JPH07214427A - 放電処理方法 - Google Patents
放電処理方法Info
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- JPH07214427A JPH07214427A JP779494A JP779494A JPH07214427A JP H07214427 A JPH07214427 A JP H07214427A JP 779494 A JP779494 A JP 779494A JP 779494 A JP779494 A JP 779494A JP H07214427 A JPH07214427 A JP H07214427A
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Landscapes
- ing And Chemical Polishing (AREA)
- Manufacturing Of Printed Circuit Boards (AREA)
- Electrical Discharge Machining, Electrochemical Machining, And Combined Machining (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 放電処理を行う際に発生する被加工材の稜線
部からの放電を抑制する方法を適用する。 【構成】 板状物に放電処理する方法において、該被加
工材の側面部及び被加工表面からなる稜線部近傍を絶縁
材料で覆う。
部からの放電を抑制する方法を適用する。 【構成】 板状物に放電処理する方法において、該被加
工材の側面部及び被加工表面からなる稜線部近傍を絶縁
材料で覆う。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、放電処理を行う際に発
生する被加工材の稜線部からの放電を抑制する方法に関
する。
生する被加工材の稜線部からの放電を抑制する方法に関
する。
【0002】
【従来の技術】従来、電子機器の基板材料である両面銅
貼りのガラス繊維入りエポキシ樹脂基板の穴明け加工
は、0.3mm以上の穴を加工することが多く、発生す
る切粉は超音波洗浄などの方法で除去することが普通で
あった。しかし、最近では配線も微細パターン化して、
高密度、多層化となってきており、スルーホール径も
0.25mmから0.1mm程度と細径の穴径となり、
ドリル刃の摩耗、折損などの問題もあって、切粉詰まり
や内壁荒れ、バリ発生が多く、超音波洗浄方法では切粉
排除、内壁荒れやバリ除去は不可能になってきている。
貼りのガラス繊維入りエポキシ樹脂基板の穴明け加工
は、0.3mm以上の穴を加工することが多く、発生す
る切粉は超音波洗浄などの方法で除去することが普通で
あった。しかし、最近では配線も微細パターン化して、
高密度、多層化となってきており、スルーホール径も
0.25mmから0.1mm程度と細径の穴径となり、
ドリル刃の摩耗、折損などの問題もあって、切粉詰まり
や内壁荒れ、バリ発生が多く、超音波洗浄方法では切粉
排除、内壁荒れやバリ除去は不可能になってきている。
【0003】そこで、本発明らは、小径穴内の切粉処
理、内壁面の平滑性、バリの除去などが短時間で確実に
できる方法及びそのための装置を提供せんとして、材料
の小径穴を介して対向させた電極間でプラズマ放電さ
せ、その際に発生する衝撃波、熱エネルギーにより上記
課題を解決し得ることを知見し、既に特許出願している
(特願平5−135643号、特願平5−186364
号など)。
理、内壁面の平滑性、バリの除去などが短時間で確実に
できる方法及びそのための装置を提供せんとして、材料
の小径穴を介して対向させた電極間でプラズマ放電さ
せ、その際に発生する衝撃波、熱エネルギーにより上記
課題を解決し得ることを知見し、既に特許出願している
(特願平5−135643号、特願平5−186364
号など)。
【0004】一方、近年、プリント回路は高多層化、フ
ァインライン化の傾向を強めますます高密度化してい
る。これに伴い基板上の銅箔のエッチングも高い精度が
要求されている。エッチング法としては化学薬剤を使用
する方法や真空下のプラズマ雰囲気を利用する方法が行
われている。
ァインライン化の傾向を強めますます高密度化してい
る。これに伴い基板上の銅箔のエッチングも高い精度が
要求されている。エッチング法としては化学薬剤を使用
する方法や真空下のプラズマ雰囲気を利用する方法が行
われている。
【0005】しかし、化学薬剤によるエッチングでは、
エッチング溶液による浸透、膨潤により想定どおりの精
密さでエッチングができず、絶縁不良を生ずるという問
題がある。また、プラズマエッチングは、精密加工は可
能だが、処理速度が遅く、効率が悪いという問題の他に
切粉を除去しにくという問題もある。
エッチング溶液による浸透、膨潤により想定どおりの精
密さでエッチングができず、絶縁不良を生ずるという問
題がある。また、プラズマエッチングは、精密加工は可
能だが、処理速度が遅く、効率が悪いという問題の他に
切粉を除去しにくという問題もある。
【0006】本発明らは、こうした実情の下に高度に精
密でかつ処理速度も格段に迅速で、しかも切粉の除去も
容易なエッチング方法及びそのための装置を提供するに
はコロナ放電をエッチングに利用することが有効である
との知見を得て、既に特許出願している(特願平5−2
07728号、特願平5−228748号など)。
密でかつ処理速度も格段に迅速で、しかも切粉の除去も
容易なエッチング方法及びそのための装置を提供するに
はコロナ放電をエッチングに利用することが有効である
との知見を得て、既に特許出願している(特願平5−2
07728号、特願平5−228748号など)。
【0007】このように放電処理によって被加工材を、
エッチングやコーテイング処理する際には、例えばプラ
ズマ放電加工では気圧の制御を誤ると基板の小径穴以外
にも放電が生じ、目的とする穴のプラズマ放電処理効率
が悪くなるばかりでなく、プラズマ放電処理が不必要な
個所まで処理したり、不安定な放電となったり、基板が
部分的に焼け焦げるなどの問題があり、又コロナ放電加
工では大気圧付近で行われる点で気圧の制御は比較的容
易である反面、印加電圧が高く、微小間隔を介して配設
された陽電極と陰電極間とからなるコロナ放電発生用電
極対からはずれて放電するなどの問題があった。
エッチングやコーテイング処理する際には、例えばプラ
ズマ放電加工では気圧の制御を誤ると基板の小径穴以外
にも放電が生じ、目的とする穴のプラズマ放電処理効率
が悪くなるばかりでなく、プラズマ放電処理が不必要な
個所まで処理したり、不安定な放電となったり、基板が
部分的に焼け焦げるなどの問題があり、又コロナ放電加
工では大気圧付近で行われる点で気圧の制御は比較的容
易である反面、印加電圧が高く、微小間隔を介して配設
された陽電極と陰電極間とからなるコロナ放電発生用電
極対からはずれて放電するなどの問題があった。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、放電処理を
行う際に被加工材との不要な放電を抑制することを目的
とする。
行う際に被加工材との不要な放電を抑制することを目的
とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、鋭意検討
した結果、不必要な放電は被加工材の側端部の角ばった
部分、即ち稜線部近傍で発生することに着目し、該部分
を絶縁物で覆うことが放電防止に有効であるとの知見を
得て、本発明に至った。
した結果、不必要な放電は被加工材の側端部の角ばった
部分、即ち稜線部近傍で発生することに着目し、該部分
を絶縁物で覆うことが放電防止に有効であるとの知見を
得て、本発明に至った。
【0010】即ち、本発明は、板状物又は板状物を積層
した被加工材に放電処理する方法において、該被加工材
の側面部及び被加工表面からなる稜線部近傍を絶縁材料
で覆うことを特徴とするものである。
した被加工材に放電処理する方法において、該被加工材
の側面部及び被加工表面からなる稜線部近傍を絶縁材料
で覆うことを特徴とするものである。
【0011】本発明において被加工材となる板状物又は
板状物を積層したものとして、各種基板材料が適用され
るが、例えば図7で示されるようなプリント基板が代表
的なものである。図7において、被加工材1であるプリ
ント基板の周辺には側面部及び被加工表面からなる稜線
部7が存在する。又、プリント基板には表面導体部と内
層導体部又は内層導体部間を導通させるための小孔であ
るスルホール8が多数設けられている。
板状物を積層したものとして、各種基板材料が適用され
るが、例えば図7で示されるようなプリント基板が代表
的なものである。図7において、被加工材1であるプリ
ント基板の周辺には側面部及び被加工表面からなる稜線
部7が存在する。又、プリント基板には表面導体部と内
層導体部又は内層導体部間を導通させるための小孔であ
るスルホール8が多数設けられている。
【0012】プリント基板としては、銅ばりガラス繊維
入り樹脂基板、フッ素樹脂系基板、各種セラミック基
板、及びこれらの積層物が例示される。これらは一枚毎
に単独で本発明の処理を受けてもよいし、何枚か、例え
ば2〜15枚を積み重ね、その稜線部を絶縁材料で覆っ
て本発明の処理を受けてもよい。
入り樹脂基板、フッ素樹脂系基板、各種セラミック基
板、及びこれらの積層物が例示される。これらは一枚毎
に単独で本発明の処理を受けてもよいし、何枚か、例え
ば2〜15枚を積み重ね、その稜線部を絶縁材料で覆っ
て本発明の処理を受けてもよい。
【0013】本発明の放電処理の代表例は、プラズマ放
電処理、アーク放電処理、火花放電処理とコロナ放電処
理である。プラズマ放電処理については特願平5−13
5643号及び5−186364号などに記載されたも
のが本発明に適用される。これらの発明の要旨は、被加
工材料の搬送装置、該材料の小径穴をプラズマ放電加工
するための前記搬送装置をはさんで両側に配置された電
極、及び該電極間の放電点を移動させて実質的に被加工
材料の小径穴の全域にて放電させるための放電点制御手
段を備えてなることを特徴とする被加工材料の小径穴加
工装置であり、又、被加工材料の両側に回転電極を配置
し、この電極に電圧を印加し気圧10ないし2×103
Torr下でプラズマ放電処理して、被加工材料の小径
穴を加工することを特徴とする材料の小径穴加工方法及
び装置である。
電処理、アーク放電処理、火花放電処理とコロナ放電処
理である。プラズマ放電処理については特願平5−13
5643号及び5−186364号などに記載されたも
のが本発明に適用される。これらの発明の要旨は、被加
工材料の搬送装置、該材料の小径穴をプラズマ放電加工
するための前記搬送装置をはさんで両側に配置された電
極、及び該電極間の放電点を移動させて実質的に被加工
材料の小径穴の全域にて放電させるための放電点制御手
段を備えてなることを特徴とする被加工材料の小径穴加
工装置であり、又、被加工材料の両側に回転電極を配置
し、この電極に電圧を印加し気圧10ないし2×103
Torr下でプラズマ放電処理して、被加工材料の小径
穴を加工することを特徴とする材料の小径穴加工方法及
び装置である。
【0014】これらの発明を本発明に適用する際の処理
雰囲気は、空気、例えばAr,He,Neなどの非酸化
ガス、例えばCH4、CCl4、C2H2などの反応性ガ
ス、例えばNaOH水蒸気などの蒸気の中から適宜選択
される。又、使用する電極には、導電性金属、カーボ
ン、あるいは導電性有機物など従来公知の材質が使用で
き、電極の先端部を白金やサーメット、タングステンカ
ーバイド、チタンカーバイドなどの金属炭化物でコーテ
ィングしたものも好適に使用することができる。
雰囲気は、空気、例えばAr,He,Neなどの非酸化
ガス、例えばCH4、CCl4、C2H2などの反応性ガ
ス、例えばNaOH水蒸気などの蒸気の中から適宜選択
される。又、使用する電極には、導電性金属、カーボ
ン、あるいは導電性有機物など従来公知の材質が使用で
き、電極の先端部を白金やサーメット、タングステンカ
ーバイド、チタンカーバイドなどの金属炭化物でコーテ
ィングしたものも好適に使用することができる。
【0015】コロナ放電処理については、特願平5−2
07728号、5−228748号などに記載されたも
のが本発明に適用される。これらの発明の要旨は、被加
工材料上に微小間隔を介して陽電極と陰電極とからなる
電極対を配置し、この電極に電圧を印加し、気圧10〜
2×103Torr下でコロナ放電を発生させて被加工
材料をエッチングすることを特徴とするエッチング方法
及び装置であり、又、被加工材料上に微小間隔を介して
電極を配設し、また対極端子を被加工材料に配設し、こ
れらの間に電圧を印加し、気圧10〜2×103Tor
r下でコロナ放電を発生させて被加工材料をエッチング
することを特徴とするエッチング方法及び装置である。
07728号、5−228748号などに記載されたも
のが本発明に適用される。これらの発明の要旨は、被加
工材料上に微小間隔を介して陽電極と陰電極とからなる
電極対を配置し、この電極に電圧を印加し、気圧10〜
2×103Torr下でコロナ放電を発生させて被加工
材料をエッチングすることを特徴とするエッチング方法
及び装置であり、又、被加工材料上に微小間隔を介して
電極を配設し、また対極端子を被加工材料に配設し、こ
れらの間に電圧を印加し、気圧10〜2×103Tor
r下でコロナ放電を発生させて被加工材料をエッチング
することを特徴とするエッチング方法及び装置である。
【0016】これらの発明を本発明に適用する際の処理
雰囲気は前記のプラズマ放電処理の場合と同じである。
又、コロナ放電発生のための電極は特に限定されない
が、好ましくは1〜0.1mm径の電極材料から構成さ
れ、電極対は、1〜数μ径の陽電極と陰電極とから構成
され、その電極間の間隔は好ましくは1〜5×10
4μ、より好ましくは2〜5×102μである。また、被
加工材料である基板との間隔は好ましくは1〜1×10
3μ、より好ましくは2〜5×102μである。更に、エ
ッチング処理の際電極に添加する電圧は、電極間隔と基
板材質、雰囲気によって変わる。電極間隔は狭い時は電
圧は低く、広い時は電圧は高く、基板材質は誘電率の高
いエポキシ系は電圧は低く誘電率の低いフッ素樹脂系は
電圧は高く、雰囲気圧が低い時は電圧は低く、気圧が高
い時は電圧は高目がよく放電し易い。本発明には、プラ
ズマ放電処理やコロナ放電処理を連続して組み合わせる
ものや、それぞれを2回以上行う場合も含まれる。例え
ば特願平4−152035号に記載された発明の要旨
は、基板材料の両側に電極を配置して、プラズマ放電処
理によって細穴の表面処理を行い、次にECRプラズマ
コーティング処理をすることを特徴とする連続ドライプ
ロセスコーティング加工方法及び装置である。
雰囲気は前記のプラズマ放電処理の場合と同じである。
又、コロナ放電発生のための電極は特に限定されない
が、好ましくは1〜0.1mm径の電極材料から構成さ
れ、電極対は、1〜数μ径の陽電極と陰電極とから構成
され、その電極間の間隔は好ましくは1〜5×10
4μ、より好ましくは2〜5×102μである。また、被
加工材料である基板との間隔は好ましくは1〜1×10
3μ、より好ましくは2〜5×102μである。更に、エ
ッチング処理の際電極に添加する電圧は、電極間隔と基
板材質、雰囲気によって変わる。電極間隔は狭い時は電
圧は低く、広い時は電圧は高く、基板材質は誘電率の高
いエポキシ系は電圧は低く誘電率の低いフッ素樹脂系は
電圧は高く、雰囲気圧が低い時は電圧は低く、気圧が高
い時は電圧は高目がよく放電し易い。本発明には、プラ
ズマ放電処理やコロナ放電処理を連続して組み合わせる
ものや、それぞれを2回以上行う場合も含まれる。例え
ば特願平4−152035号に記載された発明の要旨
は、基板材料の両側に電極を配置して、プラズマ放電処
理によって細穴の表面処理を行い、次にECRプラズマ
コーティング処理をすることを特徴とする連続ドライプ
ロセスコーティング加工方法及び装置である。
【0017】上記の例示に限られず、本発明の処理方法
は、プラズマ放電やコロナ放電処理などによる各種放電
処理、例えば、エッチング、コーティング、導電膜、絶
縁膜、半導体膜などの薄膜形成、表面の粗面化処理、プ
ラズマ重合などに広く適用される。
は、プラズマ放電やコロナ放電処理などによる各種放電
処理、例えば、エッチング、コーティング、導電膜、絶
縁膜、半導体膜などの薄膜形成、表面の粗面化処理、プ
ラズマ重合などに広く適用される。
【0018】本発明に用いられる絶縁材料は、板状物又
はその積層物の稜線部に被覆するものであれば特に限定
されない。例えば絶縁性塗料、絶縁性テープ、被加工材
の稜線にはめ込めるように予め成形されたプラスチック
製枠材などが挙げられる。これらは本発明のために特に
用意されたものに限られず市販のもので充分効果を有す
る。又、ポリ塩化ビニルのような熱収縮性材料でできた
シートを被加工物の側面に巻き、加熱雰囲気下が収縮さ
せて本発明の絶縁物とすることもできる。
はその積層物の稜線部に被覆するものであれば特に限定
されない。例えば絶縁性塗料、絶縁性テープ、被加工材
の稜線にはめ込めるように予め成形されたプラスチック
製枠材などが挙げられる。これらは本発明のために特に
用意されたものに限られず市販のもので充分効果を有す
る。又、ポリ塩化ビニルのような熱収縮性材料でできた
シートを被加工物の側面に巻き、加熱雰囲気下が収縮さ
せて本発明の絶縁物とすることもできる。
【0019】絶縁性塗料としては、一般の油ペイント、
ビニル樹脂塗料、油エナメル、アクリル樹脂塗料、フェ
ノール樹脂塗料、不飽和ポリエステル樹脂塗料、エポキ
シ樹脂塗料、アミノアルキッド樹脂塗料、ポリウレタン
樹脂塗料、ユリヤ樹脂塗料、各種エマルジョン塗料、水
溶性樹脂塗料などを用いることができる。
ビニル樹脂塗料、油エナメル、アクリル樹脂塗料、フェ
ノール樹脂塗料、不飽和ポリエステル樹脂塗料、エポキ
シ樹脂塗料、アミノアルキッド樹脂塗料、ポリウレタン
樹脂塗料、ユリヤ樹脂塗料、各種エマルジョン塗料、水
溶性樹脂塗料などを用いることができる。
【0020】絶縁性テープとしては、テープ自体に接着
性を有する軟質ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、エチ
レン−酢ビ共重合体、天然及び合成ゴムなどからなるテ
ープを用いることができる。又、基材に粘着層を設けた
粘着テープを用いることができる。粘着テープの基材と
しては紙、布、プラスチックなどの絶縁物が用いられ、
粘着層としては、天然ゴム、SBR、IR、ポリイソブ
チレン、ブチルゴム、EPR、EPDM、シリコーンゴ
ムなどのエラストマーや、ポリビニルエチルエーテル、
ポリビニルメチルエーテル、アクリルポリマーなどの樹
脂系ポリマー、ロジン系樹脂、テルペン系樹脂、石油樹
脂などが挙げられるが、これらに限定されるものではな
い。
性を有する軟質ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、エチ
レン−酢ビ共重合体、天然及び合成ゴムなどからなるテ
ープを用いることができる。又、基材に粘着層を設けた
粘着テープを用いることができる。粘着テープの基材と
しては紙、布、プラスチックなどの絶縁物が用いられ、
粘着層としては、天然ゴム、SBR、IR、ポリイソブ
チレン、ブチルゴム、EPR、EPDM、シリコーンゴ
ムなどのエラストマーや、ポリビニルエチルエーテル、
ポリビニルメチルエーテル、アクリルポリマーなどの樹
脂系ポリマー、ロジン系樹脂、テルペン系樹脂、石油樹
脂などが挙げられるが、これらに限定されるものではな
い。
【0021】以下、図面により本発明を説明する。
【0022】図1は本発明の被加工材を示す一実施例の
断面図である。板状物1の側面部及び表面と裏面の側面
部近傍にわたって、絶縁性塗料2が塗布された状態を示
している。同様に、図2は他の実施例の断面図であっ
て、板状物1の側面部及び表面と裏面の側面部近傍にわ
たって、絶縁性の粘着テープ3が粘着してある。
断面図である。板状物1の側面部及び表面と裏面の側面
部近傍にわたって、絶縁性塗料2が塗布された状態を示
している。同様に、図2は他の実施例の断面図であっ
て、板状物1の側面部及び表面と裏面の側面部近傍にわ
たって、絶縁性の粘着テープ3が粘着してある。
【0023】図3は、本発明を板状物の積層物に適用し
た実施例の斜視図であり、一度に多数の板状物を処理で
きるので効率的である。プリント基板4を積層した状態
でこれらの側面部及び表面と裏面の側面部近傍にわたっ
て、絶縁性塗料が塗布してある。
た実施例の斜視図であり、一度に多数の板状物を処理で
きるので効率的である。プリント基板4を積層した状態
でこれらの側面部及び表面と裏面の側面部近傍にわたっ
て、絶縁性塗料が塗布してある。
【0024】図4及び図5は、板状物1の稜線部に絶縁
性塗料2及び絶縁性の粘着テープ3が貼着してある。
性塗料2及び絶縁性の粘着テープ3が貼着してある。
【0025】図6は板状物1の側面部にプラスチック製
の枠材6がはめられている。
の枠材6がはめられている。
【0026】
【実施例】以下、本発明の実施例を説明する。
【0027】実施例1 厚さ1.6mm、縦33cm、横40cmの銅貼りガラ
ス繊維入り樹脂基板に、各一枚毎に直径0.2mmの穴
をそれぞれNCボール盤で全面に5mm間隔で穴明け加
工した。穴数は4500穴となったが、ステップ加工
中、40穴位から、切粉詰まりが著しくなり、穴内壁荒
れ、バリ発生も多くなった。この基板の側面部を図1の
ように絶縁性塗料によって覆った。
ス繊維入り樹脂基板に、各一枚毎に直径0.2mmの穴
をそれぞれNCボール盤で全面に5mm間隔で穴明け加
工した。穴数は4500穴となったが、ステップ加工
中、40穴位から、切粉詰まりが著しくなり、穴内壁荒
れ、バリ発生も多くなった。この基板の側面部を図1の
ように絶縁性塗料によって覆った。
【0028】かかる基板をローラーコンベアにのせ、毎
秒2cm/secの移動速度で搬送した。回転電極を用
い、放電処理条件は雰囲気は空気中、760Torr、
2極間間隔は8mmとして、τonを10ms、ピーク電
圧は12000Vにて、プラズマ放電処理を行った、そ
の結果、穴内部の切粉は殆どなく、穴内壁面もプラズマ
放電により突出したガラス繊維などや樹脂のめくれ、突
出しなどは溶融酸化などで滑らかとなり、バリも殆どな
い状態となった。そして、プラズマ放電中基板の稜線部
からの放電は全くなかった。
秒2cm/secの移動速度で搬送した。回転電極を用
い、放電処理条件は雰囲気は空気中、760Torr、
2極間間隔は8mmとして、τonを10ms、ピーク電
圧は12000Vにて、プラズマ放電処理を行った、そ
の結果、穴内部の切粉は殆どなく、穴内壁面もプラズマ
放電により突出したガラス繊維などや樹脂のめくれ、突
出しなどは溶融酸化などで滑らかとなり、バリも殆どな
い状態となった。そして、プラズマ放電中基板の稜線部
からの放電は全くなかった。
【0029】実施例2 銅貼フッ素樹脂基板面にレジスト膜を用いて銅箔の回路
パターンを形成し、パターン上にて適宜数の貫通孔を穿
孔し、その孔に樹脂を封入した。この基板の側面の稜線
部に図5のように市販の絶縁テープを貼着した。樹脂が
封入された円形状部分の直径は、0.1mmφであっ
た。その円形状部分の中央に10μφのステンレス電極
を立てて、この電極と銅箔上の対極間に電圧を印加す
る。電極と基板間の間隔は4〜5μとした。雰囲気は雰
囲気中、760Torrとし、パルス幅は10ms、ピ
ーク電圧は2500Vとした。
パターンを形成し、パターン上にて適宜数の貫通孔を穿
孔し、その孔に樹脂を封入した。この基板の側面の稜線
部に図5のように市販の絶縁テープを貼着した。樹脂が
封入された円形状部分の直径は、0.1mmφであっ
た。その円形状部分の中央に10μφのステンレス電極
を立てて、この電極と銅箔上の対極間に電圧を印加す
る。電極と基板間の間隔は4〜5μとした。雰囲気は雰
囲気中、760Torrとし、パルス幅は10ms、ピ
ーク電圧は2500Vとした。
【0030】その結果、電極を中心にコロナ放電は発生
し、封入樹脂がエッチングされて露出された穴側面のフ
ッ素樹脂がコロナ放電により活性化され、またエッチン
グの進行によって微細粗面化された。コロナ放電中に基
板の稜線部からの放電は発生しなかった。
し、封入樹脂がエッチングされて露出された穴側面のフ
ッ素樹脂がコロナ放電により活性化され、またエッチン
グの進行によって微細粗面化された。コロナ放電中に基
板の稜線部からの放電は発生しなかった。
【0031】実施例3 コロナ放電処理装置内載置装置上に側面部と表面の側面
部近傍にわたって図6のようなポリエチレン製の枠材を
はめた1mm厚みの4層銅箔回路エポキシ樹脂基板を設
置した。電極は100μmφのタングステン線で、先端
は約5μmφとした。その電極間の間隔は10μmとし
た。このようなコロナ放電電極は数値制御により基板表
面上を4μm以下の間隔で移動できるようにした。
部近傍にわたって図6のようなポリエチレン製の枠材を
はめた1mm厚みの4層銅箔回路エポキシ樹脂基板を設
置した。電極は100μmφのタングステン線で、先端
は約5μmφとした。その電極間の間隔は10μmとし
た。このようなコロナ放電電極は数値制御により基板表
面上を4μm以下の間隔で移動できるようにした。
【0032】エッチング面が銅箔の場合はエッチング処
理の際、電極に印加する電圧Vpは50V、パルス幅τ
on10msとした。雰囲気は空気中760Torr下
で、電極移動速度は5mm/secでエッチング処理を
行った。その結果、エッチング深さは2μmであり、基
板の稜線部からは放電しなかった。
理の際、電極に印加する電圧Vpは50V、パルス幅τ
on10msとした。雰囲気は空気中760Torr下
で、電極移動速度は5mm/secでエッチング処理を
行った。その結果、エッチング深さは2μmであり、基
板の稜線部からは放電しなかった。
【0033】
【発明の効果】以上のとおり、本発明においては、被加
工材の側面部及び被加工表面から成る稜線部近傍を絶縁
材料で覆うことにより、放電処理中に該稜線部からの有
害かつ不必要な放電を抑制することができ、放電処理を
効率的かつ正確に行うことができる。
工材の側面部及び被加工表面から成る稜線部近傍を絶縁
材料で覆うことにより、放電処理中に該稜線部からの有
害かつ不必要な放電を抑制することができ、放電処理を
効率的かつ正確に行うことができる。
【図1】基板に絶縁性塗料が塗布された本発明の実施例
の断面図、
の断面図、
【図2】基板に絶縁性テープが貼着された本発明の他の
実施例の断面図、
実施例の断面図、
【図3】プリント基板を積層して側面に絶縁性塗料が塗
布された実施例の断面図、
布された実施例の断面図、
【図4】基板の稜線部に絶縁性塗料が塗布された実施例
の断面図、
の断面図、
【図5】基板の稜線部に絶縁性テープが貼着された実施
例の断面図、
例の断面図、
【図6】基板の側面部を覆う枠材がかぶせられた実施例
の断面図、
の断面図、
【図7】プリント基板の斜視図。
1 基板 2 絶縁性塗料 3 絶縁性テープ 4 プリント基板 5 絶縁性塗料 6 プラスチック製枠材 7 稜線部 8 スルホール
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 大場 和夫 埼玉県東松山市松葉町4丁目2番3号 (72)発明者 嶋 好範 神奈川県川崎市麻生区王禅寺768番地15 (72)発明者 大場 章 埼玉県朝霞市宮戸3丁目12番89号
Claims (7)
- 【請求項1】 板状物又は板状物を積層した被加工材に
放電処理をする方法において、該被加工材の側面部及び
被加工表面から成る稜線部近傍を絶縁材料で覆うことを
特徴とする放電処理方法。 - 【請求項2】 被加工材がプリント回路基板である請求
項1記載の放電処理方法。 - 【請求項3】 放電処理がコロナ放電によるエッチング
である請求項1又は2記載の放電処理方法。 - 【請求項4】 放電処理がプラズマ放電処理である請求
項1又は2記載の放電処理方法。 - 【請求項5】 絶縁材料が絶縁性塗料である請求項1な
いし4記載の放電処理方法。 - 【請求項6】 絶縁材料が絶縁性樹脂テープに粘着層を
設けたビニルテープである請求項1ないし4記載の放電
処理方法。 - 【請求項7】 絶縁材料がプラスチック製枠材である請
求項1ないし4記載の放電処理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6007794A JP2572199B2 (ja) | 1994-01-27 | 1994-01-27 | 放電処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6007794A JP2572199B2 (ja) | 1994-01-27 | 1994-01-27 | 放電処理方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07214427A true JPH07214427A (ja) | 1995-08-15 |
| JP2572199B2 JP2572199B2 (ja) | 1997-01-16 |
Family
ID=11675563
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6007794A Expired - Lifetime JP2572199B2 (ja) | 1994-01-27 | 1994-01-27 | 放電処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2572199B2 (ja) |
Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61284319A (ja) * | 1985-06-10 | 1986-12-15 | Seibu Denki Kogyo Kk | 超硬合金の放電加工法 |
| JPS62150539A (ja) * | 1985-12-25 | 1987-07-04 | Toshiba Corp | 情報記憶媒体用の基盤及び基盤製造方法 |
| JPS62228327A (ja) * | 1986-03-27 | 1987-10-07 | Anritsu Corp | 電子回路の対向電極用金属片切断装置 |
| JPH033261A (ja) * | 1989-05-30 | 1991-01-09 | Fujitsu Ltd | 静電破壊防止用テープキャリア |
| JPH04129619A (ja) * | 1990-09-17 | 1992-04-30 | Amada Co Ltd | 放電加工によるバリ取り装置 |
| JPH04329223A (ja) * | 1991-04-30 | 1992-11-18 | Shin Etsu Chem Co Ltd | カバーレイフィルム |
-
1994
- 1994-01-27 JP JP6007794A patent/JP2572199B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61284319A (ja) * | 1985-06-10 | 1986-12-15 | Seibu Denki Kogyo Kk | 超硬合金の放電加工法 |
| JPS62150539A (ja) * | 1985-12-25 | 1987-07-04 | Toshiba Corp | 情報記憶媒体用の基盤及び基盤製造方法 |
| JPS62228327A (ja) * | 1986-03-27 | 1987-10-07 | Anritsu Corp | 電子回路の対向電極用金属片切断装置 |
| JPH033261A (ja) * | 1989-05-30 | 1991-01-09 | Fujitsu Ltd | 静電破壊防止用テープキャリア |
| JPH04129619A (ja) * | 1990-09-17 | 1992-04-30 | Amada Co Ltd | 放電加工によるバリ取り装置 |
| JPH04329223A (ja) * | 1991-04-30 | 1992-11-18 | Shin Etsu Chem Co Ltd | カバーレイフィルム |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2572199B2 (ja) | 1997-01-16 |
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