JPH07210925A

JPH07210925A - 複合ディスク

Info

Publication number: JPH07210925A
Application number: JP1601194A
Authority: JP
Inventors: Migaku Tada; 琢多田; Tetsuya Kondo; 哲也近藤; Takashi Daiko; 高志大胡
Original assignee: Victor Company of Japan Ltd
Current assignee: Victor Company of Japan Ltd
Priority date: 1994-01-14
Filing date: 1994-01-14
Publication date: 1995-08-11

Abstract

(57)【要約】【目的】複合ディスクにおいて、所定の接触荷重の印
加された磁気ヘッドによって、接触走行しても、安定し
た走行特性を有する磁性層用保護層を形成出来るように
し、それにより、信頼性の高い磁気ヘッド走行特性を有
する複合ディスクを提供する。【構成】円板状の透明基板１上に、光情報の記録され
るべき光記録層３と、光記録層用保護層４と、所定形状
の磁性層５と、磁性層用保護層６と、潤滑層７とが順次
積層されている複合ディスク１０において、前記磁性層
用保護層６を、ガラス転移点温度が１５０℃以上の値を
有する紫外線硬化性樹脂で形成した。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、光記録膜を有する光デ
ィスクに、磁気ヘッドによる少量のデ−タの書込み／読
み出しが可能な磁性層を形成して得られる複合ディスク
に係わり、特に、磁性層上に最適な磁性層用保護層を形
成し、磁気ヘッドの良好な接触走行を行わせるのに好適
な複合ディスクに関するものである。

【０００２】

【従来の技術】透明基板上に形成されている光学記録層
に記録されている情報信号を、レーザ光を用いて読み出
す再生専用光ディスクは、同一情報を大量にしかも短時
間に複製することが出来ることにより、現在広範に普及
している。この再生専用光ディスクには、記録されてい
る情報内容により、ＣＤ、ＣＤ−ＲＯＭ、ＣＤ−Ｖまた
はＣＤ−Ｉ等の種類がある。

【０００３】これら多種類の再生専用光ディスクの出現
により、その使用形態も多様化してきた。さらに、再生
専用光ディスクに、少量の情報を付加できる記録領域を
設けて、ここに管理情報を記録することにより、再生専
用光ディスクの管理を容易にしようとする試みがなされ
ている。例えば、ゲーム用再生専用光ディスク（以下、
ゲーム用光ディスクともいう）の場合、ゲームを途中で
中断し、再びゲームを再開する時は、中断したシーンよ
り始められるように、中断した時のゲームのシーン番号
やそれまでのゲームの得点等のゲーム管理情報を、光デ
ィスクプレーヤに記録できるようになっているが、ゲー
ム用光ディスクを別の場所に持ちだし、そこにある別の
光ディスクプレーヤによってゲームを再開したい場合に
は、ゲーム管理情報は光ディスクプレーヤに記録されて
おり、ゲーム用光ディスクに記録されていないため、先
の中断したシーンより再開することが出来なかった。

【０００４】そこで、このような欠点を解決するため
に、例えば、特開昭６２−７５９５６号公報、特開平１
−１３８６４２号公報又は特開平４−３３７５４６号公
報等に開示されているように、光ディスク上に、少量の
情報を磁気記録方式により書込み／読み出し（以下、記
録再生とも言う）が出来る磁性層の領域を設ける複合デ
ィスクが提案されている。

【０００５】以下、添付図面を参照して従来の技術を説
明する。図１は、一般的な複合ディスクの構成を示す部
分断面図である。図１において、１は基板を、２は信号
ピットを、３は光記録層を、４は光記録層用保護層を、
５は磁性層を、６は磁性層用保護層を、７は潤滑層を、
１０は複合ディスクを、１５は光ディスクをそれぞれ示
す。

【０００６】円板状の透明なポリカ−ボネ−ト樹脂から
なる基板１上の片面に、情報に対応した信号ピット２
が、射出成形法により形成されており、この上にアルミ
ニウムからなる光記録層３が形成されている。この光記
録層３は、信号ピット２の形成されていない基板側か
ら、レ−ザ−光を入射し、光記録層３で反射させ、信号
ピット２の形状を読み取るためのものである。光記録層
３の上には、紫外線硬化樹脂からなる光記録層用保護層
４が形成されて、光ディスク１５が構成されている。さ
らに、この光記録層用保護層４の上には、少量の書替え
可能な情報を磁気記録方式によって書込み／読み出しす
るための、所定形状の磁性層５が形成されている。この
磁性層５上には、図示しない磁気ヘッドの摺動による磁
性層５の損傷を防止するために、樹脂からなる磁性層用
保護層６及び潤滑層７が順次形成されて、複合ディスク
１０が構成されている。磁性層５への磁気記録再生は、
図示しない磁気ヘッドによって行われる。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】ところで、従来の磁気
記録媒体と比較して、光ディスクはディスク回転数が低
く、面振れが大きい。従って、光ディスクに磁性層を設
け、複合ディスクとし、磁性層に管理情報を磁気記録／
再生するときには、磁気ヘッドを複合ディスク上で安定
走行させるために、所定の荷重を印加しながら磁気ヘッ
ドを複合ディスクに接触させる接触記録方式をとる必要
がある。

【０００８】しかし、安定した磁気記録再生出力を得る
ためには、複合ディスクの面振れに対する磁気ヘッドの
追従性を向上させる必要がある。また、所定荷重を印加
しながら、磁気ヘッドを複合ディスクに押しつけること
による光記録層への損傷発生を回避する必要がある。ま
た、高出力低ノイズの磁気記録再生を行うためには、磁
気ヘッド−磁性層間のスペーシングを狭小化する必要が
ある。また、接触走行によって、磁性層及び磁気ヘッド
に発生する損傷を回避する必要がある。さらに、複合デ
ィスクの製造プロセスの簡略化も考慮する必要がある。

【０００９】本願出願人は、これらの点を考慮して、従
来の光ディスク上に、所定形状の磁性層を形成し、この
磁性層上に、紫外線硬化樹脂からなる磁性層を保護する
磁性層用保護層と、潤滑層を順次形成した複合ディスク
を種々製作し、これらの複合ディスクについて、磁気ヘ
ッド接触方式によって、磁気ヘッドを走行させた時の、
複合ディスクの安定走行の耐久性の研究を行なった。

【００１０】それによると、磁性層用保護層と磁気ヘッ
ドを接触させて（潤滑層が介在している）、接触走行を
行なったところ、安定した走行特性を得るには、磁気ヘ
ッドに印加される接触荷重を十分大きくする必要があ
り、そのため、磁気ヘッド走行の初期には、十分な磁気
記録再生特性が得られているものの、継続して使用する
と、磁性層用保護層と磁気ヘッド間の摩擦により、磁気
ヘッドがスティックスリップを起こし、磁気ヘッドの安
定走行が不能になったり、磁性層保護層の磨耗に続い
て、磁性層に傷が発生し、ついには、磁気ヘッドがクラ
ッシュしてしまう事が判明した。

【００１１】そこで、本発明は上記の点に着目してなさ
れたものであり、複合ディスクにおいて、所定の接触荷
重の印加された磁気ヘッドによって、接触走行しても、
安定した走行特性を有する磁性層用保護層を形成出来る
ようにし、それにより、信頼性の高い磁気ヘッド走行特
性を有する複合ディスクを提供する事を目的とするもの
である。

【００１２】

【課題を解決するための手段】本発明の複合ディスク
は、円板状の透明基板上に、光情報の記録されるべき光
記録層と、光記録層用保護層と、所定形状の磁性層と、
磁性層用保護層と、潤滑層とが順次積層されている複合
ディスクにおいて、前記磁性層用保護層を、ガラス転移
点温度が１５０℃以上の値を有する紫外線硬化性樹脂で
形成したことにより、上述の目的を達成するものであ
る。

【００１３】

【作用】磁性層用保護層を構成する紫外線硬化樹脂のガ
ラス転移点温度Ｔｇが１５０℃以上であるので、磁気ヘ
ッドの接触走行によって発生する摩擦熱に対して安定で
あり、磁性層用保護層の表面形状の変化を小さく押さえ
ることができるので、磁気ヘッドによる接触走行を安定
に維持できる。

【００１４】

【実施例】複合ディスクを製作し、磁気ヘッドを接触走
行させて、摺動試験を行った。以下、図面を参照して、
本発明の実施例につき説明する。＜実施例１＞図１は、一般的な複合ディスクの構成を示
す部分断面図である。まず、光ディスク１５の構成の概
略を説明する。直径１２０ｍｍの透明なポリカ−ボネ−
ト樹脂製の基板１上に、スタンパによる射出成形法によ
り信号ピット２を形成する。この信号ピット２上の全面
に、スパッタリング法により厚さ１００ｎｍのＡｌ膜を
光記録層３として形成する。この光記録層３上に、例え
ばトリメチルプロパントリアクリレ−ト（ＴＭＰＴＡ）
からなる紫外線硬化樹脂を、スピンコ−ト法によって塗
布した後、紫外線によって硬化して、厚さ７μｍの光記
録層用保護層４を形成し、光ディスク１５を得る。

【００１５】以上の構成の光ディスク１５に、主に紫外
線硬化樹脂を含む磁性塗料（これについては、後述す
る）を、スクリ−ン印刷法により（スクリ−ンは、テト
ロン系３８０メッシュに、乳剤が１２μｍの厚さに塗布
されたものであり、内径３９ｍｍ、外径１１８ｍｍのド
−ナツ形状の開口部が設けられている）印刷し、所定形
状の磁性塗料膜を形成する。この磁性塗料膜を、紫外線
照射によって硬化し、その後、表面を研磨テ−プを用い
てテ−プ研磨して平坦化し、膜厚が５μｍである磁性層
５を得た（テ−プ研磨については、後述する）。

【００１６】この磁性層５上に、２官能アクリレ−トモ
ノマ−であるＲ６０４（商品名、日本化薬（株）製）
に、光硬化剤であるダロキュア１１７３（商品名、メル
クジャパン（株）製）を７ｗｔ％混合して得た紫外線硬
化樹脂を、スピンコ−ト法によって塗布した後、紫外線
によって硬化して、厚さ２μｍの磁性層用保護層６を形
成した。この磁性層保護層６の表面を、所定量研磨テ−
プを用いて研磨した後、ｎ−ヘキサンを溶剤としてほぼ
０．２５ｗｔ％に希釈したジメチルポリシロキサンであ
るＷＦ−３０（商品名、東レダウコーニングシリコーン
（株）製）をスピンコ−ト法により塗布して、膜厚１０
ｎｍの潤滑層７形成し、実施例１の複合ディスク１０を
得た。なお、磁性層保護層６形成後、その表面粗さを、
接触式表面粗さ計（ランクテ−ラ−ホブソン社製）によ
り測定し、中心線表面粗さＲａの値として、５２ｎｍを
得た。また、磁性層保護層を構成する紫外線硬化樹脂の
ガラス転移点温度Ｔｇは、１５０℃であった（ガラス転
移点温度Ｔｇの測定法は、後述する）。

【００１７】この複合ディスク１０を、複合ディスク用
摺動試験器（これについては、後述する）に装着し、磁
気ヘッドによる摺動試験を行った。摺動初期の摩擦係数
は０．５３であり、摺動６０分後の摩擦係数は０．６３
であった。摺動６０分後の磁気ヘッドの走行状態は、安
定走行であった。摺動試験条件を次のようにした。磁気
ヘッドの接触荷重は３ｇ重であり、磁気ヘッドスライダ
−はチタン酸カルシュウム／フェライトの複合スライダ
−である。複合ディスク１０の回転数は３３０ｒｐｍ、
磁気ヘッドの摺動位置は複合ディスク１０の半径４０ｍ
ｍのトラックである。

【００１８】次に、複合ディスク用摺動試験器と摺動試
験の概要を説明する。図３は、複合ディスク用摺動試験
器の概略構成を示す正面図である。図３において、２０
は摺動試験器を、１０は複合ディスクを、２１はクラン
プを、２２はスピンドルを、２３は回転中心軸を、２４
は磁気ヘッドを、２５はサスペンションを、２６はヘッ
ド固定部を、２７はロ−ドセルを、２８はア−ムを、２
９は定盤をそれぞれ示す。

【００１９】摺動試験器２０の図示しない基台に、図示
しないモ−タ−が固定されている。このモ−タ−の回転
軸に、スピンドル２２が回転可能に接続されている。ス
ピンドル２２の回転中心軸２３は垂直方向となってい
る。複合ディスク１０は、そのセンタ−穴を貫通するス
ピンドル２２の突起部に装着され、クランプ２１によっ
て、スピンドル２２に固定される。

【００２０】一方、スピンドル２２より所定の距離離れ
て、基台に固定された定盤２９が、配置されている。定
盤２９の上面２９ａは、垂直及び水平方向（スピンドル
２２の回転中心軸２３に向かう方向）に移動可能に構成
されている。定盤２９の上面２９ａの所定の位置に、ロ
−ドセル２７が配置固定されている。ロ−ドセル２７に
は、ア−ム２８がロ−ドセル２７内部の支持点に水平方
向に揺動できるようにその一端を接続されており、この
ア−ム２８の他端にはヘッド固定部２６が固定されてい
る。ヘッド固定部２６の所定位置に、サスペンション２
５の一端が固定されており、サスペンション２５の他端
には、磁気ヘッド２４が複合ディスク１０の上面に配置
される様取り付けられている。複合ディスク１０上の磁
気ヘッド２４の位置は、定盤２９の水平方向の移動によ
り調整される。磁気ヘッド２４の接触荷重は定盤２９の
垂直方向の移動により調整され、ロ−ドセル２７によっ
て、検出される。

【００２１】次に、摺動試験の概要を説明する。複合デ
ィスク１０は、図示しないモ−タ−に連結したスピンド
ル２２により、所定の回転数で回転させられる。複合デ
ィスク１０上の磁気ヘッド２４には所定の接触荷重が印
加されており、複合ディスク１０の回転方向に摩擦力が
作用する。摩擦力の大きさは、ア−ム２８の水平方向の
変位量に比例しており、ロ−ドセル２７によって検出さ
れる。摩擦力の時間変化は、ロ−ドセル２７の出力端に
接続された図示しない記録計に、記録される。

【００２２】次に、磁性層５を形成するのに使用した磁
性塗料について説明する。磁性塗料は、アクリル酸エス
テル系のトリメチルプロパントリアクリレ−ト（ＴＭＰ
ＴＡ：日本化薬（株）製）と、磁性粉としてγ−Ｆｅ₂
Ｏ₃であるＣＭＸ−４７３（商品名、戸田工業（株）
製）と、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコ−ル
ジアクリレ−トモノマ−（日本化薬（株）製）とをｗｔ
％で１：１：２に配合したものに、光硬化剤として、ダ
ロキュア−４２６５（商品名、メルクジャパン（株）
製）を５ｗｔ％添加したものを、ボ−ルミルにて充分混
合し、磁性粉を分散させて、調製した。

【００２３】次に、磁性層５及び磁性層保護層６の表面
研磨に用いたテ−プ研磨について説明する。まず、テ−
プ研磨装置を説明する。図２は、複合ディスク用テ−プ
研磨装置の概略構成を示す斜視図である。テ−プ研磨装
置３０は、概略、テ−プ送り部及びディスク装着部から
構成される。ディスク装着部（図示しない）は、複合デ
ィスク１０（正確には、光ディスク１５上に磁性層５の
形成されたもの、又はさらに磁性層保護層６の形成され
たものを指すが、簡単のため、複合ディスクと言う）を
所定の位置にクランプして、回転中心軸３８（複合ディ
スク１０の回転中心軸と一致している）の回りに回転で
きるようになっている。

【００２４】テ−プ送り部の側板（図示しない）には、
供給ロ−ル３２ａ、巻取ロ−ル３２ｂ、ロ−ラ３３、ガ
イドロ−ラ３６ａ、３６ｂ、キャプスタンロ−ラ３４、
テンションロ−ラ３５がそれぞれ所定位置に回転自在に
取り付けられている。テ−プ送り部は、上下移動可能で
あり、且つロ−ラ３３がその回転軸３９方向に複合ディ
スク１０の所定の面上を走査できるように、回転中心軸
３８の垂直方向（すなわち、複合ディスク１０の半径方
向）にも移動可能となっている。ロ−ラ３３の円筒表面
は複合ディスク１０の上面と平行になっている。

【００２５】研磨テ−プ３１（以下、簡単のため、テ−
プとも言う）の一端は、供給ロ−ル３２ａに巻回されて
おり、他端は巻取ロ−ル３２ｂに巻回されており、その
間、テ−プ３１を所定の送り速度で送るためのキャプス
タンロ−ラ３４、テ−プ３１の走行によるズレを防止す
るためのガイドロ−ラ３６ａ、テ−プ３１を所定の圧力
で複合ディスク１０の面上に圧接するためロ−ラ３３、
テ−プ３１の走行によるズレを防止するためのガイドロ
−ラ３６ｂ、テ−プ巻取りの張力を与えるテンションロ
−ラ３５のそれぞれ所定の位置を通過している。図２中
で、複合ディスク１０上の矢印は、複合ディスク１０の
回転される方向を、テ−プ３１に沿った矢印は、テ−プ
３１の走行方向を、ロ−ラ３３上の矢印は、テ−プ送り
部の移動方向（ロ−ラ３３は連動して移動する）をそれ
ぞれ示す。

【００２６】テ−プ３１は、一般に市販されている研磨
テ−プで、研磨剤はＷＡ＃２０００であるものを使用し
た。

【００２７】次に、テ−プ研磨処理工程を説明する。ま
ず、テ−プ研磨装置３０に、紫外線硬化した磁性塗料膜
の形成された複合ディスク１０をセットし、テ−プ３１
を、アルミナ粒子の接着している面が磁性塗料膜の表面
に接するように、連続的に図中矢印したテ−プ送り方向
に一定の送り速度で送りながら、ロ−ラ３３によって、
まず、複合ディスク１０の最外周側の表面に押し当てら
れ、次に、ロ−ラ３３を複合ディスク１０の半径方向に
一定速度で走査する。ロ−ラ３３とともにテ−プ３１が
複合ディスク１０の最内周側に達すると、今度は逆に最
外周側へ走査する。再び最外周側に達して走査の１サイ
クルとする。また、磁性層保護層の形成された複合ディ
スクにおいて、磁性層保護層のテ−プ研磨も同様の工程
で行われる。

【００２８】テ−プ研磨処理条件は、次の通りであっ
た。複合ディスク１０の回転数は１００ｒｐｍである。
ロ−ラ３３は、材質をゴム（ステンレス材でも良い）と
する所定の円筒状とし、ロ−ラ３３には２０ｐｓｉの圧
力を印加し、テ−プ３１を複合ディスク１０に押し付け
た。テ−プ送り速度は、１０ｃｍ／ｍｉｎとした。光デ
ィスク１２ａの半径方向の、ロ−ラ２３の走査速度は、
１５ｃｍ／ｍｉｎであり、走査サイクルは、磁性層の研
磨のときは１０回とし、磁性層保護層の研磨のときは３
回とした。

【００２９】次に、磁性層保護層６を構成する紫外線硬
化樹脂のガラス転移点温度Ｔｇの測定法を説明する。紫
外線硬化樹脂を、幅４ｍｍ、長さ３０ｍｍ、厚さ５０〜
１００μｍの短冊状に紫外線硬化させて、サンプルとし
た。このサンプルを、熱応力歪測定装置（型式：ＴＭＡ
／ＳＳ１０、セイコ−電子（株）製）にセットし、サン
プル周囲の温度を室温（２５℃）から２５０℃まで、１
０℃／ｍｉｎの昇温速度で上昇させる。この間、サンプ
ルに１５±５ｇの引張り応力を印加し、応力と歪の関係
よりヤング率を算出し、図４に示すようなヤング率の温
度依存性を求めた。そして、ヤング率の温度変化曲線の
変曲点より、ガラス転移点温度Ｔｇを求めた。図４は、
一般的な樹脂におけるヤング率と温度の関係を示すグラ
フ図である。図４において、ｎはヤング率の温度変化曲
線であり、ｌ及びｍはヤング率の温度変化曲線の変曲点
近傍に引かれた接線を、Ｐは外挿して得られた変曲点
（ｌとｍの交点である）をそれぞれ示す。変曲点Ｐを示
す温度が、ガラス転移点温度Ｔｇを示す。

【００３０】＜実施例２＞磁性層５上に、４官能アクリ
レ−トモノマ−であるＵＡ１０１Ｈ（商品名、日本化薬
（株）製）に、ダロキュア１１７３を７ｗｔ％混合して
得た紫外線硬化樹脂を、スピンコ−ト法によって塗布し
た後、紫外線によって硬化して、厚さ２μｍの磁性層用
保護層６を形成した以外は、実施例１と同様にして実施
例２の複合ディスクを得た。磁性層保護層６形成後の中
心線表面粗さＲａは、１９ｎｍであった。また、磁性層
保護層６を構成する紫外線硬化樹脂のガラス転移点温度
Ｔｇは、２００℃を越えていた。

【００３１】この複合ディスク１０を、実施例１と同様
にして、複合ディスク用摺動試験器に装着し、磁気ヘッ
ドによる摺動試験を行った。摺動初期の摩擦係数は０．
２０であり、摺動６０分後の摩擦係数は０．２１であっ
た。摺動６０分後の磁気ヘッドの走行状態は、安定走行
であった。

【００３２】＜実施例３＞磁性層５上に、３官能アクリ
レ−トモノマ−であるＴＭＰＴＡに、ダロキュア１１７
３を７ｗｔ％混合して得た紫外線硬化樹脂を、スピンコ
−ト法によって塗布した後、紫外線によって硬化して、
厚さ２μｍの磁性層用保護層６を形成した以外は、実施
例１と同様にして実施例３の複合ディスク１０を得た。
磁性層保護層６形成後の中心線表面粗さＲａは、１０ｎ
ｍであった。また、磁性層保護層６を構成する紫外線硬
化樹脂のガラス転移点温度Ｔｇは、２５０℃を越えてい
た。

【００３３】この複合ディスク１０を、実施例１と同様
にして、複合ディスク用摺動試験器２０に装着し、磁気
ヘッドによる摺動試験を行った。摺動初期の摩擦係数は
０．１３であり、摺動６０分後の摩擦係数は０．１６で
あった。摺動６０分後の磁気ヘッドの走行状態は、安定
走行であった。

【００３４】＜比較例１＞実施例１において使用したと
同様の光ディスク１５上に、実施例１と同様の磁性層５
を形成し、この磁性層５上に、２官能アクリレ−トモノ
マ−であるＨＸ６２０（商品名、日本化薬（株）製）
に、ダロキュア１１７３を７ｗｔ％混合して得た紫外線
硬化樹脂を、スピンコ−ト法によって塗布した後、紫外
線によって硬化して、厚さ２μｍの磁性層用保護層６を
形成し、この磁性層保護層６の表面を、所定量研磨テ−
プを用いて研磨したところ、磁性層保護層６が研磨中に
融解し、研磨テ−プに移着してしまい、複合ディスク１
０を得ることができなかった。従って、磁性層保護層６
形成後の中心線表面粗さＲａを測定する事が出来なかっ
た。磁性層保護層６を構成する紫外線硬化樹脂のガラス
転移点温度Ｔｇは、２５℃未満と評価された。

【００３５】＜比較例２＞実施例１において使用したと
同様の光ディスク１５上に、実施例１と同様の磁性層５
を形成し、この磁性層５上に、２官能アクリレ−トモノ
マ−であるＲ５５１（商品名、日本化薬（株）製）に、
ダロキュア１１７３を７ｗｔ％混合して得た紫外線硬化
樹脂を、スピンコ−ト法によって塗布した後、紫外線に
よって硬化して、厚さ２μｍの磁性層用保護層６を形成
し、この磁性層保護層６の表面を、所定量研磨テ−プを
用いて研磨したところ、磁性層保護層６が研磨中に一部
融解し、研磨テ−プに移着してしまい、複合ディスク１
０を得ることができなかった。従って、磁性層保護層６
形成後の中心線表面粗さＲａを測定する事が出来なかっ
た。磁性層保護層６を構成する紫外線硬化樹脂のガラス
転移点温度Ｔｇは、５０℃であった。

【００３６】＜比較例３＞磁性層５上に、単官能アクリ
レ−トモノマ−であるＲ１２８（商品名、日本化薬
（株）製）と３官能アクリレ−トモノマ−であるＴＭＰ
ＴＡとの重量比（ｗｔ％）で１：１の混合物に、ダロキ
ュア１１７３を７ｗｔ％混合して得た紫外線硬化樹脂
を、スピンコ−ト法によって塗布した後、紫外線によっ
て硬化して、厚さ２μｍの磁性層用保護層６を形成した
以外は、実施例１と同様にして比較例３の複合ディスク
１０を得た。磁性層保護層６形成後の中心線表面粗さＲ
ａは、７３ｎｍであった。また、磁性層保護層６を構成
する紫外線硬化樹脂のガラス転移点温度Ｔｇは、１００
℃であった。

【００３７】この複合ディスク１０を、実施例１と同様
にして、複合ディスク用摺動試験器２０に装着し、磁気
ヘッドによる摺動試験を行った。摺動初期の摩擦係数は
０．６０であり、摺動１０分後の摩擦係数は２．６７で
あった。摺動１０分後においては、磁気ヘッドはヘッド
クラッシュを起こしていた。

【００３８】以上、実施例１〜３及び比較例１〜３につ
いて、摺動試験の結果を、以下の表１にまとめてある。

【００３９】

【表１】

【００４０】なお、表１において、Ｔｇは各試料におけ
る磁性層保護層を構成する紫外線硬化樹脂のガラス転移
点温度を、Ｒａはテ−プ研磨後の磁性層保護層表面の中
心線粗さをそれぞれ示している。なお、上述のように、
比較例１及び２においては、テ−プ研磨中に磁性層保護
層が融解し、研磨テープに移着したため、表面粗さ及び
摩擦係数の測定は実施不能であったので、空欄となって
いる。

【００４１】各実施例及び各比較例の結果は、磁性層保
護層を構成する紫外線硬化樹脂の機械的又は熱的性質
と、磁気ヘッド／磁性層保護層間の摺動耐久性とに顕著
な関連があることを表していることがわかる。ここで
は、紫外線硬化樹脂の機械的又は熱的性質を表すものと
して、ガラス転移点温度Ｔｇに注目した。Ｔｇが１００
℃以下の紫外線硬化樹脂は、テ−プ研磨時に印加される
圧力、このとき発生する熱等に耐性がなく、表面加工が
不可能である。従って、低加工熱となるテ−プ研磨条件
を選択することによって、たとえ所望の表面形状が得ら
れたとしても、磁気ヘッドの接触走行時に発生する摺動
熱に対しては、保護層としての効果がないと推察でき
る。これは、比較例３にみられるように、初期の表面形
状が摺動により保持できないばかりか、融解した磁性層
保護層により、磁気ヘッド／媒体（磁性層保護層及び潤
滑層）間に、凝着が生ずることから明らかである。

【００４２】一方、Ｔｇが１５０℃以上であれば、研磨
加工による表面形状のコントロールが可能となり、摩擦
係数値は、初期はもちろん、摺動後も許容範囲にある。
好ましくは、Ｔｇが２００℃以上であれば、摩擦係数値
は非常に低く、６０分摺動後も０．２１以下であり、良
好な磁気ヘッドの接触走行が可能となることがわかる。

【００４３】なお、以上説明した実施例において、３種
の紫外線硬化性材料を示したが、Ｔｇが確保できるなら
ば、どのような材料の組み合わせでもかまわない。Ｔｇ
を上昇させるためには、多官能アクリレートモノマー、
剛直な分子、低分子モノマーの導入、硬化剤濃度を上げ
るなどの方法がある。さらに、ここでは磁性層保護層自
体に潤滑性能を付与していないため、潤滑層が必要とな
るが、磁性層保護層自体に潤滑性能をもたせることも可
能である事は言うまでもない。

【００４４】

【発明の効果】以上説明したように本発明の複合ディス
クによれば、円板状の透明基板上に、光情報の記録され
るべき光記録層と、光記録層用保護層と、所定形状の磁
性層と、磁性層用保護層と、潤滑層とが順次積層されて
いる複合ディスクにおいて、前記磁性層用保護層を、ガ
ラス転移点温度が１５０℃以上の値を有する紫外線硬化
性樹脂で形成したことにより、所定の接触荷重の印加さ
れた磁気ヘッドによって、接触走行しても、安定した走
行特性を有する磁性層用保護層を形成出来て、それによ
り、信頼性の高い磁気ヘッド走行特性を有する複合ディ
スクを提供することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】一般的な複合ディスクの構成を示す部分断面図
である。

【図２】複合ディスク用のテ−プ研磨装置の概略構成を
示す斜視図である。

【図３】複合ディスク用摺動試験器の概略構成を示す正
面図である。

【図４】一般的な樹脂におけるヤング率と温度の関係を
示すグラフ図である。

【符号の説明】

１基板２信号ピット３光記録層４光記録層保護層５磁性層６磁性層保護層７潤滑層１０複合ディスク１５光ディスク

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】円板状の透明基板上に、光情報の記録され
るべき光記録層と、光記録層用保護層と、所定形状の磁
性層と、磁性層用保護層と、潤滑層とが順次積層されて
いる複合ディスクにおいて、前記磁性層用保護層を、ガラス転移点温度が１５０℃以
上の値を有する紫外線硬化樹脂で形成したことを特徴と
する複合ディスク。