JPH0718247U - パーティキュレート測定装置 - Google Patents
パーティキュレート測定装置Info
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Landscapes
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- Sampling And Sample Adjustment (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 指向性がよく温度管理が容易な加熱系統を備
えたコスト安なパーティキュレート測定装置を提供す
る。 【構成】 CO2 レーザ1から射出された光束を、ビー
ムスプリッタ3を介して二方向に分光させ、その一方
を、送り移動されるフィルタ13上のパーティキュレート
捕集前の位置に設定されたプリベイク位置4に対して、
また、その他方を、前記フィルタ13上に捕集したパーテ
ィキュレートPを燃焼させる燃焼位置5に対して、それ
ぞれ照射させる。
えたコスト安なパーティキュレート測定装置を提供す
る。 【構成】 CO2 レーザ1から射出された光束を、ビー
ムスプリッタ3を介して二方向に分光させ、その一方
を、送り移動されるフィルタ13上のパーティキュレート
捕集前の位置に設定されたプリベイク位置4に対して、
また、その他方を、前記フィルタ13上に捕集したパーテ
ィキュレートPを燃焼させる燃焼位置5に対して、それ
ぞれ照射させる。
Description
【0001】
本考案はディーゼルエンジンからの排気ガス中に含まれているパーティキュレ ートを定量分析するための測定装置に関する。
【0002】
送り移動されるフィルタ上にパーティキュレートを捕集してこれを燃焼室内に 導入し、その天井部に開設した光学窓から輻射熱をそのパーティキュレートに照 射させることによって燃焼させ、その燃焼ガスを分析計に導入して定量分析をお こなうようにしたパーティキュレート測定装置では、パーティキュレートを捕集 する前にフィルタに付着している水分や埃等の異物を予め除去するためのプリベ イクが必要であり、赤外線スポットヒータ等によって捕集面積よりも広い範囲に わたり、燃焼室よりも高い温度でフィルタを加熱していた。
【0003】 一方、燃焼室での燃焼用としては、パーティキュレートをスポット的に燃焼さ せる必要があって、指向性の高いCO2 レーザを加熱源として用い、1000℃ 程度に加熱していた。
【0004】
しかるに、赤外線スポットヒータでは、指向性に難点があり、プリベイクエリ アが広くなりすぎる傾向があった。
【0005】 また、加熱源を2つ用いているため、温度管理が煩瑣であり、かつ装置がコス ト高になるという難点もあった。
【0006】 本考案はこのような実情に鑑みてなされ、指向性がよく温度管理が容易な加熱 系統を備えたコスト安なパーティキュレート測定装置を提供することを目的とし ている。
【0007】
本考案は上述の課題を解決するための手段を以下のように構成している。 すなわち、CO2 レーザから射出された光束が、ビームスプリッタを介して二 方向に分光され、その一方が、送り移動されるフィルタ上のパーティキュレート 捕集前の位置に設定されたプリベイク位置に対して、また、その他方が、前記フ ィルタ上に捕集したパーティキュレートを燃焼させる燃焼位置に対して、それぞ れ照射されることを特徴としている。
【0008】
指向性の高いCO2 レーザを加熱源としているため、プリベイク位置に対して も適正なプリベイクエリアの設定ができる。
【0009】 また、ビームスプリッタにより、単一のCO2 レーザからプリベイク位置と燃 焼位置とに適正な比率で光束を分光させることができ温度管理が容易である。
【0010】
以下に本考案のパーティキュレート測定装置の実施例を図面に基づいて詳細に 説明する。 図2はパーティキュレート測定装置の全体構成を示し、11はディーゼルエンジ ンを搭載した自動車、12はディーゼルエンジンからの排気ガスをエアで希釈して 一定流量を流過させるダイリューショントンネル(以下DLTという)、14はそ のDLT12の下流部に配置されるエジェクター、15はそのエジェクター14を介し て抽出したサンプルガスをテープ状フィルタ13の上に吹き付けるためのサンプル 排出ライン、17はエアフィルタ、18はCVS(Constant Volume Sampler )であ る。
【0011】 パーティキュレートを捕集するためのテープ状フィルタ13は、例えば石英繊維 からなり、ローダ側ローラ19から一定速度で繰り出されてアンローダ側ローラ20 に巻き取られ、その間に、まず、プリベイク位置4でフィルタ13に付着している 水分や埃等の異物を予め加熱燃焼させるプリベイクがおこなわれ、次いで、サン プル排出ライン15から吹き付けられたサンプルガス中のパーティキュレートPを その表面に付着させるために周囲をシールし、かつポンプ21でサンプルガスを吸 引排出させるようにした空室22と、捕集されたパーティキュレートP以外の物質 や水分を除去するためにパージガスを吹き付けるためのパージ部23と、テープ状 フィルタ13をCO2 レーザよりなる加熱源1により加熱するための燃焼炉2とを 通るようになっている。なお、図2中、符号22aはシールガスの導入口である。
【0012】 そして、図1に示すように、上述の燃焼炉2で生成された燃焼ガスが酸化触媒 24、定流量サンプリング装置25を介してポンプ26で吸引され、例えば非分散型赤 外線ガス分析計(以下NDIRという)27に導入されてCO2 ,H2 O,SO2 等の燃焼ガスの成分が検出され、その検出値がプリアンプ28,29,30で増幅され た後演算回路31に入力され、HC,C,Sの重量が求められるようになっている 。
【0013】 上述の加熱系統について説明すると、CO2 レーザ1より射出された光束が、 ビームスプリッタ3を介して二方向に分光され、その一方が固定ミラー6、レン ズ7を介して、送り移動されるテープ状フィルタ13上のパーティキュレート捕集 前の位置に設定されたプリベイク位置4に対して、また、その他方が、レンズ8 を介して、前記テープ状フィルタ13上に捕集したパーティキュレートPを燃焼さ せる燃焼位置5に対して、それぞれ集束照射されるようになっている。つまり、 単一のCO2 レーザ1でプリベイク位置4と燃焼炉2内の燃焼位置5とを加熱さ せることができる。
【0014】 CO2 レーザ1は指向性がきわめて良好であり、かつビームスプリッタ3で分 光比率を適宜に調整でき、かつレンズ7,8によって所望の径に集光させること ができるので、温度管理やプリベイクエリアの設定がきわめて容易となる。ちな みに、プリベイク位置4での照射面温度をTp 、燃焼位置5での照射面温度をT c とすればTp >Tc 、プリベイクエリアをSp ,燃焼エリアをSc とすればS p ≧Sc の関係が成立することが望ましいが、このような条件を容易かつ確実に 設定でき、正確で信頼性の高い定量分析が可能となる。
【0015】 ちなみに、上述のエジェクター14には外部からエジェクター14を駆動させるた めの供給ガスを導入するガス導入管32が接続され、エアフィルタ17を介して導入 したエアで希釈された排気ガスがエジェクター14に吸入されて一定流量でサンプ ル排出ライン15に送給されるようになっている。そして、パーティキュレートが その配管内に堆積することが少なくなり圧力損失の変化が少なくなってサンプル ガスの流量が安定化し、かつサンプルガスをDLT12から抽出するための配管が 従来よりも格段に短くなっている。
【0016】 そのエジェクター14は、DLT12に対して充分小さく、かつ耐熱性のあるもの を採用して無理なくDLT12内に配置することができ、耐久性の良好な装置をき わめて合理的に構成することができる。また、そのエジェクター14内ではガスの 流速が速くパーティキュレートの堆積を懸念するには及ばない点もサンプルガス の流量安定化に大きく寄与している。
【0017】
以上説明したように、本考案のパーティキュレート測定装置によれば、指向性 の高い単一のCO2 レーザから射出される光束をビームスプリッタによってプリ ベイク位置と燃焼位置とに分光させるようにしたので、プリベイク位置に対して 適正なプリベイクエリアを設定することができる。また、ビームスプリッタによ って分光比率の設定が容易であるので、温度管理が容易・確実なものとなり、信 頼性の高い定量分析が可能となる。
【図1】本考案のパーティキュレート測定装置の一実施
例を示す要部構成図である。
例を示す要部構成図である。
【図2】同パーティキュレート測定装置の全体構成図で
ある。
ある。
1…CO2 レーザ、3…ビームスプリッタ、4…プリベ
イク位置、5…燃焼位置、13…フィルタ。
イク位置、5…燃焼位置、13…フィルタ。
Claims (1)
- 【請求項1】 CO2 レーザから射出された光束が、ビ
ームスプリッタを介して二方向に分光され、その一方
が、送り移動されるフィルタ上のパーティキュレート捕
集前の位置に設定されたプリベイク位置に対して、ま
た、その他方が、前記フィルタ上に捕集したパーティキ
ュレートを燃焼させる燃焼位置に対して、それぞれ照射
されることを特徴とするパーティキュレート測定装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5418293U JP2591721Y2 (ja) | 1993-09-11 | 1993-09-11 | パーティキュレート測定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5418293U JP2591721Y2 (ja) | 1993-09-11 | 1993-09-11 | パーティキュレート測定装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0718247U true JPH0718247U (ja) | 1995-03-31 |
| JP2591721Y2 JP2591721Y2 (ja) | 1999-03-10 |
Family
ID=12963410
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5418293U Expired - Fee Related JP2591721Y2 (ja) | 1993-09-11 | 1993-09-11 | パーティキュレート測定装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2591721Y2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5517642U (ja) * | 1978-07-17 | 1980-02-04 | ||
| JP2006162343A (ja) * | 2004-12-03 | 2006-06-22 | Kimoto Denshi Kogyo Kk | 浮遊粒子状物質の測定装置 |
| JP2014163906A (ja) * | 2013-02-27 | 2014-09-08 | Hitachi Ltd | 微粒子分析装置 |
-
1993
- 1993-09-11 JP JP5418293U patent/JP2591721Y2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5517642U (ja) * | 1978-07-17 | 1980-02-04 | ||
| JP2006162343A (ja) * | 2004-12-03 | 2006-06-22 | Kimoto Denshi Kogyo Kk | 浮遊粒子状物質の測定装置 |
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2591721Y2 (ja) | 1999-03-10 |
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Legal Events
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