JPH07219248A - 電子写真用感光体 - Google Patents
電子写真用感光体Info
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- JPH07219248A JPH07219248A JP3516294A JP3516294A JPH07219248A JP H07219248 A JPH07219248 A JP H07219248A JP 3516294 A JP3516294 A JP 3516294A JP 3516294 A JP3516294 A JP 3516294A JP H07219248 A JPH07219248 A JP H07219248A
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- Japan
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Abstract
(57)【要約】
【構成】 導電性基体上に電荷発生層、電荷移動層が順
次積層されている電子写真感光体において、該電荷発生
層の表面が最大高さ（Ｒｍａｘ）で０．７μｍ以上に粗
面化されている電子写真感光体。 【効果】 この電子写真感光体は、画像（特にハーフト
ーン部）にモアレと呼ばれる模様（濃度ムラ）が発生し
ない。
次積層されている電子写真感光体において、該電荷発生
層の表面が最大高さ（Ｒｍａｘ）で０．７μｍ以上に粗
面化されている電子写真感光体。 【効果】 この電子写真感光体は、画像（特にハーフト
ーン部）にモアレと呼ばれる模様（濃度ムラ）が発生し
ない。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は電子写真感光体を用いた
複写機及びプリンター詳しく言えばレーザービームプリ
ンター（ＬＢＰ）のように単色光の書き込み光を利用し
た電子写真感光体に関する。
複写機及びプリンター詳しく言えばレーザービームプリ
ンター（ＬＢＰ）のように単色光の書き込み光を利用し
た電子写真感光体に関する。
【０００２】
【従来の技術】レーザービームのように単色光の書き込
み光を利用した電子写真プロセスでは導電性基体からの
反射光により、入射光との間に干渉縞が発生し、画像
（特にハーフトーン部）にモアレと言われる模様（濃度
ムラ）が発生する。従来、ドラム状の基体を使用する場
合には基体の表面を粗面化処理して、反射光を単一方向
にさせずに乱反射させることにより反射光に位相差をつ
けて干渉縞の発生をおさえたり、導電性基体上にアンダ
ーコート層を塗工する場合においては、これらに光を吸
収させる為の黒色等の物質（例えばカーボン）を分散さ
せたり、あるいは光を乱反射させる白色等の無機物（例
えばＳｉＯ2 ・ＴｉＯ2 等）を分散させているものを塗
工し対策しているが完全ではない。また、これらの方法
では基体を粗面化する工程やアンダーコート塗液に無機
物等を分散し、更にこれを導電性基体上に塗工する工程
が増えて、コスト高になる上に、工程が煩雑になる。
又、シートあるいはベルト状のフィルムに導電性の物質
を塗工あるいは蒸着した基体を用いる場合に、基体表面
に粗面化することが難かしく、このモアレを解決する為
の手段に苦慮している。
み光を利用した電子写真プロセスでは導電性基体からの
反射光により、入射光との間に干渉縞が発生し、画像
（特にハーフトーン部）にモアレと言われる模様（濃度
ムラ）が発生する。従来、ドラム状の基体を使用する場
合には基体の表面を粗面化処理して、反射光を単一方向
にさせずに乱反射させることにより反射光に位相差をつ
けて干渉縞の発生をおさえたり、導電性基体上にアンダ
ーコート層を塗工する場合においては、これらに光を吸
収させる為の黒色等の物質（例えばカーボン）を分散さ
せたり、あるいは光を乱反射させる白色等の無機物（例
えばＳｉＯ2 ・ＴｉＯ2 等）を分散させているものを塗
工し対策しているが完全ではない。また、これらの方法
では基体を粗面化する工程やアンダーコート塗液に無機
物等を分散し、更にこれを導電性基体上に塗工する工程
が増えて、コスト高になる上に、工程が煩雑になる。
又、シートあるいはベルト状のフィルムに導電性の物質
を塗工あるいは蒸着した基体を用いる場合に、基体表面
に粗面化することが難かしく、このモアレを解決する為
の手段に苦慮している。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、簡単にかつ
安価に画像欠陥であるモアレを解決するための手段を提
案することを目的とする。
安価に画像欠陥であるモアレを解決するための手段を提
案することを目的とする。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明は、導電性基体上
に電荷発生層及び電荷移動層（以下ＣＴＬと称す）ガ順
次積層されている電子写真感光体において、電荷移動層
の表面が最大高さ（Ｒｍａｘ）で０．７〜５μｍに粗面
化されていることである。
に電荷発生層及び電荷移動層（以下ＣＴＬと称す）ガ順
次積層されている電子写真感光体において、電荷移動層
の表面が最大高さ（Ｒｍａｘ）で０．７〜５μｍに粗面
化されていることである。
【０００５】本発明に用いる導電性基体としては、例え
ばアルミニウム、ニッケル、真ちゅう、銅などの金属シ
ートあるいは金属円筒が使用できる。また、例えばアル
ミニウムの如き金属を表面に蒸着あるいは金属箔を表面
に接着したポリエステル等のフィルム、紙、合成紙、不
織布等のシート状物も用いることができる。上記の導電
性基体と感光層の間に必要に応じて設けられる下引き層
には例えばカゼイン、ポリビニルアルコール、ポリビニ
ルブチラール、ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂、セ
ルロース誘導体等が使用される。下引き層の厚さは０．
１〜５μｍが好ましい。
ばアルミニウム、ニッケル、真ちゅう、銅などの金属シ
ートあるいは金属円筒が使用できる。また、例えばアル
ミニウムの如き金属を表面に蒸着あるいは金属箔を表面
に接着したポリエステル等のフィルム、紙、合成紙、不
織布等のシート状物も用いることができる。上記の導電
性基体と感光層の間に必要に応じて設けられる下引き層
には例えばカゼイン、ポリビニルアルコール、ポリビニ
ルブチラール、ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂、セ
ルロース誘導体等が使用される。下引き層の厚さは０．
１〜５μｍが好ましい。
【０００６】電荷発生層に用いられる電荷発生剤として
は、公知の有機あるいは無機の光導電性物質が使用でき
る。これらの物質のうちでもジスアゾ系顔料、トリスア
ゾ系顔料、ベリレン系顔料、キナクリドン系顔料あるい
はフタロシアニン系顔料または酸化亜鉛が電荷発生材と
して優れた特性を有し、好適である。電荷発生層は電荷
発生剤と適当な結着剤、例えばポリビニルブチラール、
ポリエステル、ポリメチルメタクリレート、ポリスチレ
ン、ポリカーボネート等とを有機溶媒に分散、溶解して
塗工液とし、これをバーコート、スピンコート、ディッ
プコート等の方法で導電性支持体あるいは下引き層の上
に塗布することによって形成される。電荷発生層の厚さ
は０．１〜５μｍが好ましい。また、電荷発生剤を真空
蒸着したり、スパッタリングをして薄膜の電荷発生層を
形成することも可能である。この場合の電荷発生層の厚
さは０．０１〜０．５μｍ程度が好ましい。
は、公知の有機あるいは無機の光導電性物質が使用でき
る。これらの物質のうちでもジスアゾ系顔料、トリスア
ゾ系顔料、ベリレン系顔料、キナクリドン系顔料あるい
はフタロシアニン系顔料または酸化亜鉛が電荷発生材と
して優れた特性を有し、好適である。電荷発生層は電荷
発生剤と適当な結着剤、例えばポリビニルブチラール、
ポリエステル、ポリメチルメタクリレート、ポリスチレ
ン、ポリカーボネート等とを有機溶媒に分散、溶解して
塗工液とし、これをバーコート、スピンコート、ディッ
プコート等の方法で導電性支持体あるいは下引き層の上
に塗布することによって形成される。電荷発生層の厚さ
は０．１〜５μｍが好ましい。また、電荷発生剤を真空
蒸着したり、スパッタリングをして薄膜の電荷発生層を
形成することも可能である。この場合の電荷発生層の厚
さは０．０１〜０．５μｍ程度が好ましい。
【０００７】一方、ＣＴＬに用いられる電荷移動剤とし
てはヒドラゾン、ブタジエン誘導体、ポリビニールカル
バゾール、ピラゾリン、オキサジアゾール、オキサゾー
ル、トリフェニルメタン、アミン誘導体、フルオレノン
誘導体、ジフェノキノン誘導体等が挙げられる。 電荷
移動剤ととも使用される結着剤としては、ポリカーボネ
ート、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリメタクリレ
ート、ポリビニルアセテート、シリコーン樹脂、塩化ビ
ニル・酢酸ビニル共重合体樹脂、エポキシ樹脂等が適し
ている。結着剤を溶解する有機溶剤としては、トルエ
ン、メチルエチルケトン、エチレンクロライド、クロル
ベンゼン、酢酸エチル等が使用できる。電荷移動層の厚
さは１０〜４０μｍ、好ましくは１５〜３０μｍであ
る。
てはヒドラゾン、ブタジエン誘導体、ポリビニールカル
バゾール、ピラゾリン、オキサジアゾール、オキサゾー
ル、トリフェニルメタン、アミン誘導体、フルオレノン
誘導体、ジフェノキノン誘導体等が挙げられる。 電荷
移動剤ととも使用される結着剤としては、ポリカーボネ
ート、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリメタクリレ
ート、ポリビニルアセテート、シリコーン樹脂、塩化ビ
ニル・酢酸ビニル共重合体樹脂、エポキシ樹脂等が適し
ている。結着剤を溶解する有機溶剤としては、トルエ
ン、メチルエチルケトン、エチレンクロライド、クロル
ベンゼン、酢酸エチル等が使用できる。電荷移動層の厚
さは１０〜４０μｍ、好ましくは１５〜３０μｍであ
る。
【０００８】本発明の感光体を製造するには、このＣＴ
Ｌ塗工時にＣＴＬ表面が粗面化するような塗工手段を用
いる。すなわち、このような処理を行うことにより、導
電性基体から書き込み光が反射してきても、ＣＴＬ表面
で乱反射が起こり、干渉縞の発生がなくなり、モアレと
言う画像欠陥が発生しなくなる。このようにＣＴＬ表面
を粗面化する手段として、例えばシート塗工のように、
フィルムを塗工する場合が最も簡単である。すなわち、
グラビアロールのようにロール表面に必ずある程度（１
０μｍ以上で５００μｍ程度）の深さをもつ各種の形状
の版目をもつロールや細いワイヤー（＃３〜＃７５）を
丸棒に巻きつけたメイヤーバーの如き、その表面に必ず
凹凸のある塗工方式を用いることにより、そのＣＴＬ表
面を粗面化される。
Ｌ塗工時にＣＴＬ表面が粗面化するような塗工手段を用
いる。すなわち、このような処理を行うことにより、導
電性基体から書き込み光が反射してきても、ＣＴＬ表面
で乱反射が起こり、干渉縞の発生がなくなり、モアレと
言う画像欠陥が発生しなくなる。このようにＣＴＬ表面
を粗面化する手段として、例えばシート塗工のように、
フィルムを塗工する場合が最も簡単である。すなわち、
グラビアロールのようにロール表面に必ずある程度（１
０μｍ以上で５００μｍ程度）の深さをもつ各種の形状
の版目をもつロールや細いワイヤー（＃３〜＃７５）を
丸棒に巻きつけたメイヤーバーの如き、その表面に必ず
凹凸のある塗工方式を用いることにより、そのＣＴＬ表
面を粗面化される。
【０００９】その粗面化の程度は鋭意研究の結果、最大
高さ（Ｒｍａｘ）で０．７μｍ以上であれば、ＣＴＬ表
面で乱反射が起こり、本発明の作用効果を奏することが
できる。最大高さが０．７μｍ未満ではＣＴＬの粗面化
が十分行われずに、ＣＴＬ表面で干渉縞が発生し、従っ
て、モアレが発生する。また、ロールコーターやあるい
はブレードコーターの如きロールやブレードエッジが平
坦で、上記のような溝等の凹凸がない塗工方法でＣＴＬ
を塗工後、前述のグラビアロールやメイヤーバーで薄膜
のオーバーコート層（ＣＴＬ層そのままでも可）を塗工
する事によっても本発明の電子写真感光体を製造するこ
とが可能である。一方、ドラムやベルトに塗工する場合
は一旦通常の塗工（例えば、ディッピングやスプレーコ
ーティング等）を行った直後に前述のメイヤバーやグラ
ビアロール等を押しあてる事によって同様の効果が得ら
れる。以上のような効果はメイヤーバーやグラビアロー
ルのような円筒状のものだけでなく、平板例えば粗面化
したＰＥＴフィルム（例えばマット加工したフィルム）
等を用いて、これをＣＴＬ塗工直後のＣＴＬの表面に何
らかの塗具を用いて押し当てるようにすれば良い。
高さ（Ｒｍａｘ）で０．７μｍ以上であれば、ＣＴＬ表
面で乱反射が起こり、本発明の作用効果を奏することが
できる。最大高さが０．７μｍ未満ではＣＴＬの粗面化
が十分行われずに、ＣＴＬ表面で干渉縞が発生し、従っ
て、モアレが発生する。また、ロールコーターやあるい
はブレードコーターの如きロールやブレードエッジが平
坦で、上記のような溝等の凹凸がない塗工方法でＣＴＬ
を塗工後、前述のグラビアロールやメイヤーバーで薄膜
のオーバーコート層（ＣＴＬ層そのままでも可）を塗工
する事によっても本発明の電子写真感光体を製造するこ
とが可能である。一方、ドラムやベルトに塗工する場合
は一旦通常の塗工（例えば、ディッピングやスプレーコ
ーティング等）を行った直後に前述のメイヤバーやグラ
ビアロール等を押しあてる事によって同様の効果が得ら
れる。以上のような効果はメイヤーバーやグラビアロー
ルのような円筒状のものだけでなく、平板例えば粗面化
したＰＥＴフィルム（例えばマット加工したフィルム）
等を用いて、これをＣＴＬ塗工直後のＣＴＬの表面に何
らかの塗具を用いて押し当てるようにすれば良い。
【００１０】本発明でいう最大高さ（Ｒｍａｘ）とは、
ＪＩＳＢ０６０１に規定する「表面粗さの定義と表示」
に定義された求め方に準ずるものである。なお、本発明
でいう最大高さ（Ｒｍａｘ）の基準長さは原則として
０．８ｍｍを適用するが、この長さの中で１ピッチ（山
と谷）が入らない場合はそれに応じて測定長さを長くす
る必要がある。測定長として１ピッチ以上あれば十分で
あるが、少なくとも１．５ピッチ以上あることが好まし
い。このピッチもあまり広すぎると粗面化処理の効果が
小さくなり、干渉縞の発生を防げなくなる。従って本発
明で規定する最大高さの測定用基準長さは４ｍｍ以下好
ましくは２ｍｍ以下が良好である。本発明の電荷移動層
の表面の最大高さは、通常は０．７〜５μｍ、好ましく
は０．８〜３μｍである。最大高さを５μｍより大きく
しても、効果の格別の向上は認められず、感光体表面の
外観が不良となり、画像に筋状の画像むらを生ずるおそ
れがある。
ＪＩＳＢ０６０１に規定する「表面粗さの定義と表示」
に定義された求め方に準ずるものである。なお、本発明
でいう最大高さ（Ｒｍａｘ）の基準長さは原則として
０．８ｍｍを適用するが、この長さの中で１ピッチ（山
と谷）が入らない場合はそれに応じて測定長さを長くす
る必要がある。測定長として１ピッチ以上あれば十分で
あるが、少なくとも１．５ピッチ以上あることが好まし
い。このピッチもあまり広すぎると粗面化処理の効果が
小さくなり、干渉縞の発生を防げなくなる。従って本発
明で規定する最大高さの測定用基準長さは４ｍｍ以下好
ましくは２ｍｍ以下が良好である。本発明の電荷移動層
の表面の最大高さは、通常は０．７〜５μｍ、好ましく
は０．８〜３μｍである。最大高さを５μｍより大きく
しても、効果の格別の向上は認められず、感光体表面の
外観が不良となり、画像に筋状の画像むらを生ずるおそ
れがある。
【００１１】
【実施例】以下に本発明の実施例及び比較例について説
明する。アルミニウムが蒸着された厚さ１００μｍのポ
リエステルフィルム上に、下記組成よりなり、ガラスビ
ースを用いた分散装置により１時間分散して作成した塗
液を塗布し、１００℃にて５分間乾燥して厚さ０．５μ
ｍの電荷発生層を設けた。 Ｘ型無金属フタロシアニン顔料 ２重量部 ポリビニルブチラール １重量部 （電気化学工業社製 ＃４０００−１） ジクロロエタン ９７重量部
明する。アルミニウムが蒸着された厚さ１００μｍのポ
リエステルフィルム上に、下記組成よりなり、ガラスビ
ースを用いた分散装置により１時間分散して作成した塗
液を塗布し、１００℃にて５分間乾燥して厚さ０．５μ
ｍの電荷発生層を設けた。 Ｘ型無金属フタロシアニン顔料 ２重量部 ポリビニルブチラール １重量部 （電気化学工業社製 ＃４０００−１） ジクロロエタン ９７重量部
【００１２】次に以下の要領でＣＴＬの塗工液を作成し
た。 下記式の化合物 １５重量部
た。 下記式の化合物 １５重量部
【化１】 ポリカーボネート（パンライトＬ１２５０ 帝人化成社製） １５重量部 ジクロロエタン ７０重量部
【００１３】上記組成物を混合溶解して、ＣＴＬの塗工
液とした。この塗工液を下記の実施例及び比較例の塗工
方式（表１）を用いて、電荷発生層上に塗布し、同様の
乾燥をして厚さ２０μｍのＣＴＬを作成し、本発明及び
比較例の電子写真感光体を得た。このシート状の電子写
真感光体を京セラ社のＬ−８８０ｓのドラム素菅に巻き
付けて、画像評価を行った。その結果を表２に示す。
尚、最大高さ（Ｒｍａｘ）の測定は小坂研究所社製の三
次元粗さ計及び解析装置（ＭＯＤＥＬ ＳＥ．３ＡＫ及
びＳＰＡ−１１）を用いた。この場合の測定長さは０．
８ｍｍ（表１の＊印のみ、１．６ｍｍ）で、カットオフ
値も０．８ｍｍである。最大高さの測定結果も表２に示
す。表２から明らかなとおり、本発明による実施例１〜
３の感光体は、モアレの発生がなく、かつ画像濃度が十
分で非画線部の地汚れ（かぶり）の発生もないことを確
認した。また本発明の感光体は、ＣＴＬの塗工時に粗面
化処理したにもかかわらず、縦筋等の欠陥の発生もなく
実用上全く問題ないことが確認された。
液とした。この塗工液を下記の実施例及び比較例の塗工
方式（表１）を用いて、電荷発生層上に塗布し、同様の
乾燥をして厚さ２０μｍのＣＴＬを作成し、本発明及び
比較例の電子写真感光体を得た。このシート状の電子写
真感光体を京セラ社のＬ−８８０ｓのドラム素菅に巻き
付けて、画像評価を行った。その結果を表２に示す。
尚、最大高さ（Ｒｍａｘ）の測定は小坂研究所社製の三
次元粗さ計及び解析装置（ＭＯＤＥＬ ＳＥ．３ＡＫ及
びＳＰＡ−１１）を用いた。この場合の測定長さは０．
８ｍｍ（表１の＊印のみ、１．６ｍｍ）で、カットオフ
値も０．８ｍｍである。最大高さの測定結果も表２に示
す。表２から明らかなとおり、本発明による実施例１〜
３の感光体は、モアレの発生がなく、かつ画像濃度が十
分で非画線部の地汚れ（かぶり）の発生もないことを確
認した。また本発明の感光体は、ＣＴＬの塗工時に粗面
化処理したにもかかわらず、縦筋等の欠陥の発生もなく
実用上全く問題ないことが確認された。
【００１４】
【表１】
【００１５】
【表２】 画像濃度：マクベス反射濃度計ＲＤ−９１４型による 地汚れ：日本電色社製ハンター色差計による
【００１６】
【発明の効果】本発明の電子写真感光体は、電荷移動層
の表面が特定の粗さに粗面化されているため、画像欠陥
であるモアレを簡単かつ安価で解決することができる利
点がある。
の表面が特定の粗さに粗面化されているため、画像欠陥
であるモアレを簡単かつ安価で解決することができる利
点がある。
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成６年３月２４日
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正内容】
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明は、導電性基体上
に電荷発生層及び電荷移動層（以下ＣＴＬと称す）が順
次積層されている電子写真感光体において、電荷移動層
の表面が最大高さ（Ｒｍａｘ）で０．７μｍ以上に粗面
化されていることである。
に電荷発生層及び電荷移動層（以下ＣＴＬと称す）が順
次積層されている電子写真感光体において、電荷移動層
の表面が最大高さ（Ｒｍａｘ）で０．７μｍ以上に粗面
化されていることである。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正内容】
【０００９】その粗面化の程度は鋭意研究の結果、最大
高さ（Ｒｍａｘ）で０．７μｍ以上であれば、ＣＴＬ表
面で乱反射が起こり、本発明の作用効果を奏することが
できる。最大高さが０．７μｍ未満ではＣＴＬの粗面化
が十分行われずに、ＣＴＬ表面で干渉縞が発生し、従っ
て、モアレが発生する。また、ロールコーターやあるい
はブレードコーターの如きロールやブレードエッジが平
坦で、上記のような溝等の凹凸がない塗工方法でＣＴＬ
を塗工後、前述のグラビアロールやメイヤーバーで薄膜
のオーバーコート層（ＣＴＬ層そのままでも可）を塗工
する事によっても本発明の電子写真感光体を製造するこ
とが可能である。一方、ドラムやベルトに塗工する場合
は一旦通常の塗工（例えば、ディッピングやスプレーコ
ーティング等）を行った直後に前述のメイヤバーやグラ
ビアロール等を押しあてる事によって同様の効果が得ら
れる。以上のような効果はメイヤーバーやグラビアロー
ルのような円筒状のものだけでなく、平板例えば粗面化
したＰＥＴフィルム（例えばマット加工したフィルム）
等を用いて、これをＣＴＬ塗工直後のＣＴＬの表面に何
らかの治具を用いて押し当てるようにすれば良い。
高さ（Ｒｍａｘ）で０．７μｍ以上であれば、ＣＴＬ表
面で乱反射が起こり、本発明の作用効果を奏することが
できる。最大高さが０．７μｍ未満ではＣＴＬの粗面化
が十分行われずに、ＣＴＬ表面で干渉縞が発生し、従っ
て、モアレが発生する。また、ロールコーターやあるい
はブレードコーターの如きロールやブレードエッジが平
坦で、上記のような溝等の凹凸がない塗工方法でＣＴＬ
を塗工後、前述のグラビアロールやメイヤーバーで薄膜
のオーバーコート層（ＣＴＬ層そのままでも可）を塗工
する事によっても本発明の電子写真感光体を製造するこ
とが可能である。一方、ドラムやベルトに塗工する場合
は一旦通常の塗工（例えば、ディッピングやスプレーコ
ーティング等）を行った直後に前述のメイヤバーやグラ
ビアロール等を押しあてる事によって同様の効果が得ら
れる。以上のような効果はメイヤーバーやグラビアロー
ルのような円筒状のものだけでなく、平板例えば粗面化
したＰＥＴフィルム（例えばマット加工したフィルム）
等を用いて、これをＣＴＬ塗工直後のＣＴＬの表面に何
らかの治具を用いて押し当てるようにすれば良い。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正内容】
【００１０】本発明でいう最大高さ（Ｒｍａｘ）とは、
ＪＩＳＢ０６０１に規定する「表面粗さの定義と表示」
に定義された求め方に準ずるものである。なお、本発明
でいう最大高さ（Ｒｍａｘ）の基準長さは原則として
０．８ｍｍを適用するが、この長さの中で１ピッチ（山
と谷）が入らない場合はそれに応じて測定長さを長くす
る必要がある。測定長さとして１ピッチ以上あれば十分
であるが、少なくとも１．５ピッチ以上あることが好ま
しい。このピッチもあまり広すぎると粗面化処理の効果
が小さくなり、干渉縞の発生を防げなくなる。従って本
発明で規定する最大高さの測定用基準長さは４ｍｍ以下
好ましくは２ｍｍ以下が良好である。本発明の電荷移動
層の表面の最大高さは、好ましくは０．７〜５μｍ、さ
らに好ましくは０．８〜３μｍである。最大高さを５μ
ｍより大きくしても、効果の格別の向上は認められず、
感光体表面の外観が不良となり、画像に筋状の画像むら
を生ずるおそれがある。
ＪＩＳＢ０６０１に規定する「表面粗さの定義と表示」
に定義された求め方に準ずるものである。なお、本発明
でいう最大高さ（Ｒｍａｘ）の基準長さは原則として
０．８ｍｍを適用するが、この長さの中で１ピッチ（山
と谷）が入らない場合はそれに応じて測定長さを長くす
る必要がある。測定長さとして１ピッチ以上あれば十分
であるが、少なくとも１．５ピッチ以上あることが好ま
しい。このピッチもあまり広すぎると粗面化処理の効果
が小さくなり、干渉縞の発生を防げなくなる。従って本
発明で規定する最大高さの測定用基準長さは４ｍｍ以下
好ましくは２ｍｍ以下が良好である。本発明の電荷移動
層の表面の最大高さは、好ましくは０．７〜５μｍ、さ
らに好ましくは０．８〜３μｍである。最大高さを５μ
ｍより大きくしても、効果の格別の向上は認められず、
感光体表面の外観が不良となり、画像に筋状の画像むら
を生ずるおそれがある。
Claims (3)
- 【請求項１】 導電性基体上に電荷発生層、電荷移動層
が順次積層されている電子写真感光体において、該電荷
移動層の表面が最大高さ（Ｒｍａｘ）で０．７μｍ以上
に粗面化されていることを特徴とする電子写真感光体。 - 【請求項２】 電荷移動層の表面の最大高さ（Ｒｍａ
ｘ）が０．７〜５μｍに粗面化されていることを特徴と
する請求項１項の電子写真感光体。 - 【請求項３】 電荷移動層の表面の最大高さ（Ｒｍａ
ｘ）が０．８〜３μｍに粗面化されていることを特徴と
する請求項１項の電子写真感光体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3516294A JPH07219248A (ja) | 1994-02-09 | 1994-02-09 | 電子写真用感光体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3516294A JPH07219248A (ja) | 1994-02-09 | 1994-02-09 | 電子写真用感光体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07219248A true JPH07219248A (ja) | 1995-08-18 |
Family
ID=12434184
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3516294A Withdrawn JPH07219248A (ja) | 1994-02-09 | 1994-02-09 | 電子写真用感光体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07219248A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5874658A (en) * | 1997-09-12 | 1999-02-23 | Laroche Industries Inc. | Purification of organic fluorine compounds |
| US6180299B1 (en) | 1995-03-03 | 2001-01-30 | Sharp Kabushiki Kaisha | Photosensitive body for electrophotographical use and manufacturing method thereof |
| JP2009251530A (ja) * | 2008-04-10 | 2009-10-29 | Kaneka Corp | 光学補償用塗布膜、光学素子および光学補償用塗布膜の製造方法 |
-
1994
- 1994-02-09 JP JP3516294A patent/JPH07219248A/ja not_active Withdrawn
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6180299B1 (en) | 1995-03-03 | 2001-01-30 | Sharp Kabushiki Kaisha | Photosensitive body for electrophotographical use and manufacturing method thereof |
| US6180300B1 (en) | 1995-03-03 | 2001-01-30 | Sharp Kabushiki Kaisha | Photosensitive body for electrophotographical use and manufacturing method thereof |
| US6258500B1 (en) | 1995-03-03 | 2001-07-10 | Sharp Kabushiki Kaisha | Photosensitive body for electrophotographical use and manufacturing method thereof |
| US5874658A (en) * | 1997-09-12 | 1999-02-23 | Laroche Industries Inc. | Purification of organic fluorine compounds |
| JP2009251530A (ja) * | 2008-04-10 | 2009-10-29 | Kaneka Corp | 光学補償用塗布膜、光学素子および光学補償用塗布膜の製造方法 |
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