JPH0720913Y2 - 光処理器 - Google Patents
光処理器Info
- Publication number
- JPH0720913Y2 JPH0720913Y2 JP1987044244U JP4424487U JPH0720913Y2 JP H0720913 Y2 JPH0720913 Y2 JP H0720913Y2 JP 1987044244 U JP1987044244 U JP 1987044244U JP 4424487 U JP4424487 U JP 4424487U JP H0720913 Y2 JPH0720913 Y2 JP H0720913Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light
- wafer
- processing table
- illuminance
- hole
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Description
【考案の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ この考案は、互いに平行に配置した複数の棒状の光源
と、これら各光源を覆う複数の反射ミラーとを有する光
照射器と処理台等からなる光処理器に関するものであ
る。
と、これら各光源を覆う複数の反射ミラーとを有する光
照射器と処理台等からなる光処理器に関するものであ
る。
［従来の技術］ 第４図は従来の光処理器を用いて半導体ウエハを光照射
処理する場合における２つのランプからの光が互いに合
成される部分の概略を示した図で、同図（ａ）は直径約
150mmの半導体のウエハ３をウエハの処理台４に載置し
た状態において、このウエハ３に対して照射される棒状
の光源である高圧水銀灯からなるランプ１を２本用い、
それぞれのランプ１に反射ミラー２を配置して光照射す
る場合の概略説明図で、100は光照射器のケーシング
で、ランプ１や反射ミラー２等の保持機構等は図から省
略してある。また同図（ｂ）は同図（ａ）におけるウエ
ハ３に照射される光の照度分布を示した図であって、こ
の場合処理台４が光照射区域にあたる。そして、通常ウ
エハ３はこの処理台中央に配置され、上記光照射器から
の光照射を受ける。第４図の処理器において、ウエハ３
の光処理に寄与する光は主として、図中、矢印で示すよ
うに反射ミラー２の互いに隣り合う部分、即ちウエハの
処理台４に近い部分で反射された光が合成されたもので
ある。そして、同図（ｂ）から明らかなように、例えば
ランプ２本のピッチ間隔が110mmの場合、ウエハ３の中
心から約25mm程離れた位置における照度が最も強く、そ
の位置での照度を100％とすると、ウエハ３の中心から
周辺に外れるにつれて照度が下がり、直径約150mmのウ
エハ３の周辺端部では80〜70％程度に照度は下がってし
まうことがわかる。
処理する場合における２つのランプからの光が互いに合
成される部分の概略を示した図で、同図（ａ）は直径約
150mmの半導体のウエハ３をウエハの処理台４に載置し
た状態において、このウエハ３に対して照射される棒状
の光源である高圧水銀灯からなるランプ１を２本用い、
それぞれのランプ１に反射ミラー２を配置して光照射す
る場合の概略説明図で、100は光照射器のケーシング
で、ランプ１や反射ミラー２等の保持機構等は図から省
略してある。また同図（ｂ）は同図（ａ）におけるウエ
ハ３に照射される光の照度分布を示した図であって、こ
の場合処理台４が光照射区域にあたる。そして、通常ウ
エハ３はこの処理台中央に配置され、上記光照射器から
の光照射を受ける。第４図の処理器において、ウエハ３
の光処理に寄与する光は主として、図中、矢印で示すよ
うに反射ミラー２の互いに隣り合う部分、即ちウエハの
処理台４に近い部分で反射された光が合成されたもので
ある。そして、同図（ｂ）から明らかなように、例えば
ランプ２本のピッチ間隔が110mmの場合、ウエハ３の中
心から約25mm程離れた位置における照度が最も強く、そ
の位置での照度を100％とすると、ウエハ３の中心から
周辺に外れるにつれて照度が下がり、直径約150mmのウ
エハ３の周辺端部では80〜70％程度に照度は下がってし
まうことがわかる。
［考案が解決しようとする問題点］ 上記のような従来の光処理器においては、被照射物に対
する光の照度分布は不均一なために、半導体のウエハの
レジスト処理等のような場合、光照射処理が均一に行わ
れず、そのような光処理器で処理したウエハを基に構成
した半導体素子には、多大の悪影響を及ぼし、最悪の場
合は不良品製造の原因となるという問題があった。
する光の照度分布は不均一なために、半導体のウエハの
レジスト処理等のような場合、光照射処理が均一に行わ
れず、そのような光処理器で処理したウエハを基に構成
した半導体素子には、多大の悪影響を及ぼし、最悪の場
合は不良品製造の原因となるという問題があった。
この考案はかかる従来の問題点を解決するためになされ
たもので、被照射物を載置する処理台上の照度分布を均
一にして、光照射処理を効率よく行うことのできる簡単
な構造の光処理器を提供することを目的とする。
たもので、被照射物を載置する処理台上の照度分布を均
一にして、光照射処理を効率よく行うことのできる簡単
な構造の光処理器を提供することを目的とする。
［問題点を解決するための手段］ 上記の目的を達成するために、この考案の光処理器は、
各光源を覆う反射ミラーの少くとも片方の反射面であっ
て、前記棒状の光源に対応する上部長手方向に細長い形
状の透孔を設けた構成を有する光照射器を具備するもの
である。
各光源を覆う反射ミラーの少くとも片方の反射面であっ
て、前記棒状の光源に対応する上部長手方向に細長い形
状の透孔を設けた構成を有する光照射器を具備するもの
である。
［作用］ 上記の構成を有することにより、処理台における光の照
度分布は、照度の最も強い部分と、その他の部分との差
が少なくなり、ほぼ均一な照度分布の光照射が行われる
ようになった。
度分布は、照度の最も強い部分と、その他の部分との差
が少なくなり、ほぼ均一な照度分布の光照射が行われる
ようになった。
［実施例］ 第１図はこの考案の一実施例であるランプ１及び反射ミ
ラー２を２本用いた場合の光照射器における相互の光が
合成される部分の概略を示した斜視図であり、第２図
（ａ）は第１図の光照射器を光処理器に用いて半導体の
ウエハ３を処理台４に載置したときの断面図で、同図
（ｂ）は同図（ａ）の処理台４上におけるウエハ３への
光照射の照度分布を示した図である。第１図，第２図に
おいて、５は反射ミラー２の上部の反射面に設けられた
透孔で、互いに隣り合う部分であって、ランプ１の上面
の長手方向に穿設されている。
ラー２を２本用いた場合の光照射器における相互の光が
合成される部分の概略を示した斜視図であり、第２図
（ａ）は第１図の光照射器を光処理器に用いて半導体の
ウエハ３を処理台４に載置したときの断面図で、同図
（ｂ）は同図（ａ）の処理台４上におけるウエハ３への
光照射の照度分布を示した図である。第１図，第２図に
おいて、５は反射ミラー２の上部の反射面に設けられた
透孔で、互いに隣り合う部分であって、ランプ１の上面
の長手方向に穿設されている。
第１図，第２図において、２つのランプ１から放射され
た光は、反射ミラー２でそれぞれ反射されて合成され
る。その際、図中矢印で示した一部分の光が透孔５から
それぞれ透過してしまうので、残りの反射光を合成した
光は、透孔５のない場合に比較して幾分弱まっている。
しかし、これら互いに隣合う反射面から反射されて合成
された光は処理台４上のウエハ３の中央部に照射される
光であって、この中央部の照度は周辺部に比較して、元
来強くなっている。従って、この実施例のように透孔５
から透過する光を差引いた反射光のみを合成しても、ま
だ周辺部より中央部の照度が強い。
た光は、反射ミラー２でそれぞれ反射されて合成され
る。その際、図中矢印で示した一部分の光が透孔５から
それぞれ透過してしまうので、残りの反射光を合成した
光は、透孔５のない場合に比較して幾分弱まっている。
しかし、これら互いに隣合う反射面から反射されて合成
された光は処理台４上のウエハ３の中央部に照射される
光であって、この中央部の照度は周辺部に比較して、元
来強くなっている。従って、この実施例のように透孔５
から透過する光を差引いた反射光のみを合成しても、ま
だ周辺部より中央部の照度が強い。
因みに、この実施例では、例えば357［Ｖ］,13.6
［Ａ］,418［mW/cm2］の特性を有する高圧水銀灯からな
るランプ１を２本用いた場合、及び371［Ｖ］,13.8
［Ａ］,877.8［mW/cm2］の特性を有する高圧水銀灯から
なるランプ１を２本用いた場合の各光照射器において、
反射ミラー２に設けた透孔５の面積を60mm×10mmにした
場合についてそれぞれ実験を行った。その結果、透孔５
を設けない従来の場合は、直径約150mmのウエハの中央
部の照度100％に対し、周辺部の照度が70％程度であっ
たものが、この実施例のように透孔５を設けたものは、
中央部の照度100％に対し、周辺部の照度90％程度でほ
とんど均一の照度分布が得られることとなった。尤も、
透孔５を設けたことによって、光の一部がこの透孔５の
部分から透過してしまって、ウエハ３、即ち処理台４の
中央部の照度が幾分弱まるが、そのかわり照度分布が均
一になったことにより、光照射器における光照射特性は
向上した。従来、この光処理器によって処理されるウエ
ハの直径が、現在よく用いられる約150mmから約200mmへ
と大型化するにつれて、処理台上の照度分布を均一化す
ることは光処理器における性能として一層強く望まれる
ものである。そこで、処理されるウエハの径に応じて透
孔の寸法も適宜変えなければならないのは当然であっ
て、処理するウエハの径の大型化に伴って、照度分布の
均一化は避けることができない。従って、被照射処理物
であるウエハが大型化するにつれてランプ１の出力及び
反射ミラー２の大きさが大きくなければならないが、そ
の場合、ランプ１と反射ミラー２をそれぞれ多数（３個
以上）設けることが考えられる。
［Ａ］,418［mW/cm2］の特性を有する高圧水銀灯からな
るランプ１を２本用いた場合、及び371［Ｖ］,13.8
［Ａ］,877.8［mW/cm2］の特性を有する高圧水銀灯から
なるランプ１を２本用いた場合の各光照射器において、
反射ミラー２に設けた透孔５の面積を60mm×10mmにした
場合についてそれぞれ実験を行った。その結果、透孔５
を設けない従来の場合は、直径約150mmのウエハの中央
部の照度100％に対し、周辺部の照度が70％程度であっ
たものが、この実施例のように透孔５を設けたものは、
中央部の照度100％に対し、周辺部の照度90％程度でほ
とんど均一の照度分布が得られることとなった。尤も、
透孔５を設けたことによって、光の一部がこの透孔５の
部分から透過してしまって、ウエハ３、即ち処理台４の
中央部の照度が幾分弱まるが、そのかわり照度分布が均
一になったことにより、光照射器における光照射特性は
向上した。従来、この光処理器によって処理されるウエ
ハの直径が、現在よく用いられる約150mmから約200mmへ
と大型化するにつれて、処理台上の照度分布を均一化す
ることは光処理器における性能として一層強く望まれる
ものである。そこで、処理されるウエハの径に応じて透
孔の寸法も適宜変えなければならないのは当然であっ
て、処理するウエハの径の大型化に伴って、照度分布の
均一化は避けることができない。従って、被照射処理物
であるウエハが大型化するにつれてランプ１の出力及び
反射ミラー２の大きさが大きくなければならないが、そ
の場合、ランプ１と反射ミラー２をそれぞれ多数（３個
以上）設けることが考えられる。
第３図はこの考案の他の実施例を示す概略図で、ランプ
１及び反射ミラー２をそれぞれ３個以上設けた場合を示
している。第３図において、反射ミラー２は最も外側の
各１つを除いて、他の反射ミラー２にはそれぞれ両側に
透孔５が設けられている。ランプ１及び反射ミラー２を
３個以上設けた場合、光は処理台４において縞状に集中
するので、処理台４の照度分布を均一にするために、内
部に位置する反射ミラー２は、透孔５をその両側の反射
面に、最も外側の反射ミラー２は、透孔５をその内側の
反射面に設けることにより、ランプの光を一部分、外部
に透過させている。そして、この透孔５の寸法は、処理
台の照度分布が中央部と周辺部との差が10％以内になる
ように設計される。
１及び反射ミラー２をそれぞれ３個以上設けた場合を示
している。第３図において、反射ミラー２は最も外側の
各１つを除いて、他の反射ミラー２にはそれぞれ両側に
透孔５が設けられている。ランプ１及び反射ミラー２を
３個以上設けた場合、光は処理台４において縞状に集中
するので、処理台４の照度分布を均一にするために、内
部に位置する反射ミラー２は、透孔５をその両側の反射
面に、最も外側の反射ミラー２は、透孔５をその内側の
反射面に設けることにより、ランプの光を一部分、外部
に透過させている。そして、この透孔５の寸法は、処理
台の照度分布が中央部と周辺部との差が10％以内になる
ように設計される。
［考案の効果］ 以上説明したとおり、この考案の光処理器は各光源を覆
う各反射ミラーの少くとも片側の反射面であって、前記
棒状の光源に対応する上部長手方向に細長い形状の透孔
を設け、処理台の中央の照射強度を抑制する構成を有す
るので、低コストで処理台上での均一な照度分布が得ら
れ、光処理の精度が向上するという利点がある。
う各反射ミラーの少くとも片側の反射面であって、前記
棒状の光源に対応する上部長手方向に細長い形状の透孔
を設け、処理台の中央の照射強度を抑制する構成を有す
るので、低コストで処理台上での均一な照度分布が得ら
れ、光処理の精度が向上するという利点がある。
第１図はこの考案の一実施例であるランプ及び反射ミラ
ーを２本用いた場合の光照射器の概略を示した斜視図で
あり、第２図（ａ）は第１図の光照射器を光処理器に用
いて半導体のウエハを処理台に載置し光照射したときの
断面説明図、第２図（ｂ）は処理台上における照度分布
を示した図、第３図はこの考案の他の実施例を示す概略
図、第４図（ａ）は従来の光処理器を用いて半導体ウエ
ハを光照射処理する場合における２つのランプからの光
が互いに合成される部分の概略を示した図、第４図
（ｂ）は従来の光処理器の処理台上の照度分布を示した
図である。 図中。 1:ランプ、2:反射ミラー 3:ウエハ、4:処理台 5:透孔
ーを２本用いた場合の光照射器の概略を示した斜視図で
あり、第２図（ａ）は第１図の光照射器を光処理器に用
いて半導体のウエハを処理台に載置し光照射したときの
断面説明図、第２図（ｂ）は処理台上における照度分布
を示した図、第３図はこの考案の他の実施例を示す概略
図、第４図（ａ）は従来の光処理器を用いて半導体ウエ
ハを光照射処理する場合における２つのランプからの光
が互いに合成される部分の概略を示した図、第４図
（ｂ）は従来の光処理器の処理台上の照度分布を示した
図である。 図中。 1:ランプ、2:反射ミラー 3:ウエハ、4:処理台 5:透孔
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０１Ｌ 21/027 (56)参考文献 特開 昭50−9988（ＪＰ，Ａ) 実開 昭60−51812（ＪＰ，Ｕ) 実開 昭55−59403（ＪＰ，Ｕ)
Claims (1)
- 【請求項１】相互に平行に配置した複数の棒状の光源
と、これら各光源を覆う複数の反射ミラーとを有する光
照射器と、この光照射器からの照射光を受ける位置に配
置されてウエハを処理する処理台とよりなり、前記各反
射ミラーの少なくとも片方の反射物であって、前記棒状
の光源に対応する上部長手方向に細長い形状の透孔を設
け、該処理台の中央の照射強度を抑制するよう構成した
ことを特徴とする光処理器。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1987044244U JPH0720913Y2 (ja) | 1987-03-27 | 1987-03-27 | 光処理器 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1987044244U JPH0720913Y2 (ja) | 1987-03-27 | 1987-03-27 | 光処理器 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63152235U JPS63152235U (ja) | 1988-10-06 |
| JPH0720913Y2 true JPH0720913Y2 (ja) | 1995-05-15 |
Family
ID=30861867
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1987044244U Expired - Lifetime JPH0720913Y2 (ja) | 1987-03-27 | 1987-03-27 | 光処理器 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0720913Y2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0719044Y2 (ja) * | 1989-06-22 | 1995-05-01 | 千代田化工建設株式会社 | 蛍光灯照明装置 |
| JP5473430B2 (ja) * | 2008-11-14 | 2014-04-16 | 利朗 伊藤 | 照明器具および照明器具を用いた照明システム |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5117836B2 (ja) * | 1973-06-04 | 1976-06-04 | ||
| JPS5559403U (ja) * | 1978-10-18 | 1980-04-22 | ||
| JPS6051812U (ja) * | 1983-09-19 | 1985-04-11 | 三菱電機株式会社 | 照明器具 |
-
1987
- 1987-03-27 JP JP1987044244U patent/JPH0720913Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS63152235U (ja) | 1988-10-06 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPS6125123Y2 (ja) | ||
| EP1296162A4 (en) | POLYGON REFLECTOR, AND OPTICAL LIGHTING SYSTEM AND SEMICONDUCTOR EXPOSURE DEVICE USING THE POLYGON REFLECTOR | |
| JPH0542566Y2 (ja) | ||
| JPH0861928A (ja) | 外観検査用照明装置 | |
| US6385396B1 (en) | Reflector structure for improving irradiation uniformity of linear lamp array | |
| KR20020044545A (ko) | 광 조사 장치 | |
| JPS63152235U (ja) | ||
| JPS5829499Y2 (ja) | 自動車用番号灯 | |
| JPH0359402B2 (ja) | ||
| JPH03262275A (ja) | 透過型照明装置 | |
| JPS58222522A (ja) | プロジエクシヨンアライナ | |
| JPH04312914A (ja) | 紫外線照射装置 | |
| JPS62143426A (ja) | 光照射装置 | |
| JPS63245806A (ja) | 照明器具 | |
| JPS6031695Y2 (ja) | 無影灯用反射鏡 | |
| JP3270460B2 (ja) | 画像読取装置 | |
| JPH04116917A (ja) | 露光装置 | |
| JPH071804Y2 (ja) | Ｌｅｄ光源 | |
| JPS6327366Y2 (ja) | ||
| JPH0728059A (ja) | 液晶表示装置用照明装置 | |
| JPH046389A (ja) | ランプ加熱装置 | |
| JP2004127978A (ja) | フラッシュランプ光照射装置 | |
| JPH0643926Y2 (ja) | 照明器具 | |
| JPH0244276Y2 (ja) | ||
| JPS60147177A (ja) | Ｌｅｄアレイ |