JPH0720052A - 濃度測定装置 - Google Patents
濃度測定装置Info
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- JPH0720052A JPH0720052A JP18704093A JP18704093A JPH0720052A JP H0720052 A JPH0720052 A JP H0720052A JP 18704093 A JP18704093 A JP 18704093A JP 18704093 A JP18704093 A JP 18704093A JP H0720052 A JPH0720052 A JP H0720052A
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Abstract
に判別して、処理液の濃度計算を行なう濃度測定装置を
提供する。 【構成】 半導体洗浄装置1は、制御部12が制御線5
0を介して操作弁8〜11を開閉制御することにより、
薬液供給タンク4〜7のいずれかの薬液を純水に調合し
て洗浄液とする。洗浄液は、洗浄液供給管2を順送され
て透過光強度測定用光学系32で透過光強度を測定され
る。演算部31は、制御部12から操作弁8〜11の制
御情報を得ることにより、洗浄液供給管2を流れる処理
液の種類を判断し、その処理液に応じた濃度算出方法を
決定し、その手順と前記透過光強度とに基づいて処理液
の濃度を算出する。
Description
うに少なくとも2種類の処理液を使い分ける装置におけ
る個々の処理液の濃度測定装置に関する。
とも2種類の処理液を使い分ける装置において個々の処
理液の濃度を測定するには、例えば、特開昭61−28
1532号公報や特開平3−220452に開示されて
いるように、まず処理液に紫外光や赤外光を照射して、
その透過光の強度を測定し、この透過光強度と測定した
対象の処理液に固有の濃度基準情報とを用いて濃度を算
出する。濃度基準情報は処理液ごとに異なるので、処理
液の濃度算出にあたっては、その処理液の種類を特定す
る必要がある。従来装置では、測定者が処理液の種類判
別情報を濃度測定装置にキーボード等から入力指示し
て、該当処理液の種類、すなわち濃度基準情報を指定し
ている。
うな構成を有する従来例の場合には、次のような問題が
ある。すなわち、従来装置は、濃度を求める際に、その
都度、測定者が濃度測定装置に対して処理液の種類判別
情報を入力指示する必要があるので煩雑であるという問
題点がある。
たものであって、測定者が処理液の種類判別情報を入力
指示することなく、処理液の濃度を求めることができる
濃度測定装置を提供することを目的とする。
的を達成するために、次のような構成をとる。すなわ
ち、本発明に係る濃度測定装置は、処理槽と、これに連
通する処理液供給路と、この処理液供給路に薬液供給路
を介して連通接続される複数種類の薬液源と、前記薬液
供給路を切り換える流路切り換え機構とを備えた処理装
置に用いられる濃度測定装置であって、前記処理液供給
路を流通する処理液に光を照射し、その透過光の強度を
測定する透過光強度測定手段と、前記流路切り換え機構
の制御情報に基づいて、前記処理液供給路に流れる処理
液の種類を判別する処理液判別手段と、複数種類の処理
液ごとに濃度基準情報を予め記憶し、前記処理液判別手
段からの情報に基づいて、該当処理液の濃度基準情報を
決定し、この濃度基準情報と前記透過光強度測定手段か
ら与えられた透過光強度とに基づいて処理液の濃度を求
める濃度算出手段とを備えたことを特徴とする。
本発明は、流路切り換え機構が適宜に切り換えられ、処
理液供給路に処理液が流通すると、透過光強度測定手段
は前記処理液の透過光強度を測定し、その測定データを
濃度算出手段に渡す。一方、処理液判別手段は、流路切
り換え機構の制御情報に基づいて、処理液供給路に流れ
る処理液の種類を判別して、その種類判別情報を濃度算
出手段に渡す。濃度算出手段は、処理液に応じて予め記
憶した複数種類の濃度基準情報の中から、前記種類判別
情報に基づいて該当処理液の濃度基準情報を決定し、こ
の濃度基準情報とその処理液の透過光強度とに基づいて
処理液の濃度を求める。
明する。図1は、本発明の一実施例に係る濃度測定装置
を含む半導体洗浄装置の概略構成を示す図である。
ために、フッ化水素酸(HF)等の薬液を使用する半導
体洗浄装置である。半導体洗浄装置1には、洗浄液供給
管2によってイオンを脱した水である純水が所定の圧力
で圧送される。洗浄液供給管2には、薬液と純水とを調
合して洗浄液(処理液)とする分岐管3が継合され、こ
の分岐管3には、薬液源としての薬液供給タンク4〜7
と、加圧ポンプPと、流路切り換え機構としての操作弁
8〜11及び流量調節弁Vとが薬液供給管2a〜2dを
介して接続されている。なお、操作弁8〜11は、後述
の制御部12から送られる操作弁制御情報に基づいて開
閉動作し、各薬液を洗浄液供給管2に送るか否かを制御
する。本実施例では、一例として薬液供給タンク4はフ
ッ化水素酸(HF)を貯蔵しており、薬液供給タンク5
はアンモニア(NH3 )を、薬液供給タンク6は塩酸
(HCl)を、薬液供給タンク7は過酸化水素水(H2
O2 )を、それぞれ貯蔵している。
部12に接続されている。制御部12は、半導体洗浄装
置1を制御するプログラムを記憶したROM12a、プ
ログラムを解釈実行するCPU12b、計算処理等で作
業領域として使用されるRAM12c、制御状態等を表
示するCRT12d、および双方向にデータを転送可能
なインターフェイス12e等から構成されている。ここ
では、主として、予め決められたプログラムに従って操
作弁制御情報を操作弁8〜11に送る。
強度測定用光学系32を介して、半導体ウェハを洗浄処
理するための処理槽13の下部に連通接続されている。
処理槽13に供給された洗浄液は、処理槽13に設けら
れた整流多孔板により均一に上昇して、オーバーフロー
し、周囲に設けられた排液槽14に溢れ、この下部に接
続された排液ドレイン15を流下する。
等を記憶したROM31a、プログラムを解釈実行する
CPU31b、計算処理等で作業領域として使用される
RAM31c、測定値等を表示するCRT31d、およ
び双方向にデータを転送可能なインターフェイス31e
等からなる演算部31と、透過光強度測定用光学系32
とで構成される。この演算部31は本発明における処理
液判別手段および濃度算出手段としての機能を備えてい
る。また、透過光強度測定手段としての透過光強度測定
光学系32は、洗浄液供給管2を流通する洗浄液の一部
を流通させる所定幅の透過性流路を備えたフローセル3
2aと、このフローセル32aを流れる洗浄液に透過光
測定用の光(紫外光および/または赤外光)を照射する
ハロゲンランプ等の光源32bと、透過光の強度を測定
するための光強度検出器32cから構成されている。光
強度検出器32cとしては、紫外光を使用する場合に
は、紫外光に対する感度が高いGaP等の半導体や紫外
光電管が用いられ、また赤外光を使用する場合には、赤
外光に対する感度が高いPbS等の半導体素子が用いら
れる。なお、演算部31は、通信信号線51を介して半
導体洗浄装置1の制御部12に接続されているととも
に、透過光強度測定用光学系32の光強度検出器32c
に接続されている。
明する。図2は、濃度測定装置30の濃度測定処理手順
を示したフローチャートである。この一連の処理は、半
導体洗浄装置1の制御部12が、測定開始の信号を濃度
測定装置30に送信した後に演算部31によって実行さ
れる。
ば、一般的にRCA洗浄法として知られている次のよう
な順序で洗浄を行っている。したがって、以下の説明で
は、洗浄工程(2),(4),(6)で使用される各洗
浄液の濃度測定について説明する。 (1)純水リンス 10分 (2)アンモニア(NH3 )・過酸化水素(H2 O2 )
10分 (3)純水リンス 20分 (4)フッ酸(HF) 5分 (5)純水リンス 20分 (6)塩酸(HCl)・過酸化水素(H2 O2 ) 10
分 (7)純水リンス 20分
算部31が通信信号線51を介して、制御部12に操作
弁8〜11の制御情報を要求することにより、その情報
を取得する。本実施例において、操作弁制御情報は操作
弁8〜11に応じた4ビットの信号〔abcd〕から構
成されており、aは操作弁8の開閉状態、bは操作弁9
の開閉状態、cは操作弁10の開閉状態、dは操作弁1
1の開閉状態をそれぞれ示している。ここでは、
は操作弁の閉状態を、〔1〕は操作弁の開状態とする。
したがって、上記の純水リンス工程(1),(3),
(5),(6)では、操作弁制御情報として〔000
0〕を取得し、洗浄工程(2)では〔0101〕を取得
し、洗浄工程(4)では〔1000〕を取得し、洗浄工
程(6)では〔0011〕を取得する。
は、ステップS1で取得した操作弁制御情報に基づい
て、洗浄液供給管2に流れている流体の種類を判別し、
その種類に応じた処理を決定する。
は、ステップS21 で操作弁制御情報
認されることにより、洗浄液供給管2に純水が流れてい
るものと判断してステップS3に進む。
を測定する。純水リンス工程(1)は10分間行われる
ので、その間、透過光強度IC の測定は適宜の周期で繰
り返し行なわれ、各測定値の平均値が純水の透過光強度
IC として演算部31のRAM31cに保存される。
洗浄工程(2)に移ると、演算部31はステップS1で
得られた操作弁制御情報〔0101〕を基に、現在使用
されている洗浄液がNH3 +H2 O2 洗浄液であると判
断し、その洗浄液の濃度測定のために予め決められてい
るステップS4以降の処理に移る。
液の透過光強度Im を測定する。ここでも、上述した純
水の透過光強度の測定と同様に、所定の洗浄時間(10
分)の間、透過光強度Im が繰り返し測定され、その平
均値がNH3 +H2 O2 洗浄液の透過光強度Im として
演算部31のRAM31cに保存される。
た純水の透過光強度IC と、ステップS4で得られたN
H3 +H2 O2 洗浄液の透過光強度Im とを使い、予め
定められたNH3 +H2 O2 洗浄液の濃度基準情報に従
って濃度を算出する。この濃度算出処理については後述
する。
れたNH3 +H2 O2 洗浄液の濃度をCRT31dに表
示する。
弁制御情報
プS3で新たに純水の透過光強度IC が測定される。そ
して、次のHF洗浄工程(4)では、操作弁制御情報
〔1000〕を取得することにより、ステップS1か
ら、S21 、S22 、S23 と進む。ステップS23 で
HF洗浄液が使われていると判断されると、ステップS
7でHF洗浄液の透過光強度Im が測定され、次のステ
ップS8で、直前に求められた純水の透過光強度I
C と、HF洗浄液の透過光強度Im とを使い、HF洗浄
液の濃度基準情報に従って濃度を算出する。
洗浄液供給管2に流れている流体の種類を判別し、各流
体に応じた処理が行われる。すなわち、本実施例では、
所定の洗浄処理の直前の純水リンス工程で、純水の透過
光強度を測定し、この透過光強度と当該洗浄液の透過光
強度とを使って、所定の濃度算出処理に従って洗浄液の
濃度が算出される。
操作弁制御情報に基づいて洗浄液供給管2に流れている
流体の種類を自動的に判別して、予め定められた各洗浄
液の濃度算出処理を実行するようにしているので、測定
者が濃度測定装置に洗浄液の種類判別情報を入力指示す
る必要がなく、各洗浄液の濃度を速やかに測定すること
ができる。
用いて算出する方法と、検量線データを用いて求める方
法とがあり、ここではHF洗浄液を例に、簡単に説明す
る。濃度算出式を用いる方法では、ランベルト−ベール
の法則(Lambert-Beer's Law)に基づく下記濃度算出式
によって、洗浄液の濃度を算出する。 c=−1/αd・ln(Im /Ic ) 上記濃度算出式において、cは濃度(%)、αは洗浄液
が光を吸収する度合いを表す各洗浄液固有の吸光係数
(/mm・%)、dはフローセル32aに設けられたセ
ル部の長さ、すなわち透過光の光路長(mm)である。
なお、本実施例においては、吸光係数αは、互いに等し
い光路長のセル部において、光が純水を透過したときの
光強度に対して定義された各洗浄液固有のものであり、
また、濃度基準情報として、各洗浄液に対して対応づけ
られて、演算部31内のRAM31cに予め記憶されて
おり、操作弁制御情報によって逐次読み出される。
ップS3で求められた純水の透過光強度IC と、ステッ
プS7で求められたHF洗浄液の透過光強度Im を上記
の濃度算出式に代入して、濃度cを求める。このとき、
吸光係数αとしては、HF溶液固有の値が操作弁制御情
報〔1000〕によって読み出され、濃度算出式に代入
される。
は、まず、検量線データを次のように作成する。始め
に、純水と濃度の異なる複数のHF洗浄液を用意し、赤
外光に対する純水の透過光強度、各HF洗浄液の透過光
強度を測定する。そして、純水の透過光強度に対する各
HF洗浄液の透過光強度比Tを算出し、各透過光強度比
TにHF洗浄液の濃度cを対応づけて、演算部31のR
AM31cに保存する。なお、検量線データは、各洗浄
液に対して作成し、濃度基準情報として、各洗浄液に対
応づけて、演算部31内のRAM31cに予め記憶して
おく。そして、操作弁制御情報によって逐次特定され
る。HF洗浄液の濃度を求めるとき(図2のステップS
8)は、まず、ステップS3で測定した純水の透過光強
度Ic と、ステップS7で測定したHF洗浄液の透過光
強度Im との比T1を算出する。一方、演算部31では
RAM31cに記憶された検量線データの内、HF洗浄
液の検量線データを操作弁制御情報〔1000〕に基づ
いて特定し、比T1と等しい透過光強度比Tを検索し、
それに対応する濃度cを得る。
過光強度を被測定洗浄液を使用する洗浄工程の直前の純
水リンス工程で測定したが、本発明はこれに限定され
ず、上記の基準透過光強度を該当洗浄工程の直後の純水
リンス工程で測定してもよい。
過光強度を、当該洗浄工程の直前、または直後の純水リ
ンス工程で測定する理由は、基準透過光強度を測定して
から、被測定洗浄液の透過光強度を測定するまでの時間
は短くすることにより、光源の光量の変動等の影響を少
なくするためである。したがって、光源の光量の変動が
極めて小さい場合などでは、基準透過光強度を当該洗浄
工程の直前、または直後で測定する必要はなく、予め測
定しておいた純水の透過光強度を用いるようにしてもよ
い。
度IO を測定する光検出部を設け、ランベルト−ベール
の法則に基づく下記濃度算出式によって、洗浄液の濃度
を算出してもよい。 c=−1/α’d・ln(Im /IO ) なお、α’は洗浄液が光を吸収する度合いを表す各洗浄
液固有の吸光係数(/mm・%)である。
浄装置1の制御部12において実行するようにしてもよ
い。この場合、半導体洗浄装置1の制御部12は、濃度
測定装置30の演算部31から通信信号線51を介して
純水の透過光強度と洗浄液の透過光強度とを取得する。
そして、制御部12が制御している操作弁8〜11の制
御情報により、被測定洗浄液に応じた濃度算出手順を用
いて制御部12のCPU12bが濃度を算出する。
によれば、薬液供給路を切り換えるための流路切り換え
機構の制御情報に基づいて、処理液供給路を流れる処理
液の種類を判別し、その処理液に応じた濃度基準情報に
よって処理液の濃度を求めているので、測定者は処理液
の種類などを入力指示する必要がなく、各種の処理液の
濃度を速やかに測定することができる。
導体洗浄装置の概略構成を示す図である。
定処理の手順を示したフローチャートである。
Claims (1)
- 【請求項1】 処理槽と、これに連通する処理液供給路
と、この処理液供給路に薬液供給路を介して連通接続さ
れる複数種類の薬液源と、前記薬液供給路を切り換える
流路切り換え機構とを備えた処理装置に用いられる濃度
測定装置であって、 前記処理液供給路を流通する処理液に光を照射し、その
透過光の強度を測定する透過光強度測定手段と、 前記流路切り換え機構の制御情報に基づいて、前記処理
液供給路に流れる処理液の種類を判別する処理液判別手
段と、 複数種類の処理液ごとに濃度基準情報を予め記憶し、前
記処理液判別手段からの情報に基づいて、該当処理液の
濃度基準情報を決定し、この濃度基準情報と前記透過光
強度測定手段から与えられた透過光強度とに基づいて処
理液の濃度を求める濃度算出手段と、 を備えたことを特徴とする濃度測定装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18704093A JP2798346B2 (ja) | 1993-06-29 | 1993-06-29 | 濃度測定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18704093A JP2798346B2 (ja) | 1993-06-29 | 1993-06-29 | 濃度測定装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0720052A true JPH0720052A (ja) | 1995-01-24 |
| JP2798346B2 JP2798346B2 (ja) | 1998-09-17 |
Family
ID=16199127
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18704093A Expired - Lifetime JP2798346B2 (ja) | 1993-06-29 | 1993-06-29 | 濃度測定装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2798346B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6463941B1 (en) | 1998-12-11 | 2002-10-15 | Nec Corporation | Concentration control apparatus of liquid chemical |
| KR100455904B1 (ko) * | 1997-09-09 | 2005-01-13 | 동경 엘렉트론 주식회사 | 세정처리방법및세정처리장 |
| JP2008164487A (ja) * | 2006-12-28 | 2008-07-17 | Horiba Ltd | 半導体製造システム用分析装置 |
| JP2022146241A (ja) * | 2021-03-22 | 2022-10-05 | アズビル株式会社 | 濃度測定方法および装置 |
-
1993
- 1993-06-29 JP JP18704093A patent/JP2798346B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100455904B1 (ko) * | 1997-09-09 | 2005-01-13 | 동경 엘렉트론 주식회사 | 세정처리방법및세정처리장 |
| US6463941B1 (en) | 1998-12-11 | 2002-10-15 | Nec Corporation | Concentration control apparatus of liquid chemical |
| JP2008164487A (ja) * | 2006-12-28 | 2008-07-17 | Horiba Ltd | 半導体製造システム用分析装置 |
| JP2022146241A (ja) * | 2021-03-22 | 2022-10-05 | アズビル株式会社 | 濃度測定方法および装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2798346B2 (ja) | 1998-09-17 |
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