルブチラール)34.39gを加え、2時間混合を続け
た。樹脂が溶解した後、2−メルカプト−5−メチル−
ベンズイミダゾール(染料Aの超増感剤)0.035
g、2−(4−クロロベンゾイル)安息香酸1.24
g、増感染料A0.021gおよびエタノール7.53g
からなる予備混合物を加えた。増感染料Aは、前記の式
で示されるカルボキシアルキル置換シアニン染料であ
る。15分間混合した後、パーマナックスWSO 8.1
57gを加えて、更に15分間混合した。最後に、2−
ブタノン15.21g中に2−トリブロモメチルスルホ
ニル−5−メチルチアジアゾール0.78gを含む溶液
15.99gを加えて、15分間混合した。
7gに、2−ブタノン47.31gおよびピリジニウム
ヒドロブロマイドパーブロマイド0.22gを加えた。
10分間混合した後、臭化カルシウム1.428gをエ
タノール中に10.3重量%で含む混合物を加え、15
分間混合した。続いて、セキスイBL−2 ポリ(ビニ
ルブチラール)34.39gを加え、2時間混合を続け
た。樹脂が溶解した後、2−メルカプト−5−メチル−
ベンズイミダゾール(染料Aの超増感剤)0.035
g、2−(4−クロロベンゾイル)安息香酸1.24
g、増感染料A0.021gおよびエタノール7.53g
からなる予備混合物を加えた。増感染料Aは、前記の式
で示されるカルボキシアルキル置換シアニン染料であ
る。15分間混合した後、パーマナックスWSO 8.1
57gを加えて、更に15分間混合した。最後に、2−
ブタノン15.21g中に2−トリブロモメチルスルホ
ニル−5−メチルチアジアゾール0.78gを含む溶液
15.99gを加えて、15分間混合した。
【0105】セキスイBX−5 ポリ(ビニルブチラー
ル)7.93gを2−ブタノン301.81gおよびエタ
ノール47.58gに加えて、樹脂が溶解するまで混合
し、トップコート溶液を調製した。続いてこれに、フタ
ラジン3.61g、無水テトラクロロフタル酸1.66
g、テトラクロロフタル酸1.15gおよび4−メチル
フタル酸1.89gを加えた。15分間混合後、2−ブ
タノン208.60gを加え、続いてセキスイBX−5
ポリ(ビニルブチラール)樹脂25.77gを加え、溶
液を約2時間混合した。このトップコート溶液を2分割
した。一方には、界面活性剤 Et−FOSEMA/H
EMA/AA(70/20/10)をトップコート溶液
全体の0.1重量%で加えた。他方のトップコート溶液
には界面活性剤を加えず、対照実験に用いた。
ル)7.93gを2−ブタノン301.81gおよびエタ
ノール47.58gに加えて、樹脂が溶解するまで混合
し、トップコート溶液を調製した。続いてこれに、フタ
ラジン3.61g、無水テトラクロロフタル酸1.66
g、テトラクロロフタル酸1.15gおよび4−メチル
フタル酸1.89gを加えた。15分間混合後、2−ブ
タノン208.60gを加え、続いてセキスイBX−5
ポリ(ビニルブチラール)樹脂25.77gを加え、溶
液を約2時間混合した。このトップコート溶液を2分割
した。一方には、界面活性剤 Et−FOSEMA/H
EMA/AA(70/20/10)をトップコート溶液
全体の0.1重量%で加えた。他方のトップコート溶液
には界面活性剤を加えず、対照実験に用いた。
【0106】分散液の塗布にダブルナイフコーターを使
用した。使用する基材は、7ミル(mil)のポリエチレン
テレフタレートとした。ナイフを下げて、所定の位置に
固定した。ナイフの高さは、スクリューノブで制御され
るウェッジ(wedge)により調整し、電子ゲージを用いて
測定した。ナイフ#1を、基材と層#1とを合計した所
望の湿潤厚さに相当するクリアランスに上昇させた。層
#1は、基材上に4.6ミル(116.84μm)の湿潤厚さで塗
布した。ナイフ#2は、基材と層#1と層#2とを合計
した所望の湿潤厚さに等しい高さに上昇させた。層#2
を、層#1上に2.2ミル(55.9μm)の湿潤厚さで
塗布した。
用した。使用する基材は、7ミル(mil)のポリエチレン
テレフタレートとした。ナイフを下げて、所定の位置に
固定した。ナイフの高さは、スクリューノブで制御され
るウェッジ(wedge)により調整し、電子ゲージを用いて
測定した。ナイフ#1を、基材と層#1とを合計した所
望の湿潤厚さに相当するクリアランスに上昇させた。層
#1は、基材上に4.6ミル(116.84μm)の湿潤厚さで塗
布した。ナイフ#2は、基材と層#1と層#2とを合計
した所望の湿潤厚さに等しい高さに上昇させた。層#2
を、層#1上に2.2ミル(55.9μm)の湿潤厚さで
塗布した。
【0107】溶液#1および#2の一部を、対応するナ
イフの前で基材上に同時に注入した。基材をナイフに素
早く通過させてオーブンに入れると、2層被覆が形成さ
れた。続いて、基材を、約80℃に維持されている「ブ
ルーM(Blue M)」オーブンの内部で回転するベルトに
テープで固定し、約2.5分間で、塗布した光熱写真物
質を乾燥させた。各光熱写真物質の試料を反射白色光に
低強度で25秒間露光させた後、ホット・ロール・プロ
セッサー(hot roll processor)を使用して約255゜F
で現像した。モトルに関して現像したフィルムを目視的
に調べた。目視により検査すると、界面活性剤を含む試
料はモトルのレベルが低かった。界面活性剤を含まない
試料はモトルがあった。
イフの前で基材上に同時に注入した。基材をナイフに素
早く通過させてオーブンに入れると、2層被覆が形成さ
れた。続いて、基材を、約80℃に維持されている「ブ
ルーM(Blue M)」オーブンの内部で回転するベルトに
テープで固定し、約2.5分間で、塗布した光熱写真物
質を乾燥させた。各光熱写真物質の試料を反射白色光に
低強度で25秒間露光させた後、ホット・ロール・プロ
セッサー(hot roll processor)を使用して約255゜F
で現像した。モトルに関して現像したフィルムを目視的
に調べた。目視により検査すると、界面活性剤を含む試
料はモトルのレベルが低かった。界面活性剤を含まない
試料はモトルがあった。
【0108】実施例2 2−ブタノン 6.31ポンド(2.87kg)およびピ
リジニウムヒドロブロマイドパーブロマイド14.51
gを前記の予備形成銀セッケンの分散液24.48ポン
ド(11.12kg)に加えた。10分間混合した後、
臭化カルシウム87.09gをエタノール中に10.3重
量%で含む予備混合物を加え、15分間混合した。BL
−2 ポリ(ビニルブチラール)2.080kgを加え
て、2時間混合した。樹脂が溶解した後、2−(4−ク
ロロベンゾイル)安息香酸76.20g、増感染料B
0.021gおよびエタノール455.4gからなる予備
混合物を加えた。15分間混合した後、パーマナックス
WSO 493.5gを加え、更に15分間混合した。最
後に、2−ブタノン 919.87g中に2−トリブロモ
メチルスルホニル−5−メチルチアジアゾール47.1
7gを含む溶液967.06gを加え、15分間混合し
た。
リジニウムヒドロブロマイドパーブロマイド14.51
gを前記の予備形成銀セッケンの分散液24.48ポン
ド(11.12kg)に加えた。10分間混合した後、
臭化カルシウム87.09gをエタノール中に10.3重
量%で含む予備混合物を加え、15分間混合した。BL
−2 ポリ(ビニルブチラール)2.080kgを加え
て、2時間混合した。樹脂が溶解した後、2−(4−ク
ロロベンゾイル)安息香酸76.20g、増感染料B
0.021gおよびエタノール455.4gからなる予備
混合物を加えた。15分間混合した後、パーマナックス
WSO 493.5gを加え、更に15分間混合した。最
後に、2−ブタノン 919.87g中に2−トリブロモ
メチルスルホニル−5−メチルチアジアゾール47.1
7gを含む溶液967.06gを加え、15分間混合し
た。
【0109】2−ブタノン 80.10ポンド(36.4
kg)およびエタノール9.91ポンド(4.50kg)
を混合して、トップコート溶液を調製した。この溶液中
に、無水テトラクロロフタル酸179.28g、4−メ
チルフタル酸204.01g、テトラクロロフタル酸1
23.67gおよびフタラジン389.45gを加えてそ
れぞれ5分間混合しながら加えた。最後に、セキスイB
X−5 ポリ(ビニルブチラール)樹脂8.02ポンド
(3.65kg)を加え、溶液を約2時間混合した。こ
のトップコート溶液を9分割した。そのうちの8つの試
料に溶液全体の0.1重量%に等しい量の界面活性剤を
加えた。残る試料は界面活性剤を加えず、対照実験に用
いた。各溶液を銀溶液と共にデュアルスロット塗布し、
乾燥媒体として向流平行気流を使用するオーブン内で乾
燥した。フィルムの試料を反射白色光に露光させ、ホッ
ト・ロール上で現像した。
kg)およびエタノール9.91ポンド(4.50kg)
を混合して、トップコート溶液を調製した。この溶液中
に、無水テトラクロロフタル酸179.28g、4−メ
チルフタル酸204.01g、テトラクロロフタル酸1
23.67gおよびフタラジン389.45gを加えてそ
れぞれ5分間混合しながら加えた。最後に、セキスイB
X−5 ポリ(ビニルブチラール)樹脂8.02ポンド
(3.65kg)を加え、溶液を約2時間混合した。こ
のトップコート溶液を9分割した。そのうちの8つの試
料に溶液全体の0.1重量%に等しい量の界面活性剤を
加えた。残る試料は界面活性剤を加えず、対照実験に用
いた。各溶液を銀溶液と共にデュアルスロット塗布し、
乾燥媒体として向流平行気流を使用するオーブン内で乾
燥した。フィルムの試料を反射白色光に露光させ、ホッ
ト・ロール上で現像した。
【0110】モトルに関して処理した試料を目視的に調
べた。以下の表にこの実施例の結果をまとめて示す。界
面活性剤を含まない対照試料と比較すると、Et−FO
SEMA/HEMA/AA組成を有する各界面活性剤
は、モトル減少能があることが分かった。Et−FOS
EMA/HEMA/AAの重量比が70/20/10お
よび70/10/20の割合である構成は、高いモトル
減少能を示すことが分かった。ポリマー中からアクリル
酸成分を除くと、モトルを減少させられない界面活性剤
が得られることに注目すべきである。同様に、ターポリ
マーのフルオロケミカルアクリレート部分において、エ
チル基をブチル基に置換すると、モトル減少の効果が少
ない界面活性剤が得られることが分かる。
べた。以下の表にこの実施例の結果をまとめて示す。界
面活性剤を含まない対照試料と比較すると、Et−FO
SEMA/HEMA/AA組成を有する各界面活性剤
は、モトル減少能があることが分かった。Et−FOS
EMA/HEMA/AAの重量比が70/20/10お
よび70/10/20の割合である構成は、高いモトル
減少能を示すことが分かった。ポリマー中からアクリル
酸成分を除くと、モトルを減少させられない界面活性剤
が得られることに注目すべきである。同様に、ターポリ
マーのフルオロケミカルアクリレート部分において、エ
チル基をブチル基に置換すると、モトル減少の効果が少
ない界面活性剤が得られることが分かる。
【0111】
【表2】加えた界面活性剤 重量比 モトルの減少 なし なし Et-FOSEMA/HEMA/AA 75/15/10 減少 Et-FOSEMA/HEMA/AA 75/10/15 減少 Et-FOSEMA/HEMA/AA 70/20/10 減少 Et-FOSEMA/HEMA/AA 70/10/20 減少 Et-FOSEMA/HEMA/AA 60/30/10 減少 Et-FOSEMA/HEMA 70/30 なし Bu-FOSEA/HEMA/AA 70/20/10 なし又はほとんどなし Bu-FOSEA/HEMA/AA 70/30 なし又はほとんどなし
【0112】実施例3 この実施例は、乾燥媒体として衝突空気を使用すること
を示している。増感染料Cを、増感染料Aおよび2−メ
ルカプト−5−メチル−ベンズイミダゾールの組合せの
代りとしたので、赤外安全光でなく赤色光の下で塗布す
ることができた。ベヘン酸銀分散液およびトップコート
溶液を実施例2に記載したように調製した。この溶液を
2バッチに分割した。一方に界面活性剤Et−FOSE
MA/HEMA/AA(70/20/10)を0.1重
量%加えた。デュアル・スロット塗布により各トップコ
ートを銀分散液上に塗布した。乾燥媒体として衝突空気
を使用するオーブン内で湿潤フィルムを乾燥した。露光
および現像後、目視により調べると、界面活性剤を含む
試料はモトルのレベルの低下を示した。界面活性剤を含
まない試料はモトルが発生していた。
を示している。増感染料Cを、増感染料Aおよび2−メ
ルカプト−5−メチル−ベンズイミダゾールの組合せの
代りとしたので、赤外安全光でなく赤色光の下で塗布す
ることができた。ベヘン酸銀分散液およびトップコート
溶液を実施例2に記載したように調製した。この溶液を
2バッチに分割した。一方に界面活性剤Et−FOSE
MA/HEMA/AA(70/20/10)を0.1重
量%加えた。デュアル・スロット塗布により各トップコ
ートを銀分散液上に塗布した。乾燥媒体として衝突空気
を使用するオーブン内で湿潤フィルムを乾燥した。露光
および現像後、目視により調べると、界面活性剤を含む
試料はモトルのレベルの低下を示した。界面活性剤を含
まない試料はモトルが発生していた。
【0113】実施例4 ベヘン酸銀分散液およびトップコート溶液を実施例1に
記載したようにして調製した。トップコートを8分割
し、以下の表に示す界面活性剤0.1重量%を加えた。
露光および現像後、目視により調べると、界面活性剤を
含む試料はモトルのレベルの低下を示した。界面活性剤
を含まない試料はモトルが発生していた。Et−FOS
EMAをFOMAまたはMe−FOSEAに置換して
も、ポリマー界面活性剤のモトルを減少させる能力が制
限されないことが示された。
記載したようにして調製した。トップコートを8分割
し、以下の表に示す界面活性剤0.1重量%を加えた。
露光および現像後、目視により調べると、界面活性剤を
含む試料はモトルのレベルの低下を示した。界面活性剤
を含まない試料はモトルが発生していた。Et−FOS
EMAをFOMAまたはMe−FOSEAに置換して
も、ポリマー界面活性剤のモトルを減少させる能力が制
限されないことが示された。
【0114】
【表3】加えた界面活性剤 重量比 モトルの減少 なし なし Et-FOSEMA/HEMA(E/O)/AA 70/20/10 なし Et-FOSEMA/HEMA(E/O)/AA 54/39/7 なし PcHMA/HEMA/AA 70/20/10 なし又はほとんどなし FOMA/HEMA/AA 70/20/10 なし又はほとんどなし FOMA/HEMA/AA 62/25/13 減少 Me-FOSEA/HEMA/AA 70/20/10 減少 Me-FOSEA/HEMA/AA 69/20/11 減少 HEMA(E/O)は、ヒドロキシエチルメタクリレート1.0モ
ルとエチレンオキシド4.5モルとの付加物である。
ルとエチレンオキシド4.5モルとの付加物である。
【0115】実施例5 ベヘン酸銀分散液およびトップコート溶液を実施例1に
記載したようにして調製した。トップコートを7分割
し、以下の表に示す界面活性剤0.1重量%を加えた。
露光および現像後、モトルについて試料を調べた。これ
らの条件においては、以下の界面活性剤のいずれもモト
ルを減少させることができなかった。以下の最初の2つ
の実験は、係属中である米国特許出願第07/966,
458号に記載されている。最後の2つの実験は、通常
の界面活性剤が、光熱写真およびサーモグラフィ要素に
おけるモトル減少に効果がないことを示している。実施
例5において使用した全ての界面活性剤は、本発明のフ
ッ素化ポリマーの重要な特徴の1つまたはそれ以上を欠
いている。
記載したようにして調製した。トップコートを7分割
し、以下の表に示す界面活性剤0.1重量%を加えた。
露光および現像後、モトルについて試料を調べた。これ
らの条件においては、以下の界面活性剤のいずれもモト
ルを減少させることができなかった。以下の最初の2つ
の実験は、係属中である米国特許出願第07/966,
458号に記載されている。最後の2つの実験は、通常
の界面活性剤が、光熱写真およびサーモグラフィ要素に
おけるモトル減少に効果がないことを示している。実施
例5において使用した全ての界面活性剤は、本発明のフ
ッ素化ポリマーの重要な特徴の1つまたはそれ以上を欠
いている。
【0116】
【表4】加えた界面活性剤 重量比 モトルの減少 Et-FOSEMA/BUMA/AA 35/52/13 なし Et-FOSEMA/ODMA/AA 50/30/20 なし Et-FOSEMA/BUMA/DMAEMA 50/40/10 なし MMA/FOA/FOMA 25/38/37 なし Et-FOSEMA/HEMA/MMA/AA 60/10/20/10 なし FC-430 なし FC-431 なし
【0117】請求の範囲に記載した本発明の精神および
範囲のいずれに反することなく、前記の開示内容から適
当な変更および改良を行うことが可能である。
範囲のいずれに反することなく、前記の開示内容から適
当な変更および改良を行うことが可能である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 G03C 1/053 1/498 502 9221−2H (72)発明者 パトリシア・マリー・サブ アメリカ合衆国55144−1000ミネソタ州セ ント・ポール、スリーエム・センター(番 地の表示なし)
Claims (23)
- 【請求項1】 反応性モノマーから誘導されたポリマー
鎖中に少なくとも3種の異なる基を含んでなり、該モノ
マーが、(a)フッ素化されたエチレン性不飽和モノマ
ー、(b)ヒドロキシル基を含むエチレン性不飽和モノ
マーおよび(c)極性エチレン性不飽和モノマーを含ん
でなるフッ素化ポリマー。 - 【請求項2】 重量平均分子量が約2000〜2000
0の範囲にある請求項1記載のフッ素化ポリマー。 - 【請求項3】 重量平均分子量が約2000〜7000
の範囲にある請求項1記載のフッ素化ポリマー。 - 【請求項4】 少なくとも一種のフッ素化されたエチレ
ン性不飽和モノマー、少なくとも一種のヒドロキシル基
を含むエチレン性不飽和モノマーおよび少なくとも一種
の極性エチレン性不飽和モノマーのアクリル重合反応生
成物である請求項1記載のフッ素化ポリマー。 - 【請求項5】 基材が光熱写真組成物により被覆され、
該光熱写真組成物が、(a)感光性ハロゲン化銀、(b)非
感光性還元性銀源、(c)非感光性還元性銀源用の還元
剤、(d)バインダーおよび(e)反応性モノマーから誘導
されたポリマー鎖中に少なくとも3種の異なる基を含
み、該モノマーが、 (i)フッ素化されたエチレン性不飽和モノマー、 (ii)ヒドロキシル基を含むエチレン性不飽和モノマーお
よび (iii)極性エチレン性不飽和モノマー を含んでなるフッ素化ポリマーを含む光熱写真要素。 - 【請求項6】 ハロゲン化銀が、臭化銀、塩化銀もしく
はヨウ化銀またはこれらの混合物である請求項5記載の
光熱写真要素。 - 【請求項7】 非感光性還元性銀源が、C1〜C30カル
ボン酸の銀塩である請求項5記載の光熱写真要素。 - 【請求項8】 還元剤が、酸化されて染料を形成または
放出することができる化合物である請求項5記載の光熱
写真要素。 - 【請求項9】 酸化されて染料を形成または放出するこ
とができる化合物がロイコ染料である請求項8記載の光
熱写真要素。 - 【請求項10】 バインダーが親水性である請求項5記
載の光熱写真要素。 - 【請求項11】 バインダーが疎水性である請求項5記
載の光熱写真要素。 - 【請求項12】 フッ素化ポリマーが、約2000〜2
0000の範囲の重量平均分子量を有する請求項5記載
の光熱写真要素。 - 【請求項13】 フッ素化ポリマーが、約2000〜7
000の範囲の重量平均分子量を有する請求項12記載
の光熱写真要素。 - 【請求項14】 フッ素化ポリマーが、少なくとも一種
のフッ素化されたエチレン性不飽和モノマー、少なくと
も一種のヒドロキシル基を含むエチレン性不飽和モノマ
ーおよび少なくとも一種の極性エチレン性不飽和モノマ
ーのアクリル重合反応生成物である請求項5記載の光熱
写真要素。 - 【請求項15】 基材がサーモグラフィ組成物により被
覆され、該サーモグラフィ組成物が、(a)非感光性還元
性銀源、(b)非感光性還元性銀源用の還元剤、(c)バイ
ンダーおよび(d)反応性モノマーから誘導されたポリマ
ー鎖中に少なくとも3種の異なる基を含んでなり、該モ
ノマーが、 (i)フッ素化されたエチレン性不飽和モノマー、 (ii)ヒドロキシル基を含むエチレン性不飽和モノマーお
よび (iii)極性エチレン性不飽和モノマー を含んでなるフッ素化ポリマーを含むサーモグラフィ要
素。 - 【請求項16】 非感光性還元性銀源が、C1〜C30カ
ルボン酸の銀塩である請求項15記載のサーモグラフィ
要素。 - 【請求項17】 還元剤が、酸化されて染料を形成また
は放出することができる化合物である請求項15記載の
サーモグラフィ要素。 - 【請求項18】 酸化されて染料を形成または放出する
ことができる還元剤がロイコ染料である請求項17記載
のサーモグラフィ要素。 - 【請求項19】 バインダーが親水性である請求項15
記載のサーモグラフィ要素。 - 【請求項20】 バインダーが疎水性である請求項15
記載のサーモグラフィ要素。 - 【請求項21】 フッ素化ポリマーが、約2000〜2
0000の範囲の重量平均分子量を有する請求項15記
載の光熱写真要素。 - 【請求項22】 フッ素化ポリマーが、約2800〜7
000の範囲の重量平均分子量を有する請求項15記載
の光熱写真要素。 - 【請求項23】 フッ素化ポリマーが、少なくとも一種
のフッ素化されたエチレン性不飽和モノマー、少なくと
も一種のヒドロキシル基を含むエチレン性不飽和モノマ
ーおよび少なくとも一種の極性エチレン性不飽和モノマ
ーのアクリル重合反応生成物である請求項15記載のサ
ーモグラフィ要素。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US08/104,888 US5380644A (en) | 1993-08-10 | 1993-08-10 | Additive for the reduction of mottle in photothermographic and thermographic elements |
| US104888 | 1993-08-10 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07173225A true JPH07173225A (ja) | 1995-07-11 |
Family
ID=22302946
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6188206A Pending JPH07173225A (ja) | 1993-08-10 | 1994-08-10 | 光熱写真およびサーモグラフィ要素中のモトルを減少させる添加剤 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5380644A (ja) |
| EP (1) | EP0656375B1 (ja) |
| JP (1) | JPH07173225A (ja) |
| CA (1) | CA2127336A1 (ja) |
| DE (1) | DE69413930T2 (ja) |
Families Citing this family (46)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5468603A (en) * | 1994-11-16 | 1995-11-21 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Photothermographic and thermographic elements for use in automated equipment |
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1994
- 1994-07-04 CA CA002127336A patent/CA2127336A1/en not_active Abandoned
- 1994-08-09 DE DE69413930T patent/DE69413930T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1994-08-09 EP EP94401831A patent/EP0656375B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1994-08-10 JP JP6188206A patent/JPH07173225A/ja active Pending
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE69413930T2 (de) | 1999-06-10 |
| DE69413930D1 (de) | 1998-11-19 |
| EP0656375A1 (en) | 1995-06-07 |
| US5380644A (en) | 1995-01-10 |
| CA2127336A1 (en) | 1995-02-11 |
| EP0656375B1 (en) | 1998-10-14 |
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