JPH07206475A - 撥水性層担持部材 - Google Patents
撥水性層担持部材Info
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- JPH07206475A JPH07206475A JP5354190A JP35419093A JPH07206475A JP H07206475 A JPH07206475 A JP H07206475A JP 5354190 A JP5354190 A JP 5354190A JP 35419093 A JP35419093 A JP 35419093A JP H07206475 A JPH07206475 A JP H07206475A
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- repellent
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- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Materials Applied To Surfaces To Minimize Adherence Of Mist Or Water (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 表面上の汚れに対して撥水性層の高い撥水性
能を維持する。 【構成】 撥水性層担持基板１の表面上に複数個の凹部
２を繰り返し形成する。このため基板１の表面上には凹
部２および凸部３が交互に繰り返し形成される。表面を
撥水性材料からなる撥水性膜４により被覆する。撥水性
膜４により被覆された凹部２のピッチＰが２０μｍから
１５０μｍまでの範囲にあり、ピッチＰに対する凹部の
深さｈの比ｈ／Ｐが０．３以上であり、さらに凸部３の
頂部を結ぶことによって得られる仮想表面の表面粗さが
５００μｍ以下であるように凹部２および凸部３を形成
する。
能を維持する。 【構成】 撥水性層担持基板１の表面上に複数個の凹部
２を繰り返し形成する。このため基板１の表面上には凹
部２および凸部３が交互に繰り返し形成される。表面を
撥水性材料からなる撥水性膜４により被覆する。撥水性
膜４により被覆された凹部２のピッチＰが２０μｍから
１５０μｍまでの範囲にあり、ピッチＰに対する凹部の
深さｈの比ｈ／Ｐが０．３以上であり、さらに凸部３の
頂部を結ぶことによって得られる仮想表面の表面粗さが
５００μｍ以下であるように凹部２および凸部３を形成
する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は撥水性層担持部材に関す
る。
る。
【０００２】
【従来の技術】表面上に複数個の凹部および凸部を交互
に繰り返し形成し、該表面を撥水性材料からなる撥水性
膜により被覆した熱交換器用放熱フィン材が公知である
（特開平３−４５８９３号公報参照）。この公報中に
は、凸部の高さが０．２μｍから３．０μｍであり、か
つ凸部の高さ／凸部の径が０．１から０．５（このとき
凸部の径は２μｍから１５μｍ）であるときに特に優れ
た撥水性能が得られることが示されている。
に繰り返し形成し、該表面を撥水性材料からなる撥水性
膜により被覆した熱交換器用放熱フィン材が公知である
（特開平３−４５８９３号公報参照）。この公報中に
は、凸部の高さが０．２μｍから３．０μｍであり、か
つ凸部の高さ／凸部の径が０．１から０．５（このとき
凸部の径は２μｍから１５μｍ）であるときに特に優れ
た撥水性能が得られることが示されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】ところで、上述したフ
ィン材におけるように凸部を繰り返し形成するとこれら
凸部間には凹部が形成されることとなり、上述したフィ
ン材におけるように凸部の寸法を例えば２μｍから１５
μｍの範囲に形成した場合には凹部も同程度の寸法に形
成されることとなる。しかしながら、このように凹部の
寸法が小さく形成された場合この凹部内に例えばほこ
り、油などの汚れが一旦入り込むとこの凹部内の汚れを
除去するのは極めて困難であり、その結果表面が平坦で
ある表面と同様になってしまうので表面の汚れにより撥
水性層の撥水性能を維持できなくなるという問題があ
る。
ィン材におけるように凸部を繰り返し形成するとこれら
凸部間には凹部が形成されることとなり、上述したフィ
ン材におけるように凸部の寸法を例えば２μｍから１５
μｍの範囲に形成した場合には凹部も同程度の寸法に形
成されることとなる。しかしながら、このように凹部の
寸法が小さく形成された場合この凹部内に例えばほこ
り、油などの汚れが一旦入り込むとこの凹部内の汚れを
除去するのは極めて困難であり、その結果表面が平坦で
ある表面と同様になってしまうので表面の汚れにより撥
水性層の撥水性能を維持できなくなるという問題があ
る。
【０００４】
【課題を解決するための手段】上記問題点を解決するた
めに本発明によれば、表面上に複数個の凹部および凸部
を交互に繰り返し形成し、該表面を撥水性材料からなる
撥水性膜により被覆した撥水性層担持部材において、上
記撥水性膜により被覆された凹部または凸部のピッチが
２０μｍから１５０μｍまでの範囲にあり、該ピッチに
対する凹部の深さまたは凸部の高さの比が０．３以上で
あり、さらに凸部の頂部を結ぶことによって得られる仮
想表面の表面粗さが５００μｍ以下であるように凹部お
よび凸部を形成している。さらに本発明によれば、上記
部材を珪素からなる基板から構成し、上記凹部または凸
部をフォトリソグラフィーにより四角錘状に形成してい
る。さらに本発明によれば、請求項２に記載の撥水性層
担持部材を金型として用いて上記凹部および凸部を形成
している。さらにまた本発明によれば、上記凹部および
凸部を交互に繰り返し形成することによってフレネルレ
ンズにしている。また上記問題点を解決するために本発
明によれば、表面上に複数個の凹部および凸部を交互に
繰り返し形成し、該表面を撥水性材料からなる撥水性膜
により被覆した撥水性層担持部材において、上記部材を
珪素からなる基板から構成し、上記凹部または凸部をフ
ォトリソグラフィーにより形成すると共に上記撥水性膜
により被覆された凹部または凸部のピッチが２０μｍか
ら４００μｍまでの範囲にあるように上記凹部および凸
部を形成し、上記凸部の頂部にフォトリソグラフィーに
おいて用いたマスクを残存させている。
めに本発明によれば、表面上に複数個の凹部および凸部
を交互に繰り返し形成し、該表面を撥水性材料からなる
撥水性膜により被覆した撥水性層担持部材において、上
記撥水性膜により被覆された凹部または凸部のピッチが
２０μｍから１５０μｍまでの範囲にあり、該ピッチに
対する凹部の深さまたは凸部の高さの比が０．３以上で
あり、さらに凸部の頂部を結ぶことによって得られる仮
想表面の表面粗さが５００μｍ以下であるように凹部お
よび凸部を形成している。さらに本発明によれば、上記
部材を珪素からなる基板から構成し、上記凹部または凸
部をフォトリソグラフィーにより四角錘状に形成してい
る。さらに本発明によれば、請求項２に記載の撥水性層
担持部材を金型として用いて上記凹部および凸部を形成
している。さらにまた本発明によれば、上記凹部および
凸部を交互に繰り返し形成することによってフレネルレ
ンズにしている。また上記問題点を解決するために本発
明によれば、表面上に複数個の凹部および凸部を交互に
繰り返し形成し、該表面を撥水性材料からなる撥水性膜
により被覆した撥水性層担持部材において、上記部材を
珪素からなる基板から構成し、上記凹部または凸部をフ
ォトリソグラフィーにより形成すると共に上記撥水性膜
により被覆された凹部または凸部のピッチが２０μｍか
ら４００μｍまでの範囲にあるように上記凹部および凸
部を形成し、上記凸部の頂部にフォトリソグラフィーに
おいて用いたマスクを残存させている。
【０００５】
【作用】請求項１に記載の発明では、表面上の汚れの除
去が容易にされると共に高い撥水性能が確保される。請
求項２に記載の発明ではさらに、部材の全表面上に整然
と配列された凹部および凸部が容易に形成される。請求
項３に記載の発明ではさらに、部材が珪素以外の材料か
ら構成された場合にも予め定められた寸法の凹部および
凸部が容易に形成される。請求項４に記載の発明ではさ
らに、撥水性層担持部材をフレネルレンズにすることに
より透明の撥水性層担持部材を透過する光の散乱が阻止
され、撥水性層担持部材を介した視認性が確保される。
請求項５に記載の発明では、表面上の汚れの除去が容易
にされると共に高い撥水性能が確保される。
去が容易にされると共に高い撥水性能が確保される。請
求項２に記載の発明ではさらに、部材の全表面上に整然
と配列された凹部および凸部が容易に形成される。請求
項３に記載の発明ではさらに、部材が珪素以外の材料か
ら構成された場合にも予め定められた寸法の凹部および
凸部が容易に形成される。請求項４に記載の発明ではさ
らに、撥水性層担持部材をフレネルレンズにすることに
より透明の撥水性層担持部材を透過する光の散乱が阻止
され、撥水性層担持部材を介した視認性が確保される。
請求項５に記載の発明では、表面上の汚れの除去が容易
にされると共に高い撥水性能が確保される。
【０００６】
【実施例】図１は本発明の実施例による撥水性層担持基
板１の拡大部分頂面図であり、図２は図１の線ＩＩ−Ｉ
Ｉに沿ってみた撥水性層担持基板１の側面断面図であ
り、図３は図１に示した撥水性層担持基板１の表面の微
細パターンを示す写真である。図１から図３を参照する
と、撥水性層担持基板１はその表面上に撥水性層１ａを
担持している。この撥水性層１ａには四角錘状の凹部２
が繰り返し形成されている。このためこれら凹部２間に
は凸部３が形成されることとなり、したがって基板１の
表面上には凹部２と凸部３とが交互に繰り返し形成され
ることとなる。また、図２に示すように凹部２および凸
部３は撥水性膜４により被覆されている。この撥水性膜
４は撥水性材料から構成され、本実施例において撥水性
材料は例えばテトラエトキシシランおよびフルオロアル
キルシランなどを含むフッ素系樹脂から構成される。表
面が平坦な基板、すなわち表面に凹部２および凸部３を
設けていない基板上にこの撥水性膜４を被覆した場合の
水接触角（後述する）は１１５°であった。
板１の拡大部分頂面図であり、図２は図１の線ＩＩ−Ｉ
Ｉに沿ってみた撥水性層担持基板１の側面断面図であ
り、図３は図１に示した撥水性層担持基板１の表面の微
細パターンを示す写真である。図１から図３を参照する
と、撥水性層担持基板１はその表面上に撥水性層１ａを
担持している。この撥水性層１ａには四角錘状の凹部２
が繰り返し形成されている。このためこれら凹部２間に
は凸部３が形成されることとなり、したがって基板１の
表面上には凹部２と凸部３とが交互に繰り返し形成され
ることとなる。また、図２に示すように凹部２および凸
部３は撥水性膜４により被覆されている。この撥水性膜
４は撥水性材料から構成され、本実施例において撥水性
材料は例えばテトラエトキシシランおよびフルオロアル
キルシランなどを含むフッ素系樹脂から構成される。表
面が平坦な基板、すなわち表面に凹部２および凸部３を
設けていない基板上にこの撥水性膜４を被覆した場合の
水接触角（後述する）は１１５°であった。
【０００７】本実施例において撥水性層担持基板１は珪
素から構成され、撥水性層１ａの凹部２および凸部３は
フォトリソグラフィーにより形成される。このフォトリ
ソグラフィーでは、順に、（ａ）基板１の表面上への酸
化膜の形成、（ｂ）酸化膜上へのフォトレジストの塗
布、（ｃ）熱処理、（ｄ）フォトマスクを用いた露光、
（ｅ）現像、（ｆ）熱処理、（ｇ）バッファフッ酸によ
る酸化膜のエッチング、（ｈ）フォトレジストの除去、
がまず行われる。これらの工程が完了したとき基板１は
図４（Ａ）に示すようになっており、このとき基板１表
面の一部は酸化膜５により被覆され、一方残りの基板１
表面は露出している。なお、この酸化膜５のパターンは
フォトマスクのパターンに対応しており、また酸化膜５
のパターンにより凹部２および凸部３の寸法が定められ
ることとなる。次いでフォトリソグラフィーにおいて、
例えばＮａＯＨ、ＫＯＨなどのアルカリ水溶液により基
板１がエッチングされる。このとき、酸化膜５はアルカ
リ水溶液にエッチングされにくいのでマスクとして作用
して基板１のみがエッチングされ、その結果図４（Ｂ）
に示すように四角錘台状の凹部６が形成される。さらに
エッチングを進行させると図４（Ｃ）に示すように四角
錘状の凹部７が形成され、さらにエッチングを進行させ
ると図４（Ｄ）に示すように酸化膜５の下方にもエッチ
ングが進行して凹部７が拡大する。さらにエッチングを
進行させると図４（Ｅ）に示すように四角錐状の凹部２
が形成され、また酸化膜５が除去されてフォトリソグラ
フィーが完了する。フォトリソグラフィーが完了した後
基板１の凹部２および凸部３は撥水性膜４により被覆さ
れ、その結果基板１の表面上には図２に示したような撥
水性膜４を備えた撥水性層１ａが形成されることとな
る。
素から構成され、撥水性層１ａの凹部２および凸部３は
フォトリソグラフィーにより形成される。このフォトリ
ソグラフィーでは、順に、（ａ）基板１の表面上への酸
化膜の形成、（ｂ）酸化膜上へのフォトレジストの塗
布、（ｃ）熱処理、（ｄ）フォトマスクを用いた露光、
（ｅ）現像、（ｆ）熱処理、（ｇ）バッファフッ酸によ
る酸化膜のエッチング、（ｈ）フォトレジストの除去、
がまず行われる。これらの工程が完了したとき基板１は
図４（Ａ）に示すようになっており、このとき基板１表
面の一部は酸化膜５により被覆され、一方残りの基板１
表面は露出している。なお、この酸化膜５のパターンは
フォトマスクのパターンに対応しており、また酸化膜５
のパターンにより凹部２および凸部３の寸法が定められ
ることとなる。次いでフォトリソグラフィーにおいて、
例えばＮａＯＨ、ＫＯＨなどのアルカリ水溶液により基
板１がエッチングされる。このとき、酸化膜５はアルカ
リ水溶液にエッチングされにくいのでマスクとして作用
して基板１のみがエッチングされ、その結果図４（Ｂ）
に示すように四角錘台状の凹部６が形成される。さらに
エッチングを進行させると図４（Ｃ）に示すように四角
錘状の凹部７が形成され、さらにエッチングを進行させ
ると図４（Ｄ）に示すように酸化膜５の下方にもエッチ
ングが進行して凹部７が拡大する。さらにエッチングを
進行させると図４（Ｅ）に示すように四角錐状の凹部２
が形成され、また酸化膜５が除去されてフォトリソグラ
フィーが完了する。フォトリソグラフィーが完了した後
基板１の凹部２および凸部３は撥水性膜４により被覆さ
れ、その結果基板１の表面上には図２に示したような撥
水性膜４を備えた撥水性層１ａが形成されることとな
る。
【０００８】図５は、撥水性膜４により被覆された凹部
２のピッチＰ（図２参照）を変化させたときの水接触角
θの変化を示す、実験結果である。ここで、水接触角θ
は、図６に示すように基板１の表面上において水滴８の
表面の接線方向と基板１の表面間に形成される角度であ
り、この水接触角θが大きいとき程撥水性層担持基板１
の撥水性能が高いことを示している。図５を参照する
と、ピッチＰが２０μｍから１５０μｍであるときに水
接触角θが約１５０°以上となり、すなわち高い撥水性
能が得られることがわかる。なお、図５においてＰ＝０
μｍのときは基板１に凹部２および凸部３を形成してい
ない場合であり、すなわち基板１の表面が平坦である場
合を示している。
２のピッチＰ（図２参照）を変化させたときの水接触角
θの変化を示す、実験結果である。ここで、水接触角θ
は、図６に示すように基板１の表面上において水滴８の
表面の接線方向と基板１の表面間に形成される角度であ
り、この水接触角θが大きいとき程撥水性層担持基板１
の撥水性能が高いことを示している。図５を参照する
と、ピッチＰが２０μｍから１５０μｍであるときに水
接触角θが約１５０°以上となり、すなわち高い撥水性
能が得られることがわかる。なお、図５においてＰ＝０
μｍのときは基板１に凹部２および凸部３を形成してい
ない場合であり、すなわち基板１の表面が平坦である場
合を示している。
【０００９】また図７は、撥水性膜４が被覆された凹部
２の高さｈ（図２参照）のピッチＰに対する比ｈ／Ｐを
変化させたときの水接触角θの変化を示す、実験結果で
ある。図７を参照すると、Ｐ＝５０μｍの場合もＰ＝１
５０μｍの場合もｈ／Ｐが０．３以上になると水接触角
θが急激に向上することがわかる。なお図７において、
図４に示す凹部２の形成工程においてエッチング時間を
変化させることにより凹部２の高さｈを変化させてい
る。したがってｈ／Ｐが例えば０．２のように小さいと
きには凹部２は図８に示すように四角錘台状をなしてい
る。また本実施例においてｈ／Ｐが約０．７になると凹
部２は図２に示したような四角錘状をなすようになる。
２の高さｈ（図２参照）のピッチＰに対する比ｈ／Ｐを
変化させたときの水接触角θの変化を示す、実験結果で
ある。図７を参照すると、Ｐ＝５０μｍの場合もＰ＝１
５０μｍの場合もｈ／Ｐが０．３以上になると水接触角
θが急激に向上することがわかる。なお図７において、
図４に示す凹部２の形成工程においてエッチング時間を
変化させることにより凹部２の高さｈを変化させてい
る。したがってｈ／Ｐが例えば０．２のように小さいと
きには凹部２は図８に示すように四角錘台状をなしてい
る。また本実施例においてｈ／Ｐが約０．７になると凹
部２は図２に示したような四角錘状をなすようになる。
【００１０】さらに図９は、凸部３の頂部を結ぶことに
よって得られる仮想表面Ｓの表面粗さＲ（以後仮想表面
Ｓの表面粗さＲと称する）を変化させたときの水接触角
θの変化を示す、実験結果である。この仮想表面Ｓの表
面粗さＲは、図１０に示すように凸部３の頂部を結ぶこ
とによって得られる仮想表面Ｓが断面曲線に一致してい
る基板の表面粗さであり、また図１０に示すようにこの
仮想表面Ｓの表面粗さＲは測定長さＬにおける最大高さ
である。図９を参照すると、いずれのピッチＰにおいて
も仮想表面Ｓの表面粗さＲが５００μｍ以下である場合
に高い水接触角θを確保できることがわかる。なお、鉄
からなる基板の表面上にショットブラスタにより凹部お
よび凸部を形成した場合の水接触角θも測定した。この
場合凸部の高さが約３０μｍでありかつ仮想表面の表面
粗さが約７００μｍである撥水性層が形成されたが、こ
のときの水接触角θは約１２０°であり、本実施例によ
る撥水性層担持基板１の撥水性能よりも劣ることとなっ
た。またガラスからなる基板の表面上にショットブラス
タにより凹部および凸部を形成した場合には、凸部の高
さが約５０μｍでありかつ仮想表面の表面粗さが約６０
０μｍである撥水性層が形成されたが、このときの水接
触角θは約１２０°であり、この場合も本実施例による
撥水性層担持基板１の撥水性能よりも劣ることとなっ
た。
よって得られる仮想表面Ｓの表面粗さＲ（以後仮想表面
Ｓの表面粗さＲと称する）を変化させたときの水接触角
θの変化を示す、実験結果である。この仮想表面Ｓの表
面粗さＲは、図１０に示すように凸部３の頂部を結ぶこ
とによって得られる仮想表面Ｓが断面曲線に一致してい
る基板の表面粗さであり、また図１０に示すようにこの
仮想表面Ｓの表面粗さＲは測定長さＬにおける最大高さ
である。図９を参照すると、いずれのピッチＰにおいて
も仮想表面Ｓの表面粗さＲが５００μｍ以下である場合
に高い水接触角θを確保できることがわかる。なお、鉄
からなる基板の表面上にショットブラスタにより凹部お
よび凸部を形成した場合の水接触角θも測定した。この
場合凸部の高さが約３０μｍでありかつ仮想表面の表面
粗さが約７００μｍである撥水性層が形成されたが、こ
のときの水接触角θは約１２０°であり、本実施例によ
る撥水性層担持基板１の撥水性能よりも劣ることとなっ
た。またガラスからなる基板の表面上にショットブラス
タにより凹部および凸部を形成した場合には、凸部の高
さが約５０μｍでありかつ仮想表面の表面粗さが約６０
０μｍである撥水性層が形成されたが、このときの水接
触角θは約１２０°であり、この場合も本実施例による
撥水性層担持基板１の撥水性能よりも劣ることとなっ
た。
【００１１】図５、図７、および図９に示した実験結果
によれば、凹部２のピッチＰが２０μｍから１５０μｍ
までの範囲にあり、ｈ／Ｐが０．３以上であり、さらに
仮想表面Ｓの表面粗さＲが５００μｍ以下であるように
凹部２および凸部３を形成することによって、高い撥水
性能を得ることができることが確認された。そこで、本
実施例ではこれらの条件を満たすように凹部２および凸
部３を形成するようにして撥水性層担持基板１の高い撥
水性能を確保するようにしている。
によれば、凹部２のピッチＰが２０μｍから１５０μｍ
までの範囲にあり、ｈ／Ｐが０．３以上であり、さらに
仮想表面Ｓの表面粗さＲが５００μｍ以下であるように
凹部２および凸部３を形成することによって、高い撥水
性能を得ることができることが確認された。そこで、本
実施例ではこれらの条件を満たすように凹部２および凸
部３を形成するようにして撥水性層担持基板１の高い撥
水性能を確保するようにしている。
【００１２】本実施例において、凹部２の開口部の寸法
は凹部２のピッチＰとほぼ同様であり、その結果凹部２
内に入り込んだ汚れを容易に除去することができるので
基板１の撥水性能を汚れに対して良好に維持することが
できる。また、本実施例では基板１を珪素から構成して
フォトリソグラフィーにより凹部２および凸部３を形成
するようにしており、その結果基板１の表面全体にわた
って整然と配列された凹部２および凸部３を容易に形成
できる。さらに、凹部２のピッチＰが２０から１５０μ
ｍの範囲にあるように凹部２および凸部３を形成してい
るのでフォトリソグラフィーにおけるフォトマスクを特
別に高精度に加工する必要がなくなり、したがって凹部
２および凸部３を容易に形成できる。なお、本実施例に
おいて基板１は例えば太陽電池として構成できる。
は凹部２のピッチＰとほぼ同様であり、その結果凹部２
内に入り込んだ汚れを容易に除去することができるので
基板１の撥水性能を汚れに対して良好に維持することが
できる。また、本実施例では基板１を珪素から構成して
フォトリソグラフィーにより凹部２および凸部３を形成
するようにしており、その結果基板１の表面全体にわた
って整然と配列された凹部２および凸部３を容易に形成
できる。さらに、凹部２のピッチＰが２０から１５０μ
ｍの範囲にあるように凹部２および凸部３を形成してい
るのでフォトリソグラフィーにおけるフォトマスクを特
別に高精度に加工する必要がなくなり、したがって凹部
２および凸部３を容易に形成できる。なお、本実施例に
おいて基板１は例えば太陽電池として構成できる。
【００１３】次に本発明による別の実施例を説明する。
この実施例において図１から図３に示した実施例と同様
の構成要素は同一の番号で示している。図１１は本実施
例による撥水性層担持基板１の拡大部分頂面図であり、
図１２は図１１の線ＸＩＩ−ＸＩＩに沿ってみた撥水性
層担持基板１の側面断面図であり、図１３は図１１に示
した撥水性層担持基板１の表面の微細パターンを示す写
真である。図１１から図１３を参照すると、本実施例に
おいても撥水性層担持基板１はその表面上に撥水性層１
ａを担持している。この撥水性層１ａには四角錘状の凸
部３が繰り返し形成されている。このためこれら凸部３
間には凹部２が形成されることとなり、したがって基板
１の表面上には凹部２と凸部３とが交互に繰り返し形成
されることとなる。また、図１２に示すように凹部２お
よび凸部３は撥水性材料からなる撥水性膜４により被覆
されている。
この実施例において図１から図３に示した実施例と同様
の構成要素は同一の番号で示している。図１１は本実施
例による撥水性層担持基板１の拡大部分頂面図であり、
図１２は図１１の線ＸＩＩ−ＸＩＩに沿ってみた撥水性
層担持基板１の側面断面図であり、図１３は図１１に示
した撥水性層担持基板１の表面の微細パターンを示す写
真である。図１１から図１３を参照すると、本実施例に
おいても撥水性層担持基板１はその表面上に撥水性層１
ａを担持している。この撥水性層１ａには四角錘状の凸
部３が繰り返し形成されている。このためこれら凸部３
間には凹部２が形成されることとなり、したがって基板
１の表面上には凹部２と凸部３とが交互に繰り返し形成
されることとなる。また、図１２に示すように凹部２お
よび凸部３は撥水性材料からなる撥水性膜４により被覆
されている。
【００１４】本実施例においても撥水性層担持基板１は
珪素から構成され、撥水性層１ａの凹部２および凸部３
はフォトリソグラフィーにより形成される。このフォト
リソグラフィーの工程は図１から図３に示した実施例
（図４参照）と同様であるので説明を省略する。しかし
ながら、本実施例におけるフォトマスクのパターンは図
１から図３に示した実施例におけるフォトマスクのパタ
ーンとは異なっている。なお、本実施例においてもフォ
トリソグラフィーにより凹部２および凸部３が形成され
た後凹部２および凸部３は撥水性膜４により被覆され、
その結果基板１の表面上には１２に示したような撥水性
層１ａが形成されることとなる。
珪素から構成され、撥水性層１ａの凹部２および凸部３
はフォトリソグラフィーにより形成される。このフォト
リソグラフィーの工程は図１から図３に示した実施例
（図４参照）と同様であるので説明を省略する。しかし
ながら、本実施例におけるフォトマスクのパターンは図
１から図３に示した実施例におけるフォトマスクのパタ
ーンとは異なっている。なお、本実施例においてもフォ
トリソグラフィーにより凹部２および凸部３が形成され
た後凹部２および凸部３は撥水性膜４により被覆され、
その結果基板１の表面上には１２に示したような撥水性
層１ａが形成されることとなる。
【００１５】図１４は、撥水性膜４により被覆された凸
部３のピッチＰ（図１２参照）を変化させたときの水接
触角θの変化を示す、実験結果である。図１４を参照す
ると、本実施例においてもピッチＰが２０μｍから１５
０μｍであるときに水接触角θが約１５０°以上とな
り、すなわち高い撥水性能が得られることがわかる。そ
こで、本実施例でも凹部２のピッチＰが２０μｍから１
５０μｍまでの範囲にあるように凹部２および凸部３を
形成するようにしている。
部３のピッチＰ（図１２参照）を変化させたときの水接
触角θの変化を示す、実験結果である。図１４を参照す
ると、本実施例においてもピッチＰが２０μｍから１５
０μｍであるときに水接触角θが約１５０°以上とな
り、すなわち高い撥水性能が得られることがわかる。そ
こで、本実施例でも凹部２のピッチＰが２０μｍから１
５０μｍまでの範囲にあるように凹部２および凸部３を
形成するようにしている。
【００１６】また図１５は、撥水性膜４により被覆され
た凸部３の高さｈ（図１２参照）のピッチＰに対する比
ｈ／Ｐを変化させたときの水接触角θの変化を示す、実
験結果である。図７を参照すると、図１から図３に示し
た実施例と同様に、Ｐ＝５０μｍの場合もＰ＝１５０μ
ｍの場合もｈ／Ｐが０．３以上になると水接触角θが急
激に向上することがわかる。そこで、本実施例でもｈ／
Ｐが０．３以上になるように凹部２および凸部３を形成
するようにしている。なお図１５において、凸部３の形
成工程においてエッチング時間を変化させることにより
凸部３の高さｈを変化させている。したがってｈ／Ｐが
例えば０．２のように小さいときには凸部３は図１６に
示すように四角錘台状をなしている。
た凸部３の高さｈ（図１２参照）のピッチＰに対する比
ｈ／Ｐを変化させたときの水接触角θの変化を示す、実
験結果である。図７を参照すると、図１から図３に示し
た実施例と同様に、Ｐ＝５０μｍの場合もＰ＝１５０μ
ｍの場合もｈ／Ｐが０．３以上になると水接触角θが急
激に向上することがわかる。そこで、本実施例でもｈ／
Ｐが０．３以上になるように凹部２および凸部３を形成
するようにしている。なお図１５において、凸部３の形
成工程においてエッチング時間を変化させることにより
凸部３の高さｈを変化させている。したがってｈ／Ｐが
例えば０．２のように小さいときには凸部３は図１６に
示すように四角錘台状をなしている。
【００１７】なお、図１０を参照して説明した仮想表面
Ｓの表面粗さＲは本実施例の場合にも同様に定義でき、
このため図９の実験結果は本実施例においても適用でき
ると考えられる。そこで、本実施例においても凸部３の
頂部を結ぶことによって得られる仮想表面Ｓの表面粗さ
Ｒが５００μｍ以下であるように凹部２および凸部３を
形成し、これにより基板１の高い撥水性能を確保できる
ようにしている。
Ｓの表面粗さＲは本実施例の場合にも同様に定義でき、
このため図９の実験結果は本実施例においても適用でき
ると考えられる。そこで、本実施例においても凸部３の
頂部を結ぶことによって得られる仮想表面Ｓの表面粗さ
Ｒが５００μｍ以下であるように凹部２および凸部３を
形成し、これにより基板１の高い撥水性能を確保できる
ようにしている。
【００１８】本実施例でも、凸部３のピッチＰが２０か
ら１５０μｍの範囲にあるように凹部２および凸部３を
形成しており、このため凹部２の開口も同様の寸法に形
成されることとなる。その結果凹部２内に入り込んだ汚
れを容易に除去することができ、したがって基板１の撥
水性能を良好に維持することができる。また、本実施例
でも基板１を珪素から構成してフォトリソグラフィーに
より凹部２および凸部３を形成するようにしており、そ
の結果基板１の表面全体にわたって整然と配列された凹
部２および凸部３を容易に形成できる。
ら１５０μｍの範囲にあるように凹部２および凸部３を
形成しており、このため凹部２の開口も同様の寸法に形
成されることとなる。その結果凹部２内に入り込んだ汚
れを容易に除去することができ、したがって基板１の撥
水性能を良好に維持することができる。また、本実施例
でも基板１を珪素から構成してフォトリソグラフィーに
より凹部２および凸部３を形成するようにしており、そ
の結果基板１の表面全体にわたって整然と配列された凹
部２および凸部３を容易に形成できる。
【００１９】次に本発明によるさらに別の実施例を説明
する。この実施例においても図１から図３に示した実施
例と同様の構成要素は同一の番号で示している。図１７
は本実施例による撥水性層担持基板１の表面の微細パタ
ーンを示す写真であり、図１８は図１７に示した撥水性
層担持基板１の側面断面図である。図１７および図１８
を参照すると、本実施例においても図１１から図１３に
示した実施例と同様に、撥水性層担持基板１はその表面
上に撥水性層１ａを担持している。この撥水性層１ａに
は図１１から図１３に示した実施例と同様に凸部３が繰
り返し形成される。このためこれら凸部３間には凹部２
が形成されることとなり、したがって基板１の表面上に
は凹部２と凸部３とが交互に繰り返し形成されることと
なる。しかしながら、本実施例においてフォトリソグラ
フィー（図４参照）におけるエッチング時間は図１１か
ら図１３に示した実施例の場合よりも短くされ、また四
角錘台状の凸部３の頂部にはフォトリソグラフィーにお
いて用いた酸化膜５が残存されている。この酸化膜５は
本実施例においてマスクを構成し、マスク５は図１８に
示すように凹部２内に突出して残存される。なお、図１
８には示していないが、凹部２、凸部３、およびマスク
５は撥水性材料からなる撥水性膜により被覆されてい
る。
する。この実施例においても図１から図３に示した実施
例と同様の構成要素は同一の番号で示している。図１７
は本実施例による撥水性層担持基板１の表面の微細パタ
ーンを示す写真であり、図１８は図１７に示した撥水性
層担持基板１の側面断面図である。図１７および図１８
を参照すると、本実施例においても図１１から図１３に
示した実施例と同様に、撥水性層担持基板１はその表面
上に撥水性層１ａを担持している。この撥水性層１ａに
は図１１から図１３に示した実施例と同様に凸部３が繰
り返し形成される。このためこれら凸部３間には凹部２
が形成されることとなり、したがって基板１の表面上に
は凹部２と凸部３とが交互に繰り返し形成されることと
なる。しかしながら、本実施例においてフォトリソグラ
フィー（図４参照）におけるエッチング時間は図１１か
ら図１３に示した実施例の場合よりも短くされ、また四
角錘台状の凸部３の頂部にはフォトリソグラフィーにお
いて用いた酸化膜５が残存されている。この酸化膜５は
本実施例においてマスクを構成し、マスク５は図１８に
示すように凹部２内に突出して残存される。なお、図１
８には示していないが、凹部２、凸部３、およびマスク
５は撥水性材料からなる撥水性膜により被覆されてい
る。
【００２０】図１９は、撥水性膜４により被覆された凸
部３のピッチＰを変化させたときの水接触角θの変化を
示す、実験結果である。図１９を参照すると、ピッチＰ
が２０μｍから４００μｍであるときに水接触角θが約
１５０°以上となり、すなわち高い撥水性能が得られる
ことがわかる。本実施例において、高い撥水性能が得ら
れるピッチＰの範囲は図１から図３に示した実施例、お
よび図１１から図１３に示した実施例よりも広くなって
いる。ところで、基板１の表面上に微小な凹部２および
凸部３を形成した場合凹部２内に保持された空気層によ
って基板１の撥水性能が向上されると考えられる。本実
施例では、図１８に示すように凹部２内に突出するマス
ク５によって凹部２内の空気層をより強固に保持するこ
とが可能となり、その結果、より広いピッチＰの範囲に
おいて高い撥水性能を確保できると考えられる。そこ
で、本実施例では凹部２のピッチＰが２０μｍから４０
０μｍまでの範囲にあるように凹部２および凸部３を形
成するようにしている。なお、撥水性層担持基板１のそ
の他の構成については図１１から図１３に示した実施例
と同様であるので説明を省略する。
部３のピッチＰを変化させたときの水接触角θの変化を
示す、実験結果である。図１９を参照すると、ピッチＰ
が２０μｍから４００μｍであるときに水接触角θが約
１５０°以上となり、すなわち高い撥水性能が得られる
ことがわかる。本実施例において、高い撥水性能が得ら
れるピッチＰの範囲は図１から図３に示した実施例、お
よび図１１から図１３に示した実施例よりも広くなって
いる。ところで、基板１の表面上に微小な凹部２および
凸部３を形成した場合凹部２内に保持された空気層によ
って基板１の撥水性能が向上されると考えられる。本実
施例では、図１８に示すように凹部２内に突出するマス
ク５によって凹部２内の空気層をより強固に保持するこ
とが可能となり、その結果、より広いピッチＰの範囲に
おいて高い撥水性能を確保できると考えられる。そこ
で、本実施例では凹部２のピッチＰが２０μｍから４０
０μｍまでの範囲にあるように凹部２および凸部３を形
成するようにしている。なお、撥水性層担持基板１のそ
の他の構成については図１１から図１３に示した実施例
と同様であるので説明を省略する。
【００２１】ところで、上述した実施例では基板１を珪
素から構成して凹部２および凸部３をフォトリソグラフ
ィーにより形成するようにしている。しかしながら、フ
ォトリソグラフィーにより凹部２および凸部３が形成さ
れた珪素基板を金型として用いて例えば射出成形によ
り、フォトリソグラフィーを用いることができない珪素
以外の材料、例えば金属または樹脂など、からなる基板
の表面にも凹部２および凸部３を形成することができ
る。この場合、金型となる珪素基板に凹部２または凸部
３のピッチＰが２０μｍから１５０μｍまでの範囲にあ
り、ｈ／Ｐが０．３以上であり、さらに仮想表面Ｓの表
面粗さＲ（図１０参照）が５００μｍ以下であるように
凹部２および凸部３を形成することによって、金属また
は樹脂からなる基板の表面上にこれと同様の寸法の凹部
２および凸部３を容易に形成することができるようにな
る。
素から構成して凹部２および凸部３をフォトリソグラフ
ィーにより形成するようにしている。しかしながら、フ
ォトリソグラフィーにより凹部２および凸部３が形成さ
れた珪素基板を金型として用いて例えば射出成形によ
り、フォトリソグラフィーを用いることができない珪素
以外の材料、例えば金属または樹脂など、からなる基板
の表面にも凹部２および凸部３を形成することができ
る。この場合、金型となる珪素基板に凹部２または凸部
３のピッチＰが２０μｍから１５０μｍまでの範囲にあ
り、ｈ／Ｐが０．３以上であり、さらに仮想表面Ｓの表
面粗さＲ（図１０参照）が５００μｍ以下であるように
凹部２および凸部３を形成することによって、金属また
は樹脂からなる基板の表面上にこれと同様の寸法の凹部
２および凸部３を容易に形成することができるようにな
る。
【００２２】図２０および図２１は、表面に凹部および
凸部が形成された珪素基板を金型として用いて射出成形
により形成されたリニアフレネルレンズ９を示してい
る。このリニアフレネルレンズ９は例えばポリカーボネ
ートなどの透明樹脂から構成され、射出成形の後凹部お
よび凸部は撥水性材料からなる撥水性膜により被覆され
て撥水性層９ａが構成される。またリニアフレネルレン
ズ９は、撥水性膜により被覆された凹部または凸部のピ
ッチが２０μｍから１５０μｍの範囲にあり、このピッ
チに対する凹部の深さまたは凸部の高さの比が０．３以
上であり、さらに仮想表面の表面粗さが５００μｍ以下
であるように凹部および凸部が形成されている。なお、
この実施例においてリニアフレネルレンズ９は凹レンズ
と同様の光発散作用を備えているが、フレネルレンズ９
が凸レンズと同様の光収束作用を備えるようにも構成で
きる。
凸部が形成された珪素基板を金型として用いて射出成形
により形成されたリニアフレネルレンズ９を示してい
る。このリニアフレネルレンズ９は例えばポリカーボネ
ートなどの透明樹脂から構成され、射出成形の後凹部お
よび凸部は撥水性材料からなる撥水性膜により被覆され
て撥水性層９ａが構成される。またリニアフレネルレン
ズ９は、撥水性膜により被覆された凹部または凸部のピ
ッチが２０μｍから１５０μｍの範囲にあり、このピッ
チに対する凹部の深さまたは凸部の高さの比が０．３以
上であり、さらに仮想表面の表面粗さが５００μｍ以下
であるように凹部および凸部が形成されている。なお、
この実施例においてリニアフレネルレンズ９は凹レンズ
と同様の光発散作用を備えているが、フレネルレンズ９
が凸レンズと同様の光収束作用を備えるようにも構成で
きる。
【００２３】図２２は、水滴８の直径ｄを変化させたと
きの転落角φの変化を示す、実験結果である。図２２に
おいて転落角φは、図２３に示すように基板１’の撥水
性層上に直径ｄの水滴８を置き、次いで基板１’を傾斜
させたときに水滴８が基板１’から落下し始める角度で
あり、この転落角φが小さいとき程撥水性能が高いこと
を示している。また図２２において、曲線Ａは図２０お
よび図２１に示したリニアフレネルレンズ９の場合を示
し、曲線Ｂは表面が平坦なガラス平板上にリニアフレネ
ルレンズ９と同一の撥水性膜を被覆した場合を示してい
る。図２２を参照すると、本実施例によるリニアフレネ
ルレンズ９では転落角φをガラス平板における場合より
も極めて小さくすることができ、その結果本実施例によ
るリニアフレネルレンズ９では良好な撥水性能が確保で
きることがわかる。
きの転落角φの変化を示す、実験結果である。図２２に
おいて転落角φは、図２３に示すように基板１’の撥水
性層上に直径ｄの水滴８を置き、次いで基板１’を傾斜
させたときに水滴８が基板１’から落下し始める角度で
あり、この転落角φが小さいとき程撥水性能が高いこと
を示している。また図２２において、曲線Ａは図２０お
よび図２１に示したリニアフレネルレンズ９の場合を示
し、曲線Ｂは表面が平坦なガラス平板上にリニアフレネ
ルレンズ９と同一の撥水性膜を被覆した場合を示してい
る。図２２を参照すると、本実施例によるリニアフレネ
ルレンズ９では転落角φをガラス平板における場合より
も極めて小さくすることができ、その結果本実施例によ
るリニアフレネルレンズ９では良好な撥水性能が確保で
きることがわかる。
【００２４】図２４および図２５は、図２０および図２
１に示したリニアフレネルレンズ９を自動車１０に用い
た場合を示している。図２４および図２５を参照する
と、リニアフレネルレンズ９はドア１１に固定されてガ
ラス窓１２の外側面に対面配置され、またこのときリニ
アフレネルレンズ９の撥水性層９ａは自動車１０の外側
に向けて配置される。さらに、リニアフレネルレンズ９
は自動車１０の乗員のアイポイント、すなわち自動車１
０の乗員の通常の目の位置とドアミラー１３間のドア１
１に固定され、その結果自動車１０の乗員はドアミラー
１３を常時リニアフレネルレンズ９を介して見ることと
なる。
１に示したリニアフレネルレンズ９を自動車１０に用い
た場合を示している。図２４および図２５を参照する
と、リニアフレネルレンズ９はドア１１に固定されてガ
ラス窓１２の外側面に対面配置され、またこのときリニ
アフレネルレンズ９の撥水性層９ａは自動車１０の外側
に向けて配置される。さらに、リニアフレネルレンズ９
は自動車１０の乗員のアイポイント、すなわち自動車１
０の乗員の通常の目の位置とドアミラー１３間のドア１
１に固定され、その結果自動車１０の乗員はドアミラー
１３を常時リニアフレネルレンズ９を介して見ることと
なる。
【００２５】ところで、通常の自動車におけるようにリ
ニアフレネルレンズ９が設けられていない場合、ガラス
窓１２の撥水性能は低いので例えば雨天時には自動車１
０の乗員がドアミラー１３を見るのが困難になり、その
結果乗員が自動車１０の外部の状況をドアミラー１３に
より良好に確認できなくなる。このとき、乗員のアイポ
イントとドアミラー１３間に、例えば四角錘状の凹部ま
たは凸部を有しかつ透明な撥水性層担持基板を設けると
撥水性能は向上する。ところが、この場合この撥水性層
９ａを透過する光が四角錘状の凹部または凸部において
散乱し、その結果この撥水性層担持基板を介した視認性
が低下してしまう。しかしながら、図２４および図２５
に示した実施例では乗員のアイポイントとドアミラー１
３間に撥水性層９ａを備えたリニアフレネルレンズ９を
設けており、その結果撥水性能を確保しつつ撥水性層９
ａにおいて光が散乱するのが阻止されている。したがっ
て、自動車１０の乗員がリニアフレネルレンズ９を介し
てドアミラー１３を良好に視認できるようになり、した
がって乗員が自動車１０の外部の状況をドアミラー１３
により良好に確認できるようになる。
ニアフレネルレンズ９が設けられていない場合、ガラス
窓１２の撥水性能は低いので例えば雨天時には自動車１
０の乗員がドアミラー１３を見るのが困難になり、その
結果乗員が自動車１０の外部の状況をドアミラー１３に
より良好に確認できなくなる。このとき、乗員のアイポ
イントとドアミラー１３間に、例えば四角錘状の凹部ま
たは凸部を有しかつ透明な撥水性層担持基板を設けると
撥水性能は向上する。ところが、この場合この撥水性層
９ａを透過する光が四角錘状の凹部または凸部において
散乱し、その結果この撥水性層担持基板を介した視認性
が低下してしまう。しかしながら、図２４および図２５
に示した実施例では乗員のアイポイントとドアミラー１
３間に撥水性層９ａを備えたリニアフレネルレンズ９を
設けており、その結果撥水性能を確保しつつ撥水性層９
ａにおいて光が散乱するのが阻止されている。したがっ
て、自動車１０の乗員がリニアフレネルレンズ９を介し
てドアミラー１３を良好に視認できるようになり、した
がって乗員が自動車１０の外部の状況をドアミラー１３
により良好に確認できるようになる。
【００２６】さらに、本実施例ではリニアフレネルレン
ズ９が凹レンズと同様の光発散作用を備えており、その
結果乗員のドアミラー１３を介した視野を拡大すること
も可能になる。リニアフレネルレンズ９を設けない場合
と、リニアフレネルレンズ９を設けた場合との、自動車
１０の乗員の視野領域の差を示す図２６を参照すると、
１４は自動車１０の乗員のアイポイント、Ｖ０はリニア
フレネルレンズ９を設けない場合の乗員の視野領域、Ｖ
１はリニアフレネルレンズ９を設けた場合の乗員の視野
領域をそれぞれ示している。図２６からわかるようにリ
ニアフレネルレンズ９を設けることによって乗員の視野
領域Ｖ１を広くすることができる。その結果、自動車１
０の乗員が自動車１０の外部の状況をドアミラー１３に
より広範囲にわたって容易に認識できるようになる。な
お、この実施例においてフレネルレンズ９はリニアフレ
ネルレンズから構成されるが、円形のフレネルレンズか
ら構成することもできる。
ズ９が凹レンズと同様の光発散作用を備えており、その
結果乗員のドアミラー１３を介した視野を拡大すること
も可能になる。リニアフレネルレンズ９を設けない場合
と、リニアフレネルレンズ９を設けた場合との、自動車
１０の乗員の視野領域の差を示す図２６を参照すると、
１４は自動車１０の乗員のアイポイント、Ｖ０はリニア
フレネルレンズ９を設けない場合の乗員の視野領域、Ｖ
１はリニアフレネルレンズ９を設けた場合の乗員の視野
領域をそれぞれ示している。図２６からわかるようにリ
ニアフレネルレンズ９を設けることによって乗員の視野
領域Ｖ１を広くすることができる。その結果、自動車１
０の乗員が自動車１０の外部の状況をドアミラー１３に
より広範囲にわたって容易に認識できるようになる。な
お、この実施例においてフレネルレンズ９はリニアフレ
ネルレンズから構成されるが、円形のフレネルレンズか
ら構成することもできる。
【００２７】
【発明の効果】請求項１に記載の発明では、表面上の汚
れの除去を容易に行えると共に高い撥水性能を確保でき
る。請求項２に記載の発明ではさらに、部材の全表面上
に整然と配列された凹部および凸部を容易に形成するこ
とができる。請求項３に記載の発明ではさらに、部材が
珪素以外の材料から構成された場合にも予め定められた
寸法の凹部および凸部を容易に形成することができる。
請求項４に記載の発明ではさらに、撥水性層担持部材を
フレネルレンズにすることにより透明の撥水性層担持部
材を透過する光の散乱を阻止でき、このため撥水性能を
確保しつつ撥水性層担持部材を介した視認性を確保する
ことができる。請求項５に記載の発明では、表面上の汚
れの除去を容易に行えると共に高い撥水性能を確保でき
る。
れの除去を容易に行えると共に高い撥水性能を確保でき
る。請求項２に記載の発明ではさらに、部材の全表面上
に整然と配列された凹部および凸部を容易に形成するこ
とができる。請求項３に記載の発明ではさらに、部材が
珪素以外の材料から構成された場合にも予め定められた
寸法の凹部および凸部を容易に形成することができる。
請求項４に記載の発明ではさらに、撥水性層担持部材を
フレネルレンズにすることにより透明の撥水性層担持部
材を透過する光の散乱を阻止でき、このため撥水性能を
確保しつつ撥水性層担持部材を介した視認性を確保する
ことができる。請求項５に記載の発明では、表面上の汚
れの除去を容易に行えると共に高い撥水性能を確保でき
る。
【図１】本発明の実施例による撥水性層担持基板の拡大
部分頂面図である。
部分頂面図である。
【図２】図１の線ＩＩ−ＩＩに沿ってみた撥水性層担持
基板の拡大側面断面図である。
基板の拡大側面断面図である。
【図３】図１に示した撥水性層担持基板の表面の微細パ
ターンを示す写真である。
ターンを示す写真である。
【図４】フォトリソグラフィーの一部の工程を示す基板
の拡大側面断面図である。
の拡大側面断面図である。
【図５】水接触角と凹部のピッチとの関係を示す線図で
ある。
ある。
【図６】水接触角を説明する図である。
【図７】水接触角と凹部のピッチに対する凹部の深さの
比との関係を示す線図である。
比との関係を示す線図である。
【図８】エッチング時間が短い場合における、撥水性層
担持基板の表面の微細パターンを示す写真である。
担持基板の表面の微細パターンを示す写真である。
【図９】水接触角と仮想表面の表面粗さとの関係を示す
線図である。
線図である。
【図１０】仮想表面の表面粗さを説明する図である。
【図１１】本発明の別の実施例による撥水性層担持基板
の拡大部分頂面図である。
の拡大部分頂面図である。
【図１２】図１１の線ＸＩＩ−ＸＩＩに沿ってみた撥水
性層担持基板の拡大側面断面図である。
性層担持基板の拡大側面断面図である。
【図１３】図１１に示した撥水性層担持基板の表面の微
細パターンを示す写真である。
細パターンを示す写真である。
【図１４】水接触角と凸部のピッチとの関係を示す線図
である。
である。
【図１５】水接触角と凸部のピッチに対する凸部の高さ
の比との関係を示す線図である。
の比との関係を示す線図である。
【図１６】エッチング時間が短い場合における、撥水性
層担持基板の表面の微細パターンを示す写真である。
層担持基板の表面の微細パターンを示す写真である。
【図１７】本発明の別の実施例による撥水性層担持基板
の表面の微細パターンを示す写真である。
の表面の微細パターンを示す写真である。
【図１８】図１７に示した実施例による撥水性層担持基
板の拡大側面断面図である。
板の拡大側面断面図である。
【図１９】水接触角と凸部のピッチとの関係を示す線図
である。
である。
【図２０】リニアフレネルレンズの頂面図である。
【図２１】図２０の線ＸＸＩ−ＸＸＩに沿ってみたリニ
アフレネルレンズの側面断面図である。
アフレネルレンズの側面断面図である。
【図２２】転落角と水滴の直径との関係を示す線図であ
る。
る。
【図２３】転落角を説明する図である。
【図２４】図２０に示したリニアフレネルレンズを自動
車に適用した場合を示す図である。
車に適用した場合を示す図である。
【図２５】図２４の線ＸＸＶ−ＸＸＶに沿ってみた自動
車のドアの側面断面図である。
車のドアの側面断面図である。
【図２６】視野の範囲の差を説明する図である。
１…撥水性層担持基板 １ａ…撥水性層 ２…凹部 ３…凸部 ４…撥水性膜 ５…酸化膜 ９…リニアフレネルレンズ １１…ドア １２…ガラス窓 １３…ドアミラー
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｂ２９Ｋ 83:00
Claims (5)
- 【請求項１】 表面上に複数個の凹部および凸部を交互
に繰り返し形成し、該表面を撥水性材料からなる撥水性
膜により被覆した撥水性層担持部材において、上記撥水
性膜により被覆された凹部または凸部のピッチが２０μ
ｍから１５０μｍまでの範囲にあり、該ピッチに対する
凹部の深さまたは凸部の高さの比が０．３以上であり、
さらに各凸部の頂部を結ぶことによって得られる仮想表
面の表面粗さが５００μｍ以下であるように凹部および
凸部を形成した撥水性層担持部材。 - 【請求項２】 上記部材を珪素からなる基板から構成
し、上記凹部または凸部をフォトリソグラフィーにより
四角錘状に形成した請求項１に記載の撥水性層担持部
材。 - 【請求項３】 請求項２に記載の撥水性層担持部材を金
型として用いて上記凹部および凸部を形成した撥水性層
担持部材。 - 【請求項４】 上記凹部および凸部を交互に繰り返し形
成することによってフレネルレンズにした請求項１に記
載の撥水性層担持部材。 - 【請求項５】 表面上に複数個の凹部および凸部を交互
に繰り返し形成し、該表面を撥水性材料からなる撥水性
膜により被覆した撥水性層担持部材において、上記部材
を珪素からなる基板から構成し、上記凸部または凹部を
フォトリソグラフィーにより形成すると共に上記撥水性
膜により被覆された凹部または凸部のピッチが２０μｍ
から４００μｍまでの範囲にあるように上記凹部および
凸部を形成し、上記凸部の頂部にフォトリソグラフィー
において用いたマスクを残存させた撥水性層担持部材。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5354190A JPH07206475A (ja) | 1993-12-29 | 1993-12-29 | 撥水性層担持部材 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5354190A JPH07206475A (ja) | 1993-12-29 | 1993-12-29 | 撥水性層担持部材 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07206475A true JPH07206475A (ja) | 1995-08-08 |
Family
ID=18435895
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5354190A Pending JPH07206475A (ja) | 1993-12-29 | 1993-12-29 | 撥水性層担持部材 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07206475A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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-
1993
- 1993-12-29 JP JP5354190A patent/JPH07206475A/ja active Pending
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