JPH07204962A - 静電吸着装置 - Google Patents
静電吸着装置Info
- Publication number
- JPH07204962A JPH07204962A JP617094A JP617094A JPH07204962A JP H07204962 A JPH07204962 A JP H07204962A JP 617094 A JP617094 A JP 617094A JP 617094 A JP617094 A JP 617094A JP H07204962 A JPH07204962 A JP H07204962A
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- Japan
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- voltage
- case
- dielectric
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】
【目的】静電吸着装置の電極の数を単極型の場合２系統
以上，双極型の場合３系統以上設置し、試料を吸着する
際にそれぞれの電極に任意に電圧を印加することによ
り、試料を歪無く吸着し、試料の加工精度の向上あるい
は、測定誤差の低減を図ることを目的とする。 【構成】試料を吸着するための誘電体の表面を平滑に仕
上げておき、裏面に電極の数を単極型の場合２系統以
上，双極型の場合３系統以上設置し、それぞれの電極に
任意に電圧を印加する機能を有する電圧印加用電源を接
続する。 【効果】試料の微細加工や精密測長などを行う場合、試
料の反りを矯正し、平坦にするため、試料の加工精度の
向上あるいは、測定誤差の低減を図ることが出来る。
以上，双極型の場合３系統以上設置し、試料を吸着する
際にそれぞれの電極に任意に電圧を印加することによ
り、試料を歪無く吸着し、試料の加工精度の向上あるい
は、測定誤差の低減を図ることを目的とする。 【構成】試料を吸着するための誘電体の表面を平滑に仕
上げておき、裏面に電極の数を単極型の場合２系統以
上，双極型の場合３系統以上設置し、それぞれの電極に
任意に電圧を印加する機能を有する電圧印加用電源を接
続する。 【効果】試料の微細加工や精密測長などを行う場合、試
料の反りを矯正し、平坦にするため、試料の加工精度の
向上あるいは、測定誤差の低減を図ることが出来る。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、静電吸着力により、吸
着することが出来る試料を扱う全ての分野に関し、特に
半導体の製造分野において半導体から成る被加工物や被
検査物（以下、試料とする）の反りを矯正し、平坦にす
るための吸着装置に関する。
着することが出来る試料を扱う全ての分野に関し、特に
半導体の製造分野において半導体から成る被加工物や被
検査物（以下、試料とする）の反りを矯正し、平坦にす
るための吸着装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来の静電吸着装置は、単極型の場合、
試料を吸着するための誘電体に１系統の電極が設置して
あり、電極に電圧を印加すると試料全面に同時に吸着力
が発生する構造となっている。しかし、実際の試料には
反りがあり、最も誘電体に近い部分に強く吸着力が発生
するため、そこから誘電体に吸着され、試料の反りの状
態により、吸着後の試料に歪が残ってしまい、加工上の
誤差あるいは、測定誤差が発生する場合があった。
試料を吸着するための誘電体に１系統の電極が設置して
あり、電極に電圧を印加すると試料全面に同時に吸着力
が発生する構造となっている。しかし、実際の試料には
反りがあり、最も誘電体に近い部分に強く吸着力が発生
するため、そこから誘電体に吸着され、試料の反りの状
態により、吸着後の試料に歪が残ってしまい、加工上の
誤差あるいは、測定誤差が発生する場合があった。
【０００３】双極型の場合でも、試料を吸着するための
誘電体に２系統の電極が設置してあり、それぞれの電極
にプラスとマイナスの電圧を印加すると試料全面に同時
に吸着力が発生する構造となっているため同様である。
誘電体に２系統の電極が設置してあり、それぞれの電極
にプラスとマイナスの電圧を印加すると試料全面に同時
に吸着力が発生する構造となっているため同様である。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】上記従来技術は、試料
全面に同時に吸着力が発生する構造となっているため、
試料が凸型に反っている場合、より誘電体に近い端部か
ら誘電体に吸着されるため、中央に反りを矯正出来ない
部分が残る。
全面に同時に吸着力が発生する構造となっているため、
試料が凸型に反っている場合、より誘電体に近い端部か
ら誘電体に吸着されるため、中央に反りを矯正出来ない
部分が残る。
【０００５】本発明は、静電吸着装置の電極の数を単極
型の場合２系統以上，双極型の場合３系統以上設置し、
試料を吸着する際にそれぞれの電極に任意に電圧を印加
することにより、試料を歪無く吸着し、試料の加工精度
の向上あるいは、測定誤差の低減を図ることの出来る静
電吸着装置を提供するものである。
型の場合２系統以上，双極型の場合３系統以上設置し、
試料を吸着する際にそれぞれの電極に任意に電圧を印加
することにより、試料を歪無く吸着し、試料の加工精度
の向上あるいは、測定誤差の低減を図ることの出来る静
電吸着装置を提供するものである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、 １．静電吸着装置の誘電体に電極を単極型の場合２系統
以上，双極型の場合３系統以上設置した。
に、 １．静電吸着装置の誘電体に電極を単極型の場合２系統
以上，双極型の場合３系統以上設置した。
【０００７】２．静電吸着装置に電圧を印加するための
回路を、単極型の場合２系統以上，双極型の場合３系統
以上設置し、それぞれの回路が電圧を各電極に任意に印
加出来る機能を付加した。
回路を、単極型の場合２系統以上，双極型の場合３系統
以上設置し、それぞれの回路が電圧を各電極に任意に印
加出来る機能を付加した。
【０００８】
【作用】誘電体の中央部から端部に複数系統電極を設置
した静電吸着装置の誘電体の上に試料（導体）を乗せ、
試料を接地する。
した静電吸着装置の誘電体の上に試料（導体）を乗せ、
試料を接地する。
【０００９】中央部の電極に電圧を印加し、試料を誘電
体に吸着する。次に中央部から２番目の電極に電圧を印
加し、試料を誘電体に吸着する。このように中央部の電
極から順に電圧を印加することにより、試料を中央から
誘電体に吸着していき、試料を歪無く吸着することが出
来る。
体に吸着する。次に中央部から２番目の電極に電圧を印
加し、試料を誘電体に吸着する。このように中央部の電
極から順に電圧を印加することにより、試料を中央から
誘電体に吸着していき、試料を歪無く吸着することが出
来る。
【００１０】
【実施例】以下、本発明の一実施例として単極型の静電
吸着装置を図１，図２により説明する。
吸着装置を図１，図２により説明する。
【００１１】反りのある試料１を吸着するための誘電体
２の表面は平滑に仕上げられており、裏面には電極３，
４，５が設置してある。各電極は、スイッチ３ａ，４
ａ，５ａを介して電源３ｂ，４ｂ，５ｂに接続してあ
り、試料１は接触子６により接地してある。
２の表面は平滑に仕上げられており、裏面には電極３，
４，５が設置してある。各電極は、スイッチ３ａ，４
ａ，５ａを介して電源３ｂ，４ｂ，５ｂに接続してあ
り、試料１は接触子６により接地してある。
【００１２】試料１を吸着するために、最初にスイッチ
３ａを閉じ、電極３に電圧を印加する。このとき、印加
する電圧は、試料１を吸着できる十分な電圧であるとす
る。このことにより、試料１の中央部の小面積にのみ吸
着力が発生し、その部分のみが誘電体２に吸着される。
３ａを閉じ、電極３に電圧を印加する。このとき、印加
する電圧は、試料１を吸着できる十分な電圧であるとす
る。このことにより、試料１の中央部の小面積にのみ吸
着力が発生し、その部分のみが誘電体２に吸着される。
【００１３】次にスイッチ４ａを閉じ、電極４に電圧を
印加すると電極３により吸着された試料１の小面積に隣
接した部分が誘電体２に吸着される。
印加すると電極３により吸着された試料１の小面積に隣
接した部分が誘電体２に吸着される。
【００１４】このように中央部の電極３から順次、外側
に設置した電極４，５に電圧を印加していくことによ
り、試料１を中央部から外側に向かって一方向に吸着し
ていくため、反りのある試料でも歪無く平坦に固定する
ことが出来、試料の加工精度の向上あるいは、測定誤差
の低減を図ることが出来る。
に設置した電極４，５に電圧を印加していくことによ
り、試料１を中央部から外側に向かって一方向に吸着し
ていくため、反りのある試料でも歪無く平坦に固定する
ことが出来、試料の加工精度の向上あるいは、測定誤差
の低減を図ることが出来る。
【００１５】
【発明の効果】本発明は、静電吸着力により、試料を平
坦に吸着する必要がある全ての分野の装置に適用出来る
が、特に半導体の製造分野において、半導体から成る試
料の微細加工や精密測長などを行う装置に適用した場
合、試料の反りを矯正し、平坦にするため、試料の加工
精度の向上あるいは、測定誤差の低減を図ることが出来
る。
坦に吸着する必要がある全ての分野の装置に適用出来る
が、特に半導体の製造分野において、半導体から成る試
料の微細加工や精密測長などを行う装置に適用した場
合、試料の反りを矯正し、平坦にするため、試料の加工
精度の向上あるいは、測定誤差の低減を図ることが出来
る。
【図１】本発明の実施例の単極型静電吸着装置の断面図
である。
である。
【図２】本発明の実施例の単極型静電吸着装置の電極形
状の平面図である。
状の平面図である。
１…試料、２…誘電体、３，４，５…電極、３ａ，４
ａ，５ａ…スイッチ、３ｂ，４ｂ，５ｂ…電圧印加用電
源、６…接触子。
ａ，５ａ…スイッチ、３ｂ，４ｂ，５ｂ…電圧印加用電
源、６…接触子。
Claims (2)
- 【請求項１】静電吸着力により、試料を保持する静電吸
着装置において電極の数が、単極型の場合２系統以上，
双極型の場合３系統以上有することを特徴とする静電吸
着装置。 - 【請求項２】静電吸着装置に電圧を印加するための回路
を、単極型の場合２系統以上，双極型の場合３系統以上
有し、それぞれの回路が電圧を各電極に任意に印加出来
る機能を有することを特徴とする請求項１記載の静電吸
着装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP617094A JPH07204962A (ja) | 1994-01-25 | 1994-01-25 | 静電吸着装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP617094A JPH07204962A (ja) | 1994-01-25 | 1994-01-25 | 静電吸着装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07204962A true JPH07204962A (ja) | 1995-08-08 |
Family
ID=11631079
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP617094A Pending JPH07204962A (ja) | 1994-01-25 | 1994-01-25 | 静電吸着装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07204962A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH09223729A (ja) * | 1996-02-19 | 1997-08-26 | Kyocera Corp | 静電チャック |
| JPH11150176A (ja) * | 1997-11-18 | 1999-06-02 | Tokyo Electron Ltd | 基板保持方法，基板保持装置及び基板処理方法 |
| JP2013175781A (ja) * | 2000-07-27 | 2013-09-05 | Ebara Corp | ウェハを吸着保持する静電チャック |
-
1994
- 1994-01-25 JP JP617094A patent/JPH07204962A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH09223729A (ja) * | 1996-02-19 | 1997-08-26 | Kyocera Corp | 静電チャック |
| JPH11150176A (ja) * | 1997-11-18 | 1999-06-02 | Tokyo Electron Ltd | 基板保持方法，基板保持装置及び基板処理方法 |
| JP2013175781A (ja) * | 2000-07-27 | 2013-09-05 | Ebara Corp | ウェハを吸着保持する静電チャック |
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