JPH07176512A - スピンドライヤー装置 - Google Patents
スピンドライヤー装置Info
- Publication number
- JPH07176512A JPH07176512A JP31867993A JP31867993A JPH07176512A JP H07176512 A JPH07176512 A JP H07176512A JP 31867993 A JP31867993 A JP 31867993A JP 31867993 A JP31867993 A JP 31867993A JP H07176512 A JPH07176512 A JP H07176512A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cradle
- cassette
- wall
- wafer
- mounting table
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Drying Of Solid Materials (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 スピンドライヤー装置において、装置自体の
小型化を図ることは勿論、前工程の洗浄槽をも小型に
し、ウェーハの洗浄乾燥効率を向上せしめかつ性能を阻
害させる静電気を帯びさせことがないようにする。 【構成】ウェーハを並べ収納する従来のカセットの案内
溝が施された周囲壁を取外し単にウェーハを並べ溝に載
置する載置台７にし、クレードル３ａの両壁にＶ字状溝
８ａをもつ保持枠８を設けて、カセットの壁の厚さだけ
カセットを小さくし前工程の洗浄槽を壁の厚みだけ小さ
くするとともにクレードル３ａも小さくする。また、載
置台７に洗浄液のまわり込みの障害となる壁が無くなす
と同時に洗浄液の飛散に対しても障害にもならない。さ
らにウェーハ５と直接接触する面積を小さくしている。
小型化を図ることは勿論、前工程の洗浄槽をも小型に
し、ウェーハの洗浄乾燥効率を向上せしめかつ性能を阻
害させる静電気を帯びさせことがないようにする。 【構成】ウェーハを並べ収納する従来のカセットの案内
溝が施された周囲壁を取外し単にウェーハを並べ溝に載
置する載置台７にし、クレードル３ａの両壁にＶ字状溝
８ａをもつ保持枠８を設けて、カセットの壁の厚さだけ
カセットを小さくし前工程の洗浄槽を壁の厚みだけ小さ
くするとともにクレードル３ａも小さくする。また、載
置台７に洗浄液のまわり込みの障害となる壁が無くなす
と同時に洗浄液の飛散に対しても障害にもならない。さ
らにウェーハ５と直接接触する面積を小さくしている。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ウェット処理した後の
半導体基板であるウェーハを高速回転させその遠心力で
表面に付着した処理液を飛散させ乾燥するスピンドライ
ヤー装置である。
半導体基板であるウェーハを高速回転させその遠心力で
表面に付着した処理液を飛散させ乾燥するスピンドライ
ヤー装置である。
【０００２】
【従来の技術】図３（ａ）〜（ｃ）は従来のスピンドラ
イヤー装置の一例における構造を示す模式断面図（ａ）
およびクレードルとカセットの側面図（ｂ）並びに正面
図（ｃ）である。この種のスピンドライヤー装置は、例
えば、図３（ａ）に示すように、複数の円板状のウェー
ハ５を溝に嵌め込み該半導体基板を並べ収納するカセッ
ト４と、このカセット４を収納するクレードル３と、こ
のクレードル３の複数を内縁に回転自在に取付ける回転
ドラム２ａと、この回転ドラム２ａを回転させるターン
テ一ブル２と、このターンテーブル２および回転ドラム
２ａを収納する容器１とを備えている。
イヤー装置の一例における構造を示す模式断面図（ａ）
およびクレードルとカセットの側面図（ｂ）並びに正面
図（ｃ）である。この種のスピンドライヤー装置は、例
えば、図３（ａ）に示すように、複数の円板状のウェー
ハ５を溝に嵌め込み該半導体基板を並べ収納するカセッ
ト４と、このカセット４を収納するクレードル３と、こ
のクレードル３の複数を内縁に回転自在に取付ける回転
ドラム２ａと、この回転ドラム２ａを回転させるターン
テ一ブル２と、このターンテーブル２および回転ドラム
２ａを収納する容器１とを備えている。
【０００３】このスピンドライヤー装置で処理済みのウ
ェーハを乾燥する手順は、まず、クレードル３を水平に
し、ウェーハ５の複数枚を収納したカセット４をクレー
ドル３に収納する。次に、クレードル３をストッパ２に
当るまで９０度回転させ回転ドラム２ａに収納する。次
に、ターンテーブル２を高速回転させウェーハ５に付着
する処理液をその遠心力で飛散させ乾燥する。
ェーハを乾燥する手順は、まず、クレードル３を水平に
し、ウェーハ５の複数枚を収納したカセット４をクレー
ドル３に収納する。次に、クレードル３をストッパ２に
当るまで９０度回転させ回転ドラム２ａに収納する。次
に、ターンテーブル２を高速回転させウェーハ５に付着
する処理液をその遠心力で飛散させ乾燥する。
【０００４】このスピンドライヤー装置に使用されるカ
セット４は前工程であるウェット処理装置と共用として
いるため、薬液に強いテフロン材で成形された箱体であ
って、ウェーハ５を囲む壁が変形しないように肉厚が厚
い堅牢なものであった。
セット４は前工程であるウェット処理装置と共用として
いるため、薬液に強いテフロン材で成形された箱体であ
って、ウェーハ５を囲む壁が変形しないように肉厚が厚
い堅牢なものであった。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしなが上述したス
ピンドライヤー装置で使用するカセットは、ウェーハを
挿入する溝が周囲の壁に形成されており、しかもこの壁
が変形しないようにある程度の厚みをもっている。この
ため、このカセットを収納するクレードルの高さも高く
なりそれに伴ない回転ドラム自体が大きくなり装置が大
型化し設備費も高価となり据付面積を広くなるという欠
点がある。一方、このカセットを共用する前工程の洗浄
槽もそれ自体が大きくなり広い床面積を必要とするばか
りか、消費する薬液の量が増え運用コストが高くなる欠
点をもっている。また、洗浄に際しても、ウェーハの周
囲に壁があることから、洗浄液のまわり込みが不十分と
なり、汚染物が付着したまま乾燥されることが多々あ
る。さらに、この周囲壁とウェーハ面との接触面積が広
くそれだけ静電気を帯させウェーハに形成された集積回
路を破損させるという問題を含んでいる。
ピンドライヤー装置で使用するカセットは、ウェーハを
挿入する溝が周囲の壁に形成されており、しかもこの壁
が変形しないようにある程度の厚みをもっている。この
ため、このカセットを収納するクレードルの高さも高く
なりそれに伴ない回転ドラム自体が大きくなり装置が大
型化し設備費も高価となり据付面積を広くなるという欠
点がある。一方、このカセットを共用する前工程の洗浄
槽もそれ自体が大きくなり広い床面積を必要とするばか
りか、消費する薬液の量が増え運用コストが高くなる欠
点をもっている。また、洗浄に際しても、ウェーハの周
囲に壁があることから、洗浄液のまわり込みが不十分と
なり、汚染物が付着したまま乾燥されることが多々あ
る。さらに、この周囲壁とウェーハ面との接触面積が広
くそれだけ静電気を帯させウェーハに形成された集積回
路を破損させるという問題を含んでいる。
【０００６】従って、本発明の目的は、装置自体の小型
化を図ることは勿論、前工程の洗浄槽をも小型にし、ウ
ェーハの洗浄乾燥効率を向上せしめかつ性能を阻害させ
る静電気を帯びさせことがないカセットを適用できるス
ピンドライヤー装置を提供することである。
化を図ることは勿論、前工程の洗浄槽をも小型にし、ウ
ェーハの洗浄乾燥効率を向上せしめかつ性能を阻害させ
る静電気を帯びさせことがないカセットを適用できるス
ピンドライヤー装置を提供することである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明の特徴は、複数の
円板状の半導体基板の一円弧部分を溝に嵌め込み該半導
体基板を並べ載置する載置台と、この載置台を入れる箱
状部材であるとともに前記一円弧部と垂直方向となる該
半導体基板の他の円弧部分を挟み保持するＶ字状溝が形
成される保持枠をもつクレードルと、このクレードルの
複数を内縁に回転自在に取付ける回転ドラムと、この回
転ドラムを回転させるターンテ一ブルと、このターンテ
ーブルおよび回転ドラムを収納する容器とを備えるスピ
ンドライヤー装置である。
円板状の半導体基板の一円弧部分を溝に嵌め込み該半導
体基板を並べ載置する載置台と、この載置台を入れる箱
状部材であるとともに前記一円弧部と垂直方向となる該
半導体基板の他の円弧部分を挟み保持するＶ字状溝が形
成される保持枠をもつクレードルと、このクレードルの
複数を内縁に回転自在に取付ける回転ドラムと、この回
転ドラムを回転させるターンテ一ブルと、このターンテ
ーブルおよび回転ドラムを収納する容器とを備えるスピ
ンドライヤー装置である。
【０００８】
【実施例】次に、本発明について図面を参照して説明す
る。
る。
【０００９】図１（ａ）〜（ｄ）は本発明のスピンドラ
イヤー装置の一実施例における構成を示す模式断面図
（ａ）およびクレードルの上面図（ｂ）と断面図（ｃ）
ならびにカセット台とクレードルとの関係を示す図
（ｄ）である。このスピンドライヤー装置は、図１に示
すように、従来、使用してウェーハを収納する箱状のカ
セットを複数の円板状のウェーハ５の一円弧部分を溝に
嵌め込みウェーハ５を並べ載置する載置台７とし、この
載置台７を入れる箱状のクレードル３ａに前記一円弧部
と垂直方向となるウェーハ５の他の円弧部分を挟み保持
するＶ字状溝８ａが形成される保持枠８を箱体の両側壁
に設けたことである。それ以外は従来例と同じである。
イヤー装置の一実施例における構成を示す模式断面図
（ａ）およびクレードルの上面図（ｂ）と断面図（ｃ）
ならびにカセット台とクレードルとの関係を示す図
（ｄ）である。このスピンドライヤー装置は、図１に示
すように、従来、使用してウェーハを収納する箱状のカ
セットを複数の円板状のウェーハ５の一円弧部分を溝に
嵌め込みウェーハ５を並べ載置する載置台７とし、この
載置台７を入れる箱状のクレードル３ａに前記一円弧部
と垂直方向となるウェーハ５の他の円弧部分を挟み保持
するＶ字状溝８ａが形成される保持枠８を箱体の両側壁
に設けたことである。それ以外は従来例と同じである。
【００１０】このスピンドライヤー装置において、ウェ
ーハ５を載置する載置台７をクレードル３ａに入れる。
このときウェーハ５の円弧部分がクレードル３ａのＶ字
状溝８ａに案内され載置台７はクレードル３ａの底面と
載置台７の突起部１１とが接触して完全に収納される。
また、Ｖ字状溝８ａと載置台７の溝とは精度よく一致さ
せるように加工する必要がなく、単にＶ字状の溝に形成
してあれば、一致させるのに通常のモールド成形した精
度で十分である。むしろ、ずれが多少あった方がＶ字状
溝８ａと載置台７の溝とでウェーハ５に規制力を与え、
この規制力がグレードル３ａを回転したときにウェーハ
が飛び出すことを防止する。
ーハ５を載置する載置台７をクレードル３ａに入れる。
このときウェーハ５の円弧部分がクレードル３ａのＶ字
状溝８ａに案内され載置台７はクレードル３ａの底面と
載置台７の突起部１１とが接触して完全に収納される。
また、Ｖ字状溝８ａと載置台７の溝とは精度よく一致さ
せるように加工する必要がなく、単にＶ字状の溝に形成
してあれば、一致させるのに通常のモールド成形した精
度で十分である。むしろ、ずれが多少あった方がＶ字状
溝８ａと載置台７の溝とでウェーハ５に規制力を与え、
この規制力がグレードル３ａを回転したときにウェーハ
が飛び出すことを防止する。
【００１１】グレードル３ａは図面ではウェーハ５を囲
むように壁をもっているが、軽量にするために捨穴など
を施すと良い。これは飛散する薬液がウェーハ５に再付
着することを避ける意味でも必要である。さらに、載置
台７にウェーハ５を囲む壁がないことからこの装置によ
る洗浄乾燥効率の向上が期待できる。
むように壁をもっているが、軽量にするために捨穴など
を施すと良い。これは飛散する薬液がウェーハ５に再付
着することを避ける意味でも必要である。さらに、載置
台７にウェーハ５を囲む壁がないことからこの装置によ
る洗浄乾燥効率の向上が期待できる。
【００１２】図２（ａ）および（ｂ）は図１のスピンド
ライヤー装置に自動搬送装置の適用例を説明するための
載置台とクレードルとの位置関係を示す図である。この
実施例における載置台は、図２に示すように、ウェーハ
５が並べられる方向と垂直な側面に搬送部９から伸びる
アーム９ａに吊されたフック１０が引掛ける突起物１１
を設け、フック１０が上下するときおよびフック１０が
アーム１０の回転によりフック１０とクレードル３ａと
干渉しないようにクレードル３ａの壁に切欠き１２が形
成されている。
ライヤー装置に自動搬送装置の適用例を説明するための
載置台とクレードルとの位置関係を示す図である。この
実施例における載置台は、図２に示すように、ウェーハ
５が並べられる方向と垂直な側面に搬送部９から伸びる
アーム９ａに吊されたフック１０が引掛ける突起物１１
を設け、フック１０が上下するときおよびフック１０が
アーム１０の回転によりフック１０とクレードル３ａと
干渉しないようにクレードル３ａの壁に切欠き１２が形
成されている。
【００１３】この搬送部は前工程の洗浄槽まで伸びてお
り、洗浄終了後のウェーハ５と載置台７はスピンドライ
ヤー装置の上に搬送され、図２（ａ）から図２（ｂ）に
示すように搬送部９が下降し、突起部１１で載置台７を
吊したフック１０が切欠き１２の間を通過し載置台７を
クレードル３ａに収納する。そしてアーム９ａの回転に
よりフック１０は突起部１１から外れ、アーム９ａを上
昇させ載置台７のクレードル３ａへの移載を完了する。
り、洗浄終了後のウェーハ５と載置台７はスピンドライ
ヤー装置の上に搬送され、図２（ａ）から図２（ｂ）に
示すように搬送部９が下降し、突起部１１で載置台７を
吊したフック１０が切欠き１２の間を通過し載置台７を
クレードル３ａに収納する。そしてアーム９ａの回転に
よりフック１０は突起部１１から外れ、アーム９ａを上
昇させ載置台７のクレードル３ａへの移載を完了する。
【００１４】
【発明の効果】以上説明したように本発明は、ウェーハ
を並べ収納する従来のカセットの案内溝が施された周囲
壁を取外し単にウェーハを並べ溝に載置する載置台に
し、クレードルの両壁に案内溝を形成することによっ
て、カセットの壁の厚さだけカセットを小さくしたの
で、前工程の洗浄槽を壁の厚みだけ小さくすることがで
き、さらにクレードルも小さくでき洗浄装置も乾燥装置
も小型化が図れるという効果がある。
を並べ収納する従来のカセットの案内溝が施された周囲
壁を取外し単にウェーハを並べ溝に載置する載置台に
し、クレードルの両壁に案内溝を形成することによっ
て、カセットの壁の厚さだけカセットを小さくしたの
で、前工程の洗浄槽を壁の厚みだけ小さくすることがで
き、さらにクレードルも小さくでき洗浄装置も乾燥装置
も小型化が図れるという効果がある。
【００１５】また、載置台に洗浄液のまわり込みの障害
となる壁がなくなると同時に洗浄液の飛散に対しても障
害とならないので、洗浄乾燥効率を向上させるという効
果がある。
となる壁がなくなると同時に洗浄液の飛散に対しても障
害とならないので、洗浄乾燥効率を向上させるという効
果がある。
【００１６】さらに、別の効果としてウェーハと直接接
触する面積が小さくなり、静電気による集積回路の破損
が著しく低減できる。
触する面積が小さくなり、静電気による集積回路の破損
が著しく低減できる。
【図１】本発明のスピンドライヤー装置の一実施例にお
ける構成を示す模式断面図（ａ）およびクレードルの上
面図（ｂ）と断面図（ｃ）ならびにカセット台とクレー
ドルとの関係を示す図（ｄ）である。
ける構成を示す模式断面図（ａ）およびクレードルの上
面図（ｂ）と断面図（ｃ）ならびにカセット台とクレー
ドルとの関係を示す図（ｄ）である。
【図２】図１のスピンドライヤー装置に自動搬送装置の
適用例を説明するための載置台とクレードルとの位置関
係を示す図である。
適用例を説明するための載置台とクレードルとの位置関
係を示す図である。
【図３】従来のスピンドライヤー装置の一例における構
造を示す模式断面図（ａ）およびクレードルとカセット
の側面図（ｂ）並びに正面図（ｃ）である。
造を示す模式断面図（ａ）およびクレードルとカセット
の側面図（ｂ）並びに正面図（ｃ）である。
１ 容器 ２ ターンテーブル ２ａ 回転ドラム ２ｂ ストッパ ３，３ａ クレードル ４ カセット ５ ウェーハ ７ 載置台 ８ 保持枠 ８ａ Ｖ字状溝 ９ 搬送部 ９ａ アーム １０ フック １１ 突起部 １２ 切欠き
Claims (2)
- 【請求項１】 複数の円板状の半導体基板の一円弧部分
を溝に嵌め込み該半導体基板を並べ載置する載置台と、
この載置台を入れる箱状部材であるとともに前記一円弧
部と垂直方向となる該半導体基板の他の円弧部分を挟み
保持するＶ字状溝が形成される保持枠をもつクレードル
と、このクレードルの複数を内縁に回転自在に取付ける
回転ドラムと、この回転ドラムを回転させるターンテ一
ブルと、このターンテーブルおよび回転ドラムを収納す
る容器とを備えることを特徴とするスピンドライヤー装
置。 - 【請求項２】 前記載置台の前記溝が伸びる方向と平行
な側面に搬送部のフックが引掛ける突起物が形成されて
いることを特徴とする請求項１記載のスピンドライヤー
装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31867993A JPH07176512A (ja) | 1993-12-17 | 1993-12-17 | スピンドライヤー装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31867993A JPH07176512A (ja) | 1993-12-17 | 1993-12-17 | スピンドライヤー装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07176512A true JPH07176512A (ja) | 1995-07-14 |
Family
ID=18101820
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP31867993A Pending JPH07176512A (ja) | 1993-12-17 | 1993-12-17 | スピンドライヤー装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07176512A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5873177A (en) * | 1996-05-20 | 1999-02-23 | Tokyo Electron Limited | Spin dryer and substrate drying method |
| JP2007095781A (ja) * | 2005-09-27 | 2007-04-12 | Oki Electric Ind Co Ltd | ウエハキャリアとこれを用いた半導体装置の製造方法 |
| CN110034051A (zh) * | 2019-04-18 | 2019-07-19 | 北京半导体专用设备研究所（中国电子科技集团公司第四十五研究所） | 翻转结构及晶圆甩干设备 |
| CN111822437A (zh) * | 2020-08-27 | 2020-10-27 | 梅州市尚善光电有限公司 | 一种光学镜片的洗涤脱水方法 |
-
1993
- 1993-12-17 JP JP31867993A patent/JPH07176512A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5873177A (en) * | 1996-05-20 | 1999-02-23 | Tokyo Electron Limited | Spin dryer and substrate drying method |
| JP2007095781A (ja) * | 2005-09-27 | 2007-04-12 | Oki Electric Ind Co Ltd | ウエハキャリアとこれを用いた半導体装置の製造方法 |
| CN110034051A (zh) * | 2019-04-18 | 2019-07-19 | 北京半导体专用设备研究所（中国电子科技集团公司第四十五研究所） | 翻转结构及晶圆甩干设备 |
| CN110034051B (zh) * | 2019-04-18 | 2021-07-13 | 北京半导体专用设备研究所（中国电子科技集团公司第四十五研究所） | 翻转结构及晶圆甩干设备 |
| CN111822437A (zh) * | 2020-08-27 | 2020-10-27 | 梅州市尚善光电有限公司 | 一种光学镜片的洗涤脱水方法 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 19990601 |