JPH07208332A - スパッタリング装置におけるクライオポンプ再生方法 - Google Patents
スパッタリング装置におけるクライオポンプ再生方法Info
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- JPH07208332A JPH07208332A JP47594A JP47594A JPH07208332A JP H07208332 A JPH07208332 A JP H07208332A JP 47594 A JP47594 A JP 47594A JP 47594 A JP47594 A JP 47594A JP H07208332 A JPH07208332 A JP H07208332A
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- Japan
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- cryopump
- gas
- temperature
- pump
- sputtering
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-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
- F04B—POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS
- F04B37/00—Pumps having pertinent characteristics not provided for in, or of interest apart from, groups F04B25/00 - F04B35/00
- F04B37/06—Pumps having pertinent characteristics not provided for in, or of interest apart from, groups F04B25/00 - F04B35/00 for evacuating by thermal means
- F04B37/08—Pumps having pertinent characteristics not provided for in, or of interest apart from, groups F04B25/00 - F04B35/00 for evacuating by thermal means by condensing or freezing, e.g. cryogenic pumps
- F04B37/085—Regeneration of cryo-pumps
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Compressors, Vaccum Pumps And Other Relevant Systems (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 メインポンプをクライオポンプとしたスパッ
タリング装置のクライオポンプの再生時間を短縮できる
方法を提供することを目的としている。またクライオポ
ンプを再生中、スパッタリング室を真空保管できる方法
を提供することも目的としている。 【構成】 メインポンプをクライオポンプとしたスパッ
タリング装置のクライオポンプを再生する方法であっ
て、前記クライオポンプの第２段熱負荷ステージを加熱
しながら、クライオポンプ容器内を、スパッタリングで
使用されたプロセスガスの三重点圧力以下の圧力に排気
する。
タリング装置のクライオポンプの再生時間を短縮できる
方法を提供することを目的としている。またクライオポ
ンプを再生中、スパッタリング室を真空保管できる方法
を提供することも目的としている。 【構成】 メインポンプをクライオポンプとしたスパッ
タリング装置のクライオポンプを再生する方法であっ
て、前記クライオポンプの第２段熱負荷ステージを加熱
しながら、クライオポンプ容器内を、スパッタリングで
使用されたプロセスガスの三重点圧力以下の圧力に排気
する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、メインポンプをクラ
イオポンプとしたスパッタリング装置のクライオポンプ
を再生する方法に関する。
イオポンプとしたスパッタリング装置のクライオポンプ
を再生する方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、真空室内に、油蒸気のない清浄な
真空を得る手段として、クライオポンプを使用すること
が知られており、スパッタリング装置でもメインポンプ
をクライオポンプで構成したものが知られている。
真空を得る手段として、クライオポンプを使用すること
が知られており、スパッタリング装置でもメインポンプ
をクライオポンプで構成したものが知られている。
【０００３】前記クライオポンプは図３に示したような
構成で、ポンプ容器１内に、第１段熱負荷ステージ２お
よび第２段熱負荷ステージ３が配置され、冷凍機４を介
して第１段熱負荷ステージ２を約５０〜８０Ｋ、第２段
熱負荷ステージを約１０〜２０Ｋに冷却して、ポンプ容
器１内の気体を、輻射シールド５、クライオソープショ
ンパネル６、クライオコンデンセーションパネル７に凝
縮および吸着させて排気を行うものである。従って、こ
のクライオポンプの排気性能を維持するためには、凝縮
および吸着によりたまった気体分子を定期的に放出させ
て再生する必要がある。
構成で、ポンプ容器１内に、第１段熱負荷ステージ２お
よび第２段熱負荷ステージ３が配置され、冷凍機４を介
して第１段熱負荷ステージ２を約５０〜８０Ｋ、第２段
熱負荷ステージを約１０〜２０Ｋに冷却して、ポンプ容
器１内の気体を、輻射シールド５、クライオソープショ
ンパネル６、クライオコンデンセーションパネル７に凝
縮および吸着させて排気を行うものである。従って、こ
のクライオポンプの排気性能を維持するためには、凝縮
および吸着によりたまった気体分子を定期的に放出させ
て再生する必要がある。
【０００４】再生は、前記冷凍機４の運転を停止すると
共に、第１段および第２段熱負荷ステージ２、３並び
に、輻射シールド５、ルーバー８、クライオソープショ
ンパネル６、クライオコンデンセーションパネル７を温
度上昇させて行っていた。
共に、第１段および第２段熱負荷ステージ２、３並び
に、輻射シールド５、ルーバー８、クライオソープショ
ンパネル６、クライオコンデンセーションパネル７を温
度上昇させて行っていた。
【０００５】
【発明により解決すべき課題】クライオポンプを、メイ
ンポンプとしたスパッタリング装置においては、クライ
オポンプの再生と関連して以下のような問題点があっ
た。
ンポンプとしたスパッタリング装置においては、クライ
オポンプの再生と関連して以下のような問題点があっ
た。
【０００６】即ち、約１０〜２０Ｋに冷却される第２段
熱負荷ステージに設けられたクライオソープションパネ
ル、クライオコンデンセーションパネルを常温まで温度
上昇させるのに約２時間を要すると共に、ポンプの再起
動時に、ポンプ内を粗引きし、ポンプ内の残留気体によ
る熱伝導が充分小さくなる圧力とし、ポンプを起動可能
とするまでに数分〜十数分を要し、さらに常温から１０
〜２０Ｋまで温度降下させるのに約１時間を要するた
め、ポンプ再生に最低３時間以上という長時間を要し、
その間、スパッタリング作業を停止しなければならない
問題点があった。
熱負荷ステージに設けられたクライオソープションパネ
ル、クライオコンデンセーションパネルを常温まで温度
上昇させるのに約２時間を要すると共に、ポンプの再起
動時に、ポンプ内を粗引きし、ポンプ内の残留気体によ
る熱伝導が充分小さくなる圧力とし、ポンプを起動可能
とするまでに数分〜十数分を要し、さらに常温から１０
〜２０Ｋまで温度降下させるのに約１時間を要するた
め、ポンプ再生に最低３時間以上という長時間を要し、
その間、スパッタリング作業を停止しなければならない
問題点があった。
【０００７】熱負荷ステージにヒータ等の加熱手段を設
けたものもあったが、温度上昇に要する時間を約２０分
に短縮できるだけであった。
けたものもあったが、温度上昇に要する時間を約２０分
に短縮できるだけであった。
【０００８】ポンプ容器内の水分を完全に除去するため
には、常温までの温度上昇後、窒素ガスその他の不活性
ガスで延長パージを行う必要があるが、このために更に
再生時間が長期化し、トータル３〜５時間を要するに至
っていた。
には、常温までの温度上昇後、窒素ガスその他の不活性
ガスで延長パージを行う必要があるが、このために更に
再生時間が長期化し、トータル３〜５時間を要するに至
っていた。
【０００９】また、前記のようなクライオポンプの再生
中、ポンプ容器内は大気圧になることから、スパッタリ
ング装置においては、スパッタリング室となる真空室内
が真空保管できないという不都合があった。即ち真空室
とクライオポンプの間に設けられる仕切弁は、通常、真
空室側が大気圧となってもクライオポンプ側は真空を維
持できる構造であって、この逆の圧力関係では、仕切弁
に特別のロック機構が無いことから、リークを生ずるた
めである。
中、ポンプ容器内は大気圧になることから、スパッタリ
ング装置においては、スパッタリング室となる真空室内
が真空保管できないという不都合があった。即ち真空室
とクライオポンプの間に設けられる仕切弁は、通常、真
空室側が大気圧となってもクライオポンプ側は真空を維
持できる構造であって、この逆の圧力関係では、仕切弁
に特別のロック機構が無いことから、リークを生ずるた
めである。
【００１０】スパッタリング室が大気圧となると、内壁
または内壁に沿って設置されたシールド板に堆積したス
パッタ膜に応力が加わって剥離を生ずるようになり、ス
パッタ成膜に有害なパーティクルが多量に発生して、成
膜製品の歩留まりが悪くなるという問題点があった。
または内壁に沿って設置されたシールド板に堆積したス
パッタ膜に応力が加わって剥離を生ずるようになり、ス
パッタ成膜に有害なパーティクルが多量に発生して、成
膜製品の歩留まりが悪くなるという問題点があった。
【００１１】パーティクル発生を防ぐためには、スパッ
タリング室が大気圧となる度に、即ちクライオポンプの
再生の度に、前記シールドを新品と交換し、かつスパッ
タリング室内のクリーニングをする方法があるが、シー
ルド交換、チャンバークリーニングを終えて、生産（ス
パッタリング）開始ができるまでに１６〜２０時間を要
し、量産装置としては適当ではなかった。
タリング室が大気圧となる度に、即ちクライオポンプの
再生の度に、前記シールドを新品と交換し、かつスパッ
タリング室内のクリーニングをする方法があるが、シー
ルド交換、チャンバークリーニングを終えて、生産（ス
パッタリング）開始ができるまでに１６〜２０時間を要
し、量産装置としては適当ではなかった。
【００１２】この発明は以上のような問題点に鑑みてな
されたもので、メインポンプをクライオポンプとしたス
パッタリング装置のクライオポンプの再生時間を短縮で
きる方法を提供することを目的としている。またクライ
オポンプを再生中、スパッタリング室を真空保管できる
方法を提供することも目的としている。
されたもので、メインポンプをクライオポンプとしたス
パッタリング装置のクライオポンプの再生時間を短縮で
きる方法を提供することを目的としている。またクライ
オポンプを再生中、スパッタリング室を真空保管できる
方法を提供することも目的としている。
【００１３】
【課題を解決するための手段】前記の目的を達成するこ
の発明のスパッタリング装置におけるクライオポンプ再
生方法は、メインポンプをクライオポンプとしたスパッ
タリング装置のクライオポンプを再生する方法であっ
て、前記クライオポンプの第２段熱負荷ステージをヒー
ターにより加熱しながら、クライオポンプ容器内を、ス
パッタリングで使用されたプロセスガスの三重点圧力以
下の圧力に排気することを特徴としている。プロセスガ
スをアルゴンガスとすると、アルゴンガスの三重点圧力
は５１５Ｔｏｒｒであるので５１５Ｔｏｒｒより低い圧
力に排気するものである。
の発明のスパッタリング装置におけるクライオポンプ再
生方法は、メインポンプをクライオポンプとしたスパッ
タリング装置のクライオポンプを再生する方法であっ
て、前記クライオポンプの第２段熱負荷ステージをヒー
ターにより加熱しながら、クライオポンプ容器内を、ス
パッタリングで使用されたプロセスガスの三重点圧力以
下の圧力に排気することを特徴としている。プロセスガ
スをアルゴンガスとすると、アルゴンガスの三重点圧力
は５１５Ｔｏｒｒであるので５１５Ｔｏｒｒより低い圧
力に排気するものである。
【００１４】前記第２段熱負荷ステージの加熱は、プロ
セスガスの臨界温度（例えばアルゴンガスの場合１５１
Ｋ）をやや上回った温度までとすることができ、また、
２７３Ｋ（０℃）より高い温度までとすることができ
る。
セスガスの臨界温度（例えばアルゴンガスの場合１５１
Ｋ）をやや上回った温度までとすることができ、また、
２７３Ｋ（０℃）より高い温度までとすることができ
る。
【００１５】
【作用】この発明によれば、クライオポンプ容器内を三
重点圧力以下の圧力に排気するので、スパッタリング室
との仕切弁にリークを生ずることが無く、スパッタリン
グ室を真空状態に維持してパーティクルの発生を防ぎ、
結果的にクライオポンプの再生時間を短縮することがで
きる。
重点圧力以下の圧力に排気するので、スパッタリング室
との仕切弁にリークを生ずることが無く、スパッタリン
グ室を真空状態に維持してパーティクルの発生を防ぎ、
結果的にクライオポンプの再生時間を短縮することがで
きる。
【００１６】また、クライオポンプ容器内を三重点圧力
以下の圧力に排気するので、ポンプ内に凝縮および吸着
されたガス（主としてプロセスガス）は、固体（氷）か
ら液体を経て気体となって放出されるのではなく、固体
から昇華により直接気体となって放出される。この結
果、 ａ．ガスが液化ガスの状態でポンプ容器内を流れること
がないので、ポンプの取付け方向が制限されることな
く、かつ、同じポンプ構成で同じ再生を再現性良く行う
ことができる。
以下の圧力に排気するので、ポンプ内に凝縮および吸着
されたガス（主としてプロセスガス）は、固体（氷）か
ら液体を経て気体となって放出されるのではなく、固体
から昇華により直接気体となって放出される。この結
果、 ａ．ガスが液化ガスの状態でポンプ容器内を流れること
がないので、ポンプの取付け方向が制限されることな
く、かつ、同じポンプ構成で同じ再生を再現性良く行う
ことができる。
【００１７】ｂ．ポンプ容器内が真空のため、ポンプ容
器と冷凍機との間で熱交換が行われにくく、また液化ガ
スがポンプ容器に溜るようなことがなく、ポンプ容器壁
が冷却されて、外壁に大気中の水分が結露したり、結露
によりポンプの構成部品が腐食するのを防ぐことができ
る。
器と冷凍機との間で熱交換が行われにくく、また液化ガ
スがポンプ容器に溜るようなことがなく、ポンプ容器壁
が冷却されて、外壁に大気中の水分が結露したり、結露
によりポンプの構成部品が腐食するのを防ぐことができ
る。
【００１８】以下、この発明の実施例を説明する。
【００１９】
【実施例１】プロセスガスがアルゴンガスの場合。
【００２０】スパッタリング装置のプロセスガスとして
アルゴンガスのみが使用される場合には、アルゴンの三
重点圧力は５１５Ｔｏｒｒであるので、ポンプ容器内を
５１５Ｔｏｒｒ以下の圧力に排気しながら行う。
アルゴンガスのみが使用される場合には、アルゴンの三
重点圧力は５１５Ｔｏｒｒであるので、ポンプ容器内を
５１５Ｔｏｒｒ以下の圧力に排気しながら行う。
【００２１】再生において、例えば第２段熱負荷ステー
ジに１００Ｗのヒーターを装着し、加熱する場合には、
アルゴンガスの蒸発量は５０ｌ／ｍｉｎとなるので、こ
れを上回り、ポンプ容器内を、高くても５１５Ｔｏｒｒ
以下の圧力とするために、１００ｌ／ｍ以上の排気速度
を有する粗引きポンプで、ポンプ容器内を真空排気しな
がら再生する（突発的に蒸発量が多くなる場合があるの
で排気速度はやや大きめでなければならない。）。使用
する粗引きポンプは、クライオポンプに対し油分を蒸発
させないもの、すなわち、真空シールに油を使用しない
粗引きポンプ（いわゆるドライポンプ）を使用するのが
望ましい。
ジに１００Ｗのヒーターを装着し、加熱する場合には、
アルゴンガスの蒸発量は５０ｌ／ｍｉｎとなるので、こ
れを上回り、ポンプ容器内を、高くても５１５Ｔｏｒｒ
以下の圧力とするために、１００ｌ／ｍ以上の排気速度
を有する粗引きポンプで、ポンプ容器内を真空排気しな
がら再生する（突発的に蒸発量が多くなる場合があるの
で排気速度はやや大きめでなければならない。）。使用
する粗引きポンプは、クライオポンプに対し油分を蒸発
させないもの、すなわち、真空シールに油を使用しない
粗引きポンプ（いわゆるドライポンプ）を使用するのが
望ましい。
【００２２】図１は第２段熱負荷ステージの再生時の温
度変化を示したグラフである。
度変化を示したグラフである。
【００２３】再生開始と共にクライオポンプを停止（即
ち冷凍機を停止）し、第２段熱負荷ステージに装着した
ヒータに通電を開始する。同時に、スパッタリング室と
の仕切弁を閉じると共に、粗引きポンプの運転を開始
し、ポンプ容器内を５１５Ｔｏｒｒ以下に維持する。
ち冷凍機を停止）し、第２段熱負荷ステージに装着した
ヒータに通電を開始する。同時に、スパッタリング室と
の仕切弁を閉じると共に、粗引きポンプの運転を開始
し、ポンプ容器内を５１５Ｔｏｒｒ以下に維持する。
【００２４】第２段熱負荷ステージは直ちに昇温を開始
するが、図中、ａ部は約３０Ｋまで温度上昇する期間
で、スパッタリングにより発生した水素ガスが排出され
る。
するが、図中、ａ部は約３０Ｋまで温度上昇する期間
で、スパッタリングにより発生した水素ガスが排出され
る。
【００２５】ｂ部では固体アルゴンを昇華させ、気体と
して排出される。昇華時の温度としてはアルゴンの臨界
温度１５１Ｋが目安となるが、実際に昇華する部分の温
度と第２段熱負荷ステージの温度は必ずしも同一ではな
いため、第２段熱負荷ステージの温度は１５１Ｋを一度
越え、その後、アルゴンの昇華量が多くなると、気化熱
を多く奪われるようになり、一旦１５１Ｋより低い温度
に低下する。
して排出される。昇華時の温度としてはアルゴンの臨界
温度１５１Ｋが目安となるが、実際に昇華する部分の温
度と第２段熱負荷ステージの温度は必ずしも同一ではな
いため、第２段熱負荷ステージの温度は１５１Ｋを一度
越え、その後、アルゴンの昇華量が多くなると、気化熱
を多く奪われるようになり、一旦１５１Ｋより低い温度
に低下する。
【００２６】固体アルゴンの残量が少なくなり、蒸発量
が少なくなると、ヒータの供給熱量が上回り、再び１５
１Ｋ以上に温度が上昇して行く。
が少なくなると、ヒータの供給熱量が上回り、再び１５
１Ｋ以上に温度が上昇して行く。
【００２７】２７３Ｋを越えると、氷が融解するので、
ｃ部では、ここから１０ｌ／ｍ程度の不活性ガス（例え
ば窒素ガス）でガスパージを行い、水を排出させる、こ
の間、水分の排出が充分行えるように、３１０Ｋ程度で
温度コントロールを行う。水分の排出を終了後、不活性
ガスのパージを止め、クライオポンプの起動に支障がな
い圧力まで粗引きを行い（ｄ部）。次いでクライオポン
プを起動し冷却を開始する（ｅ部）。
ｃ部では、ここから１０ｌ／ｍ程度の不活性ガス（例え
ば窒素ガス）でガスパージを行い、水を排出させる、こ
の間、水分の排出が充分行えるように、３１０Ｋ程度で
温度コントロールを行う。水分の排出を終了後、不活性
ガスのパージを止め、クライオポンプの起動に支障がな
い圧力まで粗引きを行い（ｄ部）。次いでクライオポン
プを起動し冷却を開始する（ｅ部）。
【００２８】第２段熱負荷ステージの温度が２０Ｋを切
ったところで、クライオポンプの再生は完了で、約１４
０分で再生を終えることができる。この再生時間は、一
見従来のものとあまり変わらないと考えられがちである
が、クライオポンプ内を真空のまま再生するので、仕切
弁が開かず、スパッタリング装置としては大きな意味が
ある。
ったところで、クライオポンプの再生は完了で、約１４
０分で再生を終えることができる。この再生時間は、一
見従来のものとあまり変わらないと考えられがちである
が、クライオポンプ内を真空のまま再生するので、仕切
弁が開かず、スパッタリング装置としては大きな意味が
ある。
【００２９】
【実施例２】プロセスガスのみの放出で再生を終了する
実施例である。プロセスガスはアルゴンガスとする。
実施例である。プロセスガスはアルゴンガスとする。
【００３０】図２が実施例２のグラフである。前記実施
例１のｂ部までは同様である。第２段熱負荷ステージの
温度は、アルゴンの臨界温度１５１Ｋが目安となるが、
第２段熱負荷ステージの温度シフトや、アルゴンの完全
排出を行いたいことから、１８０Ｋを目安とし、第２段
熱負荷ステージが１８０Ｋとなったところで、ヒータの
通電を停止し、クライオポンプの再起動を開始する。ポ
ンプ容器内の圧力は図示のように変化し、結局、再生に
要する時間は約６０分に短縮することができる。
例１のｂ部までは同様である。第２段熱負荷ステージの
温度は、アルゴンの臨界温度１５１Ｋが目安となるが、
第２段熱負荷ステージの温度シフトや、アルゴンの完全
排出を行いたいことから、１８０Ｋを目安とし、第２段
熱負荷ステージが１８０Ｋとなったところで、ヒータの
通電を停止し、クライオポンプの再起動を開始する。ポ
ンプ容器内の圧力は図示のように変化し、結局、再生に
要する時間は約６０分に短縮することができる。
【００３１】
【実施例３】プロセスガスが窒素ガスの場合。
【００３２】プロセスガスに窒素を使用すると、窒素の
三重点圧力は９４Ｔｏｒｒであるので、ポンプ容器内を
９４Ｔｏｒｒ以下に排気する必要がある。このために
は、約６００ｌ／ｍ以上の排気速度を有するドライ粗引
きポンプを使用する。また窒素の臨界温度は１２６Ｋで
あるので、実施例２のように再生時間を短縮する場合
は、１５０Ｋ程度を第２段熱負荷ステージの加熱温度の
目安とする。
三重点圧力は９４Ｔｏｒｒであるので、ポンプ容器内を
９４Ｔｏｒｒ以下に排気する必要がある。このために
は、約６００ｌ／ｍ以上の排気速度を有するドライ粗引
きポンプを使用する。また窒素の臨界温度は１２６Ｋで
あるので、実施例２のように再生時間を短縮する場合
は、１５０Ｋ程度を第２段熱負荷ステージの加熱温度の
目安とする。
【００３３】尚、プロセスガスとしての窒素ガスは、通
常アルゴンガスとの混合ガスとして使用される場合が多
いので、このような場合には実施例２と同様に１８０Ｋ
程度を目安として行う。
常アルゴンガスとの混合ガスとして使用される場合が多
いので、このような場合には実施例２と同様に１８０Ｋ
程度を目安として行う。
【００３４】
【発明の効果】以上に説明したように、この発明によれ
ばクライオポンプの再生に要する時間を短縮したので、
スパッタリング装置としての稼動率を向上し、量産性を
改良できる効果がある。
ばクライオポンプの再生に要する時間を短縮したので、
スパッタリング装置としての稼動率を向上し、量産性を
改良できる効果がある。
【図１】この発明の第１実施例における第２段熱負荷ス
テージの温度変化を示したグラフである。
テージの温度変化を示したグラフである。
【図２】この発明の第２実施例における第２段熱負荷ス
テージの温度変化と、ポンプ容器内の圧力変化を示した
グラフである。
テージの温度変化と、ポンプ容器内の圧力変化を示した
グラフである。
【図３】クライオポンプの構成図である。
Claims (3)
- 【請求項１】 メインポンプをクライオポンプとしたス
パッタリング装置のクライオポンプを再生する方法であ
って、前記クライオポンプの第２段熱負荷ステージを加
熱しながら、クライオポンプ容器内を、スパッタリング
で使用されたプロセスガスの三重点圧力以下の圧力に排
気することを特徴とするスパッタリング装置におけるク
ライオポンプ再生方法。 - 【請求項２】 第２段熱負荷ステージの加熱は、プロセ
スガスの臨界温度をやや上回った温度までとする請求項
１記載のスパッタリング装置におけるクライオポンプ再
生方法。 - 【請求項３】 第２段熱負荷ステージの加熱は、２７３
Ｋより高い温度まで行う請求項１記載のスパッタリング
装置におけるクライオポンプ再生方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP47594A JPH07208332A (ja) | 1994-01-07 | 1994-01-07 | スパッタリング装置におけるクライオポンプ再生方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP47594A JPH07208332A (ja) | 1994-01-07 | 1994-01-07 | スパッタリング装置におけるクライオポンプ再生方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07208332A true JPH07208332A (ja) | 1995-08-08 |
Family
ID=11474812
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP47594A Pending JPH07208332A (ja) | 1994-01-07 | 1994-01-07 | スパッタリング装置におけるクライオポンプ再生方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07208332A (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1999011931A1 (en) * | 1997-08-28 | 1999-03-11 | Helix Technology Corporation | Cryopump with selective condensation and defrost |
| JP2001123951A (ja) * | 1999-10-21 | 2001-05-08 | Anelva Corp | クライオポンプの再生方法 |
| JP2001342949A (ja) * | 2000-05-31 | 2001-12-14 | Daikin Ind Ltd | クライオポンプの再生方法 |
| JP2008300806A (ja) * | 2007-06-04 | 2008-12-11 | Canon Inc | 基板処理装置、露光装置及びデバイス製造方法 |
| JP2009262083A (ja) * | 2008-04-25 | 2009-11-12 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | コールドトラップ、及びコールドトラップの再生方法 |
| JP2011521431A (ja) * | 2008-05-19 | 2011-07-21 | イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー | 電子デバイスにおける気相コーティングの装置および方法 |
| TWI570328B (zh) * | 2014-03-18 | 2017-02-11 | Sumitomo Heavy Industries | Cryogenic pump and cryogenic pump regeneration method |
| US10393099B2 (en) | 2015-02-20 | 2019-08-27 | Sumitomo Heavy Industries, Ltd. | Cryopump system, cryopump controller, and cryopump regeneration method |
-
1994
- 1994-01-07 JP JP47594A patent/JPH07208332A/ja active Pending
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