JPH07176414A - 永久磁石の製造方法 - Google Patents
永久磁石の製造方法Info
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Abstract
ると共に、このような焼結磁石を低コストで製造する。 【構成】 R(希土類元素)、T(Fe、またはFeお
よびCo)およびBを主成分とし、主相がR2 T14Bで
ある永久磁石を、主相用母合金の粉末と粒界相用母合金
の粉末との混合物を成形、焼結して製造するに際し、主
相用母合金として、平均径が3〜50μm のR2 T14B
柱状結晶粒とRリッチ相(結晶粒界)とを有し、かつ、
Rを26〜32重量%を含むものを用い、粒界相用母合
金として、Rを32〜60重量%、残部が実質的にC
o、またはCoおよびFeである結晶質合金を用いる。
粒界相用母合金の平均結晶粒径は、単ロール法等の急冷
法により0.1〜20μm とすることが好ましい。
Description
する方法に関する。
末冶金法によるSm−Co系磁石でエネルギー積32M
GOeのものが量産されている。しかし、このものは、
Sm、Coの原料価格が高いという欠点を有する。希土
類元素の中では原子量の小さい元素、例えば、CeやP
r、Ndは、Smよりも豊富にあり価格が安い。また、
FeはCoに比べ安価である。そこで、近年Nd−Fe
−B磁石やNd−Fe−Co−B磁石等のR−T−B系
磁石(TはFe、またはFeおよびCo)が開発され、
特開昭59−46008号公報には焼結磁石が開示され
ている。焼結法による磁石では、従来のSm−Co系の
粉末冶金プロセス(溶解→母合金インゴット鋳造→イン
ゴット粗粉砕→微粉砕→成形→焼結→磁石)を適用で
き、また、高い磁気特性を得ることも容易である。
は、一般に、結晶粒を構成する強磁性のR2 T14B相
(以後、この相を主相という)を、非磁性でRに富む相
(以後、粒界相という)が被覆している組織構造をもっ
ている。母合金インゴットは、その結晶粒径よりも小さ
な粒径まで粉砕されて磁石粉末とされる。
進する作用を有し、また、焼結磁石の保磁力発生に重要
な働きを果たす。
いわゆる2合金法が知られている。2合金法は、組成の
異なる2種の合金粉末を混合して焼結することにより、
磁気特性や耐食性を向上させる方法である。2合金法に
関して様々な提案がなされているが、いずれも主相とほ
ぼ同じ組成(R2 T14B)の合金粉末に第二の合金の粉
末を添加するものである。第二の合金としては、主相よ
りもR比率が高く融点の低いRリッチ合金(特開平4−
338607号公報、特開平5−105915号公報
等)、Rの種類が主相とは異なるR2 T14B合金(特開
昭61−81603号公報等)、Rの金属間化合物を含
むもの(特開平5−21219号公報等)などがある。
をR2 T14Bとするが、これを溶解鋳造法で製造した場
合には、軟磁性のα−Fe相が析出して高磁気特性が得
られない。このため、溶体化処理が必要である。溶体化
処理は、一般に900℃程度以上で1時間以上行なう必
要があり、例えば、特開平5−21219号公報では、
高周波溶解法で製造したR2 T14B合金に1070℃で
20時間の溶体化処理を施している。このように高温・
長時間の溶体化処理が必要なため、溶解鋳造法を用いた
場合には低コストで製造することができない。
Fe14B合金を直接還元拡散法で製造しているが、この
方法による合金は等軸晶であり、磁気特性が低い。ま
た、還元拡散に用いるCaの含有率が高くなるためから
も、高特性の磁石が得られない。また、特開平4−33
8607号公報では、単ロール法により10μm 以下の
微細結晶粒を有する結晶質またはアモルファスのR2 T
14B合金粉末を用いている。しかし、柱状晶であった旨
の記載はなく、実質的にRリッチ相の存在しないR2 T
14Bを用いており、等軸晶であると考えられ、磁気特性
が低い。同公報では、結晶粒径を10μm 以下に制限す
るのはα−Fe等の軟磁性相の析出を防ぐためとしてい
る。
T−B系焼結磁石の磁気特性を向上させると共に、この
ような焼結磁石を低コストで製造できるようにすること
である。
(1)〜(18)の本発明により達成される。 (1)R(Rは、Yを含む希土類元素の少なくとも1種
である)、T(Tは、Fe、またはFeおよびCoであ
る)およびBを主成分とし、実質的にR2 T14Bから構
成される主相を有する永久磁石を、主相用母合金の粉末
と粒界相用母合金の粉末との混合物を成形した後、焼結
することにより製造する方法であって、前記主相用母合
金が、実質的にR2 T14Bから構成され平均径が3〜5
0μmである柱状結晶粒と、R2 T14BよりもRの含有
率が高いRリッチ相を主体とする結晶粒界とを有し、か
つ、Rを26〜32重量%、Bを0.9〜2重量%含
み、残部が実質的にTであり、前記粒界相用母合金が、
Rを32〜60重量%含み、残部が実質的にCo、また
はCoおよびFeである結晶質合金であり、前記混合物
中における主相用母合金の比率が60〜95重量%であ
る永久磁石の製造方法。 (2)製造される永久磁石が、Rを27〜32重量%、
Coを1〜10重量%、Bを0.9〜2重量%含み、残
部が実質的にFeである上記(1)の永久磁石の製造方
法。 (3)合金溶湯を、一方向または対向する二方向から冷
却して前記主相用母合金を製造する上記(1)または
(2)の永久磁石の製造方法。 (4)前記合金溶湯を、単ロール法、双ロール法または
回転ディスク法により冷却する上記(3)の永久磁石の
製造方法。 (5)前記主相用母合金の冷却方向の厚さが0.1〜2
mmである上記(3)または(4)の永久磁石の製造方
法。 (6)前記主相用母合金がα−Fe相を実質的に含まな
い上記(1)〜(5)のいずれかの永久磁石の製造方
法。 (7)前記粒界相用母合金が、平均径0.1〜20μm
の結晶粒を有する上記(1)〜(6)のいずれかの永久
磁石の製造方法。 (8)合金溶湯を、一方向または対向する二方向から冷
却して前記粒界相用母合金を製造する上記(1)〜
(7)のいずれかの永久磁石の製造方法。 (9)前記合金溶湯を、単ロール法、双ロール法または
回転ディスク法により冷却する上記(8)の永久磁石の
製造方法。 (10)前記粒界相用母合金の冷却方向の厚さが0.1
〜2mmである上記(8)または(9)の永久磁石の製造
方法。 (11)前記混合物中の主相用母合金の粉末の平均径と
粒界相用母合金の粉末の平均径とが1〜10μm である
上記(1)〜(10)のいずれかの永久磁石の製造方法。 (12)水素を吸蔵させた後、前記主相用母合金をジェ
ットミルにより粉砕する粉砕工程を有する上記(1)〜
(11)のいずれかの永久磁石の製造方法。 (13)水素を吸蔵させた後、前記粒界相用母合金をジ
ェットミルにより粉砕する粉砕工程を有する上記(1)
〜(12)のいずれかの永久磁石の製造方法。 (14)前記粉砕工程において、母合金の温度を300
〜600℃の範囲に昇温した後、水素吸蔵処理を施し、
次いで、水素放出処理を施すことなく粉砕を行なう上記
(12)または(13)の永久磁石の製造方法。 (15)母合金に水素を吸蔵させた後、水素の放出を行
なう上記(12)または(13)の永久磁石の製造方法。 (16)主相用母合金と粒界相用母合金とを混合して同
時に粗粉砕した後、水素を吸蔵させ、次いで、ジェット
ミルにより微粉砕を行なう上記(12)〜(15)のいずれ
かの永久磁石の製造方法。 (17)粗粉砕した主相用母合金と粗粉砕した粒界相用
母合金とを混合した後、水素を吸蔵させ、次いで、ジェ
ットミルにより微粉砕を行なう上記(12)〜(15)のい
ずれかの永久磁石の製造方法。 (18)主相用母合金と粒界相用母合金とを、独立して
粗粉砕した後、それぞれに水素を吸蔵させ、次いで、そ
れぞれをジェットミルにより微粉砕した後、主相用母合
金と粒界相用母合金とを混合する上記(12)〜(15)の
いずれかの永久磁石の製造方法。
ばれる方法により希土類焼結磁石を製造する。2合金法
では、主として主相成分となる主相用母合金の粉末と、
主として粒界相成分となる粒界相用母合金の粉末との混
合物を成形して焼結し、希土類焼結磁石を得る。
を有する。この柱状結晶粒の平均径は3〜50μm と極
めて小さい。本発明では、高残留磁束密度を実現し、か
つ耐食性を向上させるために、主相用母合金のR含有量
を26〜32重量%と少なくするが、それにもかかわら
ずRリッチ相の分散が良好であり、α−Fe相を実質的
に含まない。このため、主相用母合金を粉砕した磁石粉
末中において、Rリッチ相を有しない磁石粒子の割合が
極めて低く、しかも、各磁石粒子のRリッチ相の含有量
が揃っている。このため、焼結性が良好であり、また、
焼結後の磁石中においてもRリッチ相の分散が良好とな
るため高保磁力が得られる。また、粉砕が極めて容易と
なって鋭い粒度分布が得られるので、焼結後の結晶粒径
の揃いが良好となり、高保磁力が得られる。また、粉砕
時間が短くて済むため酸素混入量が低くなり、高い残留
磁束密度が得られる。特に、水素吸蔵により粉砕を行な
った場合、極めて鋭い粒度分布が得られる。また、α−
Fe相を消滅させるための溶体化処理を施す必要がな
い。
径を上記範囲とすれば、得られる焼結磁石の特性はさら
に向上する。
母合金を、冷却方向の厚さが上記範囲となるように、単
ロール法や双ロール法など合金溶湯を一方向または対向
する二方向から冷却する方法により製造すれば、さらに
良好な磁気特性が得られる。
報では、10μm 以下の微細結晶粒を有する結晶質また
はアモルファスのRE2 TM14B1 合金粉末とRE−T
M合金とを単ロール法により製造しているが、上記のと
おり、柱状晶が得られた旨の開示はない。しかも合金の
冷却方向厚さの開示もなく、RE−TM合金の結晶粒径
に関する記載もない。このものでは、RE2 TM14B1
と記載されているから、Rリッチ相を実質的に含まず、
後記実施例からわかるように等軸晶であると考えられ
る。
は、鋳造時のインゴットのマクロ組織が柱状組織である
合金を使用してR−T−B系磁石を製造する方法が開示
されている。同公報には、短時間で粉砕が可能で、しか
も保磁力が向上するという効果が記載されている。同公
報には柱状組織の寸法は開示されていないが、表面チル
晶層、柱状晶、内部等軸晶の混在したものであり、本発
明よりずっと大きな粒径のものである。また、保磁力は
最大でも約12kOe しか得られていない。しかも、同公
報には、いわゆる2合金法による焼結磁石の製造につい
ては開示されていない。
は、急冷法による磁石の製造が開示されているが、これ
を母合金として、1合金法あるいは2合金法で磁石化す
る点については示唆すらしていない。また、USP50
76861号にはキャスト合金の磁石が開示されている
が、キャスト合金は本発明よりずっと大きな粒径であ
り、しかも母合金として使用する旨の開示はない。
に説明する。
用母合金の粉末との混合物を成形して焼結し、希土類焼
結磁石を製造する。
は、Yを含む希土類元素の少なくとも1種である)、T
(Tは、Fe、またはFeおよびCoである)およびB
を主成分とし、実質的に正方晶のR2 T14Bから構成さ
れる柱状結晶粒と、R2 T14BよりもRの含有率が高い
Rリッチ相を主体とする結晶粒界とを有する。
ドおよびアクチニドであり、Rとしては、Nd、Pr、
Tbのうち少なくとも1種、特にNdが好ましく、さら
にDyを含むことが好ましい。また、La、Ce、G
d、Er、Ho、Eu、Pm、Tm、Yb、Yのうち1
種以上を含んでもよい。希土類元素の原料としては、ミ
ッシュメタル等の混合物を用いることもできる。
に、Rを26〜32重量%、Bを0.9〜2重量%含
み、残部が実質的にTである主相用母合金を用いる。具
体的組成は、目的とする磁石組成に応じ、粒界相用母合
金の組成とその混合比率とを考慮して適宜決定すればよ
い。R含有量が少なくなるにつれて残留磁束密度は向上
するが、R含有量が少なくなるとα−Fe相等の鉄に富
む相が析出して粉砕に悪影響を与え、磁気特性も低下す
る。また、Rリッチ相の割合が減少するため、粒界相用
母合金と混合した場合でも焼結が困難となって焼結密度
が低くなってしまうので、残留磁束密度向上は頭打ちに
なってしまう。しかし本発明では上記のようにR含有量
が少ない場合でも焼結密度を高くすることができ、α−
Fe相の析出も実質的にない。ただし、Rが26重量%
未満であると、磁石化が困難となる。R含有量が多すぎ
ると、高残留磁束密度が得られなくなる。B含有量が少
なすぎると高保磁力が得られなくなり、B含有量が多す
ぎると高残留磁束密度が得られなくなる。なお、保磁力
の低下を抑えるために、T中のCo量は10重量%以下
とすることが好ましい。
l、Cr、Mn、Mg、Si、Cu、C、Nb、Sn、
W、V、Zr、Ti、Moなどの元素を添加してもよい
が、添加量が6重量%を超えると残留磁束密度が低下し
てくる。主相用母合金中には、これらの元素の他、不可
避的不純物あるいは微量添加物として、例えば炭素や酸
素が含有されていてもよい。
〜50μm 、好ましくは5〜50μm 、より好ましくは
5〜30μm 、さらに好ましくは5〜15μm とする。
平均径が小さすぎると、粉砕して得られる磁石粒子が多
結晶体となって高い配向度が得られず、平均径が大きす
ぎると、前述した本発明の効果が実現しない。
求める。まず、柱状結晶粒の長軸方向とほぼ平行な断面
が露出するように主相用母合金の切断や研磨を行なう。
この断面において、少なくとも100個の柱状結晶粒の
幅を測定して平均値を求め、これを柱状結晶粒の平均径
とする。なお、柱状結晶粒の幅とは、長軸方向に垂直な
方向の長さを意味する。
特に限定されないが、通常、2〜50程度、特に5〜3
0程度であることが好ましい。
分散が良好であり、この様子は、例えば、電子顕微鏡写
真(反射電子像)により確認することができる。
R含有量によっても異なるが、通常、0.5〜5μm 程
度である。Rリッチ相は1〜10Vol%程度存在すること
が好ましい。
は、R、TおよびBを主成分とする合金溶湯を、一方向
または対向する二方向から冷却することにより製造する
ことが好ましい。これらの方法により製造された場合、
柱状結晶粒の長軸方向は冷却方向とほぼ一致する。
却ロール周面などの冷却基体表面に垂直な方向、すなわ
ち熱移動方向を意味する。
ル法や回転ディスク法が好ましい。
湯を冷却ロールの周面と接触させて冷却する方法であ
り、装置の構造が簡単で耐久性が高く、また、冷却速度
の制御が容易である。単ロール法により製造された主相
用母合金は、通常、薄帯状である。単ロール法における
各種条件に特に制限はなく、上記した組織構造を有する
主相用母合金が得られるように適宜設定すればよいが、
通常は以下に示すような条件とする。冷却ロールは、C
u、Cu−Be等のCu合金など、通常の溶湯冷却法に
用いる各種材質から構成すればよい。また、前記材質か
ら構成されるロール状基材の周面に、基材と異なる金属
からなる表面層を有する冷却ロールを用いてもよい。前
記表面層は、通常、熱伝導率の調整や耐摩耗性向上のた
めに設けられる。例えば、基材をCuやCu合金から構
成し、表面層をCrから構成した場合、主相用母合金の
冷却方向において冷却速度の差が小さくなり、均質な主
相用母合金が得られる。また、Crは耐摩耗性が良好で
あるため、多量の主相用母合金を連続的に製造する場合
に、特性の揃った主相用母合金が得られる。
金溶湯を回転するディスク状の冷却基体の主面に接触さ
せて冷却する方法である。回転ディスク法により製造さ
れた主相用母合金は、通常、鱗片状である。回転ディス
ク法では、鱗片状主相用母合金の周縁部の冷却速度が高
くなりやすいため、単ロール法に比べ均一な冷却速度が
得にくい。
法としては、双ロール法が好ましい。双ロール法では、
前述した単ロール法と同様な冷却ロールを2個用い、両
ロールの周面を対向させて配置し、これらの周面間に合
金溶湯を射出する。双ロール法により製造された主相用
母合金は、通常、薄帯状ないし薄片状である。双ロール
法における各種条件は特に限定されず、上記した組織構
造が得られるように適宜設定すればよい。
法が最も好ましい。
非酸化性雰囲気中あるいは真空中で行なうことが好まし
い。
を冷却して主相用母合金を製造する場合、主相用母合金
の冷却方向の厚さは、好ましくは0.1〜2mm、より好
ましくは0.2〜1.0mm、さらに好ましくは0.2〜
0.5mmとする。冷却方向の厚さが小さすぎると、等軸
晶が生成し、柱状晶となりにくく、柱状結晶粒の平均径
を3μm 以上とすることが難しくなる。一方、冷却方向
の厚さが大きすぎると、特に一方向から冷却する方法を
用いた場合、冷却方向で組織構造の不均一が大きくな
る。具体的には、冷却面側で結晶粒径が小さくなりすぎ
るので、粉砕したときに多結晶粒子となりやすく、この
ため、焼結密度の低下や配向性の悪化を招き、良好な磁
気特性が得られなくなる。また、冷却方向の厚さが大き
すぎると、柱状結晶粒の平均径を50μm 以下とするこ
とが難しくなる。柱状晶の長さは、薄帯ないし薄片の厚
さとほぼ一致する。そして、薄帯ないし薄片中の組織は
実質的に柱状晶のみから形成され、等軸晶は存在したと
しても、冷却面に生じるチル晶のみであり、SEM視野
下10vol%以下、特に5vol%以下であることが好まし
い。
R含有量が少ない組成、例えば、Rの含有量が26〜3
2重量%程度であっても、α−Fe相を実質的に含有し
ない主相用母合金を製造することができる。具体的に
は、α−Fe相の含有率を5体積%以下、特に2体積%
以下とすることができる。従って、異相の比率を減少さ
せるための溶体化処理が不要となる。
を32〜60重量%含み、残部が実質的にCo、または
CoおよびFeである結晶質合金である。R含有率が少
なすぎると焼結促進作用が不十分となり、R含有率が多
すぎるとR−Co化合物の替わりにRリッチ相、特にN
dリッチ相が生成し、この相の酸化により焼結後の保磁
力が低くなってしまう。
石の主相中に存在すると保磁力を低下させるため、焼結
磁石中ではCoが主として粒界相中に存在することが好
ましい。このため、本発明では、粒界相用母合金にCo
を含有させる。粒界相用母合金中において、Fe/(C
o+Fe)は、71重量%以下であることが好ましい。
Feの含有量が多すぎると、保磁力向上効果が小さくな
る。
Sn、Ga、V、Inなどの元素を添加してもよいが、
添加量が5重量%を超えると残留磁束密度の低下が問題
となる。
他、不可避的不純物あるいは微量添加物として、例えば
炭素や酸素が含有されていてもよい。
Fe)、R(Co,Fe)5 、R(Co,Fe)3 、R
(Co,Fe)2 およびR2 (Co,Fe)17の少なく
とも1種を含み、その他のR−(Co,Fe)相も含ま
れることがある。粒界相用母合金の平均結晶粒径の上限
は、好ましくは20μm 、より好ましくは10μm であ
り、下限は、好ましくは0.1μm 、より好ましくは
0.5μm である。平均結晶粒径が大きすぎると、R2
(Fe,Co)17相が大きくなるために粉砕しにくくな
り、混合し磁石化したときに、焼結体結晶粒径が大きく
なり、磁気特性、特に保磁力に悪影響を与える。一方、
平均粒径が小さすぎると強磁性体であるR2 (Fe,C
o)17相が小さくなるために、微粉砕粉が単結晶になら
ず多結晶化し、成型時の配向性が劣化し、磁気特性、特
に残留磁束密度が低下する。
真(反射電子像)により確認することができる。
ず、通常の鋳造法などにより製造すればよいが、好まし
くは、前述した主相用母合金の製造と同様に、合金溶湯
を一方向または対向する二方向から冷却する方法により
製造する。これらの冷却方法における各種条件は、前述
した主相用母合金の場合と同様とすることが好ましい。
また、粒界相用母合金の冷却方向の厚さも、前述した主
相用母合金と同範囲であることが好ましい。なお、この
ような冷却方法を用いた場合、柱状結晶粒の長軸方向は
冷却方向とほぼ一致する。
の粉末と粒界相用母合金の粉末との混合物の製造方法
は、特に限定されない。例えば、両母合金を混合して同
時に粗粉砕し、さらに微粉砕することにより混合物を製
造してもよく、各母合金を粗粉砕した後、両母合金の粗
粉同士を混合し、次いで微粉砕して混合物を製造しても
よく、各母合金を粗粉砕した後、微粉砕し、両母合金の
微粉同士を混合してもよい。ただし、両母合金を別個に
微粉砕した後、混合する方法は、工程が複雑になり低コ
スト化が難しい。
小さい粒界相用母合金を用いる場合には、両母合金を混
合して同時に粗粉砕し、さらに微粉砕する方法が好まし
い。この方法では、均質な混合物が容易に得られる。こ
れに対し、溶解法により製造した粒界相用母合金を用い
る場合には、各母合金を粗粉砕した後、両母合金の粗粉
同士を混合し、次いで微粉砕する方法、または、各母合
金を粗粉砕した後、微粉砕し、両母合金の微粉同士を混
合する方法を用いることが好ましい。溶解法により製造
した粒界相用母合金は結晶粒径が大きいため、主相用母
合金と同時に粗粉砕を行なうことが困難である。
60〜95重量%、好ましくは70〜90重量%とす
る。この比率が低すぎると磁気特性が不十分となり、こ
の比率が高すぎると粒界相用母合金を添加することによ
る効果が不十分となる。
械的粉砕法や水素吸蔵粉砕法などを適宜選択すればよ
く、これらを組み合わせて粉砕を行なってもよい。ただ
し、粒度分布の鋭い磁石粉末が得られることから、水素
吸蔵粉砕を行なうことが好ましい。
てもよく、スタンプミル等の機械的粉砕手段により母合
金を粗粉砕した後に吸蔵させてもよい。粗粉砕は、通
常、平均粒子径10〜500μm 程度となるまで行な
う。
れず、通常の水素吸蔵粉砕法、例えば、水素吸蔵処理お
よび水素放出処理を少なくとも各1回行ない、さらに、
水素放出後、必要に応じて機械的粉砕を行なう方法を用
いることができる。
の範囲、好ましくは350〜450℃の範囲に昇温して
から水素吸蔵処理を施し、水素放出処理を施すことなく
機械的粉砕を行なってもよい。この方法では、水素放出
処理を施す必要がないため、製造時間が短縮できる。ま
た、主相用母合金においてこのような水素吸蔵処理を施
せば、粒度分布の鋭い粉末が得られる。
素は結晶粒界を構成するRリッチ相に選択的に吸蔵され
てRリッチ相の体積が増大するため、主相に圧力が加わ
り、Rリッチ相と接する領域が起点となって主相にクラ
ックが生じる。前記クラックは、柱状結晶粒の長軸方向
にほぼ垂直な面内に層状に発生する傾向を示す。一方、
主相には殆ど水素が吸蔵されていないため、主相内部に
不規則なクラックは発生しにくい。このため、続く機械
的粉砕の際に微粉および粗粉の発生が防止され、径の揃
った磁石粒子が得られる。等軸晶ではこのような粉砕が
行われないので、磁気特性が劣化する。
主相用母合金のRリッチ相においてRの二水素化物を形
成するが、Rの二水素化物は極めて破断し易いため、粗
粉の発生が防止される。
囲未満であると、水素が主相中にも多量に吸蔵されてし
まう他、Rリッチ相のRが三水素化物となってH2 Oと
反応するため、磁石中の酸素量が増加する傾向にある。
また、主相用母合金の温度が前記範囲を超えると、R二
水素化物が生成しなくなってしまう。
しており、微粉を除去した後に焼結していたため、粉砕
前の組成と粉砕後の組成との間のR含有率のずれが問題
となっていたが、この方法では微粉の発生が防がれるた
め、Rの組成ずれは殆どなくなる。また、水素は主相用
母合金の結晶粒界に選択的に吸蔵され、主相には殆ど吸
蔵されないため、水素使用量が約1/6にまで著減す
る。
囲気中で行なうことが好ましいが、He、Ar等の不活
性ガスおよびその他の非酸化性ガスを含んだ混合雰囲気
でもよい。水素分圧は、通常、0.05〜20気圧程度
であるが、一般に1気圧以下とすることが好ましい。ま
た、吸蔵時間は0.5〜5時間程度とすることが好まし
い。
ル等の気流式粉砕機を用いることが好ましい。気流式粉
砕機を用いることにより、粒子径の揃った磁石粉末が得
られる。
るジェットミル、渦流を利用するジェットミル、衝突板
を用いるジェットミルなどに分類される。流動層を利用
するジェットミルの概略構成図を図1に、渦流を利用す
るジェットミルの主要部の概略構成端面図を図2に、衝
突板を用いるジェットミルの主要部の概略構成断面図を
図3に示す。
では、筒状の容器21の周側面に複数個設けられたガス
導入管22および容器の底面に設けられたガス導入管2
3から、容器21内に気流が導入される構成となってい
る。一方、原料(水素吸蔵後の母合金)は、原料投入管
24から容器21内に投入される。投入された原料は、
容器21内に導入された気流により流動層25を形成
し、この流動層25内で衝突を繰り返し、また、容器2
1の壁面とも衝突して、微粉砕される。粉砕により得ら
れた微粉は、容器21上部に設けられた分級機26によ
り分級され、容器21外へ排出される。一方、十分に微
粉化されていない粉は、再び流動層25に戻り、粉砕が
続けられる。
端面図である。図2に示される構成を有するジェットミ
ルでは、容器31の壁面に原料導入管32と、複数のガ
ス導入管33とが配設されている。原料導入管32から
は、キャリアガスと共に原料が容器31内に導入され、
ガス導入管33からは容器31内にガスが噴射される。
原料導入管32およびガス導入管33はそれぞれ容器3
1の内壁面に対して傾斜して配設されており、噴射され
たガスは、容器31内において水平面内における渦流を
形成すると共に垂直方向の運動成分により流動層を形成
する構成となっている。原料は、容器31内の渦流およ
び流動層中において衝突を繰り返し、また、容器31の
壁面とも衝突して、微粉砕される。粉砕により得られた
微粉は容器31上部から排出される。また、粉砕が不十
分な粉末は容器31内で分級され、ガス導入管33側面
の孔から吸入されて、さらにガスと共に再び容器31内
に噴射され、粉砕が繰り返される。
では、原料投入口41から投入された原料が、ノズル4
2から導入された気流により加速されて衝突板43に衝
突し、粉砕される。粉砕された原料は分級されて、微粉
はジェットミルの外に排出され、微粉化が不足している
ものは再び原料投入口41に戻り、上記と同様にして粉
砕が繰り返される。
やArガス等の非酸化性ガスにより構成することが好ま
しい。
10μm 程度であることが好ましい。
や、用いる気流式粉砕機の構成などにより異なるので適
宜設定すればよい。
でなく母合金の少なくとも一部が崩れることがある。水
素吸蔵後の母合金の寸法が大きすぎる場合には、気流式
粉砕機による粉砕の前に、他の機械的手段により予備粉
砕を行なってもよい。
用母合金の粉末との混合物は、通常、磁場中で成形す
る。この場合、磁場強度は15kOe 以上、成形圧力は
0.5〜3t/cm2 程度とすることが好ましい。
1000〜1200℃で0.5〜5時間程度とし、焼結
後、急冷することが好ましい。なお、焼結雰囲気は、A
rガス等の不活性ガス雰囲気あるいは真空中であること
が好ましい。そして、焼結後、非酸化性雰囲気中あるい
は真空中で時効処理を施すことが好ましい。この時効処
理としては、2段時効処理が好ましい。1段目の時効処
理工程では、700〜900℃の範囲内に1〜3時間保
持する。次いで、室温〜200℃の範囲内にまで急冷す
る第1急冷工程を設ける。2段目の時効処理工程では、
400〜700℃の範囲内に1〜3時間保持する。次い
で、室温まで急冷する第2急冷工程を設ける。第1急冷
工程および第2急冷工程における冷却速度は、それぞれ
10℃/min以上、特に10〜30℃/minとすることが好
ましい。また、各時効処理工程における保持温度にまで
昇温する速度は特に限定されないが、通常、2〜10℃
/min程度とすればよい。
組成、粒界相用母合金の組成、両母合金の混合比率によ
り決定される。本発明では、各母合金の組成と混合比率
とを前記範囲とすればよいが、好ましくは、焼結後の磁
石が、Rを27〜32重量%、Coを1〜10重量%、
Bを0.9〜2重量%含み、残部がFeとなるようにす
る。R含有量をこのような範囲とすることにより、高残
留磁束密度が得られ、しかも十分な焼結密度が得られ
る。B含有量をこのような範囲とすることにより、高残
留磁束密度および高保磁力が得られる。Coをこのよう
な範囲とすることにより、良好な耐食性が得られ、しか
も保磁力の低下も抑えられる。
をさらに詳細に説明する。
%Dy、1.2重量%B、残部Feの組成の合金溶湯を
Ar雰囲気中で単ロール法により冷却し、表1に示す薄
帯状の主相用母合金を製造した。主相用母合金の冷却方
向の厚さおよび冷却ロールの周速度を、表1に示す。冷
却ロールには、Cuロールを用いた(サンプルNo. 1−
1〜1−7)。
1.2重量%Dy、1.2重量%B、残部Feの組成の
合金溶湯をAr雰囲気中で単ロール法により冷却し、表
1に示す薄体帯の主相用母合金を製造した。主相用母合
金の冷却方向厚さおよび冷却ロールの厚さおよび冷却ロ
ールの周速を表1に示す。冷却ロールには、Cuロール
を用いた(サンプルNo. 1−8〜1−9)。
現れるように切断し、断面を研磨して電子顕微鏡により
反射電子像を撮影した。得られた写真には、冷却方向
(薄帯の厚さ)を長軸方向とする柱状結晶(および一部
には等軸晶)が認められた。各母合金について、柱状結
晶粒100個の平均径を求めた。また、各母合金につい
て、SEM−EDXによりα−Feおよび等軸晶の存在
を調べた。これらの結果を表1に示す。なお、図4は母
合金No. 1−3のSEM写真である。これらの主相用母
合金を粗粉砕し、平均粒子径15μm の主相用合金粉末
(サンプルNo. 1−1〜1−7)とした。これら母合金
No. 1−2〜1−4では、1〜10Vol%のRリッチ相の
存在が確認された。また、合金No. 1−8〜1−9では
Rリッチ相は実質的に存在していなかった。
y、15重量%Co、残部Feの組成の合金を、Ar雰
囲気中で高周波溶解した後、冷却し、合金インゴットと
した。この合金インゴットは、R3 (Co,Fe)、R
(Co,Fe)5 、R(Co,Fe)3 、R(Co,F
e)2 、R2 (Co,Fe)17の各相を含むものであ
り、平均結晶粒径は25μm であった。この合金インゴ
ットを粗粉砕して、平均粒子径15μm のサンプルNo.
1−1〜1−7用の粒界相用合金粉末を得た。
Dy、15重量%Co、残部Feの組成の合金を、Ar
雰囲気中で高周波溶解した後、冷却し、合金インゴット
とした。この合金インゴットは、R3 (Co,Fe)、
R(Co,Fe)5 、R(Co,Fe)3 、R(Co,
Fe)2 、R2 (Co,Fe)17の各相を含むものであ
り、平均結晶粒径は25μm であった。この合金インゴ
ットを粗粉砕して、平均粒子径15μm のサンプルNo.
1−8〜1−9用の粒界相用合金粉末を得た。
粉末20重量部とを混合し、29.8重量%Nd、1.
2重量%Dy、1重量%B、3重量%Co、残部Feの
組成の混合物を得た。この混合物に下記の条件で水素吸
蔵処理を施し、水素放出処理を施すことなく機械的粉砕
を行なった。
するジェットミルを用いた。粉砕は各磁石粉末の平均粒
子径が3.5μm となるまで行なった。
て1.5t/cm2 の圧力で成形した。得られた成形体を、
真空中において1075℃で4時間焼結した後、急冷し
た。得られた焼結体に、Ar雰囲気中で2段時効処理を
施し、磁石とした。1段目の時効処理は、850℃で1
時間、2段目の時効処理は520℃で1時間行なった。
柱状結晶粒を有し、この柱状結晶粒の平均径が3〜50
μm であるときに、高特性の磁石が得られることがわか
る。また、Rリッチ相を実質的に含まない主相用母合金
(サンプルNo. 1−8〜1−9)では特性が低い。
以下に示すようにして製造した。
ール法により冷却し、主相用母合金を製造した。冷却ロ
ールの周速度は4m/s とした。主相用母合金は、厚さ
0.3mm、幅15mmの薄帯状であり、冷却方向に延びる
平均径5μm の柱状結晶粒が認められ、α−Fe相の存
在は認められなかった。この主相用母合金を粗粉砕し、
平均粒子径15μm の主相用合金粉末を得た。
例1と同様にして高周波溶解により合金インゴットを得
た。この合金インゴットは、実施例1で用いた粒界相用
母合金と同様な相を含み、平均結晶粒径は25μm であ
った。この合金インゴットを粗粉砕して、平均粒子径1
5μm の粒界相用合金粉末を得た。
表2に示す重量比率で混合した。得られた混合物の組成
(磁石組成)を表2に示す。この混合物を、実施例1と
同様にして微粉砕した。次いで、実施例1と同様にして
成形、焼結、時効処理を行ない、磁石サンプルNo. 2−
1を得た。
ンプルNo. 2−1(本発明例)と同様にして製造した。
この主相用母合金は、R2 Fe14B相、Ndリッチ相お
よびα−Fe相を含んでおり、α−Fe相の含有率は1
0体積%であった。
高周波溶解法により製造した後、Ar雰囲気中において
900℃で24時間熱処理を施し、溶体化した。これ以
外はサンプルNo. 2−2(比較例)と同様にして製造し
た。溶体化後の主相用母合金には、α−Fe相は認めら
れなかった。
主相用母合金の場合と同様に単ロール法で製造した以外
は、サンプルNo. 2−1(本発明例)と同様にして製造
した。粒界相用母合金製造の際の冷却ロールの周速度
は、2m/s とした。粒界相用母合金は、厚さ0.2mm、
幅15mmの薄帯状であり、サンプルNo. 2−1(本発明
例)で用いた粒界相用母合金と同様な相を含んでいた
が、平均結晶粒径は3μm であった。
り、アモルファス状態の粒界相用母合金を得た。これ以
外は、サンプルNo. 2−4(本発明例)と同様にして製
造した。
り、アモルファス状態の主相用母合金を得た。これ以外
は、サンプルNo. 2−4(本発明例)と同様にして製造
した。
成の合金溶湯を単ロール法で冷却し、厚さ0.3mm、幅
15mmの合金薄帯を得た。冷却ロールの周速度は2m/s
とした。この合金薄帯には、冷却方向に延びる平均径9
μm の柱状結晶粒が認められ、α−Fe相の存在は認め
られなかった。この合金薄帯を粗粉砕し、平均粒子径1
5μm の合金粉末とした。この合金粉末を微粉砕し、さ
らに、成形、焼結、時効処理を行なって磁石とした。微
粉砕以降の工程は、サンプルNo.2−1(本発明例)製
造の際と同様とした。
た以外は、サンプルNo. 2−1(本発明例)と同様にし
て製造した。
に高周波溶解法により製造した以外は、サンプルNo. 2
−8(比較例)と同様にして製造した。なお、主相用母
合金に溶体化処理は施さなかった。
た以外は、サンプルNo. 2−4(本発明例)と同様にし
て製造した。
の組成の合金を直接還元拡散法(R.D)法にて得た。
これ以外は、サンプルNo. 2−1と同様にして製造し
た。
B、Al、Fe−Nb、Fe−V、Fe−Wを用いてA
r雰囲気中で単ロール法により冷却し薄帯状の主相用母
合金を製造した。次に、それぞれ純度99.9%のN
d、Dy、Fe、Al、Sn、Gaを用いて、Ar雰囲
気中で高周波溶解した後、冷却し合金インゴットした。
各母合金の組成を表2に示す。組成以外は、サンプルN
o. 2−1(本発明)と同様にして製造した。
耐食性を測定した。結果を表2、表3に示す。耐食性
は、120℃、100%RH、2気圧の雰囲気中にサン
プルを100時間保存した後、サンプル表面の酸化物を
除去し、保存前に対して減少した重量で評価した。表
2、表3に示す数値は、サンプルの単位表面積あたりの
減少重量である。
明らかである。
例)では、主相用母合金を溶解法により製造したサンプ
ルNo. 2−2(比較例)に比べ著しく高い特性が得られ
ており、サンプルNo. 2−2の主相用母合金に溶体化処
理を施したサンプルNo. 2−3(比較例)よりも高特性
である。そして、小径の結晶粒を有する粒界相用母合金
を用いたサンプルNo. 2−4(本発明例)では、粒界相
用母合金粒子の組成ばらつきが少ないため、サンプルN
o. 2−1(粒界相用母合金の平均結晶粒径25μm )
およびサンプルNo. 2−5(粒界相用母合金がアモルフ
ァス状態)に対し保磁力が約8%も向上している。な
お、アモルファス状態の粒界相母合金を用いたサンプル
No. 2−5では、粗粉の混合物では29.8重量%のN
dを含んでいたが、微粉砕後にはNd含有量が29.0
重量%まで減少してしまっていた。
金法を用いなかったサンプル No.2−7、主相用母合金
のR含有量が本発明範囲より多いサンプルNo. 2−8、
No.2−9に比べ、磁気特性がより良好であると共に耐
食性もより良好である。
はNo. 2−1と比較して磁気特性が劣化する。また、N
o. 2−12〜2−18の結果から、添加元素により所
望の磁気特性にすることができることがわかる。
いて示す側面図である。
面図であり、(a)は平面端面図、(b)は側面端面図
である。
面図である。
Claims (18)
- 【請求項1】 R(Rは、Yを含む希土類元素の少なく
とも1種である)、T(Tは、Fe、またはFeおよび
Coである)およびBを主成分とし、実質的にR2 T14
Bから構成される主相を有する永久磁石を、主相用母合
金の粉末と粒界相用母合金の粉末との混合物を成形した
後、焼結することにより製造する方法であって、 前記主相用母合金が、実質的にR2 T14Bから構成され
平均径が3〜50μmである柱状結晶粒と、R2 T14B
よりもRの含有率が高いRリッチ相を主体とする結晶粒
界とを有し、かつ、 Rを26〜32重量%、 Bを0.9〜2重量%含み、 残部が実質的にTであり、 前記粒界相用母合金が、Rを32〜60重量%含み、残
部が実質的にCo、またはCoおよびFeである結晶質
合金であり、 前記混合物中における主相用母合金の比率が60〜95
重量%である永久磁石の製造方法。 - 【請求項2】 製造される永久磁石が、 Rを27〜32重量%、 Coを1〜10重量%、 Bを0.9〜2重量%含み、 残部が実質的にFeである請求項1の永久磁石の製造方
法。 - 【請求項3】 合金溶湯を、一方向または対向する二方
向から冷却して前記主相用母合金を製造する請求項1ま
たは2の永久磁石の製造方法。 - 【請求項4】 前記合金溶湯を、単ロール法、双ロール
法または回転ディスク法により冷却する請求項3の永久
磁石の製造方法。 - 【請求項5】 前記主相用母合金の冷却方向の厚さが
0.1〜2mmである請求項3または4の永久磁石の製造
方法。 - 【請求項6】 前記主相用母合金がα−Fe相を実質的
に含まない請求項1〜5のいずれかの永久磁石の製造方
法。 - 【請求項7】 前記粒界相用母合金が、平均径0.1〜
20μm の結晶粒を有する請求項1〜6のいずれかの永
久磁石の製造方法。 - 【請求項8】 合金溶湯を、一方向または対向する二方
向から冷却して前記粒界相用母合金を製造する請求項1
〜7のいずれかの永久磁石の製造方法。 - 【請求項9】 前記合金溶湯を、単ロール法、双ロール
法または回転ディスク法により冷却する請求項8の永久
磁石の製造方法。 - 【請求項10】 前記粒界相用母合金の冷却方向の厚さ
が0.1〜2mmである請求項8または9の永久磁石の製
造方法。 - 【請求項11】 前記混合物中の主相用母合金の粉末の
平均径と粒界相用母合金の粉末の平均径とが1〜10μ
m である請求項1〜10のいずれかの永久磁石の製造方
法。 - 【請求項12】 水素を吸蔵させた後、前記主相用母合
金をジェットミルにより粉砕する粉砕工程を有する請求
項1〜11のいずれかの永久磁石の製造方法。 - 【請求項13】 水素を吸蔵させた後、前記粒界相用母
合金をジェットミルにより粉砕する粉砕工程を有する請
求項1〜12のいずれかの永久磁石の製造方法。 - 【請求項14】 前記粉砕工程において、母合金の温度
を300〜600℃の範囲に昇温した後、水素吸蔵処理
を施し、次いで、水素放出処理を施すことなく粉砕を行
なう請求項12または13の永久磁石の製造方法。 - 【請求項15】 母合金に水素を吸蔵させた後、水素の
放出を行なう請求項12または13の永久磁石の製造方
法。 - 【請求項16】 主相用母合金と粒界相用母合金とを混
合して同時に粗粉砕した後、水素を吸蔵させ、次いで、
ジェットミルにより微粉砕を行なう請求項12〜15の
いずれかの永久磁石の製造方法。 - 【請求項17】 粗粉砕した主相用母合金と粗粉砕した
粒界相用母合金とを混合した後、水素を吸蔵させ、次い
で、ジェットミルにより微粉砕を行なう請求項12〜1
5のいずれかの永久磁石の製造方法。 - 【請求項18】 主相用母合金と粒界相用母合金とを、
独立して粗粉砕した後、それぞれに水素を吸蔵させ、次
いで、それぞれをジェットミルにより微粉砕した後、主
相用母合金と粒界相用母合金とを混合する請求項12〜
15のいずれかの永久磁石の製造方法。
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