JPH07181205A - 光応用測定装置 - Google Patents

光応用測定装置

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JPH07181205A
JPH07181205A JP5328201A JP32820193A JPH07181205A JP H07181205 A JPH07181205 A JP H07181205A JP 5328201 A JP5328201 A JP 5328201A JP 32820193 A JP32820193 A JP 32820193A JP H07181205 A JPH07181205 A JP H07181205A
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JP
Japan
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light
optical
optical path
magneto
measurement
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JP5328201A
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Inventor
Yoshinori Tatsukawa
美紀 達川
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Toshiba Corp
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 磁気光学効果を利用して、磁界または電流を
高精度に測定可能な、優れた光応用測定装置を提供す
る。 【構成】 2波長光源21から2波長の光を発する。周
波数ωの参照光は参照光路11を通過する。周波数ω+
Δωの測定光は測定光路12に入射し、λ/4板24a
によって円偏光に変換された後、磁気光学媒質1を透過
し、磁界の強さに応じてファラデー回転する。ファラデ
ー回転した測定光は、λ/4板24bによって再び直線
偏光に変換され、ビームコンバイナ9によって参照光路
11を通過した参照光と重ね合わされ、偏光子3を透過
してヘテロダイン干渉光として光検出器5に入射する。
検出信号を位相変化検出回路22に入力し、位相変化量
を検出することにより、磁界または電流に応じた測定光
路の光路長の変化を計測する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、磁気光学効果を利用し
て磁界や電流などの物理的変量を測定する光応用測定装
置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】一般に、光応用測定装置は、磁気光学効
果の一つである磁気誘導複屈折効果(光が磁性体を透過
するときに現れる複屈折現象)を利用して、磁界や電流
などの物理的変量を測定する装置である。以下には、こ
のような光応用測定装置として、代表的な2つの例を示
す。
【0003】まず、図5は、ファラデー効果を利用した
光応用測定装置であり、磁気光学媒質1と、光源2、偏
光子3、偏光ビームスプリッタ4、2つの光検出器5
a,5b、および偏波面回転角検出回路6から構成され
ている。ここで、ファラデー効果とは、直線偏光の光波
が、磁界中に配置した磁気光学媒質内を透過する際に、
左右の円偏光に対する屈折率が異なるために偏光面が磁
界の強さに比例した角度だけ回転する現象である。
【0004】すなわち、この装置を使用して磁界または
電流などの物理的変量を測定する場合には、まず、光源
2から発した光を偏光子3によって直線偏光に変換し、
磁界中に配置された磁気光学媒質1を透過させてファラ
デー回転させる。次に、この磁気光学媒質1から出射し
た直線偏光を、偏光ビームスプリッタ4により、直交す
る2つの偏光成分(x成分とy成分)に分離し、このx
成分とy成分の直線偏光を2つの光検出器5a,5bに
それぞれ入射して電気信号に変換する。最終的に、偏波
面回転角検出回路6において、x成分とy成分の電気信
号からこの2つの成分の測定光強度比を求めて偏波面の
回転角を検出し、この回転角から磁界または電流を求め
る。
【0005】次に、図6は、干渉法を利用した光応用測
定装置であり、ファラデー効果を示す磁気光学媒質1
と、コヒーレント光源7、ビームスプリッタ8、ビーム
コンバイナ9、光検出器5、および位相差検出回路10
から構成されている。この装置においては、磁界によっ
て光の屈折率が変化することを利用している。
【0006】すなわち、この装置を使用して磁界または
電流などの物理的変量を測定する場合には、まず、コヒ
ーレント光源7から発した光をビームスプリッタ8によ
り分割して、磁界中を通らない参照光路11と、磁界中
に配置された磁気光学媒質1を通る測定光路12とをそ
れぞれ通過させる。この場合、参照光路11と測定光路
12との光路長差は、磁界の強さに比例して変化する。
そして、このように参照光路11および測定光路12を
通過した2光波をビームコンバイナ9で干渉させ、電気
信号に変換する。最終的に、位相差検出回路10によっ
て、この干渉光の電気信号から測定光強度を求めて位相
差を検出し、磁界または電流を求める。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】ところで、前述したよ
うな従来の光応用測定装置には、次のような問題があ
る。すなわち、第1に、いずれの方法も、光強度を計測
し、その変化に基づいて磁界または電流の変化を求める
方法であるが、磁界または電流の変化が測定光強度の変
化に線形依存していないため、光強度に基づく磁界また
は電流の計算が複雑である。第2に、前述のような磁界
または電流の測定光強度との非線形関係から、特に、一
定の範囲の光強度においては、磁界または電流の変化と
の関係が把握し難いため、測定精度が低下する。第3
に、直接計測する物理的変量が光強度であるため、光源
やその他の原因による光強度変動の影響が直接誤差とし
て現れ、測定精度が低下する。
【0008】本発明は、上記のような従来技術の欠点を
解消するために提案されたものであり、その目的は、磁
気光学効果を利用して、磁界または電流を高精度に測定
可能な、優れた光応用測定装置を提供することである。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明は、以上の目的を
達成するために、磁気光学効果を利用して、対象とする
対象物理的変量(磁界または電流)を測定する光応用測
定装置として、特に、ヘテロダイン干渉法を用いて対象
物理的変量(磁界または電流)に応じた光路長の変化を
計測する装置を提案するものである。
【0010】まず、請求項1に記載の装置は、2波長光
源、参照光路、測定光路、光検出手段、および位相変化
検出手段を有する。このうち、2波長光源は、異なる2
つの波長の光を発する手段である。参照光路は、2波長
光源から発せられた第1の波長の光が、対象物理的変量
(磁界または電流)による光路長の変化を生じることな
く通過するように構成される。測定光路は、磁気光学媒
質を含み、2波長光源から発せられた第2の波長の光が
この磁気光学媒質内を透過するように構成される。光検
出手段は、参照光路を通過した参照光と測定光路の磁気
光学媒質を透過した測定光という2光波の干渉光を光電
変換してビート信号を得る手段である。位相変化検出手
段は、光検出手段で得られたビート信号の位相変化を検
出することにより、対象物理的変量(磁界または電流)
による光路長の変化を計測する手段である。
【0011】また、請求項2に記載の装置は、請求項1
の装置の構成に加えて、測定光路が、磁気光学媒質内を
往復する光路を含むことを特徴としている。
【0012】一方、請求項3に記載の装置は、2波長光
源、2つの光路、光検出手段、および位相変化検出手段
を有する。このうち、2波長光源は、異なる2つの波長
の光を発する手段である。2つの光路は、磁気光学媒質
を含み、2波長光源から発せられた2つの波長の光がこ
の磁気光学媒質内を双方向にそれぞれ透過するように構
成される。光検出手段は、2つの光路を通過した2光波
の干渉光を光電変換してビート信号を得る手段である。
位相変化検出手段は、光検出手段で得られたビート信号
の位相変化を検出することにより、対象物理的変量(磁
界または電流)による光路長の変化を計測する手段であ
る。
【0013】
【作用】以上のような構成を有する本発明によれば、次
のような作用が得られる。
【0014】まず、請求項1に記載の装置において、2
波長光源から2つの波長の光が発せられると、第1の波
長の光は、磁界または電流による光路長の変化のない参
照光路を通過して参照光となり、第2の波長の光は、測
定光路の磁気光学媒質を透過して測定光となる。この場
合、測定光路の光路長は、磁界または電流に応じて変化
する。続いて、光検出手段により、このような参照光と
測定光という2光波の干渉光を光電変換してビート信号
を得た後、位相変化検出手段によって、ビート信号の位
相変化を検出することにより、磁界または電流による測
定光路の光路長の変化を計測することができる。
【0015】このように、請求項1の装置において、磁
界または電流に応じた測定光路の光路長の変化は、ヘテ
ロダイン干渉法によって、ビート信号の位相変化として
計測される。この場合、磁界または電流の変化は、ビー
ト信号の位相変化に比例(線形依存)するため、光強度
を測定する従来装置に比べて、特別な計算処理を行う必
要がなくなるとともに、磁界または電流の変化の測定精
度が向上する。そしてまた、この装置の測定精度は、2
波長光源の波長安定度のみに依存し、2波長光源やその
他の原因による光強度変動の影響をほとんど受けないた
め、この点からも測定精度が向上する。
【0016】また、請求項2に記載の装置においては、
請求項1の装置の作用に加えて、さらに、次のような作
用が得られる。すなわち、測定光が磁気光学媒質内を往
復することにより、磁界または電流以外の旋光の影響に
よる位相変化を相殺することができるため、測定精度が
さらに向上する。
【0017】一方、請求項3に記載の装置において、2
波長光源から2つの波長の光が発せられると、この2つ
の波長の光は、磁気光学媒質内を双方向に透過する。続
いて、光検出手段により、このように磁気光学媒質内を
双方向に透過した2光波の干渉光を光電変換してビート
信号を得た後、位相変化検出手段によって、ビート信号
の位相変化を検出することにより、磁界または電流によ
る測定光路の光路長の変化を計測することができる。
【0018】したがって、この請求項3の装置において
も、請求項1の装置と同様に、磁界または電流に応じた
測定光路の光路長の変化は、ヘテロダイン干渉法によっ
て、ビート信号の位相変化として計測されるため、前述
したように、光強度に基づく従来方法に比べて、特別な
計算処理を行う必要がなくなるとともに、磁界または電
流の変化の測定精度が向上する。その上、この装置にお
いては、磁気光学媒質内を双方向に透過した2光波の干
渉光の位相変化を検出することにより、磁界または電流
以外の影響による位相変化を相殺することができるた
め、測定精度がさらに向上する。
【0019】
【実施例】以下には、本発明による複数の実施例を図1
〜4を参照して説明する。なお、図5および図6に示し
た従来例と同一部分には、同一の符号を付し、説明は省
略する。
【0020】(1)第1実施例 図1は、請求項1に記載の光応用測定装置の一実施例を
示す原理図である。この装置は、図1に示すように、2
波長光源21、参照光路11、磁界中に配置された磁気
光学媒質1を含む測定光路12、光検出器5、および位
相変化検出回路22から構成されており、それぞれ、本
発明の2波長光源、参照光路、測定光路、光検出手段、
および移送変化検出手段に相当する。
【0021】図2は、図1の光応用測定装置の具体的な
構成を示す構成図である。この装置において、2波長光
源21は、単一波長のコヒーレント光源7と光周波数シ
フタ23によって構成されている。また、光周波数シフ
タ23の出射側には、2波長の光を分離して参照光路1
1と測定光路12を形成する偏光ビームスプリッタ4が
配置されている。そして、測定光路12の磁気光学媒質
1の入射側と出射側には、λ/4板24a,24bがそ
れぞれ配置されており、出射側のλ/4板24bの光路
前方には、参照光路11と測定光路12を通過した光を
干渉させるビームコンバイナ9が設けられている。さら
に、このビームコンバイナ9と光検出器5の間には、偏
光子3と光検出器5が順次配置され、光検出器5で得ら
れたビート信号が位相変化検出回路22に入力されるよ
うに構成されている。
【0022】そして、この装置を使用して磁界または電
流を測定する場合には、まず、2波長光源21から、周
波数ωとω+Δωという2つの波長の光を発する。より
詳細には、コヒーレント光源7から単一波長の光を発
し、光周波数シフタ23によって周波数ωとω+Δωと
いう互いに直交する2波長の光に分離する。そして、こ
の2波長の光を、偏光ビームスプリッタ4によって分離
し、参照光および測定光として参照光路11と測定光路
12にそれぞれ入射する。
【0023】この後、周波数ωの参照光は、磁界や電流
に影響されることなく参照光路11を通過する。また、
周波数ω+Δωの測定光は、測定光路12に入射し、磁
気光学媒質1を透過する。ここで、磁気光学媒質1は、
磁界または電流によって円偏光に対する光路長が変化す
るため、測定光路12に入射した測定光は、まずλ/4
板24aによって直線偏光から円偏光に変換され、この
円偏光が、磁気光学媒質1を透過し、磁界の強さに応じ
てファラデー回転する。
【0024】そして、このようにファラデー回転した測
定光は、λ/4板24bによって再び円偏光から直線偏
光に変換され、ビームコンバイナ9によって参照光路1
1を通過した参照光と重ね合わされ、偏光子3を透過し
てヘテロダイン干渉光として光検出器5に入射する。こ
の場合、検出光は2波長の差周波Δωのビート光であ
り、正弦波のビート信号として検出される。このビート
信号の正弦波の位相は、磁気光学媒質1内の光路長が磁
界または電流によって変化した場合に、磁界の強さまた
は電流の大きさに応じて変化する。そのため、この検出
信号を位相変化検出回路22に入力し、この位相変化検
出回路22によって位相変化量を検出することにより、
磁界または電流に応じた測定光路の光路長の変化を計測
することができる。
【0025】このように、本実施例において、磁界また
は電流に応じて測定光路の光路長の変化は、ヘテロダイ
ン干渉法によって、ビート信号の位相変化として計測さ
れる。この場合、磁界または電流の変化は、ビート信号
の位相変化に比例(線形依存)するため、位相変化に比
例する変量として容易に得られる。その結果、磁界また
は電流の変化が線形依存していない光強度を直接測定し
ていた従来装置に比べて、特別な計算処理を行う必要が
なくなる。これに関連して、磁界または電流の変化との
関係が把握し難いような一定の範囲も存在しないため、
磁界または電流の変化の測定精度が向上するという効果
も得られる。そしてまた、この装置の測定精度は、2波
長光源21の波長安定度のみに依存し、2波長光源21
やその他の原因による光強度変動の影響をほとんど受け
ないため、この点からも測定精度が向上する。したがっ
て、本実施例においては、磁界または電流を高精度に測
定可能な、優れた光応用測定装置を提供することができ
る。
【0026】(2)第2実施例 図3は、請求項2に記載の光応用測定装置の一実施例を
示す構成図である。この装置において、2波長光源21
は、前記第1実施例と同様に、単一波長のコヒーレント
光源7と光周波数シフタ23によって構成されている。
また、光周波数シフタ23の出射側には、2波長の光を
分離して参照光路11と測定光路12を形成する偏光ビ
ームスプリッタ4が配置されている。そして、測定光路
12には、λ/4板24a、磁気光学媒質1、および反
射鏡25aが順次配置されており、偏光ビームスプリッ
タ4からの測定光が、λ/4板24aと磁気光学媒質1
を介して反射鏡25aに達する往路と、この反射鏡25
aで反射して、磁気光学媒質1とλ/4板24aを介し
て偏光ビームスプリッタ4に戻る復路とからなる往復の
光路が形成されている。同様に、参照光路11側につい
ても、λ/4板24bおよび反射鏡25bが順次配置さ
れており、往復の光路が形成されている。なお、この部
分以外については、前記第1実施例と同様に構成されて
いる。
【0027】このように構成された本実施例の装置にお
いて、偏光ビームスプリッタ4からの測定光は、まず、
λ/4板24aによって直線偏光から円偏光に変換さ
れ、この円偏光が、磁気光学媒質1を透過し、磁界の強
さに応じてファラデー回転する。そして、このようにフ
ァラデー回転した測定光は、反射鏡25aで反射した
後、再び磁気光学媒質1を透過し、磁界の強さに応じて
ファラデー回転する。この後、測定光は、λ/4板24
aによって再び円偏光から直線偏光に変換され、偏光ビ
ームスプリッタ4に戻される。一方、偏光ビームスプリ
ッタ4からの参照光は、まず、λ/4板24bによって
直線偏光から円偏光に変換され、反射鏡25bで反射し
た後、λ/4板24bによって再び円偏光から直線偏光
に変換され、偏光ビームスプリッタ4に戻され、測定光
と重ね合わされる。なお、この後の処理は、前述した第
1実施例と同様である。
【0028】このように、本実施例においては、測定光
が、磁気光学媒質1内を往復するため、磁界または電流
以外の旋光の影響による位相変化を相殺することができ
る。したがって、前記第1実施例に比べて、誤差をさら
に低減し、磁界または電流の変化の測定精度をさらに向
上することができる。
【0029】(3)第3実施例 図4は、請求項3に記載の光応用測定装置の一実施例を
示す構成図である。この装置において、2波長光源21
は、前記第1、第2実施例と同様に、単一波長のコヒー
レント光源7と光周波数シフタ23によって構成されて
いる。また、光周波数シフタ23の出射側には、ビーム
スプリッタ8と偏光ビームスプリッタ4が順次配置され
ている。偏光ビームスプリッタ4は、2波長の光を分離
して、2つのλ/4板24a,24bにそれぞれ入射さ
せ、左回り光路と右回り光路を形成している。すなわ
ち、この偏光ビームスプリッタ4と2つのλ/4板24
a,24b、および磁気光学媒質1によって一つのルー
プ状の光路が形成されており、磁気光学媒質1を双方向
に透過する2つの光路が形成されている。なお、この部
分以外については、前記第1、第2実施例と同様に構成
されている。
【0030】このように構成された本実施例の装置にお
いて、偏光ビームスプリッタ4からの2つの波長の光
は、λ/4板24aとλ/4板24bにそれぞれ入射
し、磁気光学媒質1内を双方向に透過した後、反対側の
λ/4板24bとλ/4板24aを介して、再び偏光ビ
ームスプリッタ4に戻り、重ね合わされる。なお、この
後の処理は、前述した第1、第2実施例と同様である。
【0031】このように、本実施例においては、磁気光
学媒質1内を双方向に透過した2光波の干渉光の位相変
化を検出するため、磁界または電流以外の影響による位
相変化を相殺することができる。したがって、前記第1
実施例に比べて、誤差をさらに低減し、磁界または電流
の変化の測定精度をさらに向上することができる。
【0032】(4)他の実施例 なお、本発明は、前記各実施例に限定されるものではな
く、例えば、光源や各光路、光検出手段、位相変化検出
手段などの具体的な配置構成は自由に選択可能である。
【0033】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
ヘテロダイン干渉法を用いて、磁界または電流を高精度
に測定可能な、優れた光応用測定装置を提供することが
できる。
【0034】すなわち、請求項1の発明によれば、磁界
または電流の影響を受けない参照光路と磁気光学媒質を
含む測定光路とをそれぞれ通過した2つの波長の光を干
渉させ、その位相変化を検出することにより、測定精度
を向上することができる。
【0035】また、請求項2の発明によれば、磁気光学
媒質内を往復した測定光を参照光と干渉させることによ
り、請求項1の発明の効果に加えて、磁界または電流以
外の旋光の影響を除去することができるため、誤差を低
減し、測定精度をさらに向上することができる。
【0036】さらに、請求項3の発明によれば、磁気光
学媒質内を双方向に透過した2光波の干渉光の位相変化
を検出することにより、請求項1の発明の効果に加え
て、磁界または電流以外の影響を除去することができる
ため、誤差を低減し、測定精度をさらに向上することが
できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明による光応用測定装置の第1実施例を示
す原理図。
【図2】図1の光応用測定装置の具体的な構成を示す構
成図。
【図3】本発明による光応用測定装置の第2実施例を示
す構成図。
【図4】本発明による光応用測定装置の第3実施例を示
す構成図。
【図5】ファラデー効果を利用した従来の光応用測定装
置の一例を示す構成図。
【図6】干渉法を利用した従来の光応用測定装置の一例
を示す構成図。
【符号の説明】
1…磁気光学媒質 2…光源 3…偏光子 4…偏光ビームスプリッタ 5,5a,5b…光検出器 6…偏波面回転角検出回路 7…コヒーレント光源 8…ビームスプリッタ 9…ビームコンバイナ 10…位相差検出回路 11…参照光路 12…測定光路 21…2波長光源 22…位相変化検出回路 23…光周波数シフタ 24a,24b…λ/4板 25a,25b…反射鏡

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 磁気光学効果を利用して対象とする対象
    物理的変量を測定する光応用測定装置において、 異なる2つの波長の光を発する2波長光源と、 前記2波長光源から発せられた第1の波長の光が、前記
    対象物理的変量による光路長の変化を生じることなく通
    過するように構成された参照光路と、 磁気光学媒質を含み、前記2波長光源から発せられた第
    2の波長の光がこの磁気光学媒質内を透過するように構
    成された測定光路と、 前記参照光路を通過した参照光と前記測定光路の磁気光
    学媒質を透過した測定光という2光波の干渉光を光電変
    換してビート信号を得る光検出手段と、 前記光検出手段で得られたビート信号の位相変化を検出
    することにより、前記対象物理的変量による光路長の変
    化を計測する位相変化検出手段とを備えたことを特徴と
    する光応用測定装置。
  2. 【請求項2】 前記測定光路が、前記磁気光学媒質内を
    往復する光路を含むことを特徴とする請求項1記載の光
    応用測定装置。
  3. 【請求項3】 磁気光学効果を利用して対象とする対象
    物理的変量を測定する光応用測定装置において、 異なる2つの波長の光を発する2波長光源と、 磁気光学媒質を含み、前記2波長光源から発せられた2
    つの波長の光がこの磁気光学媒質内を双方向にそれぞれ
    透過するように構成された2つの光路と、 前記2つの光路を通過した2光波の干渉光を光電変換し
    てビート信号を得る光検出手段と、 前記光検出手段で得られたビート信号の位相変化を検出
    することにより、前記対象物理的変量による光路長の変
    化を計測する位相変化検出手段とを備えたことを特徴と
    する光応用測定装置。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101841721B1 (ko) * 2016-11-10 2018-05-08 옵토파워주식회사 광을 이용한 전류 측정장치
CN119880816A (zh) * 2025-01-16 2025-04-25 清华大学 一种适用于磁光光谱测试中法拉第旋光效应的校正方法和装置

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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KR101841721B1 (ko) * 2016-11-10 2018-05-08 옵토파워주식회사 광을 이용한 전류 측정장치
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