JPH0227645A - 電子線照射装置 - Google Patents
電子線照射装置Info
- Publication number
- JPH0227645A JPH0227645A JP63178600A JP17860088A JPH0227645A JP H0227645 A JPH0227645 A JP H0227645A JP 63178600 A JP63178600 A JP 63178600A JP 17860088 A JP17860088 A JP 17860088A JP H0227645 A JPH0227645 A JP H0227645A
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- JP
- Japan
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- roll
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- conveyor
- electron beam
- shielding plate
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- Pending
Links
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 title claims description 20
- 230000005855 radiation Effects 0.000 title 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 9
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 8
- 238000010923 batch production Methods 0.000 abstract 3
- 230000000414 obstructive effect Effects 0.000 abstract 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000003672 processing method Methods 0.000 description 2
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
この発明は電子線照射装置に関する。
(従来の技wI)
周知のように電子線照射装置は、電子線照射源を内蔵す
る真空チャンバと、電子線が照射される被処理物が通過
する照射チャンバとによって、主として構成されている
。
る真空チャンバと、電子線が照射される被処理物が通過
する照射チャンバとによって、主として構成されている
。
ところで電子線の照射処理において、バッチ処理とウェ
ブ処理との2種の処理方法がある。バッチ処理は被処理
物が単体である場合に主として利用される。これは照射
チャンバ内に設置されているコンベアにトレーを設け、
このトレーに被処理物を載せて搬送するようにしたもの
で、その搬送の過程で電子線を照射する。
ブ処理との2種の処理方法がある。バッチ処理は被処理
物が単体である場合に主として利用される。これは照射
チャンバ内に設置されているコンベアにトレーを設け、
このトレーに被処理物を載せて搬送するようにしたもの
で、その搬送の過程で電子線を照射する。
この処理のためには照射チャンバの両サイドに予備室を
設け、各予備室の内部にコンベアを設置し、このコンベ
アを利用して被処理物を照射チャンバ内に運び込み、お
よび照射された被処理物を照射チャンバ内より、外部に
搬出するようにしている。
設け、各予備室の内部にコンベアを設置し、このコンベ
アを利用して被処理物を照射チャンバ内に運び込み、お
よび照射された被処理物を照射チャンバ内より、外部に
搬出するようにしている。
ウェブ処理は被処理物がシート、鋼板のように連続する
ウェブを処理する場合に主として利用される。これは照
射チャンバ内を連続して通過させ、その過程で電子線を
照射する。
ウェブを処理する場合に主として利用される。これは照
射チャンバ内を連続して通過させ、その過程で電子線を
照射する。
そのためには照射チャンバの内部に、ウェブを搬送する
際にガイドするのに利用するロールを設置し、これにウ
ェブを添接させながら連続して搬送させ、その過程で電
子線を照射すればよい。
際にガイドするのに利用するロールを設置し、これにウ
ェブを添接させながら連続して搬送させ、その過程で電
子線を照射すればよい。
従来ではバッチ、ウェブ両処理方法が相違するので、そ
の照射装置も各処理のための専用のものを利用していた
が、最近に至って両処理に兼用可能な照射装置が要望さ
れるようになった。
の照射装置も各処理のための専用のものを利用していた
が、最近に至って両処理に兼用可能な照射装置が要望さ
れるようになった。
そのためにはバッチ処理用の照射装置に、ウェブ処理に
必要なロールを設置すれば良い。
必要なロールを設置すれば良い。
(発明が解決しようとする問題点)
しかしコンベアによって送られるトレーの上に載せられ
る被処理物と、ロールに添接する被処理物とは、電子線
源からみて同じ距離を隔てていることが必要である。そ
のためにコンベアよりもロールを高い位置に設置しなけ
ればならない、しかしそのような高い位置に設置すると
、トレーの搬送に邪魔な存在になってしまう。
る被処理物と、ロールに添接する被処理物とは、電子線
源からみて同じ距離を隔てていることが必要である。そ
のためにコンベアよりもロールを高い位置に設置しなけ
ればならない、しかしそのような高い位置に設置すると
、トレーの搬送に邪魔な存在になってしまう。
またウェブ処理の際にウェブが照射チャンバに搬入、搬
出されるためにはその通過のためのスリットを形成する
必要がある。ところがこのようなスリットを形成すると
、照射チャンバ内に発生したX線がこのスリットを通っ
て外部に洩れてしまう恐れがある。
出されるためにはその通過のためのスリットを形成する
必要がある。ところがこのようなスリットを形成すると
、照射チャンバ内に発生したX線がこのスリットを通っ
て外部に洩れてしまう恐れがある。
これを回避するには、X線を遮蔽する遮蔽板をウェブの
搬送通路に沿って設置すればよいが、このような位置に
設置される遮蔽板は、バッチ処理の際にトレーの搬送を
邪魔するようになって、都合が悪い。
搬送通路に沿って設置すればよいが、このような位置に
設置される遮蔽板は、バッチ処理の際にトレーの搬送を
邪魔するようになって、都合が悪い。
この発明は照射チャンバを、ウェブ、バッチの両処理に
兼用するにあたり、ロール、遮蔽板の存在がバッチ処理
の際に、なんら邪魔な存在とならないようにすることを
目的とする。
兼用するにあたり、ロール、遮蔽板の存在がバッチ処理
の際に、なんら邪魔な存在とならないようにすることを
目的とする。
(問題点を解決するための手段)
この発明はウェブの幅方向に沿って延びる支点軸を設け
、この支点軸に支持されている金具によって、ウェブ搬
送用のロールを回転自在に支持するとともに、この金具
を支点軸を中心として揺動自在とし、その揺動によって
ロールを、バッチ処理用のコンベアをはさんでその上下
の位置に選択的に位置づけ自在とし、またX線遮蔽用の
遮蔽板を、ロールの揺動に追従して、ウェブ処理時の遮
蔽位置からコンベアより下方の位置まで移動させるよう
にしたことを特徴とする。
、この支点軸に支持されている金具によって、ウェブ搬
送用のロールを回転自在に支持するとともに、この金具
を支点軸を中心として揺動自在とし、その揺動によって
ロールを、バッチ処理用のコンベアをはさんでその上下
の位置に選択的に位置づけ自在とし、またX線遮蔽用の
遮蔽板を、ロールの揺動に追従して、ウェブ処理時の遮
蔽位置からコンベアより下方の位置まで移動させるよう
にしたことを特徴とする。
(作用)
ウェブ処理の際には、ロールはコンベアより上方にあり
、したがってウェブはロールに添接して搬送されるよう
になる。そしてそのときは遮蔽板も上方にあり、この位
置でX線が洩れて出ていくのを阻止している。
、したがってウェブはロールに添接して搬送されるよう
になる。そしてそのときは遮蔽板も上方にあり、この位
置でX線が洩れて出ていくのを阻止している。
バッチ処理を行なうときは、ロールはコンベアより下方
に移動される。この移動によってコンベアに載せられる
トレーの搬送の際には、なんら邪魔な存在とはならない
、この移動に追従して遮蔽板も下方に移動する。
に移動される。この移動によってコンベアに載せられる
トレーの搬送の際には、なんら邪魔な存在とはならない
、この移動に追従して遮蔽板も下方に移動する。
(実施例)
この発明の実施例を図によって説明する。1は電子線照
射源2を内蔵する真空チャンバ、3は電子線照射源2か
らの電子線が照射される被処理物が通過する照射チャン
バである。照射チャンバ3の両側には予備室4が配置さ
れてあり、そこにはバッチ処理の際に、トレーを搬送す
るコンベア5が配置されである。6はトレーの出入口を
開閉する扉である。なお第1図では左側の予備室は省略
しである。
射源2を内蔵する真空チャンバ、3は電子線照射源2か
らの電子線が照射される被処理物が通過する照射チャン
バである。照射チャンバ3の両側には予備室4が配置さ
れてあり、そこにはバッチ処理の際に、トレーを搬送す
るコンベア5が配置されである。6はトレーの出入口を
開閉する扉である。なお第1図では左側の予備室は省略
しである。
照射チャンバ3の内部には、バッチ処理の際に使用する
コンベア7が設置されており、図示しない駆動源によっ
て矢印方向に駆動されるようになっている。コンベア7
にはトレーが載せられ、そのトレーに被処理物が載せら
れて搬送される。その搬送の過程で電子線が照射される
。
コンベア7が設置されており、図示しない駆動源によっ
て矢印方向に駆動されるようになっている。コンベア7
にはトレーが載せられ、そのトレーに被処理物が載せら
れて搬送される。その搬送の過程で電子線が照射される
。
以上の構成はバッチ処理のための従来の構成と特に相違
するものでない、この発明にしたがい、これをウェブ処
理に兼用する構成とするために、ウェブ8が添接するロ
ール9を設置する。ロール9は上下方向に揺動自在とさ
れている。
するものでない、この発明にしたがい、これをウェブ処
理に兼用する構成とするために、ウェブ8が添接するロ
ール9を設置する。ロール9は上下方向に揺動自在とさ
れている。
そのためにウェブ8の幅方向に沿って延びる支点軸10
を用意し、その両端に揺動金具11を固定する。揺動金
具11はシリンダ12に連結されてあり、このシリンダ
12によって支点軸10の軸心を中心として揺動される
。この揺動によって支点軸10も回転する。
を用意し、その両端に揺動金具11を固定する。揺動金
具11はシリンダ12に連結されてあり、このシリンダ
12によって支点軸10の軸心を中心として揺動される
。この揺動によって支点軸10も回転する。
揺動金具工1にロール9が回転自在に支持されている。
ロール9は対となっているコンベア7の間隔よりも狭い
長さとされている。揺動金具11が上方に揺動されたと
き、ロール9はコンベア7より上部にまで移動されるよ
うにされている。これによってロール9に添接するウェ
ブ8と、コンベア7に載せられるトレー上の被処理物と
は、電子線照射wX2から等距離に位置するようになる
。
長さとされている。揺動金具11が上方に揺動されたと
き、ロール9はコンベア7より上部にまで移動されるよ
うにされている。これによってロール9に添接するウェ
ブ8と、コンベア7に載せられるトレー上の被処理物と
は、電子線照射wX2から等距離に位置するようになる
。
また揺動金具11が下方に揺動されたとき、ロール9は
第3図中鎖線で示すように、コンベア7より下部にまで
移動されるようにされている。これによってバッチ処理
時のコンベア7の移動路から外れるので、バッチ処理の
際にはなんら邪魔にならない。
第3図中鎖線で示すように、コンベア7より下部にまで
移動されるようにされている。これによってバッチ処理
時のコンベア7の移動路から外れるので、バッチ処理の
際にはなんら邪魔にならない。
ロール9の揺動に追従して遮蔽板13も上下方向に移動
するようにしである。そのためにたとえば支点軸10に
固定されている取付金具14に。
するようにしである。そのためにたとえば支点軸10に
固定されている取付金具14に。
遮蔽板13を固定しておく。
ロール9が上方に移動されたとき、遮蔽板13も上方に
移動し、別の遮蔽板15との協同作用によりXmを遮蔽
し、外部に洩れて出ていくのを阻止する。ウェブ8は両
遮蔽板13.15間の隙間を通過していく、ロール9を
下方に移動させると、これに追従して遮蔽板13も下方
に移動する。
移動し、別の遮蔽板15との協同作用によりXmを遮蔽
し、外部に洩れて出ていくのを阻止する。ウェブ8は両
遮蔽板13.15間の隙間を通過していく、ロール9を
下方に移動させると、これに追従して遮蔽板13も下方
に移動する。
なお図中16は遮蔽板、17はガイド用のロールである
。
。
(発明の効果)
以上詳述したようにこの発明によれば、照射チャンバを
、ウェブ、バッチの両処理に兼用するように構成するに
あたり、ウェブ処理の際に必要なロール、遮蔽板の存在
が、バッチ処理の際になんら邪魔な存在とならないよう
になり、したがって両処理の兼用を容易とすることがで
きる効果を奏する。
、ウェブ、バッチの両処理に兼用するように構成するに
あたり、ウェブ処理の際に必要なロール、遮蔽板の存在
が、バッチ処理の際になんら邪魔な存在とならないよう
になり、したがって両処理の兼用を容易とすることがで
きる効果を奏する。
第1図はこの発明の実施例を示す正面図、第2図は要部
の斜視図、第3図は部分拡大正面図である。 1・・・真空チャンバ、2・・・電子線照射源、3・・
・照射チャンバ、4・・・予備室、7・・・コンベア、
8・・・ウェブ、9・・・ロール、10・・・支点軸、
11・・・揺動金具、12・・・シリンダ、13・・・
遮蔽板。
の斜視図、第3図は部分拡大正面図である。 1・・・真空チャンバ、2・・・電子線照射源、3・・
・照射チャンバ、4・・・予備室、7・・・コンベア、
8・・・ウェブ、9・・・ロール、10・・・支点軸、
11・・・揺動金具、12・・・シリンダ、13・・・
遮蔽板。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 電子線照射源を内蔵する真空チャンバと、電子線が照射
される被処理物が通過する照射チャンバとを備えてなる
電子線照射装置において、 前記照射チャンバの内部に、ウェブの幅方向に沿って延
びる支点軸を設け、前記支点軸に支持されている揺動金
具によって、ウェブ搬送用のロールを回転自在に支持す
るとともに、前記揺動金具を前記支点軸を中心として揺
動自在とし、その揺動によって前記ロールを、バッチ処
理用のコンベアをはさんでその上下の位置に選択的に位
置づけ自在とし、またX線遮蔽用の遮蔽板を、前記ロー
ルの揺動に追従して、ウェブ処理時の遮蔽位置からコン
ベアより下方の位置まで移動自在としてなる電子線照射
装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63178600A JPH0227645A (ja) | 1988-07-18 | 1988-07-18 | 電子線照射装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63178600A JPH0227645A (ja) | 1988-07-18 | 1988-07-18 | 電子線照射装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0227645A true JPH0227645A (ja) | 1990-01-30 |
Family
ID=16051287
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63178600A Pending JPH0227645A (ja) | 1988-07-18 | 1988-07-18 | 電子線照射装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0227645A (ja) |
-
1988
- 1988-07-18 JP JP63178600A patent/JPH0227645A/ja active Pending
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