JPH07196670A - Trissilylmethane and its preparation - Google Patents

Trissilylmethane and its preparation

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JPH07196670A
JPH07196670A JP31085493A JP31085493A JPH07196670A JP H07196670 A JPH07196670 A JP H07196670A JP 31085493 A JP31085493 A JP 31085493A JP 31085493 A JP31085493 A JP 31085493A JP H07196670 A JPH07196670 A JP H07196670A
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Il Nam Jung
一 男 鄭
Seung Ho Yeon
昇 浩 延
Jun-Su Han
準 秀 韓
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Abstract

PURPOSE: To provide new trissilylmethanes as starting substances useful in preparing silicon compounds having various organic functional groups by the addition reaction to organic compounds having an unsaturated bond.
CONSTITUTION: These compounds are represented by formula I (wherein R1, R2 and R3 are each methyl or chlorine; and R4 and R5 are each -SiHCl2 or -SiCl3) and include, e.g. 1,1,3-tri-chloro-3-methy-2-(dichlorosilyl)-1,3-disilabutane. Further, the compound of formula I can be obtained, e.g. by reacting a compound of formula II and a compound of formula III (wherein R is H, a lower alkyl or -CH2CH2Cl) with a metallic silicon in the presence of a copper catalyst.
COPYRIGHT: (C)1995,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、トリスシリルメタン類
とその製造方法に関する。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to trissilylmethanes and a method for producing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】金属ケイ素と有機ハロゲン化合物を、銅
触媒の存在下で反応させてメチルクロロシラン類を製造
する方法が、米国特許2,380,995号明細書に紹
介されて以来、今日シリコン工業ではこの技術を基礎と
している。
2. Description of the Related Art Since a method for reacting metallic silicon and an organic halogen compound in the presence of a copper catalyst to produce methylchlorosilanes was introduced in US Pat. No. 2,380,995, the silicon industry is in use today. Is based on this technology.

【0003】 Si+2CH3 Cl→(CH3)2 SiCl2 Si + 2CH 3 Cl → (CH 3 ) 2 SiCl 2

【0004】上記反応では、ジメチルジクロロシランだ
けでなく、メチルトリクロロシラン、トリメチルクロロ
シラン、テトラクロロシラン等の生成物が得られる。こ
れらの外にも少量の沸点の高い物質も得られ、生成物の
組成が反応条件によって異なる複雑な反応であるため、
主生成物であるジメチルジクロロシランを効果的に得る
には、反応条件例えば出発物質の純度、触媒の種類、そ
の使用量、助触媒、反応温度、反応圧力、使用する反応
槽の形態等を考慮しなければならない。
In the above reaction, not only dimethyldichlorosilane but also products such as methyltrichlorosilane, trimethylchlorosilane and tetrachlorosilane are obtained. In addition to these, a small amount of substances with high boiling points can be obtained, and since the composition of the product is a complicated reaction that varies depending on the reaction conditions,
In order to effectively obtain the main product, dimethyldichlorosilane, the reaction conditions such as the purity of the starting material, the type of catalyst, the amount used, the cocatalyst, the reaction temperature, the reaction pressure, the form of the reaction tank used, etc. are taken into consideration. Must.

【0005】金属ケイ素と有機塩化物の直接反応におい
ては、触媒を使用しなければ反応がよく進行しないこと
が知られており、銅が最も良い触媒として知られてい
る。或る場合には、亜鉛、アルミニウム、カドミウム等
の金属を助触媒として使用することもある。助触媒は反
応開始時間を短縮させ、生成物中でジメチルジクロロシ
ラン生成の選択性を高める(E.G. Rachow, J. Am. Che
m. Soc., 67, 963 (1945))。銅触媒の使用量を増加す
れば反応は速くなるが、生成物中の塩素含量が高くなる
傾向がある。そのため、ケイ素とメチルクロリドとの反
応ではケイ素の重量に対して10%程度の銅を触媒とし
て使用しなければならない。
In the direct reaction of metallic silicon and organic chloride, it is known that the reaction does not proceed well unless a catalyst is used, and copper is known as the best catalyst. In some cases, metals such as zinc, aluminum and cadmium may be used as cocatalysts. The co-catalyst shortens the reaction initiation time and enhances the selectivity of dimethyldichlorosilane formation in the product (EG Rachow, J. Am. Che.
m. Soc., 67, 963 (1945)). If the amount of copper catalyst used is increased, the reaction becomes faster, but the chlorine content in the product tends to increase. Therefore, in the reaction between silicon and methyl chloride, about 10% of copper based on the weight of silicon must be used as a catalyst.

【0006】触媒として使用する銅は、金属ケイ素とη
−状のCu3 Siのケイ素結合を形成し、このη−状の
Cu3 Siが有機塩化物と反応することが報告されてい
るが(V.S. Fikhtengolts and A.L. Klebanskii, J. Ge
n. Chem. U.S.S.R, 27, 2535(1957))、η−状のCu3
Siを形成させる方法としては、不活性気体下で銅とケ
イ素を800〜1,100℃に加熱する物理的な方法
〔P. Trambouze, and B.Imelik, J. Chim. Phys., 51,
505 (1954)〕と、塩化第1銅をケイ素と反応させる化
学的な方法〔(R.J.H. Voorhoeve and J.C. Ulugter,
J. Catalysis, 4,129 (1965)〕が知られている。
Copper used as a catalyst includes metallic silicon and η
- shaped Cu 3 to form a silicon-bonded Si, but this η- shaped Cu 3 Si have been reported to react with an organic chloride (VS Fikhtengolts and AL Klebanskii, J. Ge
n. Chem. USSR, 27, 2535 (1957)), η-like Cu 3
As a method for forming Si, a physical method of heating copper and silicon to 800 to 1,100 ° C. under an inert gas [P. Trambouze, and B. Imelik, J. Chim. Phys., 51,
505 (1954)] and a chemical method of reacting cuprous chloride with silicon [(RJH Voorhoeve and JC Ulugter,
J. Catalysis, 4,129 (1965)] is known.

【0007】nSi+CuCl→SiCl4 +Cu3
Si+Cu+(n−2)Si
NSi + CuCl → SiCl 4 + Cu 3
Si + Cu + (n-2) Si

【0008】ケイ素とメチルクロリドとの反応は、30
0℃以上の高温で起こる発熱反応であるから、反応熱を
効果的に除去できなければ、反応物質が凝固して部分的
な過熱状態が形成される〔A.L. Klibam Skii and V.S.
Fikhtengolts, J. Gen. Chem. U.S.S.R., 27, 2693 (19
57)〕。反応温度が適正温度より高ければ、所望のジメ
チルジクロロシランの生成量が減少し、副反応が多く起
こり、出発物質であるメチルクロリドや生成物が分解し
てケイ素の表面に炭素が蒸着する。これによりケイ素の
活性は急激に低下する〔J.C. Vlugter, and R.J.H. Voo
rhoeve, Conf.Accad, Lin cei, Alta Tech. Chim. 1961
P.81 (1962)〕。そのため、直接法でジメチルジクロ
ロシランを合成するには、反応温度を調節することが極
めて重要である。
The reaction between silicon and methyl chloride is 30
Since it is an exothermic reaction that occurs at high temperatures above 0 ° C, if the reaction heat cannot be effectively removed, the reactants will solidify and form a partial superheated state [AL Klibam Skii and VS
Fikhtengolts, J. Gen. Chem. USSR, 27, 2693 (19
57)]. If the reaction temperature is higher than the appropriate temperature, the amount of desired dimethyldichlorosilane produced decreases, side reactions occur frequently, and methyl chloride or a product as a starting material is decomposed to deposit carbon on the surface of silicon. This drastically reduces the activity of silicon [JC Vlugter, and RJH Voo
rhoeve, Conf.Accad, Lin cei, Alta Tech. Chim. 1961
P. 81 (1962)]. Therefore, in order to synthesize dimethyldichlorosilane by the direct method, it is extremely important to control the reaction temperature.

【0009】直接法で使用する反応槽の形態は、固定
型、撹拌型、流動型反応槽がある。撹拌型反応槽は、固
定型反応槽よりは温度調節が容易で、固体粒子が互いに
衝突しながら表面を新しくする効果があるために反応性
が良い。触媒として使用する銅は、反応物質である金属
ケイ素の密度より約3倍高く、2つの金属を効果的に混
合することが非常に難しい。このような難点を解決する
ために、螺旋型撹拌器を備え、底にある固体を上に汲み
上げながら、有機塩化物を気体状態で下から吹き上げな
がら反応させる方法が紹介されている(J.E. Sellers a
nd J.L. Davis 、米国特許第2,449,821号)。
しかし、この工程は腐蝕性の強い有機塩化物を高温で反
応させなければならないから、これに適合した耐腐蝕性
撹拌器を求めるのが難しく、大量生産と連続製法にも適
当でない。このような欠点を補完する工程として、メチ
ルクロリドを反応槽の底から吹き上げ、ケイ素と銅触媒
を流動化させながら反応させる流動型反応槽が開発され
た(B.A. Bluestrin、米国特許第2,887,502
号)。この方法は反応熱を効果的に除去することができ
るのでメチルクロロシラン類の製造に広く使用されてい
る。
The form of the reaction vessel used in the direct method includes a fixed type, a stirring type and a flow type reaction vessel. The stirring type reaction tank has better reactivity than the fixed type reaction tank because the temperature can be controlled more easily and the solid particles collide with each other to renew the surface. Copper, which is used as a catalyst, has a density about 3 times higher than that of metallic silicon, which is a reactant, and it is very difficult to effectively mix two metals. In order to solve these difficulties, a method has been introduced in which a spiral stirrer is used, and the solid at the bottom is pumped up and the organic chloride is blown up in the gaseous state from below (JE Sellers a
nd JL Davis, U.S. Pat. No. 2,449,821).
However, this process requires the reaction of highly corrosive organic chlorides at a high temperature, making it difficult to find a corrosion-resistant stirrer suitable for this, and it is not suitable for mass production and continuous production. As a process for compensating for such drawbacks, a fluidized type reaction vessel has been developed in which methyl chloride is blown up from the bottom of the reaction vessel and reacted while fluidizing silicon and a copper catalyst (BA Bluestrin, US Pat. No. 2,887, 502
issue). This method is widely used in the production of methylchlorosilanes because it can effectively remove the heat of reaction.

【0010】1958年にPetrovと彼の共同研究者ら
は、初めてジクロロメチル基を有するシラン類を金属ケ
イ素と直接反応させ、種々のシラアルカン類を合成する
ことができると報告した〔A.D. Petrov, S.I. Sadykh-Z
ade, E.A. Chernyshev, and V.F. Mironov, Zh, Obshe
h. Khim, 26, 1248 (1956)〕。しかし、ジクロロメチ
ルトリクロロシランを360℃でケイ素と反応させ、わ
ずか14%のトリス(トリクロロシリル)メタンを得、
70%程度が出発物質が分解して生じた副産物であっ
た。しかしビス(トリクロロシリル)ジクロロメタンを
ケイ素と反応させた場合は、予想されるテトラキスシリ
ルメタン化合物は得られなく、出発物質の分解による化
合物等だけが得られると報告している。
[0010] In 1958, Petrov and his collaborators reported for the first time that silanes having a dichloromethyl group could be directly reacted with metallic silicon to synthesize various silaalkanes [AD Petrov, SI Sadykh-Z
ade, EA Chernyshev, and VF Mironov, Zh, Obshe
h. Khim, 26, 1248 (1956)]. However, reacting dichloromethyltrichlorosilane with silicon at 360 ° C. yields only 14% tris (trichlorosilyl) methane,
About 70% was a by-product generated by decomposition of the starting material. However, it is reported that when bis (trichlorosilyl) dichloromethane is reacted with silicon, the expected tetrakissilylmethane compound is not obtained, but only a compound or the like is obtained by decomposition of the starting material.

【0011】その後、Mullerと彼の共同研究者も、ビス
(トリクロロシリル)ジクロロメタンをケイ素と反応さ
せた場合は、予想されたテトラキスシリルメタン化合物
は得られなく、出発物質の分解による化合物等だけが得
られたと報告している〔R. Muller and H. Beyer, Che
m. Ber., 92, 1957 (1959); 96, 2894 (1963)〕。
[0011] After that, Muller and his collaborators also showed that when bis (trichlorosilyl) dichloromethane was reacted with silicon, the expected tetrakissilylmethane compound was not obtained, and only the compound by decomposition of the starting material was obtained. Reported that [R. Muller and H. Beyer, Che
m. Ber., 92, 1957 (1959); 96, 2894 (1963)].

【0012】本発明者らは、クロロメチル基を有するシ
ラン類を、ケイ素と直接反応させるにさいして、流動型
反応槽を使用するか、螺旋型撹拌器を備えた撹拌型反応
槽中で、反応温度を350℃以下に調節し、銅触媒を約
10%、15%を越えないように維持しながら反応さ
せ、トリスシリルメタン類を主生成物として得、若干の
ビスシリルメタンを副産物として得た。流動化を助ける
ために、ケイ素の使用量に対し5〜50%の球型の微細
粉末酸性白土を使用した場合は、流動化がより良くで
き、ケイ素の反応性と生成物の選択性もより良い結果を
得た(I.N. Jung, G. -H. Lee, S.H. Yeon and M. -Y.
Suk 、米国特許第5,075,477号)。
The present inventors use a fluidized reaction vessel or directly in a reaction vessel having a spiral stirrer to directly react silanes having a chloromethyl group with silicon. The reaction temperature was adjusted to 350 ° C. or lower, and the reaction was carried out while maintaining the copper catalyst so as not to exceed about 10% and 15% to obtain trissilylmethanes as a main product and some bissilylmethane as a by-product. It was When 5 to 50% of the spherical fine powdery acid clay is used to assist the fluidization, the fluidization is better and the reactivity of silicon and the selectivity of the product are better. Good results (IN Jung, G. -H. Lee, SH Yeon and M. -Y.
Suk, US Pat. No. 5,075,477).

【0013】[0013]

【化3】 [Chemical 3]

【0014】上記式中、R1 、R2 及びR3 は、それぞ
れメチル基を又は塩素原子を示す。
In the above formula, R 1 , R 2 and R 3 each represent a methyl group or a chlorine atom.

【0015】本発明者らは、金属ケイ素にクロロメチル
基を有するクロロシラン類(I)を反応させるのにさい
して、塩化水素を共に使用すれば、ジクロロシリル基を
有するビス(シリル)メタンとトリクロロシリル基を有
するビス(シリル)メタン類が同時に得られることを知
った。この反応で、塩化水素の代りに反応温度で分解し
て塩化水素を生成することのできるアルキルクロリドを
使用しても、同じ結果を得ることができた。このアルキ
ルクロリドの例を挙げれば、1,2−ジクロロエタン、
プロピルクロリド、n−ブチルクロリド、t−ブチルク
ロリド等がある(韓国特許出願番号91−2424
3)。
The present inventors, when hydrogen chloride is used together in the reaction of chlorosilanes (I) having a chloromethyl group with silicon metal, bis (silyl) methane having a dichlorosilyl group and trichloromethane are used. It was found that bis (silyl) methanes having a silyl group can be obtained at the same time. In this reaction, the same result could be obtained by using an alkyl chloride capable of decomposing at the reaction temperature to produce hydrogen chloride instead of hydrogen chloride. Examples of this alkyl chloride include 1,2-dichloroethane,
Propyl chloride, n-butyl chloride, t-butyl chloride, etc. are available (Korean Patent Application No. 91-2424).
3).

【0016】[0016]

【化4】 [Chemical 4]

【0017】式中、R1 、R2 及びR3 は、それぞれメ
チル基又は塩素原子を示す。
In the formula, R 1 , R 2 and R 3 each represent a methyl group or a chlorine atom.

【0018】本発明者らは、上記の反応で、クロロメチ
ル基を有するシラン類を反応させる代りに、メチレンク
ロリドを塩化水素と共に使用すれば、分子の両側にジク
ロロシリル基を有するビス(シリル)メタンとトリクロ
ロシリル基を有するビス(シリル)メタン、そして一方
にトリクロロシリル基を有し、異なる一方にジメチルシ
リル基を有するビス(シリル)メタン類が同時に得られ
ることを知った〔韓国特許出願番号92−935(9
2.1.23)〕。
The inventors of the present invention, in the above reaction, use methylene chloride together with hydrogen chloride instead of reacting silanes having a chloromethyl group, and thus bis (silyl) having dichlorosilyl groups on both sides of the molecule. It was found that methane and bis (silyl) methane having a trichlorosilyl group and bis (silyl) methane having a trichlorosilyl group on one side and a dimethylsilyl group on a different side can be simultaneously obtained [Korean Patent Application No. 92-935 (9
2.1.23)].

【0019】[0019]

【化5】 [Chemical 5]

【0020】[0020]

【課題を解決するための手段】本発明者は、金属ケイ素
にジクロロメチル基を有する一般式(I)のシラン化合
物を反応させるにさいして、一般式(II)の化合物を塩
化水素の供給源として共に使用すれば、一般式(IV)、
(V)及び(VI)のトリス(シリル)メタン類が得られ
ることを知った。
DISCLOSURE OF THE INVENTION The present inventor has made a compound of the general formula (II) a source of hydrogen chloride in reacting a silicon compound with a silane compound of the general formula (I) having a dichloromethyl group. When used together as general formula (IV),
We have found that tris (silyl) methanes of (V) and (VI) can be obtained.

【0021】すなわち、本発明は、一般式(I)のジク
ロロメチル基を有するシラン化合物と、一般式(II)の
塩化水素又は反応温度で塩化水素を発生するアルキルク
ロリド等の混合物を、銅触媒の存在下で金属ケイ素と直
接反応させて、一般式(IV)のジクロロシリル基を2個
有するトリス(シリル)メタン、一般式(V)のジクロ
ロシリル基1個とトリクロロシリル基1個を有するトリ
ス(シリル)メタン及び一般式(VI)のトリクロロシリ
ル基を2個有するトリス(シリル)メタンを同時に製造
する製造方法に関するものである。
That is, in the present invention, a mixture of a silane compound having a dichloromethyl group of the general formula (I) and hydrogen chloride of the general formula (II) or an alkyl chloride or the like which generates hydrogen chloride at a reaction temperature is treated with a copper catalyst. Directly reacts with metallic silicon in the presence of tris (silyl) methane having two dichlorosilyl groups of general formula (IV), having one dichlorosilyl group of general formula (V) and one trichlorosilyl group The present invention relates to a production method for simultaneously producing tris (silyl) methane and tris (silyl) methane having two trichlorosilyl groups of the general formula (VI).

【0022】[0022]

【化6】 [Chemical 6]

【0023】式中、Rは水素原子、アルキル基(C1
4 )又は−CH2 CH2 Cl基であり、R1 、R2
びR3 はそれぞれメチル基又は塩素原子を示す。
In the formula, R is a hydrogen atom or an alkyl group (C 1-
C 4) or a -CH 2 CH 2 Cl group, respectively R 1, R 2 and R 3 are a methyl group or a chlorine atom.

【0024】一般式(II)の化合物の例を挙げれば、
1,2−ジクロロエタン、プロピルクロリド、n−ブチ
ルクロリド、t−ブチルクロリド等がある。特に塩化水
素を使用するか、反応温度で分解して容易に塩化水素を
生成するブチルクロリドのようなアルキルクロリドを共
に使用すれば、一般式(IV)のジクロロシリル基を2個
有するトリス(シリル)メタンを主生成物として得、
1,2−ジクロロエタンのような分解して塩化水素を容
易に発生するアルキルクロリドを共に使用すれば、一般
式(VI)のトリクロロシリル基を2個有するトリス(シ
リル)メタンを主生成物として得ることができる。
Examples of the compound represented by the general formula (II) include:
1,2-dichloroethane, propyl chloride, n-butyl chloride, t-butyl chloride and the like. Especially when hydrogen chloride is used or when an alkyl chloride such as butyl chloride which decomposes easily at the reaction temperature to generate hydrogen chloride is used together, tris (silyl) having two dichlorosilyl groups represented by the general formula (IV) is used. ) Obtaining methane as the main product,
When used together with an alkyl chloride such as 1,2-dichloroethane which easily decomposes to generate hydrogen chloride, tris (silyl) methane having two trichlorosilyl groups of the general formula (VI) is obtained as a main product. be able to.

【0025】一般式(I)のジクロロメチルシラン化合
物と、一般式(II)の塩化水素又はアルキルクロリド
は、金属ケイ素と反応させる前に気体状態で混合する
か、一般式(I)の化合物を液体状態にある一般式(I
I)の化合物に吹き入れて混ぜることもできる。2つの
化合物の混合は、重量比で又は容量比でどの比率でも混
ぜることができる。しかし一般式(II)の比率が高くな
れば、生成物において一般式(IV)の比率が高くなる。
一般式(IV)のケイ素と水素の結合とを有する化合物の
生成比率を高くしたければ、混合する一般式(II)のモ
ル数を一般式(I)の1モル当り0.1〜6.0モル使
用することができるが、3〜5モルが適当である。
The dichloromethylsilane compound of the general formula (I) and the hydrogen chloride or alkyl chloride of the general formula (II) are mixed in the gaseous state before reacting with the metal silicon, or the compound of the general formula (I) is mixed. General formula (I
It is also possible to spray into the compound of I) and mix. The two compounds can be mixed in any ratio by weight or by volume. However, the higher the proportion of general formula (II), the higher the proportion of general formula (IV) in the product.
If it is desired to increase the production ratio of the compound of the general formula (IV) having a bond of silicon and hydrogen, the number of moles of the general formula (II) to be mixed is 0.1 to 6. Although 0 mol can be used, 3 to 5 mol is suitable.

【0026】本発明で使用する反応槽は、撹拌型か流動
型反応槽が良く、回分式でも連続的に反応させることが
可能である。
The reaction vessel used in the present invention is preferably a stirring type or fluidized type reaction vessel, and it is possible to carry out the reaction continuously even in a batch system.

【0027】金属ケイ素は工業用ケイ素を使用しうる
が、その純度が95%以上であれば使用が可能であり、
望ましくは98%以上であるものが好ましい。反応に適
合したケイ素粉末の大きさは1から200ミクロン迄の
粉末が適当であるが、反応槽の大きさと形に従い、適当
なケイ素粉末の大きさと分布の選択は異なることができ
る。流動型反応槽を使用する場合には、20から200
ミクロン迄の粉末が適当である。
As the metal silicon, industrial silicon can be used, but if its purity is 95% or more, it can be used.
It is preferably 98% or more. Suitable size of silicon powder suitable for the reaction is 1 to 200 micron powder, but the selection of suitable size and distribution of silicon powder can be varied according to the size and shape of the reaction vessel. 20 to 200 if a fluidized reactor is used
Powders up to micron are suitable.

【0028】反応温度は200℃から360℃迄可能で
あるが、好ましくは250〜350℃、より好ましくは
260℃から320℃が適当である。反応圧力は常圧か
ら5気圧迄使用することができ、圧力を高めれば反応速
度が速くなる。
The reaction temperature can be from 200 ° C to 360 ° C, preferably 250 to 350 ° C, more preferably 260 ° C to 320 ° C. The reaction pressure can be from atmospheric pressure to 5 atm, and the reaction rate can be increased by increasing the pressure.

【0029】触媒は、金属銅又は反応条件で銅を遊離し
うる銅化合物を使用することができる。銅の使用量は1
%から20%迄使用しうるが、好ましくは5〜10%が
適当である。銅触媒以外に、銅の重量に対し0.001
%から5%の間の助触媒を使用すれば、反応が速くなる
か又は特定生成物に対する選択性を高めることができ
る。この反応に適当な助触媒の例を挙げれば次の通りで
あるが、これに制限されるものではない。カルシウム、
亜鉛、カドミウム、マンガン、マグネシウム、銀、クロ
ム等の金属と、反応条件でこの金属を生成することので
きる金属化合物を使用することができる。
The catalyst may be metallic copper or a copper compound capable of liberating copper under the reaction conditions. Copper usage is 1
% To 20% can be used, but 5 to 10% is preferable. Other than copper catalyst, 0.001 relative to the weight of copper
% To 5% co-catalyst can be used to speed up the reaction or increase the selectivity for specific products. Examples of suitable cocatalysts for this reaction include, but are not limited to: calcium,
It is possible to use metals such as zinc, cadmium, manganese, magnesium, silver and chromium, and metal compounds capable of producing this metal under reaction conditions.

【0030】[0030]

【発明の効果】本発明のクロロヒドロシリル基を有する
トリス(シリル)メタン類は、不飽和結合を有する有機
化合物に付加反応させて、種々の有機官能基を有するケ
イ素化合物を製造するのに有用な原料物質である。
INDUSTRIAL APPLICABILITY The tris (silyl) methanes having a chlorohydrosilyl group of the present invention are useful for the addition reaction of an organic compound having an unsaturated bond to produce silicon compounds having various organic functional groups. It is a raw material.

【0031】[0031]

【実施例】以下の実施例は、本発明をより詳細に説明す
るもので、本発明がこれにより限定されるものではな
い。
The following examples serve to explain the present invention in more detail, but the present invention is not limited thereto.

【0032】実施例1.Si/Cu接触混合物の製造
(I) 金属ケイ素360g(100〜325mesh)と塩化第1銅
(CuCl)62.3mgを反応槽に入れ、反応槽の温度
を250℃に高めた後、乾燥した窒素を流しながら約2
時間乾燥させた。乾燥後、反応槽の温度を370℃迄上
げれば、その反応生成物としてテトラクロロシランが生
成し、その結果、活性の大きいSi/Cu接触混合物が
生成する。この温度で約3時間維持して接触混合物を生
成させた後に、反応生成物であるテトラクロロシランを
採取した。主触媒である銅以外の助触媒として、カドミ
ウム、錫、亜鉛等を使用する場合には、接触混合物の生
成が完了した後に、反応槽の上部をあけ、必要量の助触
媒を投入し、撹拌して良く混ぜた後反応させた。
Example 1. Preparation of Si / Cu contact mixture (I) 360 g (100 to 325 mesh) of metallic silicon and 62.3 mg of cuprous chloride (CuCl) were placed in a reaction vessel, the temperature of the reaction vessel was raised to 250 ° C., and then dried nitrogen was added. About 2
Allowed to dry for hours. After drying, if the temperature of the reaction vessel is raised to 370 ° C., tetrachlorosilane is produced as the reaction product, and as a result, a highly active Si / Cu contact mixture is produced. After maintaining at this temperature for about 3 hours to form a contact mixture, the reaction product tetrachlorosilane was collected. When using cadmium, tin, zinc, etc. as a co-catalyst other than copper, which is the main catalyst, open the upper part of the reaction tank after the formation of the contact mixture is completed, add the necessary amount of co-catalyst, and stir. And mixed well and reacted.

【0033】実施例2.Si/Cu接触混合物の製造
(II) 金属ケイ素360g(100〜325mesh)と銅触媒40
g を反応槽に入れ、実施例1の条件で乾燥させた。乾燥
後、反応槽の温度を350℃に上げ、メチルクロリドを
反応槽下部の予熱管を通じて吹き入れてやれば、初期に
は若干の水が生成し、約40〜70分後にはそれらの反
応生成物としてジメチルジクロロシランとメチルトリク
ロロシランが生成し始め、受けフラスコに集められる。
これらが生成し始まるのは、即ちSi/Cu接触混合物
が生成している証拠であり、約2時間メチルクロリドと
反応させた後、メチルクロリドの供給を中断し、受けフ
ラスコの反応生成物を取り出した。反応に助触媒が必要
な場合には、実施例1で述べたような方法で投入し、反
応させた。
Example 2. Preparation of Si / Cu contact mixture (II) 360 g (100-325 mesh) of metallic silicon and 40 of copper catalyst
g was placed in a reaction tank and dried under the conditions of Example 1. After drying, if the temperature of the reaction tank is raised to 350 ° C. and methyl chloride is blown through the preheating tube at the bottom of the reaction tank, some water will be generated in the initial stage, and after 40 to 70 minutes, the reaction will be generated. Dimethyldichlorosilane and methyltrichlorosilane start to form as a substance and are collected in a receiving flask.
These start to be produced, that is, evidence that a Si / Cu contact mixture has been produced. After reacting with methyl chloride for about 2 hours, the methyl chloride supply was interrupted and the reaction product in the receiving flask was taken out. It was When a cocatalyst was required for the reaction, it was charged by the method as described in Example 1 and reacted.

【0034】触媒の配合比が異なるSi/Cu接触混合
物を準備して使用したが、その組成は表1の通りであ
る。
Si / Cu contact mixtures having different catalyst compounding ratios were prepared and used. Their compositions are shown in Table 1.

【0035】[0035]

【表1】 [Table 1]

【0036】実施例3.ジクロロメチルジメチルクロロ
シランと塩化水素の1:4混合気体と金属ケイ素との反
応 本実施例は、実験番号3が典型的な例である。実施例2
で準備した試料番号I−3のSi/Cu接触混合物40
2g を撹拌型反応槽に入れ、反応槽温度を280℃に高
めた後、反応槽下部の注射器ポンプにジクロロメチルジ
メチルクロロシランを入れ、窒素気体を200ml/minの
速度で吹き入れながら、同時に塩化水素を200ml/min
の速度で反応槽に流入させ、シランは20.0ml/hr.の
速度で流入させた。反応開始1分後から発熱反応による
温度上昇が観察でき反応生成物が反応槽上部に設置され
た受けフラスコに集まり始めた。このような条件を継続
維持しながら、30分毎に反応生成物を取り出し、2時
間の間に使用したジクロロメチルジメチルクロロシラン
は49.5g であり、取り出した反応生成物は78.6
g であった。ここで生成した反応生成物は気体クロマト
グラフ(packed column, 5%SE-54, 0.9m×1/8 ″O.D.,
SS, TCD)を使用して分析し、各成分を分別蒸溜して核磁
気共鳴分光分析器でその構造を確認した。
Example 3. Reaction of 1: 4 Mixed Gas of Dichloromethyldimethylchlorosilane and Hydrogen Chloride with Metallic Silicon In this example, Experiment No. 3 is a typical example. Example 2
Sample No. I-3 Si / Cu contact mixture 40 prepared in
2g was put in a stirred reaction tank, the temperature of the reaction tank was raised to 280 ° C, dichloromethyldimethylchlorosilane was put in the syringe pump at the bottom of the reaction tank, and while blowing nitrogen gas at a rate of 200ml / min, hydrogen chloride was simultaneously added. To 200 ml / min
And silane at a rate of 20.0 ml / hr. One minute after the start of the reaction, a temperature rise due to the exothermic reaction was observed, and reaction products began to collect in the receiving flask installed in the upper part of the reaction tank. While continuously maintaining such conditions, the reaction product was taken out every 30 minutes and the amount of dichloromethyldimethylchlorosilane used during 2 hours was 49.5 g, and the reaction product taken out was 78.6 g.
It was g. The reaction product generated here is a gas chromatograph (packed column, 5% SE-54, 0.9m × 1/8 ″ OD,
It analyzed by using SS, TCD) and each component was fractionally distilled and its structure was confirmed by the nuclear magnetic resonance spectroscopy.

【0037】ここで生成した反応生成物の組成は、1,
1,3−トリクロロ−3−メチル−2−(ジクロシリ
ル)−1,3−ジシラブタン(一般式IV)43.3g(5
5.1%)〔NMR(CDCl3), δ, 5.81(d, 2H, Si-H), 1.2
4(s, 1H, -CH=), 0.75(s, 6H,-CH3) 〕と、1,1,3
−トリクロロ−3−メチル−2−(トリクロロシリル)
−1,3−ジシラブタン(一般式V)14.5g(18.
5%)〔NMR(CDCl3), δ, 5.85(s, 1H, Si-H), 1.53(s,
1H, -CH=), 0.79(s, 6H, -CH3) 〕;そして1,1,
1,3−テトラクロロ−3−メチル−2−(トリクロロ
シリル)−1,3−ジシラブタン(一般式VI)1.4g
(1.8%)〔NMR(CDCl3), δ, 1.74(s, 1H,-CH=), 0.8
3(s, 6H, -CH3)〕が得られた。これらの他の副産物とし
て、出発物質シランが塩化水素により還元されて生成し
たクロロメチルジメチルクロロシランが反応し、1,
1,3−トリクロロ−3−メチル−1,3−ジシラブタ
ンと1,1,1,3−テトラクロロ−3−メチル−1,
3−ジシラブタンも各々10.7%と1.2%生成し
た。その他の副産物12.7%中には、トリクロロシラ
ンが5.7%、テトラクロロシランが0.8%、そして
トリメチルクロロシランが1.0%であり、残りは未確
認物質であった。
The composition of the reaction product produced here is 1,
1,3-trichloro-3-methyl-2- (dichlorosilyl) -1,3-disilabutane (general formula IV) 43.3 g (5
5.1%) [NMR (CDCl 3 ), δ, 5.81 (d, 2H, Si-H), 1.2
4 (s, 1H, -CH =), 0.75 (s, 6H, -CH 3 )], 1,1,3
-Trichloro-3-methyl-2- (trichlorosilyl)
-1,3-disilabutane (general formula V) 14.5 g (18.
5%) [NMR (CDCl 3 ), δ, 5.85 (s, 1H, Si-H), 1.53 (s,
1H, -CH =), 0.79 (s, 6H, -CH 3 )]; and 1,1,
1.4 g of 1,3-tetrachloro-3-methyl-2- (trichlorosilyl) -1,3-disilabutane (general formula VI)
(1.8%) [NMR (CDCl 3 ), δ, 1.74 (s, 1H, -CH =), 0.8
3 (s, 6H, -CH 3 ) ] was obtained. As these other by-products, chloromethyldimethylchlorosilane produced by reducing the starting silane with hydrogen chloride reacts,
1,3-trichloro-3-methyl-1,3-disilabutane and 1,1,1,3-tetrachloro-3-methyl-1,
3-disilabutane was also produced at 10.7% and 1.2%, respectively. In 12.7% of other by-products, trichlorosilane was 5.7%, tetrachlorosilane was 0.8%, and trimethylchlorosilane was 1.0%, and the rest was an unidentified substance.

【0038】上の実験と同じ反応物質、反応槽、触媒、
助触媒の存在下で、反応温度だけを変化させて得た反応
生成物の組成を表2に示す。
The same reactants, reaction tanks, catalysts,
The composition of the reaction product obtained by changing only the reaction temperature in the presence of the cocatalyst is shown in Table 2.

【0039】[0039]

【表2】 [Table 2]

【0040】実施例4.ジクロロメチルジメチルクロロ
シランと塩化水素の混合気体と金属ケイ素との反応 実施例3の接触混合物を使用し、同じ形態の反応槽、同
じ反応条件、320℃の反応温度で反応させたが、塩化
水素とジクロロメチルジメチルクロロシランのモル比を
異なるようにして反応させた。表3にはこれらのモル比
が異なるようにして得た反応生成物の組成を表した。表
3で実験番号10は、酸性白土を接触混合物に対して5
%である20.0g を使用して反応させた結果である。
この反応で、接触混合物が約20%程度消耗された時、
消耗された量だけの活性化した接触混合物を加えて反応
させたときにも同じ結果を得た。
Example 4. Reaction of mixed gas of dichloromethyldimethylchlorosilane and hydrogen chloride with metallic silicon The reaction mixture of Example 3 was used and reacted in the same form of reaction vessel, the same reaction conditions and a reaction temperature of 320 ° C., but with hydrogen chloride. The reaction was carried out with different molar ratios of dichloromethyldimethylchlorosilane. Table 3 shows the composition of the reaction products obtained with different molar ratios. In Table 3, experiment number 10 is 5 for acid clay to contact mixture.
It is the result of reaction using 20.0 g which is%.
In this reaction, when the contact mixture is consumed about 20%,
The same result was obtained when the exhausted amount of activated contact mixture was added and reacted.

【0041】[0041]

【表3】 [Table 3]

【0042】実施例5.ジクロロメチルジメチルクロロ
シランと塩化水素の混合気体と金属ケイ素との反応 実施例1に示した表2の接触混合物を準備し、実施例3
の実験番号3と接触混合物の種類だけが異なり、他の条
件はすべて同じ反応条件で反応させ、得た反応生成物の
組成を表4に示す。
Example 5. Reaction of Mixed Gas of Dichloromethyldimethylchlorosilane and Hydrogen Chloride with Metallic Silicon A contact mixture of Table 2 shown in Example 1 was prepared, and Example 3 was prepared.
No. 3 of Experiment No. 3 except for the type of the contact mixture, the other reaction conditions were all the same, and the composition of the obtained reaction product is shown in Table 4.

【0043】[0043]

【表4】 [Table 4]

【0044】実施例6.ジクロロメチルジメチルクロロ
シランと塩化アルキルの混合気体と金属ケイ素との反応 本実施例は、表5の実験番号26の典型的な例である。
実施例2の試料番号I−3の接触混合物を準備し、反応
出発物質としてジクロロメチルジメチルクロロシラン6
6.6g(0.375mole)と塩化水素供給源としてt−
ブチルクロリド138.7g(1.500mole)を混ぜ
て、1:4モル比の混合物を製造した。これらの混合物
を反応温度280℃の窒素気体下(200ml/min)で7
4ml/hr の速度で反応槽内に流入させ、2.0時間反応
させた結果83.8g の反応生成物を得た。
Example 6. Reaction of Mixed Gas of Dichloromethyldimethylchlorosilane and Alkyl Chloride with Metallic Silicon This example is a typical example of Experiment No. 26 in Table 5.
A contact mixture of Sample No. I-3 of Example 2 was prepared and the reaction starting material was dichloromethyldimethylchlorosilane 6
6.6 g (0.375 mole) and t-as hydrogen chloride source
Butyl chloride (138.7 g, 1.500 mole) was mixed to prepare a mixture having a molar ratio of 1: 4. These mixtures were reacted at a reaction temperature of 280 ° C. under nitrogen gas (200 ml / min).
The mixture was allowed to flow into the reaction vessel at a rate of 4 ml / hr and reacted for 2.0 hours to obtain 83.8 g of a reaction product.

【0045】この反応生成物の組成は、1,1,3−ト
リクロロ−3−メチル−2−(ジクロロシリル)−1,
3−ジシラブタン(一般式IV)36.2g(43.2
%);1,1,3−ジクロロ−3−メチル−2−(トリ
クロロシリル)−1,3−ジシラブタン(一般式V)
9.1g(10.8%);そして1,1,1,3−テトラ
クロロ−3−メチル−2−(トリクロロシリル)−1,
3−ジシラブタン(一般式VI)1.8g(2.1%)であ
った。その他の副産物として、1,1,3−トリクロロ
−3−メチル−1,3−ジシラブタン9.8%、1,
1,1,3−テトラクロロ−3−メチル−1,3−ジシ
ラブタン2.1%、トリクロロシラン6.3%及びテト
ラクロロシラン0.8%であり、未反応の出発物質は全
くなかった。
The composition of this reaction product is 1,1,3-trichloro-3-methyl-2- (dichlorosilyl) -1,
3-Disilabutane (general formula IV) 36.2 g (43.2)
%); 1,1,3-dichloro-3-methyl-2- (trichlorosilyl) -1,3-disilabutane (general formula V)
9.1 g (10.8%); and 1,1,1,3-tetrachloro-3-methyl-2- (trichlorosilyl) -1,
The amount of 3-disilabutane (general formula VI) was 1.8 g (2.1%). Other by-products include 1,1,3-trichloro-3-methyl-1,3-disilabutane 9.8%, 1,
There were 2.1% 1,1,3-tetrachloro-3-methyl-1,3-disilabutane, 6.3% trichlorosilane and 0.8% tetrachlorosilane, and there was no unreacted starting material.

【0046】またこの反応では、反応中にコンデンサー
で凝縮されずに外に抜け出た気体の成分は、t−ブチル
クロリドが高温で分解されて塩化水素を発生し、生成し
たイソブテンであった。またt−ブチルクロリドの使用
量を半分に減らし、その量だけの塩化水素を使用しても
同じ結果を得た。
Further, in this reaction, the gas component that escaped to the outside without being condensed by the condenser during the reaction was isobutene produced by the decomposition of t-butyl chloride at a high temperature to generate hydrogen chloride. The same result was obtained by reducing the amount of t-butyl chloride used by half and using only that amount of hydrogen chloride.

【0047】表5は、ジクロロメチルジメチルクロロシ
ランと種々の塩化アルキルの混合気体と金属ケイ素を、
反応条件が異なるようにして反応させ、得た反応生成物
の組成を表わしたものである。
Table 5 shows a mixed gas of dichloromethyldimethylchlorosilane and various alkyl chlorides and metallic silicon.
The composition of the reaction product obtained by reacting under different reaction conditions is shown.

【0048】[0048]

【表5】 [Table 5]

【0049】実施例7.流動型反応槽を使用したジクロ
ロメチルジメチルクロロシランと塩化アルキル又は塩化
水素との混合気体と金属ケイ素との反応 前で言及した流動型反応槽を使用し、実施例2の試料番
号I−3の接触混合物402g を反応槽に入れ、反応槽
の温度を280℃に高めた後、反応槽の下部に装置した
予熱管を通じて反応出発物シランと塩化水素の1:4モ
ル比の混合物を反応槽内に流入させた。このとき金属ケ
イ素の流動化を助けるために、乾燥した窒素気体を約2
00ml/minの速度で反応物質と共に流してやった。2.
0時間の反応を通じて得られた反応生成物の量は55.
4g であり、反応に使用したジクロロメチルジメチルク
ロロシランは49.5g であった。これらの反応生成物
の組成を確認した結果は表6に示した通りであり、出発
物質シランも多く回収されていることが分った。表6の
実験は、すべて流動型反応槽を使用し、同じ反応温度、
同じ接触混合物を使用して反応させ、塩化水素の供給源
とシランとのモル比はすべて1:4で反応させ、実験番
号33は実験番号32と同じ条件であるが、反応槽の圧
力を3kg/cm2に高めて反応させた結果である。
Example 7. Reaction of mixed gas of dichloromethyldimethylchlorosilane with alkyl chloride or hydrogen chloride and metallic silicon using fluidized reactor Using the fluidized reactor mentioned above, contact of sample No. I-3 of Example 2 After 402 g of the mixture was put into the reaction vessel and the temperature of the reaction vessel was raised to 280 ° C., a mixture of silane and hydrogen chloride, which was a reaction starting material, in a molar ratio of 1: 4 was introduced into the reaction vessel through a preheating tube installed at the bottom of the reaction vessel. Let it flow. At this time, in order to help the fluidization of metallic silicon, dry nitrogen gas is added to about 2
Flowed with reactants at a rate of 00 ml / min. 2.
The amount of the reaction product obtained through the reaction for 0 hours was 55.
4 g, and the dichloromethyldimethylchlorosilane used in the reaction was 49.5 g. The results of confirming the compositions of these reaction products are as shown in Table 6, and it was found that a large amount of the starting material silane was also recovered. The experiments in Table 6 all used a fluidized reactor and the same reaction temperature,
The reaction was performed using the same contact mixture, the molar ratio of the hydrogen chloride source to the silane was 1: 4, and Experiment No. 33 was under the same conditions as Experiment No. 32, but the pressure in the reaction vessel was 3 kg. This is the result of increasing the reaction to / cm 2 and reacting.

【0050】[0050]

【表6】 [Table 6]

【0051】実施例8.ジクロロメチルメチルジクロロ
シランと塩化水素の混合気体と金属ケイ素との反応 実施例2の試料番号I−3の接触混合物を準備し、ジク
ロロメチルメチルジクロロシラン55.3g と塩化水素
の1:4モル比の混合物を、実施例3の反応条件と28
0℃の反応温度で2.0時間反応させ、その反応生成物
81.6g を得た。
Example 8. Reaction of mixed gas of dichloromethylmethyldichlorosilane and hydrogen chloride with metallic silicon A contact mixture of sample No. I-3 of Example 2 was prepared, and 55.3 g of dichloromethylmethyldichlorosilane and hydrogen chloride were mixed at a 1: 4 molar ratio. To the reaction conditions of Example 3 and 28
The reaction was carried out at a reaction temperature of 0 ° C. for 2.0 hours to obtain 81.6 g of the reaction product.

【0052】反応生成物の組成を確認した結果、1,
1,3,3−テトラクロロ−2−(ジクロロシリル)−
1,3−ジシラブタン(一般式IV)45.7g(56%)
〔NMR(CDCl3), δ, 5.84(s, 2H, Si-H), 1.56(s, 1H, -
CH=), 1.10(s, 3H, -CH3) 〕;1,1,1,3−テトラ
クロロ−2−(トリクロロシリル)−1,3−ジシラブ
タン(一般式V)14.3g(17.5%)〔NMR(CDC
l3), δ, 5.88(s, 1H, Si-H), 1.83(s, 1H, -CH=), 1.1
3(s, 3H, -CH3) 〕;そして1,1,1,3,3−ペン
タクロロ−2−(トリクロロシリル)−1,3−ジシラ
ブタン(一般式VI)1.8g(2.2%)〔NMR(CDCl3),
δ, 2.10(s, 1H, Si-H), 1.16(s, 3H, -CH3)〕が得られ
た。その他の副産物として1,1,3,3−テトラクロ
ロ−1,3−ジシラブタンが11.0%、そして1,
1,1,3,3−ペンタクロロ−1,3−ジシラブタン
が1.3%生成した。その外にトリクロロシランが2.
2%、そしてテトラクロロシランが0.4%であり、残
りの9.4%が種々の未確認物質であった。
As a result of confirming the composition of the reaction product, 1,
1,3,3-tetrachloro-2- (dichlorosilyl)-
1,3-disilabutane (general formula IV) 45.7 g (56%)
(NMR (CDCl 3 ), δ, 5.84 (s, 2H, Si-H), 1.56 (s, 1H,-
CH =), 1.10 (s, 3H, -CH 3) ]; 1,1,1,3-tetrachloro-2- (trichlorosilyl) -1,3 disilabutane (Formula V) 14.3 g (17. 5%) [NMR (CDC
l 3 ), δ, 5.88 (s, 1H, Si-H), 1.83 (s, 1H, -CH =), 1.1
3 (s, 3H, -CH 3 )]; and 1,1,1,3,3-pentachloro-2- (trichlorosilyl) -1,3-disilabutane (general formula VI) 1.8 g (2.2%) ) [NMR (CDCl 3 ),
δ, 2.10 (s, 1H, Si-H), 1.16 (s, 3H, -CH 3 )] were obtained. Other by-products include 11.0% 1,1,3,3-tetrachloro-1,3-disilabutane, and 1,
1.3% of 1,1,3,3-pentachloro-1,3-disilabutane was produced. In addition to that, trichlorosilane is 2.
2%, and tetrachlorosilane 0.4%, the remaining 9.4% were various unidentified substances.

【0053】実施例9.ジクロロメチルトリクロロシラ
ンと塩化水素の混合気体と金属ケイ素との反応 実施例2の試料番号I−3の接触混合物を準備し、ジク
ロロメチルトリクロロシラン60.8g と塩化水素の
1:4モル比の混合物を、実施例8の反応条件で2.0
時間反応させ、その反応生成物を82.4g 得た。
Example 9. Reaction of mixed gas of dichloromethyltrichlorosilane and hydrogen chloride with metallic silicon A contact mixture of Sample No. I-3 of Example 2 was prepared, and 60.8 g of dichloromethyltrichlorosilane and hydrogen chloride were mixed at a ratio of 1: 4. At 2.0 under the reaction conditions of Example 8.
After reacting for 8 hours, 82.4 g of the reaction product was obtained.

【0054】反応生成物の組成を確認した結果、1,
1,1,3,3−ペンタクロロ−2−(ジクロロシリ
ル)−1,3−ジシラプロパン(一般式VI)39.6g
(48.0%)〔NMR(CDCl3), δ, 5.87(s, 2H, Si-H),
1.83(s, 1H, -CH=)〕;1,1,1,3,3−ペンタク
ロロ−2−(トリクロロシリル)−1,3−ジシラプロ
パン(一般式V)11.1g(13.5%)〔NMR(CDC
l3), δ, 5.89(s, 1H, Si-H), 2.10(s, 1H, -CH=)〕;
そして1,1,1,3,3,3−ヘキサクロロ−2−
(トリクロロシリル)−1,3−ジシラプロパン(一般
式VI)2.1g(2.6%)〔NMR(CDCl3), δ, 2.37(s,
1H, -CH=) 〕が得られた。その他の副産物として1,
1,1,3,3−ペンタクロロ−1,3−ジシラプロパ
ンが13.6%、そして1,1,1,3,3,3−ヘキ
サクロロ−1,3−ジシラプロパンが3.3%生成し
た。その外にトリクロロシランが7.1%、そしてテト
ラクロロシランが0.9%であり、残りの11.0%が
種々の未確認物質であった。
As a result of confirming the composition of the reaction product, 1,
3,9.6 g of 1,1,3,3-pentachloro-2- (dichlorosilyl) -1,3-disilapropane (general formula VI)
(48.0%) [NMR (CDCl 3 ), δ, 5.87 (s, 2H, Si-H),
1.83 (s, 1H, -CH =)]; 1,1,1,3,3-pentachloro-2- (trichlorosilyl) -1,3-disilapropane (general formula V) 11.1 g (13.5%) (NMR (CDC
l 3 ), δ, 5.89 (s, 1H, Si-H), 2.10 (s, 1H, -CH =)];
And 1,1,1,3,3,3-hexachloro-2-
2.1 g (2.6%) of (trichlorosilyl) -1,3-disilapropane (general formula VI) [NMR (CDCl 3 ), δ, 2.37 (s,
1H, -CH =)] was obtained. 1, as other by-products
1,1,3,3-Pentachloro-1,3-disilapropane was produced at 13.6% and 1,1,1,3,3,3-hexachloro-1,3-disilapropane was produced at 3.3%. In addition, trichlorosilane was 7.1%, tetrachlorosilane was 0.9%, and the remaining 11.0% was various unidentified substances.

【0055】実施例10.ジクロロメチルトリメチルシ
ランと塩化水素の混合気体と金属ケイ素との反応 実施例2の試料番号I−3の接触混合物を準備し、ジク
ロロメチルメチルジクロロシラン41.6g と塩化水素
の1:4モル比の混合物を、実施例8の反応条件で2.
0時間反応させ、その反応生成物を72.1g 得た。
Example 10. Reaction of a mixed gas of dichloromethyltrimethylsilane and hydrogen chloride with metallic silicon A contact mixture of sample No. I-3 of Example 2 was prepared, and 41.6 g of dichloromethylmethyldichlorosilane and hydrogen chloride were mixed in a 1: 4 molar ratio. The mixture was stirred under the reaction conditions of Example 8.2.
After reacting for 0 hour, 72.1 g of the reaction product was obtained.

【0056】反応生成物の組成を確認した結果、1,1
−ジクロロ−3,3−ジメチル−2−(ジクロロシリ
ル)−1,3−ジシラブタン(一般式VI)38.3g(5
3.1%)〔NMR(CDCl3);δ, 5.74(s, 2H, Si-H), 0.8
1(s, 1H, -CH=), 0.35(s, 9H,-CH3) 〕;1,1−ジク
ロロ−3,3−ジメチル−2−(トリクロロシリル)−
1,3−ジラブタン(一般式V)7.1g(9.9%)
〔NMR(CDCl3), δ, 5.77(s, 1H, Si-H), 1.10(s, 1H, -
CH=), 0.39(s, 9H, -CH3) 〕;そして1,1,1−トリ
クロロ−3,3−ジメチル−2−(トリクロロシリル)
−1,3−ジシラブタン(一般式VI)0.6%〔NMR(CD
Cl3), δ, 1.39(s, -CH=), 0.43(s, 9H, -CH3)〕が得ら
れた。その他の副産物として2,2,4−トリクロロ−
3−(ジクロロシリル)−4−メチル−2,4−ジシラ
ペンタン7.5g(10.4%)〔NMR(CDCl3), δ, 5.84
(s, 1H, Si-H), 1.22(s, 1H, -CH=), 1.06(s, 3H, -C
H3); 0.76(s, 6H, -CH3)〕;1,1−ジクロロ−3,3
−ジメチル−1,3−ジシラブタンが12.3%、そし
て1,1,1−トリクロロ−3,3−ジメチル−1,3
−ジシラブタンが1.0%生成した。その外にトリクロ
ロシランが3.0%、そしてテトラクロロシランが0.
3%であり、残りの9.4%が種々の未確認物質であっ
た。
As a result of confirming the composition of the reaction product, 1,1
-Dichloro-3,3-dimethyl-2- (dichlorosilyl) -1,3-disilabutane (general formula VI) 38.3 g (5
3.1%) [NMR (CDCl 3 ); δ, 5.74 (s, 2H, Si-H), 0.8
1 (s, 1H, -CH = ), 0.35 (s, 9H, -CH 3) ]; 1,1-dichloro-3,3-dimethyl-2- (trichlorosilyl) -
7.1 g (9.9%) of 1,3-dilabtan (general formula V)
(NMR (CDCl 3 ), δ, 5.77 (s, 1H, Si-H), 1.10 (s, 1H,-
CH =), 0.39 (s, 9H, -CH 3) ]; and 1,1,1-trichloro-3,3-dimethyl-2- (trichlorosilyl)
-1,3-disilabutane (general formula VI) 0.6% [NMR (CD
Cl 3 ), δ, 1.39 (s, -CH =), 0.43 (s, 9H, -CH 3 )] were obtained. Other by-products include 2,2,4-trichloro-
7.5 g (10.4%) of 3- (dichlorosilyl) -4-methyl-2,4-disilapentane [NMR (CDCl 3 ), δ, 5.84
(s, 1H, Si-H), 1.22 (s, 1H, -CH =), 1.06 (s, 3H, -C
H 3); 0.76 (s, 6H, -CH 3) ]; 1,1-dichloro-3,3
12.3% dimethyl-1,3-disilabutane and 1,1,1-trichloro-3,3-dimethyl-1,3
-1.0% disilabutane was produced. Other than that, trichlorosilane is 3.0% and tetrachlorosilane is 0.
3% and the remaining 9.4% were various unidentified substances.

Claims (19)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 一般式(III)の化合物。 【化1】 上記式中、R1 、R2 及びR3 はすべてメチル基を示す
か;R1 がメチル基を示し、R2 及びR3 が塩素原子を
示すか;又はR1 は塩素原子を示し、R2 及びR3 はメ
チル基を示す。R4 及びR5 は−SiHCl2 基を示す
か;R4 は−SiHCl2 基を示し、R5 は−SiCl
3 基を示すか、又はR4 およびR5 は−SiCl3 基を
示す。
1. A compound of general formula (III). [Chemical 1] In the above formula, R 1 , R 2 and R 3 all represent a methyl group; R 1 represents a methyl group and R 2 and R 3 represent a chlorine atom; or R 1 represents a chlorine atom, R 1 2 and R 3 represent a methyl group. R 4 and R 5 represent a —SiHCl 2 group; R 4 represents a —SiHCl 2 group, and R 5 represents —SiCl
3 groups or R 4 and R 5 represent a —SiCl 3 group.
【請求項2】 一般式(I)で示される化合物と一般式
(II)で示される化合物の混合気体を、銅触媒の存在下
で、金属ケイ素と反応させて、一般式(IV)、(V)及
び(VI)で示される化合物を製造する方法。 【化2】 上記式中、R1 、R2 及びR3 はそれぞれメチル基又は
塩素原子を示し、Rは水素原子、低級アルキル基又は−
CH2 CH2 Cl基を示す。
2. A mixed gas of a compound represented by the general formula (I) and a compound represented by the general formula (II) is reacted with metallic silicon in the presence of a copper catalyst to give a compound represented by the general formula (IV), ( A method for producing the compounds represented by V) and (VI). [Chemical 2] In the above formula, R 1 , R 2 and R 3 each represent a methyl group or a chlorine atom, and R represents a hydrogen atom, a lower alkyl group or-
A CH 2 CH 2 Cl group is shown.
【請求項3】 一般式(I)のR1 、R2 及びR3 がす
べてメチル基である請求項2の製造方法。
3. The method according to claim 2, wherein R 1 , R 2 and R 3 in the general formula (I) are all methyl groups.
【請求項4】 一般式(I)のR1 がメチル基であり、
2 及びR3 が塩素原子である請求項2の製造方法。
4. R 1 of the general formula (I) is a methyl group,
The method according to claim 2, wherein R 2 and R 3 are chlorine atoms.
【請求項5】 一般式(I)のR2 及びR3 がメチル基
であり、R1 が塩素原子である請求項2の製造方法。
5. The process according to claim 2, wherein R 2 and R 3 in the general formula (I) are methyl groups and R 1 is a chlorine atom.
【請求項6】 一般式(I)のR1 、R2 及びR3 がす
べて塩素原子である請求項2の製造方法。
6. The method according to claim 2, wherein R 1 , R 2 and R 3 in the general formula (I) are all chlorine atoms.
【請求項7】 一般式(II)の化合物が塩化水素である
請求項2の製造方法。
7. The method according to claim 2, wherein the compound of the general formula (II) is hydrogen chloride.
【請求項8】 一般式(II)のRがプロピル基である請
求項2の製造方法。
8. The method according to claim 2, wherein R in the general formula (II) is a propyl group.
【請求項9】 一般式(II)のRがn−ブチル基である
請求項2の製造方法。
9. The method according to claim 2, wherein R in the general formula (II) is an n-butyl group.
【請求項10】 一般式(II)のRがt−ブチル基であ
る請求項2の製造方法。
10. The method according to claim 2, wherein R in the general formula (II) is a t-butyl group.
【請求項11】 一般式(II)のRが2−クロロエチル
基である請求項2の製造方法。
11. The method according to claim 2, wherein R in the general formula (II) is a 2-chloroethyl group.
【請求項12】 一般式(II)のアルキルクロリドを、
一般式(I)のジクロロメチル基を有するシランに対し
モル比で0.5〜6倍になるように混合して反応させる
請求項2の製造方法。
12. An alkyl chloride of the general formula (II)
The production method according to claim 2, wherein the silane having a dichloromethyl group of the general formula (I) is mixed and reacted at a molar ratio of 0.5 to 6 times.
【請求項13】 一般式(II)の化合物が塩化水素と他
の一般式(II)の化合物を1:1のモル比で混合したも
のである請求項2の製造方法。
13. The process according to claim 2, wherein the compound of general formula (II) is a mixture of hydrogen chloride and another compound of general formula (II) in a molar ratio of 1: 1.
【請求項14】 流動型反応槽又は螺旋型撹拌器を備え
た反応槽で反応させる請求項2の製造方法。
14. The method according to claim 2, wherein the reaction is carried out in a fluidized reaction tank or a reaction tank equipped with a spiral stirrer.
【請求項15】 反応物質を1気圧から5気圧迄の圧力
下で反応させる請求項2の製造方法。
15. The method according to claim 2, wherein the reactants are reacted under a pressure of 1 to 5 atmospheres.
【請求項16】 球型の微細粉末酸性白土を、金属ケイ
素重量に対して1〜50%添加して反応させる請求項2
の製造方法。
16. A spherical fine powdery acid clay is added in an amount of 1 to 50% with respect to the weight of metallic silicon, and the mixture is reacted.
Manufacturing method.
【請求項17】 触媒として、金属銅又は反応条件で銅
を生成する銅化合物を、反応物質に対して重量比で1〜
20%添加し、250〜350℃で反応させる請求項2
の製造方法。
17. A catalyst comprising, as a catalyst, metallic copper or a copper compound which produces copper under the reaction conditions in a weight ratio of 1 to the reaction substance.
20% is added and it is made to react at 250-350 degreeC.
Manufacturing method.
【請求項18】 カルシウム、チタン、カドミウム、
錫、亜鉛、銀、マグネシウム、マンガン、クロム及びそ
れらの金属化合物から選ばれる少なくとも1つの助触媒
を、反応固体全体の0.001〜5%添加して反応させ
る請求項17の製造方法。
18. Calcium, titanium, cadmium,
18. The production method according to claim 17, wherein at least one promoter selected from tin, zinc, silver, magnesium, manganese, chromium and metal compounds thereof is added and reacted in an amount of 0.001 to 5% of the whole reaction solid.
【請求項19】 Si/Cu接触混合物が、反応してそ
の量が消耗したときに、消耗した量だけのSi/Cu接
触混合物を追加して連続的に反応させる請求項2の製造
方法。
19. The method according to claim 2, wherein when the Si / Cu contact mixture reacts and its amount is consumed, only the consumed amount of the Si / Cu contact mixture is additionally reacted.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2000351785A (en) * 1999-05-17 2000-12-19 Dow Corning Corp Silicon compound containing silamethylene bond and method for producing the same
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JP2008511711A (en) * 2004-08-31 2008-04-17 シレクス オサケユキチュア New polyorganosiloxane dielectrics
JP2013098028A (en) * 2011-11-01 2013-05-20 Adeka Corp Nonaqueous electrolyte secondary battery, and new fluorosilane compound

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