JPH07218942A - 高調波発生装置 - Google Patents

高調波発生装置

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JPH07218942A
JPH07218942A JP878094A JP878094A JPH07218942A JP H07218942 A JPH07218942 A JP H07218942A JP 878094 A JP878094 A JP 878094A JP 878094 A JP878094 A JP 878094A JP H07218942 A JPH07218942 A JP H07218942A
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JP
Japan
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resonator
curvature
harmonic
resonance
fundamental wave
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JP878094A
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English (en)
Inventor
Hiromasa Sato
弘昌 佐藤
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AGC Inc
Original Assignee
Asahi Glass Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【目的】共振用球面ミラーの曲率中心軸の加工ズレが高
調波への変換効率に影響を与えにくいようにする。 【構成】モノリシックリング型共振器104は共振器長
Lは6.5mm、曲率半径Rは二つの曲率中心105、
106に対して3.6mmで設計され、L/Rは1.8
である。曲率中心軸114が結晶a軸113に対してα
=0.15゜ ズレていても、加工ズレが全く無い場合の
80%以上の高調波出力が得られる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体レーザ等からの
基本波を非線形光学材料により高調波へ変換する高調波
発生装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】図3に、従来の高調波発生装置の一例と
して、モノリシックリング型共振器を用いた第2高調波
発生装置301を示す。この第2高調波発生装置は、半
導体レーザ(以下LDとする)302、コリメートレン
ズおよびモードマッチングレンズ等からなる結合光学系
303、KNbO3 等の非線形光学結晶からなるモノリ
シック共振器304により、その主要部が構成されてい
る。
【0003】具体的には、たとえばモノリシックリング
型共振器304は共振器長が6.5mm、曲率半径は二
つの曲率中心305、306に対してそれぞれ5.0m
m、共振器長と曲率半径の比率は1.3に設定されてい
る。LD302は例えば波長860nmの基本波307
を出射する。モノリシックリング型共振器の入射側端面
308および出射側端面309は球面状に研磨加工さ
れ、各々、基本波に対し一部透過の膜、基本波に対し高
反射で第2高調波に対し高透過の膜が蒸着され球面ミラ
ーを形成している。また端面310は平面ミラーとなっ
ている。
【0004】上記の構成において、LD302から出射
する波長860nmの基本波307は結合光学系303
により集光され、共振モードに整合され、モノリシック
リング型共振器304に入射する。入射した基本波30
7は3つの端面308、309、310の間を反射進行
し増幅される。そして、基本波307は共振光路311
を進行し共振するとき、その一部が波長430nmの第
2高調波312に変換され端面309より出射される。
この構成において、共振光路311はKNbO3 結晶の
a軸313に沿うように設計されており、共振光路31
1が完全にa軸313と平行になる場合に最大の変換効
率で高調波が出力する。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記の第
2高調波発生装置においては、加工ズレにより曲率中心
305、306を結んだ曲率中心軸314がa軸313
と角度αのズレを生じた場合、共振光路311と結晶a
軸313が角度θのズレを生じ、第2高調波への変換効
率が著しく減少し、高効率な波長変換が行えないという
問題を有していた。例えば曲率中心軸314がα=0.
15°ズレた場合、第2高調波出力は1/5以下に減少
する。
【0006】本発明の目的は、加工ズレが高調波への変
換効率に影響を与えにくいようにするものであり、具体
的には共振器長と曲率半径の比を1.4より大きくした
共振器を備えることを特徴とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明は、前述の問題点
を解消すべくなされたものであり、基本波発生用の光源
と、基本波を高調波へ変換する非線形光学材料を含み基
本波を共振させる共振器を備えてなる高調波発生装置に
おいて、前記共振器は対面する2つの共振用球面ミラー
と1つの平面ミラーとからなるリング型共振器であっ
て、共振器長Lと共振用球面ミラーの曲率半径Rの比L
/Rを1.4より大きくしたことを特徴とする高調波発
生装置を提供するものである。
【0008】また、本発明の好ましい態様としては、共
振器長Lと反射ミラーの曲率半径Rの比L/Rを、曲率
中心軸ズレ(α)の共振軸ズレ(θ)への影響が従来品
の1/3以下に低減されるためには、1.6より大きく
することが好ましい。また、共振条件を満足するために
は、2より小さいことが好ましい。さらに、前記非線形
光学材料はKNbO3 結晶であり、前記共振器はモノリ
シックリング型共振器であることが好ましい。
【0009】本発明の基本波発生用の光源としてはL
D、Ar等の各種ガスレーザ、YAG、YLF等の各種
固体レーザ等が使用できるが、LDが小型軽量、連続発
振の安定性等の点で好ましい。非線形光学材料としては
KNbO3 、LiNbO3 、KTiOPO4 、KH2
4 、β−BaB24 等の非線形光学結晶、有機非線
形光学材料等が使用できるが、高調波への高い変換効
率、結晶の経時的安定性(潮解性等がないこと)などの
点からKNbO3 結晶が好ましい。
【0010】本発明における共振器の形態としては、非
線形光学材料自体に共振用ミラーを形成したモノリシッ
クリング型共振器、複数の共振用ミラー間の光軸上に非
線形光学材料を配置したディスクリート型共振器等が使
用できるが、小型軽量化、光学的損失の低減化、光軸調
整の簡易さなどの点でモノリシックリング型共振器が好
ましい。
【0011】また、本発明の高調波発生装置は第2高調
波より高次の高調波発生装置に応用することもできる。
本発明は高調波発生に限定されるものではなく、共振光
路の少なくとも1つを、共振器媒体の特定の方向にとる
必要性のある共振器全般にも適用可能である。
【0012】
【作用】本発明の高調波発生装置は、共振器長Lと反射
ミラーの曲率半径Rの比L/Rを1.4より大きくする
ことにより、曲率中心の加工ズレの影響を従来(L/R
=1.3)の1/2程度以下に低減することができ、し
たがって高効率な波長変換が可能となる。
【0013】共振軸ズレ角θは曲率中心軸ズレ角αにほ
ぼ比例する(図2)。したがってθ=kα(kは比例定
数)とすると、L/Rを大きくするとkを小さくするこ
とができる。L/R=1.4の場合、L/R=1.3に
対しkは約0.6倍程度になる。すなわち、L/Rを大
きくすることにより、曲率中心軸ズレ角αによる共振軸
ズレ角θへの影響を半分程度以下に抑制することが可能
になる。
【0014】
【実施例】以下実施例に基づいて説明する。図1には本
発明を適用した第2高調波発生装置101の一実施例が
示されている。この第2高調波発生装置101は、基本
波の光源としてのLD102、コリメートレンズおよび
モードマッチングレンズ等からなる結合光学系103、
モノリシックリング型共振器104が順次配列されて、
その主要部が構成されている。
【0015】LD102は本実施例では波長860n
m、単一縦横モードの非点収差が少ないものが用いら
れ、基本波107を出射する。基本波107は結合光学
系103により集光され共振モードに整合され、モノリ
シックリング型共振器104に入射する。モノリシック
リング型共振器104としては、本実施例では非線形光
学結晶のKNbO3 結晶が用いられている。
【0016】モノリシックリング型共振器104の入射
側に位置する端面108は球面状に研磨加工され共振用
球面ミラーとされており、この面には基本波に対し93
%の反射膜が蒸着されている。また出射側の端面109
も球面状に研磨加工され共振用球面ミラーとされてお
り、基本波を99%以上反射し第2高調波を90%以上
透過する膜が蒸着されている。また端面110は平面ミ
ラーとなっている。本実施例に用いたモノリシックリン
グ型共振器104は共振器長6.5mm、曲率半径は二
つの曲率中心105、106に対して3.6mmで設計
されており、共振器長Lと曲率半径Rの比L/Rは1.
8に設定されている。
【0017】共振光路111において基本波107の一
部が第2高調波112に変換され、端面109より出射
する。この第2高調波発生装置に用いられるモノリシッ
クリング型共振器104においては、曲率中心軸114
が結晶a軸113に対してα=0.15°傾いていて
も、曲率中心軸114の加工ズレが全く無い場合の80
%以上の高調波出力が得られる。
【0018】図2に高調波出力の曲率中心ズレの角度
(α)依存性をいくつかのL/Rについて示す。曲率中
心ズレの角度許容幅が、L/R=1.3に対し、L/R
=1.45では約2倍、L/R=1.8では約10倍に
拡大されることがわかる。また本発明に用いる共振器1
04としては、一体成型品に限定されるものではなく、
複数の部品(共振用ミラー)から構成されるリング共振
器内に非線形光学材料を配置したディスクリート型へも
適用可能である。
【0019】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
共振器長Lと共振用球面ミラーの曲率半径Rの比L/R
が1.4より大きい共振器を備えることにより、共振器
の曲率中心軸の加工ズレによる高調波出力の低減を抑制
することができる。加えて、高調波出力バラツキを抑制
することによる製造歩留まりの向上という効果も併せて
有する。
【0020】また、L/Rが大きくなることにより、共
振モードボリュームの広がり(共振可能な入射光の範
囲)が大きくなるので、LD等からの基本波との結合効
率も向上するという効果も併せて有する。また非線形光
学材料と共振用ミラーの少なくとも一つを分離独立にし
た共振器においては、独立な共振用ミラーの位置調整許
容幅が大きくなるという効果も併せて有する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第2高調波発生装置の実施例を示す基
本的構成の側面図である。
【図2】本発明の実施例を示し、曲率中心軸の加工ズレ
による高調波出力低減を抑制する効果を示すグラフであ
る。
【図3】従来の第2高調波発生装置の一例を示す基本的
構成の側面図である。
【符号の説明】
101:第2高調波発生装置 102:半導体レーザ(LD) 103:結合光学系 104:モノリシックリング型共振器 105:曲率中心 106:曲率中心 107:基本波 108:共振器の端面 109:共振器の端面 110:共振器の端面 111:共振光路 112:高調波 113:結晶a軸方位 114:曲率中心軸

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】基本波発生用の光源と、基本波を高調波へ
    変換する非線形光学材料を含み基本波を共振させる共振
    器を備えてなる高調波発生装置において、前記共振器は
    対面する2つの共振用球面ミラーと1つの平面ミラーと
    からなるリング型共振器であって、共振器長Lと共振用
    球面ミラーの曲率半径Rの比L/Rを1.4より大きく
    したことを特徴とする高調波発生装置。
  2. 【請求項2】共振器長Lと反射ミラーの曲率半径Rの比
    L/Rを1.6より大きく2より小さくした請求項1記
    載の高調波発生装置。
  3. 【請求項3】前記非線形光学材料はKNbO3 結晶であ
    り、前記共振器はモノリシックリング型共振器である請
    求項1または2記載の高調波発生装置。
JP878094A 1994-01-28 1994-01-28 高調波発生装置 Pending JPH07218942A (ja)

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