JPH0722082B2 - アルミニウム電解キヤパシタ - Google Patents

アルミニウム電解キヤパシタ

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JPH0722082B2
JPH0722082B2 JP60231456A JP23145685A JPH0722082B2 JP H0722082 B2 JPH0722082 B2 JP H0722082B2 JP 60231456 A JP60231456 A JP 60231456A JP 23145685 A JP23145685 A JP 23145685A JP H0722082 B2 JPH0722082 B2 JP H0722082B2
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    • H01G9/00Electrolytic capacitors, rectifiers, detectors, switching devices, light-sensitive or temperature-sensitive devices; Processes of their manufacture
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Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、カチオンが電解質溶媒のカチオンと相容性で
ある燐酸塩を含有する電解液を使用したアルミニウム電
解キヤパシタに関する。
従来の技術 アルミニウム電解キヤパシタの動作電解液における添加
された燐酸の役割はあまり理解されずかつ拒絶されて来
た。燐酸塩添加は低電圧電解質においては望ましいが、
高電圧(>200V)電解キヤパシタの動作電圧においては
望ましくなくかつ電圧を制限するという見解が支配的で
ある。
それにもかかわらず、高電圧(200V以上)又は低電圧
(200V以下)適用のいずれにせよ、全てのグリコール−
硼酸塩電解液に対して少量(0.1〜0.2%)の燐酸二水素
アンモニウムを添加することは、電解キヤパシタ分野に
おいて十分に確立された技術である。ADPはカソード箔
の継続した不動態化を保証しかつ箔を水和から保護する
ために添加される。水和は厳しい水素ガス発生によつて
達成されかつこのガス発生の破壊作用はキヤパシタ故障
の度々の原因である。
電解キヤパシタに対するサービス要求は連続的に著しく
増大し、かつADP0.1〜0.2%によつて付与される保護レ
ベルは不適当であると見なされる。さらに、電解液中に
燐酸塩が存在すればアノード上の酸化物皮膜を安定化す
るためにも役立つことを示唆する事実が一層増大してい
る。安定化はそれ自体低い漏れ電流レベルにおいて明白
であるが、このことが達成される機構は未だ解明されて
いない。この機能に対しても、高い燐酸塩濃度が望まし
い。
実験によれば、0.5%までADP濃度を増大させるのが明ら
かに有利であり、かつ濃度を1.0%まで増大させるのが
望ましい場合もあることが判明した。しかしながら、25
℃ではグリコール中のADPの可溶性限界は1.0%に近い。
高い溶質含量を有する典型的グリコールベースの電解質
内では、可溶性限界は極めて低い。グリコール82.5重量
%、五硼酸アンモニウム17.0重量%及びADP0.5重量%を
含有するグリコール−硼酸塩電解液の場合には、ADP0.5
%を配合することが可能であるが、但しこの量の燐酸塩
は溶解するのが極めて困難であり、かつこの濃度レベル
は製造中に維持することは極めて困難である。
別の電解質溶剤、例えばN,N′−ジメチルホルムアミド
(DMF)、N−メチルピロリジノン(NMP)及びブチロラ
クトン(BLO)においては、上記問題点は一層重要であ
る。これらの全ての溶剤中では、ADPはほとんど完全に
不溶性である。なお、これらの溶剤だけ又は相互のもし
くはグリコールと混合したものを使用した電解液中には
燐酸塩を配合するために同等の必要性がある。
この問題点は減極剤としてニトロ化合物を配合する高電
圧電解液に関しては一層重大になる。このような高電圧
電解質においては、一般に開示されているように、顕著
に最大陽極酸化電圧(Vmax)を低下させることなく加え
ることができる減極剤、例えばP−ニトロ安息香酸の量
は、添加される燐酸塩の量によつて決定される。ガス発
生を起さない長寿命の高電圧キヤパシタのためには、5
%以上程度の燐酸塩を加えるのが望ましいことがある。
グリコール中でもADPを用いて考えうる方法は無い、別
の混合物又は溶剤混合物においては見込みは一層無い。
発明の効果 本発明の特徴は、以前可能であつたよりも高いレベルの
燐酸塩を含有する電解液を利用したアルミニウム電解キ
ヤパシタを提供することである。
実施例 次に図示の実施例につき本発明を詳細に説明する。
本発明によれば、アンモニウム塩の代りに飽和燐酸二水
素アンモニウムが使用される。調製しかつ有効であるこ
とが判明した特殊な置換アンモニウム二水素燐酸塩は、
ジメチルアンモニウム、ジエチルアンモニウム、イソプ
ロピルアンモニウム、ジイソプロピルアンモニウム、n
−ブチルアンモニウム、トリエチルアンモニウム、トリ
−n−プロピルアンモニウム、及びモルホリニウムの二
水素燐酸塩である。
燐酸二水素ジメチルアンモニウムは、燐酸とジメチルホ
ルムアミドの溶液を125℃で24時間加熱することにより
製造することができる。選択的に、上記物質及び別の燐
酸塩は、トリエチルアンモニウム及びジイソプロピルア
ンモニウム塩を除き、燐酸の水溶液を適当なアミンで中
和し、得られた塩溶液を水ポンプで乾固し、かつ粗製生
成物をメタノール/エーテル又はイソプロパノール/エ
ーテルから結晶化させることにより製造することができ
る。
トリエチルアンモニウム及びジイソプロピルアンモニウ
ム塩を製造するためには、過剰(3モル当量程)のアミ
ンを加え、次いで大量のエーテルを上記の濃燐酸のイソ
プロパノール溶液に加えるべきである。
燐酸二水素アンモニウムとは異なり、これらの置換アン
モニウム二水素燐酸塩の全てはグルコール中で容易に可
溶である。夫々の燐酸塩を用いると、室温でグリコール
100ml当り燐酸塩10g以上を含有するグリコール溶液を得
ることが可能である。長い針状で晶出する燐酸二水素ジ
メチルアンモニウムは最も緩慢に晶出するが、これはな
おグリコール100ml当り10gを含有する溶液を提供するこ
とができる。
ジメチルホルムアミド(DMF)中では、燐酸二水素トリ
エチルアンモニウム及び燐酸二水素トリ−n−プロピル
アンモニウムは、溶解度の有用のレベルを提供し、別の
燐酸塩は殆んど完全に不溶性である。トリエチルアンモ
ニウム塩は25℃でDMF100mlに1gのレベルで可溶である
が、但し同じ溶剤容量で1.5gは完全に不溶である。トリ
−n−プロピルアンモニウム塩は例外なく可溶性であ
り、かつこの塩をDMF100ml中に10g以上含有する溶剤は2
5℃で容易入手されうる。
ブチロラクトン(BLO)中では、前記の2種類の燐酸塩
は溶解度の有効なレベルを提供する。トリ−n−プロピ
ルアンモニウムは10g/100mlよりも高いレベルまで再び
可溶であり、かつ燐酸二水素トリエチルアンモニウムは
5g/100mlより高く、但し8g/100mlよりも低い溶解度レベ
ルを提供する。
N−メチルピロリジノン(NMP)中では、燐酸二水素ト
リエチルアンモニウムは適当に可溶性ではないが、観察
された溶解度は溶剤100ml当り0.5gよりも僅かに低い。
それにもかかわらず、トリ−n−プロピルアンモニウム
塩は再び迅速に可溶性であり、溶剤100ml当り10gよりも
僅かに低い溶解度をもたらす。
これらのアルキルアンモニウム二水素燐酸塩をアルミニ
ウム電解キヤパシタ用の電解液で使用することには制限
がある。特に、電解質溶媒のカチオンは添加された燐酸
塩と相容性であるべきである。このことは溶媒のカチオ
ンと燐酸塩のカチオンが、二水素燐酸塩アニオンと合し
た場合、同様な溶解度積定数値(Ksp)を有すべきこと
を意味する。
最低可溶性アニオンは二水素燐酸塩アニオンであるの
で、電解液成分中に存在するカチオンは溶解度を最大に
しかつ二水素燐酸塩との最大溶解度積を生じるように選
択すべきである。以下の記載は、電解液溶媒及び燐酸塩
において同じカチオンを使用することを包含する。しか
しながら、両者のカチオンが燐酸塩と合した場合大きな
溶解度積を有することを前提として異なつたカチオンを
使用することもできる。
電解液がグリコール中のアジピン酸アンモニウムの濃縮
溶液でありかつトリ−n−プロピルアンモニウム二水素
燐酸塩として燐酸塩を加えた極端なケースを考察する。
この燐酸塩は極めて可溶性(グリコール100ml当り10gよ
り大きい)であるので、迅速に溶解する。このことは1
つの利点でもありかつ極めて可溶性の燐酸二水素トリ−
n−プロピルアンモニウムを使用するために十分な理由
と成りうる、それというのも最終的電解質溶液が最大可
能量の可溶性燐酸塩を含有することを保証するからであ
る。しかしながら、溶液中に残留しうる燐酸塩の量は燐
酸二水素アンモニウムの溶解度積によつて決定され、燐
酸二水素トリ−n−プロピルアンモニウムの溶解度積に
よつては決定されない。可溶性燐酸塩の最大量は0.5%
より大きく、1.0%より小さくなると見込まれる。他
面、電解質溶媒としてアジピン酸トリ−n−プロピルア
ンモニウムをかつ添加燐酸塩として燐酸二水素トリ−n
−プロピルアンモニウムを使用することにより、電解液
系に極めて高い濃度(約10%程度)を導入することが可
能になる。
次に、電解液に上記のアルキルアンモニウム二水素燐酸
塩を使用する際の1つの簡略化を示す。電解液に導入さ
れた付加的な水が有害である場合には、所望の量のアミ
ン、例えばトリエチルアミン又はトリ−n−プロピルア
ミンを加え、かつ次いで正確に1当量の濃縮(一般に87
%)燐酸を加えることにより燐酸塩を導入することがで
きる。このことは燐酸塩を合成しかつ精製する必要性を
排除するが、但し燐酸と共に付加的な水が導入される。
第1図はアルミニウム箔アノード11を有する電解キヤパ
シタ区分10を示し、該アノードは陽極酸化物のバリヤ
層、及び誘導性酸化物層を支持することができるアルミ
ニウム箔カソード13を支持する。箔11及び13は間挿され
たスペーサ材料12及び14と一緒に巻付けられている。ア
ノード箔11には電極タブ15がかつカソード箔13にはタブ
16が取付けられている。タブ15及び16は第1図に示すよ
うに区分の同じ側から又は第2図に示すように反対側か
ら突出していてもよい。
第2図では、区分10はケーシング25、有利にはアルミニ
ウムカン内に配置されている。カソードタブ16は有利に
は溶接部22によつてカン25の底の内側に接続されてい
る。アノードタブ15は金属端子インサート18の底17に有
利には溶接によつて接続されている。インサート18は可
塑性又は弾性絶縁ガスケット又は栓19を貫通している。
外部陽極リード線21は溶接部20を介してインサート18の
外部上面に取付けられている。同時に、外部カソードリ
ード線24は溶接部23を介してカン25の外部底面に取付け
られている。キヤパシタ区分10には電解質溶媒のカチオ
ンと相溶性のカチオンを有する置換されたアンモニウム
二水素燐酸塩を含有する電解液が含浸されている。
“相容性”とは、溶媒のカチオンと二水素燐酸塩のカチ
オンの両者が、二水素燐酸塩アニオンと合した場合、そ
れらの任意の組合わせが可溶性である程十分に大きい溶
解度積定数を有し、従つて燐酸塩が溶液中に滞在するこ
とを意味する。
実地の目的のためには、燐酸塩のいくつかは10重量%が
可能である程に十分に可溶性であるにもかかわらず、燐
酸塩のレベルは0.5重量%よりも大きくかつ最高でも5
重量%であるので、溶媒としてアンモニウム塩を使用す
ることは排除される。他面、溶媒のアンモニウムカチオ
ンは二水素燐酸塩アニオン及び沈殿物と、これらの濃度
の積が燐酸二水素アンモニウムの溶解度積を上回る限り
は、結合する。
実施例1 この実施例は、溶媒としてトリエチルアンモニウムドデ
カンジオエート13%、溶剤としてのエチレングリコール
42%とn−メチルピロリジノン38%の混合物、水4%、
及び減極剤としてのP−ニトロ安息香酸3%を含有する
電解液に添加した2種類の可溶性燐酸塩に関する代表的
データを示す。燐酸塩はカチオンが溶媒のカチオンと同
じである燐酸二水素トリエチルアンモニウム(TEP)、
及びカチオンが溶媒と異なる燐酸二水素トリ−n−プロ
ピルアンモニウムである。燐酸塩の添加量は重量%で、
25℃での抵抗率はΩ・cmで、かつ85℃の最大陽極酸化電
圧(Vmax)はボルトで示されている。
燐酸塩を含有しない電解液の抵抗率は914Ω・cm及びVma
xは235Vであつた。別の燐酸塩、イソプロピルアンモニ
ウム、n−ブチルアンモニウム、ジメチルアンモニウ
ム、ジエチルアンモニウム、ジイソプロピルアンモニウ
ム及びモルホリニウムの二水素燐酸塩は同様な結果をも
たらした。
【図面の簡単な説明】
第1図は部分的に巻付けたキヤパシタ区分の斜視図、第
2図は完成したキヤパシタの縦断面図である。 10……キヤパシタ区分、11……アノード箔、12,14……
スペーサ材料、13……カソード箔、15,16……電極タ
ブ、17……金属端子インサートの底、18……インサー
ト、19……ガスケツト又は栓、20,23……溶接部、21,24
……リード線

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】間挿されたスペーサ材料と一緒に巻付けら
    れた2つの電極箔を有する巻付けキヤパシタ区分から成
    り、該箔の一方が誘電性酸化物を支持し、該箔が有機溶
    剤中に溶解した溶質を有しかつイソプロピルアンモニウ
    ム、n−ブチルアンモニウム、ジメチルアンモニウム、
    ジエチルアンモニウム、ジイソプロピルアンモニウム、
    トリエチルアンモニウム、トリ−n−プロピルアンモニ
    ウム及びモルホリニウムカチオンから成る群から選択さ
    れるカチオンを有する可溶性の置換されたアンモニウム
    二水素燐酸塩の添加物を有する電解液と接触しており、
    上記溶媒が上記燐酸塩カチオンと相容性のカチオンを有
    することを特徴とするアルミニウム電解キヤパシタ。
  2. 【請求項2】前記燐酸塩5重量%以下を使用した、特許
    請求の範囲第1項記載のキヤパシタ。
  3. 【請求項3】燐酸塩が燐酸二水素トリ−n−プロピルア
    ンモニウムである、特許請求の範囲第1項記載のキヤパ
    シタ。
  4. 【請求項4】燐酸塩が燐酸二水素トリ−n−プロピルア
    ンモニウムである、特許請求の範囲第1項記載のキヤパ
    シタ。
  5. 【請求項5】溶剤がエチレングリコール、ジメチルホル
    ムアミド、N−メチルピロリジノン、ブチロラクトン及
    びこれらの溶剤の混合物から選択したものである、特許
    請求の範囲第1項記載のキヤパシタ。
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