JPH0719037Y2 - 電子線照射装置 - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 （産業上の利用分野） この考案は電子線照射装置に関する。

（従来の技術） 周知のように電子線照射装置は、電子線照射源を内蔵す
る真空室と、電子線が照射される被処理物が通過する照
射室とによって、主として構成されている。

照射室の内部には、ガスによって駆動される各種のロー
ター、アクチュエーター、シリンダーなどの駆動機器が
設置され、使用されている。従来ではこの種駆動機器の
駆動源に空気を使用するのを普通としていた。

前記駆動機器への空気の供給を制御するのに、制御機器
たとえば電磁弁の使用を必要とする。しかし電磁弁には
排気があるため、これを照射室の内部に設置することは
できず、従来ではこれを照射室の外部に設置する必要が
あった。

（考案が解決しようとする課題） このように電磁弁を照射室の外部に設置するときは、照
射室の外部の配管が複雑となるし、またその配管の数が
増えることによって、照射室の壁部に配管を貫通させる
ための貫通孔も多く形成しなければならない。したがっ
てその工事が面倒となるし、またガスの漏洩の点でも問
題となる。

この考案は照射室の外部における配管の簡素化と、配管
貫通用の孔の数を少なくすることを目的とする。

（課題を解決するための手段） この考案は照射室の内部の機器類を駆動するための駆動
機器の駆動ガスを、照射室と同じ雰囲気ガスと同じ不活
性ガスとするとともに、駆動機器および駆動機器への不
活性ガスの供給を制御する制御機器を照射室の内部に設
置したことを特徴とする。

（作用） 駆動機器の駆動ガスを、照射室内部の雰囲気と同じ不活
性ガスとしたので、制御機器から排気される不活性ガス
を、照射室の内部に排出することができる。

そして制御機器を駆動機器とともに照射室の内部に設置
したので、外部と制御機器との間には不活性ガスの供給
用の配管だけでよいことになる。したがって照射室の壁
部の配管貫通用の貫通孔だけが必要となり、排気のため
の配管用貫通孔は不要となる。

駆動機器と制御機器との間の配管は、照射室の内部に配
置されるようになるので、外部での配管は簡素化され
る。

（実施例） この考案の実施例を図によって説明する。図の実施例
は、ウェブ処理とバッチ処理との両方が可能となるよう
に照射室を構成した場合に、ウェブ処理の際に使用する
ロールを上下させるのに使用するシリンダーについてこ
の考案を適用した場合を示す。

図において、１は電子線照射源２を内蔵する真空室、３
は電子線照射源２からの電子線が照射される被処理物が
通過する照射室である。照射室３の両側には予備室４が
配置されてあり、そこにはバッチ処理の際に、トレーを
搬送するコンベア５が配置されてある。６はトレーの出
入口を開閉する扉である。なお図では左側の予備室は省
略してある。

照射室３の内部には、バッチ処理の際に使用するコンベ
ア７が設置されており、図示しない駆動源によって矢印
方向に駆動されるようになっている。コンベア７にはト
レーが載せられ、そのトレーに被処理物が載せられて搬
送される。その搬送の過程で電子線が照射される。

別にウェブ処理に兼用する構成とするために、ウェブ８
が添接するロール９を配置する。ロール９は上下方向に
揺動自在とされている。

そのためにウェブ８の幅方向に沿って延びる支点軸10を
用意し、その両端に揺動金具11を固定する。揺動金具11
はシリンダー12に連結されてあり、このシリンダー12に
よって支点軸10の軸心を中心として揺動される。この揺
動によって支点軸10も回転する。

揺動金具11にロール９が回転自在に支持されている。ロ
ール９は対となっているコンベア７の間隔よりも狭い長
さとされている。揺動金具11が上方に揺動されたとき、
ロール９はコンベア７より上部にまで移動されるように
されている。これによってロール９に添接するウェブ８
と、コンベア７に載せられるトレー上の被処理物とは、
電子線照射源２から等距離に位置するようになる。

また揺動金具11が下方に揺動されたとき、ロール９は第
２図中鎖線で示すように、コンベア７より下部にまで移
動されるようになされている。これによってバッチ処理
時のコンベア７の移動路から外れるので、バッチ処理の
際にはなんら邪魔にならない。

ロール９の揺動に追従して遮蔽板13も上下方向に移動す
るようにしてある。そしてロール９が上方に移動された
とき、遮蔽板13も上方に移動し、別の遮蔽板15との協同
作用によりＸ線を遮蔽し、外部に洩れて出ていくのを阻
止する。ウェブ８は両遮蔽板13,15間の隙間を通過して
いく。ロール９を下方に移動させると、これに追従して
遮蔽板13も下方に移動する。

なお図中16は遮蔽板、17はガイド用のロール、18は不活
性ガス供給口である。

この考案にしたがい、シリンダー12の駆動ガスとして、
照射室３内の雰囲気と同じ不活性ガス（たとえばN₂ガ
ス）を使用する。そしてこのシリンダー12へのガス供給
のための制御機器、すかわち三方切替用の弁（電磁弁）
20も、照射室３の内部に設置する。21はシリンダー12へ
のガスの給排気管である。

各弁20の排気管22は照射室３内で開口している。したが
って排気は照射室３内で行なわれる。23はガス供給管
で、これは照射室３の壁部を貫通して照射室３の内外に
またがって配管される。

第３図は従来構成の例を示し、冒頭に述べたように、弁
20は照射室３の外部に設置されている。そのため少なく
とも２本の給排気管23が、照射室３の壁部を貫通しなけ
ればならない。

これに対し、第１図、第２図に示す構成では、１本の給
排気管23が、照射室３の壁部を貫通するだけでよいこと
になる。また照射室３外部における配管も、第３図に比
較して簡素化される。

以上の例はガス駆動機器としてシリンダーを挙げて説明
したが、これに限られるものではなく、照射室３の内部
に設置される別のガス駆動機器について適用されること
はいうまでもない。また対象のガス駆動機器が多数にわ
たるときは、ガス供給管を共通に使用するようにしても
よい。

（考案の効果） 以上詳述したようにこの考案によれば、ガス駆動機器の
駆動のための配管にあたり、照射室の壁部を貫通する配
管の数を少なくすることができるとともに、照射室外部
における配管の簡素化が可能となるといった効果を奏す
る。

【図面の簡単な説明】 第１図はこの考案の実施例を示す正面図、第２図は第１
図の部分拡大正面図、第３図は従来例の部分拡大正面図
である。 １……真空室、２……電子線照射源、３……照射室、12
……駆動機器（シリンダー）、20……制御機器（弁）、

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 【請求項１】電子線照射源を内蔵する真空室と、電子線
   を被処理物に照射する照射室とを備えてなる電子線照射
   装置において、 前記照射室の内部の機器類を駆動するための駆動機器の
   駆動ガスを、前記照射室の雰囲気ガスと同じ不活性ガス
   とするとともに、前記駆動機器および前記駆動機器への
   不活性ガスの供給を制御する制御機器を前記照射室の内
   部に設置してなる電子線照射装置。