JPH0720075A - ガス濃度測定方法および装置 - Google Patents
ガス濃度測定方法および装置Info
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- JPH0720075A JPH0720075A JP11507193A JP11507193A JPH0720075A JP H0720075 A JPH0720075 A JP H0720075A JP 11507193 A JP11507193 A JP 11507193A JP 11507193 A JP11507193 A JP 11507193A JP H0720075 A JPH0720075 A JP H0720075A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】混合ガス中の成分ガスの濃度を正確に測定す
る。 【構成】混合ガス中の成分ガス数と同数の検出器を用い
て各成分ガスの濃度を測定する方法において、前記成分
ガス（Ｘj）（但し、ｊは１〜ｎ、以下同様）に対しそ
れぞれ独立した検出特性を有する検出器（Ａi）（但
し、ｉは１〜ｎ、以下同様）を用い、かつ、前記各成分
ガス（Ｘj）が単独で存在するときの検出器（Ａi）の単
位濃度当たりの検出値ｍijを予め求め、混合ガス測定時
における検出器Ａ1，Ａ2，Ａ3，…，Ａnの検出値ｙ1，
ｙ2，ｙ3，…，ｙnを用いて所定の式から各成分ガス
Ｘ1，Ｘ2，Ｘ3，…，Ｘnの濃度α1，α2，α3，…，αn
を求めることを特徴とするガス濃度測定方法。
る。 【構成】混合ガス中の成分ガス数と同数の検出器を用い
て各成分ガスの濃度を測定する方法において、前記成分
ガス（Ｘj）（但し、ｊは１〜ｎ、以下同様）に対しそ
れぞれ独立した検出特性を有する検出器（Ａi）（但
し、ｉは１〜ｎ、以下同様）を用い、かつ、前記各成分
ガス（Ｘj）が単独で存在するときの検出器（Ａi）の単
位濃度当たりの検出値ｍijを予め求め、混合ガス測定時
における検出器Ａ1，Ａ2，Ａ3，…，Ａnの検出値ｙ1，
ｙ2，ｙ3，…，ｙnを用いて所定の式から各成分ガス
Ｘ1，Ｘ2，Ｘ3，…，Ｘnの濃度α1，α2，α3，…，αn
を求めることを特徴とするガス濃度測定方法。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はガス濃度測定方法に関
し、例えば、作業空間内での有毒ガスの漏洩監視、混合
ガスの組成分析等に用いて好適なガス濃度測定方法およ
び装置に関する。
し、例えば、作業空間内での有毒ガスの漏洩監視、混合
ガスの組成分析等に用いて好適なガス濃度測定方法およ
び装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】例えば半導体製造分野においては、クリ
ーンルーム等の作業空間内で種々のガスを用いて半導体
を製造している。しかし、使用するガスは人体に有毒な
ものが多いので、作業空間内に漏洩ガス検出用の検出器
（ガスセンサー）を設けて有毒ガスの漏洩を検知し作業
者の安全を図っている。
ーンルーム等の作業空間内で種々のガスを用いて半導体
を製造している。しかし、使用するガスは人体に有毒な
ものが多いので、作業空間内に漏洩ガス検出用の検出器
（ガスセンサー）を設けて有毒ガスの漏洩を検知し作業
者の安全を図っている。
【０００３】検出器としては、水素検出用として熱線半
導体式検出器が、アンモニア検出用として隔膜電極式検
出器が、モノシラン検出用として定電位電解式検出器等
が一般的に知られており、この場合、検出器の数は検出
対象の成分ガスと同数とし、かつ、専用の検出器によっ
て成分ガスを個別に検出している。
導体式検出器が、アンモニア検出用として隔膜電極式検
出器が、モノシラン検出用として定電位電解式検出器等
が一般的に知られており、この場合、検出器の数は検出
対象の成分ガスと同数とし、かつ、専用の検出器によっ
て成分ガスを個別に検出している。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかし、現状用いられ
ている検出器は検出対象ガスに対する選択性が十分でな
く、検出対象ガス以外のガス（非検出対象ガス）にも感
応することがある。このため漏洩ガスを特定できず、現
実に漏洩しているガスが流れる配管の元弁だけを閉止す
れば十分に操業を継続できる場合であっても、検出器が
感応した全てのガスの配管の元弁を閉止し全面的な操業
停止に至ってしまう不都合があった。
ている検出器は検出対象ガスに対する選択性が十分でな
く、検出対象ガス以外のガス（非検出対象ガス）にも感
応することがある。このため漏洩ガスを特定できず、現
実に漏洩しているガスが流れる配管の元弁だけを閉止す
れば十分に操業を継続できる場合であっても、検出器が
感応した全てのガスの配管の元弁を閉止し全面的な操業
停止に至ってしまう不都合があった。
【０００５】なお、前記専用の検出器は、検出対象ガス
に対しては感応度が高く、非検出対象ガスに対しては感
応度が低くなるものを選択しているが、非検出対象ガス
に対する感応度をゼロにすることはできない。
に対しては感応度が高く、非検出対象ガスに対しては感
応度が低くなるものを選択しているが、非検出対象ガス
に対する感応度をゼロにすることはできない。
【０００６】例えば、表１は塩化水素を検出対象ガスと
する検出器の一例で、各種の成分ガスに各種の濃度で接
触させたときの指示値を示す。
する検出器の一例で、各種の成分ガスに各種の濃度で接
触させたときの指示値を示す。
【０００７】
【表１】
【０００８】表１から明らかなように、塩化水素検出用
であっても水素、一酸化窒素、二酸化窒素、硫化水素な
ど各種の非検出対象ガスに感応し、特に、硫化水素に対
しては本来の検出対象ガス以上に感応していることが判
る。
であっても水素、一酸化窒素、二酸化窒素、硫化水素な
ど各種の非検出対象ガスに感応し、特に、硫化水素に対
しては本来の検出対象ガス以上に感応していることが判
る。
【０００９】このように、検出器は検出対象ガス以外の
各種の非検出対象ガスに感応するのが普通であり、従っ
て、前記のように、成分ガス数が増加すると特定成分ガ
スだけに感応する検出器を揃えることは極めて困難にな
る。
各種の非検出対象ガスに感応するのが普通であり、従っ
て、前記のように、成分ガス数が増加すると特定成分ガ
スだけに感応する検出器を揃えることは極めて困難にな
る。
【００１０】そこで、本発明は混合ガス中の成分ガスの
濃度を正確に測定することができるガス濃度測定方法お
よび装置を提供することを目的とする。
濃度を正確に測定することができるガス濃度測定方法お
よび装置を提供することを目的とする。
【００１１】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明に係るガス濃度測定方法は、混合ガス中の成
分ガス数と同数の検出器を用いて各成分ガスの濃度を測
定する方法において、前記成分ガス（Ｘj）（但し、ｊ
は１〜ｎ、以下同様）に対しそれぞれ独立した検出特性
を有する検出器（Ａi）（但し、ｉは１〜ｎ、以下同
様）を用い、かつ、前記各成分ガス（Ｘj）が単独で存
在するときの検出器（Ａi）の単位濃度当たりの検出値
ｍijを予め求め、混合ガス測定時における検出器Ａ1，
Ａ2，Ａ3，…，Ａnの検出値ｙ1，ｙ2，ｙ3，…，ｙnを
用いて以下に示す式から各成分ガスＸ1，Ｘ2，Ｘ3，
…，Ｘnの濃度α1，α2，α3，…，αnを求めることを
特徴とする。
め、本発明に係るガス濃度測定方法は、混合ガス中の成
分ガス数と同数の検出器を用いて各成分ガスの濃度を測
定する方法において、前記成分ガス（Ｘj）（但し、ｊ
は１〜ｎ、以下同様）に対しそれぞれ独立した検出特性
を有する検出器（Ａi）（但し、ｉは１〜ｎ、以下同
様）を用い、かつ、前記各成分ガス（Ｘj）が単独で存
在するときの検出器（Ａi）の単位濃度当たりの検出値
ｍijを予め求め、混合ガス測定時における検出器Ａ1，
Ａ2，Ａ3，…，Ａnの検出値ｙ1，ｙ2，ｙ3，…，ｙnを
用いて以下に示す式から各成分ガスＸ1，Ｘ2，Ｘ3，
…，Ｘnの濃度α1，α2，α3，…，αnを求めることを
特徴とする。
【００１２】また、本発明に係るガス濃度測定装置は、
混合ガス中の成分ガス数と同数で、かつ、各成分ガスに
対して独立した検出特性を有する検出器（Ａi）（但
し、ｉは１〜ｎ、以下同様）と、前記各成分ガス
（Ｘj）（但し、ｊは１〜ｎ、以下同様）が単独で存在
するときの検出器（Ａi）の単位濃度当たりの検出値ｍ
ijを記憶する係数記憶手段と、混合ガス測定時における
検出器Ａ1，Ａ2，Ａ3，…，Ａnの検出値ｙ1，ｙ2，
ｙ3，…，ｙnを用いて以下に示す式から各成分ガス
Ｘ1，Ｘ2，Ｘ3，…，Ｘnの濃度α1，α2，α3，…，αn
を求める解法記憶手段を備えていることを特徴とする。
混合ガス中の成分ガス数と同数で、かつ、各成分ガスに
対して独立した検出特性を有する検出器（Ａi）（但
し、ｉは１〜ｎ、以下同様）と、前記各成分ガス
（Ｘj）（但し、ｊは１〜ｎ、以下同様）が単独で存在
するときの検出器（Ａi）の単位濃度当たりの検出値ｍ
ijを記憶する係数記憶手段と、混合ガス測定時における
検出器Ａ1，Ａ2，Ａ3，…，Ａnの検出値ｙ1，ｙ2，
ｙ3，…，ｙnを用いて以下に示す式から各成分ガス
Ｘ1，Ｘ2，Ｘ3，…，Ｘnの濃度α1，α2，α3，…，αn
を求める解法記憶手段を備えていることを特徴とする。
【００１３】
【数３】
【００１４】
【作用】本発明は混合ガス中の成分ガスの濃度を測定す
るものであるが、前記混合ガスとは、漏洩ガス検出の分
野では検出対象となる成分ガスを含む空気を意味し、ガ
スの製造、使用の分野では分析対象となる成分ガスを含
むベースガスを意味する。
るものであるが、前記混合ガスとは、漏洩ガス検出の分
野では検出対象となる成分ガスを含む空気を意味し、ガ
スの製造、使用の分野では分析対象となる成分ガスを含
むベースガスを意味する。
【００１５】本発明においては、前記成分ガスの濃度を
従来と同様に成分ガス数と同数の検出器で測定するが、
使用する各検出器は各成分ガスに対して独立した検出特
性を有するものとする。
従来と同様に成分ガス数と同数の検出器で測定するが、
使用する各検出器は各成分ガスに対して独立した検出特
性を有するものとする。
【００１６】そして、まず、成分ガスＸjが単独で存在
したときの単位濃度当たりの検出器Ａiの検出値ｍ
ij（以下、係数という）を予め実験により求めておく。
この場合、検出器の検出特性が成分ガスの濃度に対して
直線的でない場合には、検出器の出力を予め直線化処理
しておく。
したときの単位濃度当たりの検出器Ａiの検出値ｍ
ij（以下、係数という）を予め実験により求めておく。
この場合、検出器の検出特性が成分ガスの濃度に対して
直線的でない場合には、検出器の出力を予め直線化処理
しておく。
【００１７】上記処理により、成分ガスＸ1，Ｘ2，
Ｘ3，…，Ｘnの濃度がα1，α2，α3，…，αnのときの
検出器Ａ1，Ａ2，Ａ3，…，Ａnの検出値ｙ1，ｙ2，
ｙ3，…，ｙnは次式により求められる。
Ｘ3，…，Ｘnの濃度がα1，α2，α3，…，αnのときの
検出器Ａ1，Ａ2，Ａ3，…，Ａnの検出値ｙ1，ｙ2，
ｙ3，…，ｙnは次式により求められる。
【００１８】
【数４】 上記は次のように表現される。
【００１９】
【数５】 前記のように、検出器の検出特性は各成分ガスに対して
独立なので、ベクトル
独立なので、ベクトル
【００２０】 は一次独立となり、行列
【００２１】
【数６】 は正則（nonsingular）、即ち逆行列（inverse matri
x）を有するから、求めたい濃度α1，α2，α3，…，α
nは次式のようにして確定する。
x）を有するから、求めたい濃度α1，α2，α3，…，α
nは次式のようにして確定する。
【００２２】
【数７】 一般に、逆行列の計算には時間がかかるので、クラメー
ルの公式（Cramer's formula）を用い、Ｍを
ルの公式（Cramer's formula）を用い、Ｍを
【００２３】
【数８】 のように定義してα1，α2，α3，…，αnを次のように
算出する。
算出する。
【００２４】
【数９】 以上のように、本発明は、すべての検出器からの検出値
を用いて各成分ガスの濃度を算出する。
を用いて各成分ガスの濃度を算出する。
【００２５】
（実施例１）まず、本発明を漏洩ガスの検知に適用した
例を説明する。図１は本発明の一実施例に係る漏洩ガス
監視装置を示す構成図で、漏洩ガス監視装置１は、ガス
Ｘ1，Ｘ2，Ｘ3，…，Ｘnを使用する作業空間２内に設け
られた検出器Ａ1，Ａ2，Ａ3，…，Ａnと、これらの検出
器Ａ1，Ａ2，Ａ3，…，Ａnからの信号（電圧信号、電流
信号等）をそれぞれ所定の電気信号に変換する変換器Ｃ
1，Ｃ2，Ｃ3，…，Ｃnと、これらの変換器Ｃ1，Ｃ2，Ｃ
3，…，Ｃnからの電気信号を一括して受け入れて順次一
つづつ出力するマルチプレクサ３と、マルチプレクサ３
からの信号を所定のディジタル信号に変換するＡＤ変換
器４と、ＡＤ変換器４からのディジタル信号を受けるＭ
ＰＵ（マイクロプロセッサユニット）５と、ＭＰＵ５と
電気的に接続されるメモリ６、７と、ＭＰＵ５からの信
号に基づいて漏洩ガスの位置、濃度、警報等の所定の情
報を表示するモニタ８とから構成される。
例を説明する。図１は本発明の一実施例に係る漏洩ガス
監視装置を示す構成図で、漏洩ガス監視装置１は、ガス
Ｘ1，Ｘ2，Ｘ3，…，Ｘnを使用する作業空間２内に設け
られた検出器Ａ1，Ａ2，Ａ3，…，Ａnと、これらの検出
器Ａ1，Ａ2，Ａ3，…，Ａnからの信号（電圧信号、電流
信号等）をそれぞれ所定の電気信号に変換する変換器Ｃ
1，Ｃ2，Ｃ3，…，Ｃnと、これらの変換器Ｃ1，Ｃ2，Ｃ
3，…，Ｃnからの電気信号を一括して受け入れて順次一
つづつ出力するマルチプレクサ３と、マルチプレクサ３
からの信号を所定のディジタル信号に変換するＡＤ変換
器４と、ＡＤ変換器４からのディジタル信号を受けるＭ
ＰＵ（マイクロプロセッサユニット）５と、ＭＰＵ５と
電気的に接続されるメモリ６、７と、ＭＰＵ５からの信
号に基づいて漏洩ガスの位置、濃度、警報等の所定の情
報を表示するモニタ８とから構成される。
【００２６】上記構成により、ＭＰＵ５にはＡＤ変換器
４を介して検出器Ａ1，Ａ2，Ａ3，…，Ａnからの信号
（検出値）ｙ1，ｙ2，ｙ3，…，ｙnが入力される。この
場合、検出値ｙ1，ｙ2，ｙ3，…，ｙnがガスＸjの濃度
に比例してしない場合には、検出器Ａiの後段の変換器
Ｃi内に直線化装置（リニアライザ）を設けて、最終的
にガスＸjの濃度に対し検出器Ａiの検出値が比例するよ
うに調整する。なお、直線化処理は検出器Ａi毎の直線
化データを別途のメモリに記憶させておいてＭＰＵ５に
よって直線化することもできる。
４を介して検出器Ａ1，Ａ2，Ａ3，…，Ａnからの信号
（検出値）ｙ1，ｙ2，ｙ3，…，ｙnが入力される。この
場合、検出値ｙ1，ｙ2，ｙ3，…，ｙnがガスＸjの濃度
に比例してしない場合には、検出器Ａiの後段の変換器
Ｃi内に直線化装置（リニアライザ）を設けて、最終的
にガスＸjの濃度に対し検出器Ａiの検出値が比例するよ
うに調整する。なお、直線化処理は検出器Ａi毎の直線
化データを別途のメモリに記憶させておいてＭＰＵ５に
よって直線化することもできる。
【００２７】次に、メモリ６（係数記憶手段）には前記
係数ｍijが前記数６のような表形式で記憶されている。
係数ｍijが前記数６のような表形式で記憶されている。
【００２８】係数ｍijは実験等により予め実測しておく
もので、例えば容器内に検出器Ａ1，Ａ2，Ａ3，…，Ａn
を設置しておき、まずガスＸ1を容器内に任意量導入し
て検出器Ａ1，Ａ2，Ａ3，…，Ａnの係数ｍ11，ｍ21，ｍ
31，…，ｍn1を求め、次いで、ガスＸ1を完全に排除し
た後ガスＸ2を任意量導入して同様に係数ｍ12，ｍ22，
ｍ32，…，ｍn2を求め、以下、ガスＸ3，Ｘ4，…を順次
導入し、最後にガスＸnを用いて係数ｍ1n，ｍ2n，
ｍ3n，…，ｍnnを求める。
もので、例えば容器内に検出器Ａ1，Ａ2，Ａ3，…，Ａn
を設置しておき、まずガスＸ1を容器内に任意量導入し
て検出器Ａ1，Ａ2，Ａ3，…，Ａnの係数ｍ11，ｍ21，ｍ
31，…，ｍn1を求め、次いで、ガスＸ1を完全に排除し
た後ガスＸ2を任意量導入して同様に係数ｍ12，ｍ22，
ｍ32，…，ｍn2を求め、以下、ガスＸ3，Ｘ4，…を順次
導入し、最後にガスＸnを用いて係数ｍ1n，ｍ2n，
ｍ3n，…，ｍnnを求める。
【００２９】図２はガスＸjを単独で容器内に導入した
ときの検出器Ａiの検出特性を示すもので、図のように
係数ｍijはガスＸjの単位濃度当たりの検出器Ａiの検出
値、即ち勾配を示すものとなる。なお、ｉ＝ｊのときの
係数ｍjjを１になるようにしておくと後の計算が容易に
なり便利である。
ときの検出器Ａiの検出特性を示すもので、図のように
係数ｍijはガスＸjの単位濃度当たりの検出器Ａiの検出
値、即ち勾配を示すものとなる。なお、ｉ＝ｊのときの
係数ｍjjを１になるようにしておくと後の計算が容易に
なり便利である。
【００３０】次に、メモリ７（解法記憶手段）には、前
記数７で示される式の解法を示す演算データ、即ち数
８、数９が記憶されている。従って、ＭＰＵ５は、検出
器Ａ1，Ａ2，Ａ3，…，Ａnの検出値ｙ1，ｙ2，ｙ3，
…，ｙnを用いて数８、数９の計算を行って各成分ガス
Ｘ1，Ｘ2，Ｘ3，…，Ｘnの濃度α1，α2，α3，…，αn
を算出し、結果をモニタに供給する。
記数７で示される式の解法を示す演算データ、即ち数
８、数９が記憶されている。従って、ＭＰＵ５は、検出
器Ａ1，Ａ2，Ａ3，…，Ａnの検出値ｙ1，ｙ2，ｙ3，
…，ｙnを用いて数８、数９の計算を行って各成分ガス
Ｘ1，Ｘ2，Ｘ3，…，Ｘnの濃度α1，α2，α3，…，αn
を算出し、結果をモニタに供給する。
【００３１】このようにして、作業空間内に任意の成分
ガスが漏洩した場合、全検出器からのデータに基づいて
漏洩ガスの濃度を算出することができる。濃度を特に問
題としない場合は漏洩ガスの有無を判定して漏洩ガスの
種類を検知することができる。
ガスが漏洩した場合、全検出器からのデータに基づいて
漏洩ガスの濃度を算出することができる。濃度を特に問
題としない場合は漏洩ガスの有無を判定して漏洩ガスの
種類を検知することができる。
【００３２】（実施例２）次に本発明を混合ガスの組成
分析に適用した例を示す。例えばガス製造工場では分析
計の較正用などに窒素、ヘリウム等のベースガス中に複
数の成分ガスを微量含有させた混合ガスを製造する。こ
の場合、各成分ガスは充填すべきガスの体積を計量して
充填する容量法、充填すべきガスの重量を計量して充填
する重量法等によって精密に充填されるが、混合ガス製
造後に分析する必要がある。
分析に適用した例を示す。例えばガス製造工場では分析
計の較正用などに窒素、ヘリウム等のベースガス中に複
数の成分ガスを微量含有させた混合ガスを製造する。こ
の場合、各成分ガスは充填すべきガスの体積を計量して
充填する容量法、充填すべきガスの重量を計量して充填
する重量法等によって精密に充填されるが、混合ガス製
造後に分析する必要がある。
【００３３】この場合、成分ガスの種類が増加すると、
分析計が複数の成分ガスに同時に感応してしまい正確な
測定が困難だった。なお、多種類の成分ガスの分析には
ガスクロマトグラフィーが利用できるが測定時間が長時
間になり生産性が低下してしまう。
分析計が複数の成分ガスに同時に感応してしまい正確な
測定が困難だった。なお、多種類の成分ガスの分析には
ガスクロマトグラフィーが利用できるが測定時間が長時
間になり生産性が低下してしまう。
【００３４】図３は前記不都合を解消可能な本発明方法
に係るガス分析装置で、前記図１における検出器の代わ
り分析計を用いたもので、混合ガス充填容器１０の容器
弁１１に接続された配管１２に連設される分析計Ｂ1，
Ｂ2，Ｂ3，…，Ｂnと、これらの分析計Ｂ1，Ｂ2，Ｂ3，
…，Ｂnから出力される信号を処理する処理装置１５と
から構成される。処理装置１５の構成は前記図１の場合
に準ずる。上記構成によれば、用いた全分析計からのデ
ータに基づいて混合ガス中の成分ガスの濃度を検知器が
作動し漏洩ガスの濃度を算出することができる。
に係るガス分析装置で、前記図１における検出器の代わ
り分析計を用いたもので、混合ガス充填容器１０の容器
弁１１に接続された配管１２に連設される分析計Ｂ1，
Ｂ2，Ｂ3，…，Ｂnと、これらの分析計Ｂ1，Ｂ2，Ｂ3，
…，Ｂnから出力される信号を処理する処理装置１５と
から構成される。処理装置１５の構成は前記図１の場合
に準ずる。上記構成によれば、用いた全分析計からのデ
ータに基づいて混合ガス中の成分ガスの濃度を検知器が
作動し漏洩ガスの濃度を算出することができる。
【００３５】なお、上記実施例ではガス製造工場で製造
した混合ガスの組成分析の場合であったが、半導体工場
でのガス分析にも利用できる。
した混合ガスの組成分析の場合であったが、半導体工場
でのガス分析にも利用できる。
【００３６】
【発明の効果】以上のように、従来は検出器を検出対象
の成分ガスに一対一に対応させて設け、成分ガスを個別
に検出するようにしていたため、検出器の選択性の悪さ
にともなう各種の不都合が生じたが、本発明では、検出
に用いた全ての検出器の検出値を用いて総合的に各成分
ガスの濃度を検出するので、複数の成分ガスの一つ一つ
の濃度を正確に測定することができる。また、従来は個
別検出だったため、検出対象の成分ガスに対応する検出
器の感度を他の成分ガスより高めにしなければならなか
ったが、本発明では成分ガスと検知器との対応を任意に
決めて測定でき、検出器の使用に制限がないので装置構
成が従来より簡単になる。
の成分ガスに一対一に対応させて設け、成分ガスを個別
に検出するようにしていたため、検出器の選択性の悪さ
にともなう各種の不都合が生じたが、本発明では、検出
に用いた全ての検出器の検出値を用いて総合的に各成分
ガスの濃度を検出するので、複数の成分ガスの一つ一つ
の濃度を正確に測定することができる。また、従来は個
別検出だったため、検出対象の成分ガスに対応する検出
器の感度を他の成分ガスより高めにしなければならなか
ったが、本発明では成分ガスと検知器との対応を任意に
決めて測定でき、検出器の使用に制限がないので装置構
成が従来より簡単になる。
【図１】本発明の第１の実施例に係る漏洩ガス監視装置
の構成を示すブロック図である。
の構成を示すブロック図である。
【図２】ガスＸjを単独で容器内に導入したときの検出
器Ａiの検出特性を示す特性図である。
器Ａiの検出特性を示す特性図である。
【図３】本発明の第２の実施例に係るガス分析装置の構
成を示すブロック図である。
成を示すブロック図である。
Ａ1，Ａ2，Ａ3，…，Ａn 検出器 ５ ＭＰＵ（マイクロプロセッサユニット）５ ６ メモリ（係数記憶手段） ７ メモリ（解法記憶手段） １５ 処理装置（係数記憶手段；解法記憶手段）
Claims (2)
- 【請求項１】 混合ガス中の成分ガス数と同数の検出器
を用いて各成分ガスの濃度を測定する方法において、前
記成分ガス（Ｘj）（但し、ｊは１〜ｎ、以下同様）に
対しそれぞれ独立した検出特性を有する検出器（Ａi）
（但し、ｉは１〜ｎ、以下同様）を用い、かつ、前記各
成分ガス（Ｘj）が単独で存在するときの検出器（Ａi）
の単位濃度当たりの検出値ｍijを予め求め、混合ガス測
定時における検出器Ａ1，Ａ2，Ａ3，…，Ａnの検出値ｙ
1，ｙ2，ｙ3，…，ｙnを用いて以下に示す式から各成分
ガスＸ1，Ｘ2，Ｘ3，…，Ｘnの濃度α1，α2，α3，
…，αnを求めることを特徴とするガス濃度測定方法。 【数１】 - 【請求項２】 混合ガス中の成分ガス数と同数で、か
つ、各成分ガスに対して独立した検出特性を有する検出
器（Ａi）（但し、ｉは１〜ｎ、以下同様）と、前記各
成分ガス（Ｘj）（但し、ｊは１〜ｎ、以下同様）が単
独で存在するときの検出器（Ａi）の単位濃度当たりの
検出値ｍijを記憶する係数記憶手段と、混合ガス測定時
における検出器Ａ1，Ａ2，Ａ3，…，Ａnの検出値ｙ1，
ｙ2，ｙ3，…，ｙnを用いて以下に示す式から各成分ガ
スＸ1，Ｘ2，Ｘ3，…，Ｘnの濃度α1，α2，α3，…，
αnを求める解法記憶手段を備えていることを特徴とす
るガス濃度測定装置。 【数２】
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11507193A JPH0720075A (ja) | 1993-05-06 | 1993-05-17 | ガス濃度測定方法および装置 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5-105724 | 1993-05-06 | ||
| JP10572493 | 1993-05-06 | ||
| JP11507193A JPH0720075A (ja) | 1993-05-06 | 1993-05-17 | ガス濃度測定方法および装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0720075A true JPH0720075A (ja) | 1995-01-24 |
Family
ID=26445965
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11507193A Pending JPH0720075A (ja) | 1993-05-06 | 1993-05-17 | ガス濃度測定方法および装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0720075A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0866333A1 (en) * | 1997-03-19 | 1998-09-23 | Ngk Insulators, Ltd. | Method of measuring gas concentration |
| JP2002350312A (ja) * | 2001-05-25 | 2002-12-04 | Shimadzu Corp | におい識別装置 |
| JP2008116289A (ja) * | 2006-11-02 | 2008-05-22 | Shimadzu Corp | ガス監視装置 |
| JP2018194314A (ja) * | 2017-05-12 | 2018-12-06 | 富士通株式会社 | ガス分析装置およびガス分析方法 |
-
1993
- 1993-05-17 JP JP11507193A patent/JPH0720075A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0866333A1 (en) * | 1997-03-19 | 1998-09-23 | Ngk Insulators, Ltd. | Method of measuring gas concentration |
| JPH10260149A (ja) * | 1997-03-19 | 1998-09-29 | Ngk Insulators Ltd | ガス濃度測定方法 |
| US6006586A (en) * | 1997-03-19 | 1999-12-28 | Ngk Insulators, Ltd. | Method of measuring gas concentration |
| JP2002350312A (ja) * | 2001-05-25 | 2002-12-04 | Shimadzu Corp | におい識別装置 |
| JP2008116289A (ja) * | 2006-11-02 | 2008-05-22 | Shimadzu Corp | ガス監視装置 |
| JP2018194314A (ja) * | 2017-05-12 | 2018-12-06 | 富士通株式会社 | ガス分析装置およびガス分析方法 |
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|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
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