JPH0720449A - 液晶素子 - Google Patents
液晶素子Info
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- JPH0720449A JPH0720449A JP5162694A JP16269493A JPH0720449A JP H0720449 A JPH0720449 A JP H0720449A JP 5162694 A JP5162694 A JP 5162694A JP 16269493 A JP16269493 A JP 16269493A JP H0720449 A JPH0720449 A JP H0720449A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 液晶素子の光学装置としての信頼性の向上を
図る。 【構成】 一対の基板２９ａ，２９ｂ間に液晶層２７を
介在して形成される液晶表示素子２０は、一対のプラス
チック基板２１ａ，２１ｂの少なくとも一方表面上にガ
スバリア膜２３ａ，２３ｂが形成され、前記ガスバリア
膜２３ａ，２３ｂに積層してハードコート膜２２ａ，２
２ｂが形成される。前記プラスチック基板２１ａ，２１
ｂのガスバリア膜２３ａ，２３ｂが形成された一方表面
上には、ＩＴＯ膜２４ａ，２４ｂ、配向膜２５ａ，２５
ｂが形成され、前記ＩＴＯ膜２４ａ，２４ｂが形成され
た基板２９ａ，２９ｂの表面が対向するように前記基板
２９ａ，２９ｂが貼り合わされ、液晶層２７がシール材
２６によって封入されて形成される。
図る。 【構成】 一対の基板２９ａ，２９ｂ間に液晶層２７を
介在して形成される液晶表示素子２０は、一対のプラス
チック基板２１ａ，２１ｂの少なくとも一方表面上にガ
スバリア膜２３ａ，２３ｂが形成され、前記ガスバリア
膜２３ａ，２３ｂに積層してハードコート膜２２ａ，２
２ｂが形成される。前記プラスチック基板２１ａ，２１
ｂのガスバリア膜２３ａ，２３ｂが形成された一方表面
上には、ＩＴＯ膜２４ａ，２４ｂ、配向膜２５ａ，２５
ｂが形成され、前記ＩＴＯ膜２４ａ，２４ｂが形成され
た基板２９ａ，２９ｂの表面が対向するように前記基板
２９ａ，２９ｂが貼り合わされ、液晶層２７がシール材
２６によって封入されて形成される。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、液晶層を介在する一対
のプラスチック基板に少なくとも１層から成るガスバリ
ア膜を形成した液晶素子に関する。
のプラスチック基板に少なくとも１層から成るガスバリ
ア膜を形成した液晶素子に関する。
【０００２】
【従来の技術】液晶表示素子の薄型軽量化を図り、基板
の加工性を向上するためにガラスのかわりにプラスチッ
ク素材を用いて液晶表示素子の基板を形成することが試
みられている。しかし、プラスチック基板はガラス基板
に比べてガス透過率が高く、このために外部から透過し
てきたガスが液晶層中で気泡となり、液晶表示素子の表
示不良が生じる。
の加工性を向上するためにガラスのかわりにプラスチッ
ク素材を用いて液晶表示素子の基板を形成することが試
みられている。しかし、プラスチック基板はガラス基板
に比べてガス透過率が高く、このために外部から透過し
てきたガスが液晶層中で気泡となり、液晶表示素子の表
示不良が生じる。
【０００３】このため、特開平３−１３８６１７に開示
されるように、液晶表示素子のプラスチック基板表面に
透光性を有するＳｉ，Ｔｉなどの金属酸化物あるいは金
属窒化物のガスバリア膜をスパッタ法などによって形成
し、プラスチック基板のガス透過性を抑制する構造が提
案されている。
されるように、液晶表示素子のプラスチック基板表面に
透光性を有するＳｉ，Ｔｉなどの金属酸化物あるいは金
属窒化物のガスバリア膜をスパッタ法などによって形成
し、プラスチック基板のガス透過性を抑制する構造が提
案されている。
【０００４】図５は、従来の液晶表示素子１０の構成を
示す断面図である。液晶表示素子１０は、一対の基板１
１ａ，１１ｂ間に液晶層７が封入され、シール材６によ
って封止されて形成される。前記一対の基板１１ａ，１
１ｂは、プラスチック基板１ａ，１ｂの両面にハードコ
ート膜２ａ，２ｂと、これに積層してＳｉ，Ｔｉなどの
アモルファス金属酸化物あるいは金属窒化物から成るガ
スバリア膜３ａ，３ｂが形成され、さらに対向する面上
にＩＴＯ（インジウム錫酸化物）などの透光性を有する
電極４ａ，４ｂおよび配向膜５ａ，５ｂが形成される。
示す断面図である。液晶表示素子１０は、一対の基板１
１ａ，１１ｂ間に液晶層７が封入され、シール材６によ
って封止されて形成される。前記一対の基板１１ａ，１
１ｂは、プラスチック基板１ａ，１ｂの両面にハードコ
ート膜２ａ，２ｂと、これに積層してＳｉ，Ｔｉなどの
アモルファス金属酸化物あるいは金属窒化物から成るガ
スバリア膜３ａ，３ｂが形成され、さらに対向する面上
にＩＴＯ（インジウム錫酸化物）などの透光性を有する
電極４ａ，４ｂおよび配向膜５ａ，５ｂが形成される。
【０００５】一方、ＰＶＡ（ポリビニルアルコール）、
ＥＶＯＡ（ＰＶＡとエチレンの共重合体）などの有機物
から成るガスバリア膜３ａ，３ｂを前述のように形成し
た液晶表示素子１０も試みられている。
ＥＶＯＡ（ＰＶＡとエチレンの共重合体）などの有機物
から成るガスバリア膜３ａ，３ｂを前述のように形成し
た液晶表示素子１０も試みられている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】前述のような順序でプ
ラスチック基板１ａ，１ｂに膜処理を行い、ガスバリア
膜３ａ，３ｂとしてたとえばＳｉＯ2を選んだ場合、Ｓ
ｉＯ2膜３ａ，３ｂとそれに積層されるＩＴＯ膜４ａ，
４ｂとは共にスパッタ法によって同一装置内で連続的に
形成することが可能である。したがって、従来製造コス
トを低く抑えるために、図５に示すようなプラスチック
基板１ａ，１ｂへの膜処理が行われている。
ラスチック基板１ａ，１ｂに膜処理を行い、ガスバリア
膜３ａ，３ｂとしてたとえばＳｉＯ2を選んだ場合、Ｓ
ｉＯ2膜３ａ，３ｂとそれに積層されるＩＴＯ膜４ａ，
４ｂとは共にスパッタ法によって同一装置内で連続的に
形成することが可能である。したがって、従来製造コス
トを低く抑えるために、図５に示すようなプラスチック
基板１ａ，１ｂへの膜処理が行われている。
【０００７】しかし、前述のＩＴＯ膜４ａ，４ｂの膜厚
は７００〜２０００Åであり、ＳｉＯ2膜３ａ，３ｂの
膜厚は６００〜１０００Åであって、それぞれ非常に薄
いため微小な異物によって傷を生じることがある。この
ため、微小な異物が液晶表示素子を製造する工程で液晶
層７などの中に混入した場合には、ＩＴＯ膜４ａ，４ｂ
が形成されない部分のガスバリア膜３ａ，３ｂは直接前
記異物と接することになり、これによって貼り合わされ
た基板をプレスするなどの工程でガスバリア膜３ａ，３
ｂにクラックを生じてしまう。その結果、プラスチック
基板１ａ，１ｂを透過したガスがクラックから液晶層７
中に浸入し、液晶表示素子１０の液晶層７に気泡を生
じ、光学装置としての信頼性に劣るという問題がある。
は７００〜２０００Åであり、ＳｉＯ2膜３ａ，３ｂの
膜厚は６００〜１０００Åであって、それぞれ非常に薄
いため微小な異物によって傷を生じることがある。この
ため、微小な異物が液晶表示素子を製造する工程で液晶
層７などの中に混入した場合には、ＩＴＯ膜４ａ，４ｂ
が形成されない部分のガスバリア膜３ａ，３ｂは直接前
記異物と接することになり、これによって貼り合わされ
た基板をプレスするなどの工程でガスバリア膜３ａ，３
ｂにクラックを生じてしまう。その結果、プラスチック
基板１ａ，１ｂを透過したガスがクラックから液晶層７
中に浸入し、液晶表示素子１０の液晶層７に気泡を生
じ、光学装置としての信頼性に劣るという問題がある。
【０００８】また、ＰＶＡおよびＥＶＯＡなどの有機物
から成るガスバリア膜は、一般に硬度が低く、耐熱性も
低いため耐久性が低いという問題がある。
から成るガスバリア膜は、一般に硬度が低く、耐熱性も
低いため耐久性が低いという問題がある。
【０００９】本発明の目的は、前記問題点を解消し、光
学装置としての信頼性の高い液晶素子を提供することで
ある。
学装置としての信頼性の高い液晶素子を提供することで
ある。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明は、一対のプラス
チック基板間に液晶層を介在して形成される液晶素子に
おいて、前記プラスチック基板を保護するハードコート
層の下層に、当該プラスチック基板からのガス透過を防
止するガスバリア膜が形成されることを特徴とする液晶
素子である。
チック基板間に液晶層を介在して形成される液晶素子に
おいて、前記プラスチック基板を保護するハードコート
層の下層に、当該プラスチック基板からのガス透過を防
止するガスバリア膜が形成されることを特徴とする液晶
素子である。
【００１１】
【作用】本発明に従えば、液晶素子は、液晶層を介在し
て液晶素子を形成する一対のプラスチック基板に当該プ
ラスチック基板のガス透過を防止するためのガスバリア
膜が設けられる。さらに、これに積層して前記プラスチ
ック基板を保護するためのハードコート層が設けられ
る。これによって、前記ハードコート層によってその下
層に形成されたガスバリア膜が保護され、液晶素子の製
造工程で外気中の微細な異物によってガスバリア膜に傷
が生じることを防止することができる。
て液晶素子を形成する一対のプラスチック基板に当該プ
ラスチック基板のガス透過を防止するためのガスバリア
膜が設けられる。さらに、これに積層して前記プラスチ
ック基板を保護するためのハードコート層が設けられ
る。これによって、前記ハードコート層によってその下
層に形成されたガスバリア膜が保護され、液晶素子の製
造工程で外気中の微細な異物によってガスバリア膜に傷
が生じることを防止することができる。
【００１２】またさらに、ハードコート層の下層にガス
バリア膜を配置することによって、ガスバリア膜の耐熱
性および耐久性を向上することができる。これによっ
て、ガスバリア膜のガス透過防止の信頼性を向上するこ
とができ、液晶素子の光学装置としての信頼性を向上す
ることができる。
バリア膜を配置することによって、ガスバリア膜の耐熱
性および耐久性を向上することができる。これによっ
て、ガスバリア膜のガス透過防止の信頼性を向上するこ
とができ、液晶素子の光学装置としての信頼性を向上す
ることができる。
【００１３】
【実施例】図１は本発明の一実施例である液晶表示素子
２０の構成を示す断面図であり、図２は図１に示す基板
２９の他の例を示す断面図である。図１に示すように液
晶表示素子２０は、膜処理が施された一対のプラスチッ
ク基板２９ａ，２９ｂ間に液晶層２７が注入され、シー
ル材２６によって封止されて形成される。前記基板２９
ａは、３００ｍｍ×３２４ｍｍ、厚さ０．４ｍｍのアク
リル系プラスチック基板２１ａの一方表面上にスパッタ
法によってＳｉＯｘ膜から成る無機ガスバリア膜２３ａ
が膜厚約６００Åに形成される。その後、前記基板２１
ａはディップ法によってシロキサン系をベースにＳｉ粒
子を混入したハードコート剤を塗布され、焼結によって
膜厚１．５〜２ｎｍのハードコート膜２２ａがプラスチ
ック基板２１ａの両面に形成される。前記ハードコート
膜２２ａは、下地となる無機ガスバリア膜２３ａおよび
プラスチック基板２１ａを保護し、さらにハードコート
膜２２ａ上にスパッタ法によって形成されるＩＴＯ膜２
４ａの密着性を向上する。
２０の構成を示す断面図であり、図２は図１に示す基板
２９の他の例を示す断面図である。図１に示すように液
晶表示素子２０は、膜処理が施された一対のプラスチッ
ク基板２９ａ，２９ｂ間に液晶層２７が注入され、シー
ル材２６によって封止されて形成される。前記基板２９
ａは、３００ｍｍ×３２４ｍｍ、厚さ０．４ｍｍのアク
リル系プラスチック基板２１ａの一方表面上にスパッタ
法によってＳｉＯｘ膜から成る無機ガスバリア膜２３ａ
が膜厚約６００Åに形成される。その後、前記基板２１
ａはディップ法によってシロキサン系をベースにＳｉ粒
子を混入したハードコート剤を塗布され、焼結によって
膜厚１．５〜２ｎｍのハードコート膜２２ａがプラスチ
ック基板２１ａの両面に形成される。前記ハードコート
膜２２ａは、下地となる無機ガスバリア膜２３ａおよび
プラスチック基板２１ａを保護し、さらにハードコート
膜２２ａ上にスパッタ法によって形成されるＩＴＯ膜２
４ａの密着性を向上する。
【００１４】さらに、前記プラスチック基板２１ａの無
機ガスバリア膜２３ａが形成されている側のハードコー
ト膜２２ａに積層してＩＴＯ膜２４ａがスパッタ法によ
って形成される。前記ＩＴＯ膜２４ａは、エッチングな
どの既知の方法を用いて電極パターンが形成される。さ
らに、これに積層して配向膜２５ａが形成された後、前
記配向膜２５ａにはラビングなどの配向処理が施され
る。また、図２に示す液晶表示素子２０ａのように基板
２９ａは、プラスチック基板２１ａの両面にＳｉＯｘか
ら成る無機ガスバリア膜２３ａが形成されてもよい。基
板２９ｂも基板２９ａと同様である。
機ガスバリア膜２３ａが形成されている側のハードコー
ト膜２２ａに積層してＩＴＯ膜２４ａがスパッタ法によ
って形成される。前記ＩＴＯ膜２４ａは、エッチングな
どの既知の方法を用いて電極パターンが形成される。さ
らに、これに積層して配向膜２５ａが形成された後、前
記配向膜２５ａにはラビングなどの配向処理が施され
る。また、図２に示す液晶表示素子２０ａのように基板
２９ａは、プラスチック基板２１ａの両面にＳｉＯｘか
ら成る無機ガスバリア膜２３ａが形成されてもよい。基
板２９ｂも基板２９ａと同様である。
【００１５】前述のようにして形成された液晶表示素子
２０，２０ａは、ＳｉＯｘから成る無機ガスバリア膜２
３ａ，２３ｂがプラスチック基板２１ａ，２１ｂの片面
に形成されたもの、および両面に形成されたものの両方
について加速試験が行われた。前記加速試験において、
前記液晶表示素子２０，２０ａはそれぞれ温度４０℃湿
度９５％、温度６０℃湿度９５％および温度７０℃湿度
９５％の環境下に通電状態および通電しない状態で保存
される。前述のいずれの場合にも、１０００時間まで液
晶表示素子２０，２０ａには液晶層２７内に気泡の発生
が見られなかった。さらに、温度５０℃、気圧５ｋｇｆ
／ｃｍ2空気中で１２時間保存した場合も、液晶層２７
内に気泡の発生が見られなかった。
２０，２０ａは、ＳｉＯｘから成る無機ガスバリア膜２
３ａ，２３ｂがプラスチック基板２１ａ，２１ｂの片面
に形成されたもの、および両面に形成されたものの両方
について加速試験が行われた。前記加速試験において、
前記液晶表示素子２０，２０ａはそれぞれ温度４０℃湿
度９５％、温度６０℃湿度９５％および温度７０℃湿度
９５％の環境下に通電状態および通電しない状態で保存
される。前述のいずれの場合にも、１０００時間まで液
晶表示素子２０，２０ａには液晶層２７内に気泡の発生
が見られなかった。さらに、温度５０℃、気圧５ｋｇｆ
／ｃｍ2空気中で１２時間保存した場合も、液晶層２７
内に気泡の発生が見られなかった。
【００１６】図３は本発明の他の実施例である液晶表示
素子３０の構成を示す断面図であり、図４は図３に示す
基板３１の他の例を示す断面図である。図１および図２
に示す実施例と同一の構成には、同一の参照符号を付
す。図３に示すように、液晶表示素子３０は、膜処理が
施された一対のプラスチック基板３１ａ，３１ｂ間に液
晶層２７が注入され、シール材２６によって封止されて
形成される。前記基板３１ａは、３００ｍｍ×３２４ｍ
ｍ、厚さ０．４ｍｍのアクリル系プラスチック基板２１
ａの一方表面上に有機ガスバリア膜２８ａとしてＥＶＯ
Ａ（ポリビニルアルコールとエチレンの共重合体）がス
ピンコート法によって塗布され、有機ガスバリア膜２８
ａが膜厚２〜４μｍに形成される。この後、ディップ法
によってハードコート剤が基板２１ａの両面に塗布さ
れ、焼結によって前記基板２１ａの両面にハードコート
膜２２ａが形成される。さらに、前記基板２１ａの有機
ガスバリア膜２８ａが形成されている側のハードコート
膜２２ａに積層してＩＴＯ膜２４ａがスパッタ法によっ
て形成される。前記ＩＴＯ膜２４ａは、エッチングなど
によって電極パターンが形成され、これに積層して配向
膜２５ａが形成される。さらに、前記配向膜２５ａに
は、ラビングなどの配向処理が施される。また、図４に
示す液晶表示素子３０ａのように基板３１ａは、プラス
チック基板２１ａの両面にＥＶＯＡから成る有機ガスバ
リア膜２８ａが形成されてもよい。基板３１ｂも基板３
１ａと同様である。
素子３０の構成を示す断面図であり、図４は図３に示す
基板３１の他の例を示す断面図である。図１および図２
に示す実施例と同一の構成には、同一の参照符号を付
す。図３に示すように、液晶表示素子３０は、膜処理が
施された一対のプラスチック基板３１ａ，３１ｂ間に液
晶層２７が注入され、シール材２６によって封止されて
形成される。前記基板３１ａは、３００ｍｍ×３２４ｍ
ｍ、厚さ０．４ｍｍのアクリル系プラスチック基板２１
ａの一方表面上に有機ガスバリア膜２８ａとしてＥＶＯ
Ａ（ポリビニルアルコールとエチレンの共重合体）がス
ピンコート法によって塗布され、有機ガスバリア膜２８
ａが膜厚２〜４μｍに形成される。この後、ディップ法
によってハードコート剤が基板２１ａの両面に塗布さ
れ、焼結によって前記基板２１ａの両面にハードコート
膜２２ａが形成される。さらに、前記基板２１ａの有機
ガスバリア膜２８ａが形成されている側のハードコート
膜２２ａに積層してＩＴＯ膜２４ａがスパッタ法によっ
て形成される。前記ＩＴＯ膜２４ａは、エッチングなど
によって電極パターンが形成され、これに積層して配向
膜２５ａが形成される。さらに、前記配向膜２５ａに
は、ラビングなどの配向処理が施される。また、図４に
示す液晶表示素子３０ａのように基板３１ａは、プラス
チック基板２１ａの両面にＥＶＯＡから成る有機ガスバ
リア膜２８ａが形成されてもよい。基板３１ｂも基板３
１ａと同様である。
【００１７】前述のように形成された液晶表示素子３
０，３０ａは、ＥＶＯＡから成る有機ガスバリア膜２８
ａ，２８ｂがプラスチック基板２１ａ，２１ｂの片面に
形成されたものおよび両面に形成されたものの両方につ
いて加速試験が行われた。前記加速試験において、前記
液晶表示素子３０，３０ａはそれぞれ温度４０℃湿度９
５％、温度６０℃湿度９５％および温度７０℃湿度９５
％の環境下に通電状態および通電しない状態で保存され
る。この結果、前述のいずれの場合にも、１０００時間
まで液晶表示素子３０，３０ａには液晶層２７内に気泡
の発生は見られなかった。さらに、温度５０℃、気圧５
ｋｇｆ／ｃｍ2空気中で１２時間保存した場合も、液晶
層２７内に気泡の発生が見られなかった。
０，３０ａは、ＥＶＯＡから成る有機ガスバリア膜２８
ａ，２８ｂがプラスチック基板２１ａ，２１ｂの片面に
形成されたものおよび両面に形成されたものの両方につ
いて加速試験が行われた。前記加速試験において、前記
液晶表示素子３０，３０ａはそれぞれ温度４０℃湿度９
５％、温度６０℃湿度９５％および温度７０℃湿度９５
％の環境下に通電状態および通電しない状態で保存され
る。この結果、前述のいずれの場合にも、１０００時間
まで液晶表示素子３０，３０ａには液晶層２７内に気泡
の発生は見られなかった。さらに、温度５０℃、気圧５
ｋｇｆ／ｃｍ2空気中で１２時間保存した場合も、液晶
層２７内に気泡の発生が見られなかった。
【００１８】以上のように本実施例によれば、液晶表示
素子２０，２０ａは、一対のプラスチック基板２１ａ，
２１ｂの少なくとも液晶層２７を介在して対向する表面
上にＳｉＯｘから成る無機ガスバリア膜２３ａ，２３ｂ
が形成され、さらに前記無機ガスバリア膜２３ａ，２３
ｂに積層してハードコート膜２２ａ，２２ｂが基板２１
ａ，２１ｂの両面に形成される。これによって、プラス
チック基板２１ａ，２１ｂ上に形成された無機ガスバリ
ア膜２３ａ，２３ｂがハードコート膜２２ａ，２２ｂに
よって被覆されるので、製造工程で外気中の微小な異物
に接することによって無機ガスバリア膜２３ａ，２３ｂ
に傷を生じることを防止することができる。したがっ
て、この結果、無機ガスバリア膜２３ａ，２３ｂのガス
透過防止の信頼性を向上することができ、液晶表示素子
２０，２０ａの表示信頼性を向上することができる。
素子２０，２０ａは、一対のプラスチック基板２１ａ，
２１ｂの少なくとも液晶層２７を介在して対向する表面
上にＳｉＯｘから成る無機ガスバリア膜２３ａ，２３ｂ
が形成され、さらに前記無機ガスバリア膜２３ａ，２３
ｂに積層してハードコート膜２２ａ，２２ｂが基板２１
ａ，２１ｂの両面に形成される。これによって、プラス
チック基板２１ａ，２１ｂ上に形成された無機ガスバリ
ア膜２３ａ，２３ｂがハードコート膜２２ａ，２２ｂに
よって被覆されるので、製造工程で外気中の微小な異物
に接することによって無機ガスバリア膜２３ａ，２３ｂ
に傷を生じることを防止することができる。したがっ
て、この結果、無機ガスバリア膜２３ａ，２３ｂのガス
透過防止の信頼性を向上することができ、液晶表示素子
２０，２０ａの表示信頼性を向上することができる。
【００１９】また本実施例によれば、液晶表示素子３
０，３０ａは、一対のプラスチック基板２１ａ，２１ｂ
の少なくとも液晶層２７を介在して対向する表面上にＥ
ＶＯＡから成る有機ガスバリア膜２８ａ，２８ｂが形成
され、さらに前記有機ガスバリア膜２８ａ，２８ｂに積
層してハードコート膜２２ａ，２２ｂが基板２１ａ，２
１ｂの両面に形成される。これによって、プラスチック
基板２１ａ，２１ｂ上に形成された有機ガスバリア膜２
８ａ，２８ｂがハードコート膜２２ａ，２２ｂによって
被覆されるので、有機ガスバリア膜２８ａ，２８ｂの耐
熱性および耐久性を向上し、有機ガスバリア膜２８ａ，
２８ｂのガス透過防止の信頼性を向上することができ
る。
０，３０ａは、一対のプラスチック基板２１ａ，２１ｂ
の少なくとも液晶層２７を介在して対向する表面上にＥ
ＶＯＡから成る有機ガスバリア膜２８ａ，２８ｂが形成
され、さらに前記有機ガスバリア膜２８ａ，２８ｂに積
層してハードコート膜２２ａ，２２ｂが基板２１ａ，２
１ｂの両面に形成される。これによって、プラスチック
基板２１ａ，２１ｂ上に形成された有機ガスバリア膜２
８ａ，２８ｂがハードコート膜２２ａ，２２ｂによって
被覆されるので、有機ガスバリア膜２８ａ，２８ｂの耐
熱性および耐久性を向上し、有機ガスバリア膜２８ａ，
２８ｂのガス透過防止の信頼性を向上することができ
る。
【００２０】本実施例では、液晶表示素子を例にとり説
明したけれども、透明電極であるＩＴＯ膜が形成されな
い光学補償板に利用されるような液晶素子に適用するよ
うにしてもよい。
明したけれども、透明電極であるＩＴＯ膜が形成されな
い光学補償板に利用されるような液晶素子に適用するよ
うにしてもよい。
【００２１】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、液晶素子
は、液晶層を介在する一対のプラスチック基板にガスバ
リア膜に積層してハードコート層が形成されるので、液
晶素子の製造工程でガスバリア膜に微小な傷が生じるこ
とを防止することができ、さらにガスバリア膜の耐熱性
および耐久性を向上することができる。これによって、
ガスバリア膜のガス透過防止の信頼性を向上することが
でき、液晶素子の光学装置としての信頼性を向上するこ
とができる。
は、液晶層を介在する一対のプラスチック基板にガスバ
リア膜に積層してハードコート層が形成されるので、液
晶素子の製造工程でガスバリア膜に微小な傷が生じるこ
とを防止することができ、さらにガスバリア膜の耐熱性
および耐久性を向上することができる。これによって、
ガスバリア膜のガス透過防止の信頼性を向上することが
でき、液晶素子の光学装置としての信頼性を向上するこ
とができる。
【図１】本発明の一実施例である液晶表示素子２０の構
成を示す断面図である。
成を示す断面図である。
【図２】図１に示す基板２９ａ，２９ｂの他の例を示す
断面図である。
断面図である。
【図３】本発明の他の実施例である液晶表示素子３０の
構成を示す断面図である。
構成を示す断面図である。
【図４】図３に示す基板３１ａ，３１ｂの他の例を示す
断面図である。
断面図である。
【図５】従来の液晶表示素子１０の構成を示す断面図で
ある。
ある。
２０，２０ａ，３０，３０ａ 液晶表示素子 ２１ａ，２１ｂ プラスチック基板 ２２ａ，２２ｂ ハードコート膜 ２３ａ，２３ｂ 無機ガスバリア膜 ２４ａ，２４ｂ ＩＴＯ膜（透明電極） ２５ａ，２５ｂ 配向膜 ２６ａ，２６ｂ シール材 ２７ａ，２７ｂ 液晶層 ２８ａ，２８ｂ 有機ガスバリア膜 ２９ａ，２９ｂ 基板
Claims (1)
- 【請求項１】 一対のプラスチック基板間に液晶層を介
在して形成される液晶素子において、 前記プラスチック基板を保護するハードコート層の下層
に、当該プラスチック基板からのガス透過を防止するガ
スバリア膜が形成されることを特徴とする液晶素子。
Priority Applications (1)
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|---|---|---|---|
| JP05162694A JP3143268B2 (ja) | 1993-06-30 | 1993-06-30 | 液晶素子 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP05162694A JP3143268B2 (ja) | 1993-06-30 | 1993-06-30 | 液晶素子 |
Related Child Applications (4)
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|---|---|---|---|
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Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
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|---|---|---|---|
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|---|---|
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Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE19649761A1 (de) * | 1996-11-30 | 1998-06-10 | Ernst Lueder | Verfahren zur Herstellung von Flüssigkristall-Displays auf Kunststoff-Folien unter Verwendung von bistabilen Flüssigkristallen |
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-
1993
- 1993-06-30 JP JP05162694A patent/JP3143268B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE19649761A1 (de) * | 1996-11-30 | 1998-06-10 | Ernst Lueder | Verfahren zur Herstellung von Flüssigkristall-Displays auf Kunststoff-Folien unter Verwendung von bistabilen Flüssigkristallen |
| DE19649761C2 (de) * | 1996-11-30 | 2003-04-03 | Univ Stuttgart | Verfahren zur Herstellung von Flüssigkristall-Displays auf Kunststoff-Folien unter Verwendung von bistabilen Flüssigkristallen |
| JP2002174809A (ja) * | 2000-12-06 | 2002-06-21 | Toyo Metallizing Co Ltd | 液晶表示パネル用積層フィルム |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3143268B2 (ja) | 2001-03-07 |
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