JPH0719552A - クリーン薬液処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 最小限の局所排気によって、薬液の蒸気やミ
ストの安全衛生性と、薬液処理槽の上面部でのクリーン
度とを満足できるようにする。 【構成】 クリーン室１０の上部から薬液処理槽１２の
上部に向けて清浄空気流を形成する清浄空気供給手段１
１と、薬液処理槽１２の上部まわりの空気をクリーン室
１０外へ局所排気する排気手段１４とを備え、オーバー
フロー槽１３の外周壁の、薬液処理槽１２の上面よりも
低く、かつオーバーフロー槽１３の回収薬液面よりも高
い位置に、排気手段１４による局所排気用の排気口１４
ａを設けたことを特徴とするものである。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は半導体等の薄膜デバイス
の製造工程での薬液処理を行うクリーン薬液処理装置に
関するものであり、詳しくは送風と排気により薬液蒸気
やミストの飛散を最小限の送風、排気にて防止しなが
ら、薬液処理槽上部のクリーン度を確保して前記薬液処
理を行うようにしたクリーン薬液処理装置に関するもの
である。

【０００２】

【従来の技術】一般に薬液処理装置では、弗化水素、発
煙硝酸等の有害な薬液の蒸気やミストがまわりに飛散し
て作業者に害を与えるのを防ぐために、またアセトン等
の引火性薬液の蒸気が飛散して火災が発生するようなこ
とを防止するために、局所排気装置を設けている。

【０００３】図５、図６はこのような基本的な構造を持
った従来の薬液処理装置を示している。

【０００４】このものは、クリーン室５０内の底部上に
薬液処理槽５１が設けられ、クリーン室５０の上部に排
気口５２を持った局所排気手段５４が設けられている。

【０００５】図６に示すように薬液処理槽５１の上面に
限る局所に薬液の蒸気６１やミストが発生するが、局所
排気手段５４の排気動作によって、クリーン室５０内に
外部のクリーンな空気が吸引され、クリーン室５０内を
上昇する空気流６２をなし、前記薬液処理槽５１の上面
に発生する蒸気やミストを持ち去りながらクリーン室５
０の上部から外部に排出される。

【０００６】したがって、薬液処理槽５１の上面に発生
する蒸気やミストがまわりに飛散するのを防止すること
ができる。

【０００７】しかし、このクリーンな空気流６２はクリ
ーン室５０の周壁の内面に沿った渦流６２ａをなし、こ
れがクリーン室５０の底部上に落下し堆積した塵埃６３
の一部を巻き上げ、クリーンな空気流６２中に飛散させ
て薬液処理槽５１の上面部に至らせることがある。

【０００８】ところが、このような薬液処理槽５１まわ
りでの気流の影響につき、従来何も配慮されていないの
で、薬液処理槽５１の上部のクリーン度は導入したクリ
ーンな外気よりも悪くなっていることが多々あり、薬液
処理に悪影響する。

【０００９】また、このタイプの薬液処理装置では、薬
液の存在する場所のまわりを吸引するだけでなく、周囲
全体を排気する。このために、単位時間当たりの排気量
が多くなって、排気設備の大容量化を招くし、危険な薬
液を用いる場合排気はそのまま大気に放出することがで
きないので、無害化処理する必要があり排気量が多い分
だけコスト高にもなり大きな負担となる。

【００１０】特開昭６３−２４８４４９号公報は、これ
を幾分解消する薬液処理装置を開示している。

【００１１】このものは、図７に示すようにクリーン室
６２の上部にフィルタとファンとからなる清浄空気供給
装置６５を設けて、薬液処理槽５１の上部に向けクリー
ンな空気流６７を形成するとともに、フィルタとファン
とからなる今１つの清浄空気供給手段６８によってクリ
ーン室５１の一側部からクリーンな空気流を吹出し、他
側部から排気することにより、薬液処理槽５１の上面直
ぐの位置にこれを横断するエアーカーテン７１を形成す
るようにしている。

【００１２】このような構造では、下向きのクリーンな
空気流６７および前記エアーカーテン７１によって薬液
処理槽５１の上部のクリーン度を満足しながら、空気流
６７がエアーカーテン７１の遮りによって、クリーン室
５０の底部に達するのを阻止し、空気流６７がクリーン
室５０の底部に堆積している塵埃を巻き上げて、薬液処
理槽５１の上部のクリーン度を低下させるようなことを
防止することができる。

【００１３】

【発明が解決しようとする課題】ところで、オーバーフ
ロー式の薬液処理装置の場合は、薬液中に入り込んでし
まった塵埃や、薬液処理上発生した塵埃を速やかに取り
除くのに有利であり、半導体やその他の薄膜デバイス製
造等の微細な加工には欠かせない。

【００１４】しかし、これを前記図７に示した従来の装
置に仮想線で示すように適用しても、薬液面と外周のオ
ーバーフロー槽７２の外周壁との間で、エアーカーテン
７１の気流に矢印で示すような乱れが発生することにな
り、この気流の乱れそのものが塵埃を発生させるわけで
はないが、気流に渦が生じると、外部から進入した塵埃
がそこに滞留し、一部が薬液処理槽５１の上面に至るこ
とがあり、結果的にクリーン度を悪くするので、クリー
ンな空気流６７の前記ダウンフローを確保するだけでク
リーン度を高く保つことは困難である。

【００１５】そこで本発明は、このような従来の問題を
解決することを課題として、オーバーフロー槽を持つ場
合において、最小限の排気量にて安全衛生上十分な局所
排気を達成するとともに、薬液上部のクリーン空気流の
ダウンフローを確保して薬液上部のクリーン度を高く保
てるようにしたクリーン薬液処理装置を提供することを
目的とするものである。

【００１６】

【課題を解決するための手段】本発明のクリーン薬液処
理装置は、上記のような目的を達成するために、クリー
ン室内に、薬液処理槽と、この薬液処理槽からオーバー
フローする薬液を回収するオーバーフロー槽とを設け、
クリーン室の上部から薬液処理槽の上に向けて清浄空気
流を形成する清浄空気供給手段と、薬液処理槽の上部ま
わりの空気をクリーン室外へ局所排気する排気手段とを
備えたクリーン薬液処理装置において、オーバーフロー
槽の外周壁の、薬液処理槽の上面よりも低く、かつオー
バーフロー槽の回収薬液面よりも高い位置に、排気手段
による局所排気用の排気口を設けたことを特徴とするも
のである。

【００１７】この場合、排気口がオーバーフロー槽の外
周壁の全周に設けられているのが好適である。

【００１８】

【作用】本発明のクリーン薬液処理装置の上記構成で
は、クリーン室内に、清浄空気供給手段によるクリーン
室上部から薬液処理槽の上部に向いた清浄空気のダウン
フローが形成されるのに併せ、排気手段によってクリー
ン室内の空気を、オーバーフロー槽の外周壁の、薬液処
理槽の上面よりも低く、オーバーフロー槽の回収薬液面
よりも高い位置にある排気口を通じてオーバーフロー槽
内の薬液や塵埃に影響なく局部排気し、この局部排気が
クリーン室内の空気を薬液処理槽の外周壁とオーバーフ
ロー槽の外周壁との間から前記排気口に引き込むように
行われ、この局部排気のためにクリーン室内をダウンフ
ローして薬液処理槽の上面に到達する清浄空気のダウン
フローを乱すことはなく、このダウンフローする清浄空
気は薬液処理槽の上面の全域に静かに到達した後、薬液
処理槽の上面に沿って薬液処理槽上面の外周の側に流
れ、薬液処理槽の上面に限った局所に生じる薬液の蒸気
やミストを確実に持ち去りこの上面を常に新しい清浄空
気にて更新しながら、薬液処理槽の外周壁とオーバーフ
ロー槽の外周壁との間に達して局部排気されるので、局
部排気による最小限の排気量によって有害な薬液の蒸気
やミストがまわりに飛散するようなことを回避し、また
前記清浄空気の乱れによって塵埃が入り込んだり、入り
込んだ塵埃を薬液処理槽の上面部に滞留させたりするこ
とはなく薬液処理槽の上面のクリーン度を高く保つこと
ができる。

【００１９】この場合、排気口がオーバーフロー槽の外
周壁の全周に設けられていると、ダウンフローする清浄
空気の、前記局所排気による薬液処理槽の上面に沿った
外周への流れが円周上各部において万遍なくなされるの
で、薬液処理槽の上面の全域にてむらなく高いクリーン
度を保つとともに、有害蒸気やミストをさらに少ない排
気量にて効率よく確実に除去することができる。

【００２０】

【実施例】以下本発明が適用された第１の実施例として
のクリーン薬液処理装置について、図１、図２に基づき
説明する。

【００２１】本実施例の装置は図１に示すように、クリ
ーン室１０の底部に位置する薬液処理槽１２とこれのま
わりに設けられたオーバーフロー槽１３、およびクリー
ン室１０の上部に設けられた清浄空気供給手段１１とし
てのフィルタおよびファンを備えている。

【００２２】またクリーン室１０には局所排気を行う排
気手段１４としての排気ダクトが接続されて、クリーン
室１０内の薬液処理槽１２の上面部まわりの局所の空気
を排気するようになっており、排気は排気処理装置１６
にて無害化処理した後大気への放出を図るようしてい
る。

【００２３】そして、薬液処理槽１２内の薬液は、これ
をまわりのオーバーフロー槽１３にオーバーフローさせ
て、薬液内に入り込んでしまった塵埃や、リフトオフ工
程等での薬液処理によって薬液中に生じる塵埃等を常に
外部へ流し出すようにして浄化を図る。

【００２４】この際、オーバーフロー槽１３にオーバー
フローした薬液には前記の塵埃が混入しているが、これ
をオーバーフロー槽１３と薬液処理槽１２との間に接続
した薬液再生処理装置１５にて除塵による再生処理をし
て薬液処理槽１２に送り込むようにしてある。これによ
って薬液の無駄な消費が回避される。

【００２５】特に本実施例では、オーバーフロー槽１３
の外周壁の、薬液処理槽１２の上面よりも低く、かつオ
ーバーフロー槽１３の回収薬液面よりも高い位置に、排
気手段１４による局所排気用の排気口１４ａを設けてあ
る。

【００２６】以下、このような排気手段１４による局所
排気につき、図２を参照しながら説明する。

【００２７】クリーン室１０内には、清浄空気供給手段
１１によるクリーン室１０上部から薬液処理槽１２の上
部に向いた清浄空気のダウンフローが矢印２０で示すよ
うに層流状態にて形成される。これに併せ、排気手段１
４によってクリーン室１０内の空気を、オーバーフロー
槽１３の外周壁の、薬液処理槽１２の上面よりも低く、
オーバーフロー槽１３の回収薬液面よりも高い位置にあ
る排気口１４ａを通じてオーバーフロー槽１３内の薬液
や塵埃に影響なく局部排気される。

【００２８】この局部排気はクリーン室１０内の空気を
薬液処理槽１２の外周壁とオーバーフロー槽１３の外周
壁との間から矢印２１で示すように前記排気口１４ａに
引き込むように行われ、この局部排気のためにクリーン
室１０内を層流状態でダウンフローして薬液処理槽１２
の上面に到達する清浄空気の矢印２０で示すダウンフロ
ーを乱すことはない。

【００２９】したがって、このダウンフローする清浄空
気は薬液処理槽１２の上面の全域に静かに到達した後、
薬液処理槽１２の上面に沿って薬液処理槽１２上面の外
周の側に流れ、薬液処理槽１２の上面に限った局所に生
じる薬液の蒸気やミストを確実に持ち去りこの上面を常
に新しい清浄空気にて更新しながら、薬液処理槽１２の
外周壁とオーバーフロー槽１３の外周壁との間に達した
後、矢印２１で示すように局部排気されることにより、
局部排気による最小限の排気量によって有害な薬液の蒸
気やミストがまわりに飛散するようなことを回避し、ま
た前記清浄空気の乱れによって塵埃が入り込んだり、入
り込んだ塵埃を薬液処理槽１２の上面部に滞留させたり
することはなく薬液処理槽１２の上面のクリーン度を高
く保つことができる。

【００３０】オーバーフロー槽１３内や排気手段１４の
排気ダクト上部において気流に若干の乱れが生じるが、
仮にこの部分に塵埃が入り込んだとしても薬液処理槽１
２の上面に至るようなことはない。

【００３１】またオーバーフロー槽１３にて発生した塵
埃は、オーバーフローした薬液中に入り込むこともある
が、オーバーフロー槽１３に入り込んだ薬液は薬液再生
処理装置１５によって除塵し再生処理されてから、薬液
処理槽１２に送り込まれるので、塵埃が薬液処理槽１２
内にまで入り込んで薬液処理すべきワークに付着し、製
品不良を起こすことはない。

【００３２】また、薬液処理槽１２の表面に形成される
有害な薬液の蒸気やミストは、矢印２０で示すようにダ
ウンフローする清浄空気の薬液処理槽１２の表面に沿っ
た外周への流れとこれに連続した前記の局部排気とによ
って、乱れや滞留なくスムーズに持ち去りまわりへの飛
散なく確実に排気することができ、排気は排気処理装置
１６により無害化処理して行うので、有害な薬液の蒸気
やミストによる弊害を少ない排気量によって確実に回避
することができ、排気手段１４や排気処理装置１６が大
容量化しないので低コスト化が図れる。

【００３３】なお、排気口１４ａがオーバーフロー槽１
３の外周壁の全周に設けられていると、矢印２０で示す
ように層流状態でダウンフローする清浄空気の、前記局
所排気による薬液処理槽１２の上面に沿った外周への流
れが円周上各部において万遍なくなされるので、薬液処
理槽１２の上面の全域にてむらなく高いクリーン度を保
つとともに、有害蒸気やミストをさらに少ない排気量に
て効率よく確実に除去することができ、さらなる小容量
化とコストの低減を達成することができる。

【００３４】図３は本発明の第２の実施例を示し、清浄
空気供給手段１１の給気部からオーバーフロー槽１３の
外周壁上端近くまでを覆う、覆い壁１７をカーテン材や
壁材にて形成した点で、第１の実施例と異なっている。

【００３５】本実施例では、清浄空気供給手段１１から
供給されてダウンフローし、薬液処理槽１２の上面に達
して後、薬液処理槽１２の上面に沿って外周部へ至る清
浄空気の流れを、清浄空気の流速や圧力を増すようなこ
となくさらに確固なものとして、薬液処理槽１２上面に
発生する蒸気やミストをさらに確実に持ち去り、これの
まわりへの飛散をさらに確実に防止することができ、装
置が特に大容量化したり大型化するようなことはない。

【００３６】図４は本発明の第３の実施例を示し、オー
バーフロー槽１３の外周壁とクリーン室１０の外周壁を
一体化し、これの一部が第２実施例の覆い壁１７を兼ね
るようにしてある。これによって、装置の構造が簡単で
コンパクトなものとなっている。

【００３７】

【発明の効果】本発明のクリーン薬液処理置によれば、
クリーン室内の、オーバーフロー槽の外周壁の、薬液処
理槽の上面よりも低く、オーバーフロー槽の回収薬液面
よりも高い位置にある排気口を通じたオーバーフロー槽
内の薬液や塵埃に影響のない局所排気により、クリーン
室内をダウンフローして薬液処理槽の上面に到達する清
浄空気のダウンフローを乱すことなく、薬液処理槽上面
に限った局所に生じる薬液の蒸気やミストを確実に持ち
去りこの上面を常に新しい清浄空気にて更新しながら、
局部排気による最小限の排気量によって有害な薬液の蒸
気やミストがまわりに飛散するようなことを回避し、ま
た清浄空気の乱れによって塵埃が入り込んだり、入り込
んだ塵埃を薬液処理槽の上面部に滞留させたりすること
はなく薬液処理槽１２の上面のクリーン度を高く保つこ
とができ、薬液処理を容量が小さく小型な装置によって
まわりに無害な状態で高精度に達成できる。

【００３８】この場合、排気口がオーバーフロー槽の外
周壁の全周に設けることにより、ダウンフローする清浄
空気の、前記局所排気による薬液処理槽の上面に沿った
外周への流れが円周上各部において万遍なくなされ、薬
液処理槽の上面の全域にてむらなく高いクリーン度を保
つとともに、有害蒸気やミストをさらに少ない排気量に
て効率よく確実に除去することができ、安全衛生性とク
リーン性をさらに向上することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明が適用された第１の実施例としてのクリ
ーン薬液処理装置を示す断面図である。

【図２】図１の装置の薬液処理装置まわりの給気および
排気の空気の流れを示す断面図である。

【図３】本発明の第２の実施例としてのクリーン薬液処
理装置を示す断面図である。

【図４】本発明の第３の実施例としてのクリーン薬液処
理装置を示す断面図である。

【図５】第１の従来例の薬液処理装置を示す断面図であ
る。

【図６】図５の従来例の給気および排気の空気の流れを
示す断面図である。

【図７】第２の従来例の薬液処理装置を示す断面図であ
る。

【符号の説明】

１０ クリーン室 １１ 清浄空気供給手段 １２ 薬液処理槽 １３ オーバーフロー槽 １４ 排気手段 １４ａ 排気口

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 クリーン室内に、薬液処理槽と、この薬
   液処理槽からオーバーフローする薬液を回収するオーバ
   ーフロー槽とを設け、クリーン室の上部から薬液処理槽
   の上部に向けて清浄空気流を形成する清浄空気供給手段
   と、薬液処理槽の上部まわりの空気をクリーン室外へ局
   所排気する排気手段とを備えたクリーン薬液処理装置に
   おいて、 オーバーフロー槽の外周壁の、薬液処理槽の上面よりも
   低く、かつオーバーフロー槽の回収薬液面よりも高い位
   置に、排気手段による局所排気用の排気口を設けたこと
   を特徴とするクリーン薬液処理装置。
2. 【請求項２】 排気口がオーバーフロー槽の外周壁の全
   周に設けられている請求項１に記載のクリーン薬液処理
   装置。