JPH07221003A - 電子ビーム描画パターン形成方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 図形の分割を従来に比べてより正確に行なう
ことが可能な電子ビーム描画パターン形成方法を提供す
る。 【構成】 入力図形を水平方向および垂直方向に分割
し、その分割されたすべての図形に対して長辺の長さを
短辺の長さで割った値に基づいて決定される決定値を総
和して第１の総和値および第２の総和値を求める。そし
て、その第１および第２の総和値に基づいて分割方向を
選択する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】この発明は、電子ビーム描画パタ
ーン形成方法に関し、より特定的には、入力された図形
を電子ビーム露光装置で描画可能な基本図形に分割する
分割工程を含む電子ビーム描画パターン形成方法に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】従来、半導体集積回路の作製に用いるマ
スクのパターン形成、および電子ビーム直接描画による
半導体ウェハ上へのパターン形成に用いる可変成形型電
子ビーム露光装置が知られている。この場合、可変成形
型電子ビーム露光装置に描画データを入力してパターン
形成を行なう。図１２は、従来の可変成形型電子ビーム
露光装置用の描画データ作製フローを示した図である。
図１２を参照して、従来の描画データ作製フローでは、
まず設計者がレイアウトしたパターンデータにステップ
２０に示すように各種図形処理（アートワーク処理）が
施される。そして、アートワーク処理の後、ステップ２
１に示すように、パターンデータは電子ビーム露光装置
で描画可能な基本図形（台形，矩形）に分割される。こ
の工程を台形分割工程と呼ぶ。最後に、ステップ２２に
示すように、電子ビーム露光装置特有のフォーマットに
変換され、それにより電子ビーム描画パターンの作製が
終了する。

【０００３】図１３および図１４は、図１２に示した従
来の台形分割工程の詳細を説明するための概略図であ
る。従来では、まず図１３に示すように、入力図形（多
角形）ＡおよびＢが入力される。この入力図形Ａおよび
Ｂは、互いに同一の図形で一方が９０度回転したものと
する。この入力図形（多角形）ＡおよびＢを電子ビーム
露光装置で描画可能な台形，矩形に分割するために図形
の頂点から固定された方向に分割線を入れる。図１４で
は分割方向を水平方向に固定した場合を示している。図
１４に示すように分割の結果得られる図形ＡＩとＢＩと
では大きな差がある。ここで、可変成形型電子ビーム露
光装置で上記した分割後の描画パターンを描画する場合
には、この分割結果（ＡＩ，ＢＩ）の違いが描画パター
ンの寸法精度に大きく影響を及ぼす。

【０００４】すなわち、幅Ｗのパターンを形成するため
に、分割結果ＡＩでは描画図形Ａ１，Ａ２，Ａ３の３つ
の図形の描画が必要となる。この場合、入力図形に示さ
れた幅Ｗの精度に影響するのは、描画図形Ａ３の描画位
置精度と描画図形Ａ１の描画位置精度と描画図形Ａ１を
露光するための電子ビームのショットサイズの精度とで
ある。これに対して、分割結果ＢＩでは、描画図形Ｂ１
を１ショットで描画することができるため、精度に影響
を与えるのは描画図形Ｂ１を描画するための電子ビーム
ショットサイズの精度のみである。つまり、明らかに分
割結果ＢＩの方がパターン寸法に対する誤差要因が少な
い。このため、ＢＩの方が描画精度が高くなる。

【０００５】また、分割結果ＡＩの場合は誤差要因が多
いという点に加えて、図形Ａ１およびＡ３の短辺が微小
な寸法である場合には、微小サイズの電子ビームのショ
ットサイズの調整が難しい。このため、さらに大きな誤
差が生じる。たとえば、図１３に示すＷが２．０μｍ、
図１４に示すＡ１またはＡ３の図形幅が０．２５μｍ以
下であった場合、分割された図形ＡＩ，ＢＩで描画され
た後形成されるパターン幅Ｗ_A とＷ_B とでは０．１μｍ
程度の差が生じる場合がある。

【０００６】上記のことから、可変成形型電子ビーム描
画装置に用いる描画データを作製する際には、可能な限
り微小幅を持った図形の発生を回避するとともに、高い
寸法精度が必要な箇所には１ショットの電子ビームで描
画できるような図形分割を行なうことが好ましい。

【０００７】従来では、上記のような目的を達成するた
めに、たとえば特開平５−１６６７０６号公報に示され
るような手法がとられていた。図１５および図１６は、
その特開平５−１６６７０６号公報に開示された手法を
説明するための概略図である。図１５および図１６を参
照して、その開示された手法では、まず各入力図形ごと
に垂直方向の分割と水平方向の分割との両方を行なう。
そして、その後各図形ごとに長辺を短辺で割った値（ア
スペクトレシオ）を計算する。次に、各分割結果に対し
てアスペクトレシオの総和を計算し、その総和を分割後
の図形数で割った値（平均アスペクトレシオ）を算出す
る。最後に、その平均アスペクトレシオの小さい分割方
向を選択し、その分割結果を出力する。具体的には、図
１５および図１６に示す図形では、図形Ａに対して垂直
方向の分割が、図形Ｂに対しては水平方向の分割が選択
される。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】図１５および図１６に
示した従来例では、最適な台形分割を簡単なアルゴリズ
ムで実現できるという利点はあるが、以下のような３つ
の問題点があった。

【０００９】第１の問題点は、分割方向を考慮する必要
のない図形の影響を大きく受けてしまう場合があるため
明らかに良好でない分割結果を出力してしまうという点
である。図１７〜図１９は従来の電子ビーム描画パター
ン形成方法の第１の問題点を説明するための概略図であ
る。図１７〜図１９を参照して、図１７に示す入力図形
を垂直方向および水平方向に分割した結果が図１８およ
び図１９に示す図形ＡおよびＢである。各分割図形内に
示した数字がアスペクトレシオである。分割結果Ａの平
均アスペクトレシオは９．３３，分割結果Ｂの平均アス
ペクトレシオは９．５となり、平均アスペクトレシオの
小さい分割結果Ａが選択されることになる。しかし、こ
れは明らかに選択の間違いである。この選択ミスの原因
は、描画精度の劣化の原因となる分割線が入らないにも
かかわらずそのアスペクト比が大きいために平均アスペ
クト比に大きな影響を与える図形（Ａ１，Ｂ１）が存在
することに起因する。これに加えて、分割結果Ｂでは図
形数が２個であるのに対し分割結果Ａでは３個と分割後
の図形数が異なるために、上記した影響の大きい図形の
平均アスペクトレシオに対する寄与度が異なることに起
因する。

【００１０】次に、第２の問題点は、微小図形は発生し
ないが重要なパターンが複数ショットで描画されてしま
うような分割と、その影響が及ぶ領域は小さいが微小図
形が発生する分割との選択を任意に行なえないという点
である。図２０〜図２２は、従来の電子ビーム描画パタ
ーン形成方法の第２の問題点を説明するための概略図で
ある。図２０〜図２２を参照して、単純に平均アスペク
トレシオを比較した場合は垂直方向分割結果Ａが選択さ
れる。ところが、実際の描画を行なうと、垂直方向分割
結果Ａの精度劣化度が水平方向分割結果Ｂの精度劣化度
よりも大きくなる。すなわち、入力図形のパターン幅Ｗ
２が分割結果Ｂのように複数ショット（図形Ｂ２，Ｂ
３）で描画される場合の精度劣化度と、パターン幅Ｗ１
が複数ショットで描画されさらに線幅を決定する描画図
形（Ａ１，Ａ３）の短辺が微小である場合の精度劣化度
とを比較した場合、後者の精度劣化度の方が大きくなる
場合が多い。したがって、このような場合は分割結果Ｂ
の方が分割結果Ａよりも良い分割結果となる。この場
合、単純に平均アスペクトレシオだけを見ると判断ミス
が生じる。

【００１１】次に、第３の問題点は、分割方向の選択だ
けでは対応できない場合がある点である。図２３〜図２
５は、従来の電子ビーム描画パターン形成方法の第３の
問題点を説明するための概略図である。図２３〜図２５
を参照して、このような図形の場合には垂直方向に分割
しても水平方向に分割しても微小な図形Ａ１，Ｂ１の発
生を避けられない。このため、図形幅Ｗ１，Ｗ２のどち
らかの寸法精度が劣化してしまうという問題点があっ
た。

【００１２】この発明は、上記のような課題を解決する
ためになされたもので、請求項１〜４に記載の電子ビー
ム描画パターン形成方法は、従来に比べてより正確な図
形分割を行なうことが可能な電子ビーム描画パターン形
成方法を提供することを目的とする。

【００１３】請求項２〜４に記載の電子ビーム描画パタ
ーン形成方法は、精度劣化の原因となる微小な図形を極
力含まないように図形分割を行なうことが可能な電子ビ
ーム描画パターン形成方法を提供することを目的とす
る。

【００１４】

【課題を解決するための手段】請求項１〜３における電
子ビーム描画パターン形成方法は、入力された図形を電
子ビーム露光装置で描画可能な基本図形に分割する分割
工程を含んでいる。そして、その分割工程は、入力され
た図形を水平方向に分割するステップと、その水平方向
に分割されたすべての図形に対して、長辺の長さを短辺
の長さで割った値に基づいて決定される決定値を総和し
て第１の総和値を求めるステップと、入力された図形を
垂直方向に分割するステップと、垂直方向に分割された
すべての図形に対して、長辺の長さを短辺の長さで割っ
た値に基づいて決定される決定値を総和して第２の総和
値を求めるステップと、第１の総和値と第２の総和値と
に基づいて分割方向を選択するステップとを備えてい
る。

【００１５】また、好ましくは、上記した第１および第
２の総和値を求めるときに用いる決定値は、長辺の長さ
を短辺の長さで割った値にさらに短辺の長さに依存した
重みを考慮した値になるように構成してもよい。

【００１６】また、好ましくは、第１および第２の総和
値を求めるときに用いる決定値を長辺の長さを短辺の長
さで割った値にさらに分割された図形の他の図形に接し
ていない辺の長さに関係した重みを考慮した値になるよ
うにしてもよい。

【００１７】請求項４における電子ビーム描画パターン
形成方法は、その分割工程が第１の分割工程と、第２の
分割工程とを備えている。そして、第１の分割工程は、
請求項１の分割工程と同様に、水平方向に分割するステ
ップと、第１の総和値を求めるステップと、垂直方向に
分割するステップと、第２の総和値を求めるステップ
と、分割方向を選択するステップとを含んでいる。ま
た、第２の分割工程は、第１の分割工程によって選択さ
れた分割方向で分割された図形の中から精度劣化の原因
となる図形とその図形に接する図形とを抽出してグルー
プ化するステップと、そのグループ化された図形を１つ
の多角形にするステップと、分割方向の選択を行なうス
テップとを含んでいる。

【００１８】

【作用】請求項１〜３に係る電子ビーム描画パターン形
成方法では、水平方向および垂直方向に分割された図形
に対して長辺の長さを短辺の長さで割った値に基づいて
決定される決定値が総和されて第１および第２の総和値
が求められ、それに基づいて分割方向が選択されるの
で、従来の第１および第２の総和値を分割後の図形数で
割った値に基づいて分割方向を選択していた場合に比べ
てより正確な図形分割が行なわれる。また、第１および
第２の総和値を求めるときに用いる決定値を長辺の長さ
を短辺の長さで割った値にさらに短辺の長さに依存した
重みを考慮した値にすれば、描画精度が著しく劣化する
微小図形を含まないように図形分割を行なうことが容易
になる。また、第１および第２の総和値を求めるときに
用いる決定値を長辺の長さを短辺の長さで割った値にさ
らに分割後の図形の他の図形に接していない辺の長さに
関係した重みを考慮した値にすれば、辺の大部分が隣接
図形に接しているような図形分割にあまり悪影響を及ぼ
さないような微小図形と図形分割に悪影響を及ぼす微小
図形とが区別される。これにより、より正確な図形分割
が行なわれる。

【００１９】請求項４に係る電子ビーム描画パターン形
成方法では、分割工程が第１の分割工程と第２の分割工
程とからなり、第２の分割工程では第１の分割工程によ
って選択された分割方向で分割された図形の中から精度
劣化の原因となる図形とその図形に接する図形とが抽出
されてグループ化され、そのグループ化された図形が１
つの多角形にされ、その後分割方向の選択が行なわれる
ので、精度劣化の原因となる図形を含まない図形分割が
容易に行なえる。

【００２０】

【実施例】以下、本発明の実施例を図面に基づいて説明
する。

【００２１】図１は、本発明の第１実施例を説明するた
めの処理フロー図である。図１を参照して、基本的な処
理フローは、従来技術で述べた特開平５−１６６７０６
号公報に開示された技術とほぼ同じである。ただし、本
実施例では、従来と異なり分割結果の各図形のアスペク
トレシオの総和を選択判断の決定値に用いている。すな
わち、良好な分割結果が得られる分割方向を選択するた
めに、アスペクトレシオの総和の小さい方を選択する。

【００２２】具体的には、図１のステップ１に示すよう
にまず画描図形（多角形）の入力を行なう。そして、ス
テップ２に示すように、入力図形を水平方向に分割す
る。その後、ステップ３に示すようにアスペクトレシオ
の総和（ＴＡＳ_h ）を計算する。そして、ステップ４に
示すように入力図形を垂直方向に分割する。ステップ５
に示すようにアスペクトレシオの総和（ＴＡＳ_v ）を計
算する。そして、ステップ６に示すように各分割方向に
対するアスペクトレシオの総和を比較する。最後に、ス
テップ７に示すようにアスペクトレシオの総和の小さい
方の分割結果を出力する。

【００２３】本実施例では、上記のようにアスペクトレ
シオの総和を分割方向の選択判断の決定値として用いる
ことによって、従来技術で説明した図１７〜図１９の場
合において従来と異なり水平分割結果Ｂを選択すること
ができる。これにより、分割結果を正しく選択すること
ができる。つまり、本実施例の判断方法では、分割線が
入らないにもかかわらずそのアスペクトレシオが大きい
図形（図１８および図１９のＡ１およびＢ１）が選択判
断決定値であるアスペクトレシオ総和に与える影響が分
割後の図形数に依存しなくなる。したがって、従来より
も正しい判断を行なうことが可能となる。

【００２４】次に第２実施例について説明する。第２実
施例では、図１に示した第１実施例のステップ３，５の
アスペクトレシオの総和を計算する際に、分割された図
形の短辺の長さに依存した重みを導入する。図２は、図
形の短辺長さｌとそれに対応した重みＷ_l1を示した対応
図である。図２を参照して、たとえばゲート長や配線間
間隔などのＬＳＩパターンの中で特に重要となる寸法を
ＣＤ（Cretical Dimension）とする。そして、描画精度
が非常に劣化する境界の図形寸法をεとする。図形寸法
による重み付けを考慮したアスペクトレシオ総和を重み
付けアスペクトレシオ総和ＴＡＳ_W とする。ＴＡＳ
_W は、各図形のアスペクトレシオを計算し、その値に図
２に示すような図形寸法に応じた重みを乗じる。その重
みを乗じたアスペクトレシオの総和を計算する。そし
て、それを分割方向の選択判断決定値として用いる。

【００２５】この第２実施例では、このような手法を用
いることによって、短辺がε以下の精度劣化の激しい微
小図形がＴＡＳ_W に与える影響度を任意に変化させるこ
とができる。具体的には、図２に示した重み付け手法で
は、微小図形に対する重みが大きいので、図２０〜図２
２に示した図形の場合には従来と異なり微小図形の生じ
ていない分割結果Ｂが選択される。これにより、より正
確な図形分割を行なうことができる。

【００２６】次に、第３実施例について説明する。実施
例２よりもさらに分割方向の選択の精度を上げるため
に、この第３実施例では、他の図形に辺の大部分が接し
ているような微小図形の取扱いについて考慮する。図３
〜図５は、本発明の第３実施例の手法を説明するための
概略図である。図３〜図５を参照して、図３の図形を垂
直方向および水平方向に分割すれば、図４および図５に
示した垂直分割結果Ａと水平分割結果Ｂとになる。図４
に示した図形Ａ１およびＡ３は、微小幅図形であるの
で、上述した第２実施例の重み付けを適用すると、重み
付けアスペクトレシオ総和ＴＡＳ_W が大きくなる。この
ため、第２実施例による手法を適用すれば分割結果Ｂが
選択されることになる。

【００２７】しかし、微小図形Ａ１およびＡ３は両隣に
図形が存在しているので辺の大部分が隣接図形に接して
いることになる。このため、微小図形Ａ１およびＡ３は
重要なパターン幅Ｗにほとんど影響しない。よって、図
３に示すような図形では、垂直方向の分割結果Ａが選択
されるべきである。このような場合に対応するために、
短辺の長さがＣＤ以下の図形に対して、他の図形と接し
ていない辺の長さの図形の辺の長さの総和に対する割合
で重み付けを行なう。そして、アスペクトレシオ総和を
計算する。これを改良重み付けアスペクトレシオ総和
（ＴＡＳ_WI）とする。ＴＡＳ_WIは以下の式（１）のよう
に表現できる。

【００２８】 ＴＡＳ_WI＝ΣＡＳ×Ｗ_l1×Ｗ_l2 −（１） 上記式（１）を参照して、ＡＳは分割後の図形のアスペ
クトレシオ（長辺／短辺）、Ｗ_l1は図形短辺長に依存し
た重み（図２参照）、Ｗ_l2は他の図形に接していない辺
の長さのその図形の辺の全長に対する割合である。

【００２９】次に、第４実施例について説明する。第４
実施例では、図１に示した第１実施例の基本分割フロー
に、さらに次のような処理フローを追加する。図６は、
本発明の第４実施例による処理フローを示したフロー図
である。図６を参照して、この第４実施例では、まず図
１に示した第１実施例の基本分割フローをステップ１０
により行なう。そして、ステップ１１で基本分割フロー
で分割された結果を調査する。そして、上記した改良重
み付けアスペクトレシオがある一定値以上の図形（以下
「要注意微小図形」と呼ぶ）を抽出する。

【００３０】次に、ステップ１２において要注意微小図
形が存在していた場合はその要注意微小図形とその要注
意微小図形に接する図形とをすべて抽出してグループ化
する。

【００３１】次に、ステップ１３において、要注意微小
図形に接していない図形は出力する。

【００３２】ステップ１２においてグループ化した図形
をステップ１４において多角形化する。最後に、ステッ
プ１４で多角形化した図形に対してステップ１０で再び
基本分割フローを実施する。これを要注意微小図形が存
在しなくなるまで繰り返す。この第４実施例の手法を用
いれば、従来では所望の分割が行なえなかった図２３〜
図２５の場合でも正しい判別を行なうことができる。

【００３３】図７〜図１１は、図２３に示した従来の図
形と同様の図形を第４実施例の分割方法を用いて分割す
る場合を説明するためのフロー図である。図７〜図１１
を参照して、１回目の基本分割フローを実施した後に生
じる図形Ａ，Ｃの改良重み付けアスペクトレシオが一定
値以上であるとする。それにより、図形Ａ，Ｃは要注意
微小図形と判断される。１回目の基本分割フロー後に生
じた要注意微小図形Ａ，Ｃに接する図形を図９に示すよ
うにグループ化する。ここで、要注意微小図形Ａ，Ｃに
接していない図形Ｄ，Ｅは、この時点で出力される。

【００３４】次に、グループ化された図形のグループ
（Ａ，Ｂ，Ｃ）を多角形化する。これにより、図１０に
示されるような多角形化された図形Ｆが得られる。この
図形Ｆを基本分割フロー（２回目）で処理することによ
って、図１１に示されるような要注意微小図形が存在し
ない図形Ｇ，Ｈが得られる。

【００３５】

【発明の効果】請求項１〜３に記載の電子ビーム描画パ
ターン形成方法によれば、水平方向および垂直方向に分
割されたすべての図形に対して長辺の長さを短辺の長さ
で割った値に基づいて決定される決定値を総和して第１
および第２の総和値を求め、それらに基づいて分割方向
を選択することによって、従来に比べてより正確な図形
分割を行なうことができる。また、第１および第２の総
和値を求めるときに用いる決定値を短辺の長さに依存し
た重みを考慮した値にすれば、描画精度をさらに向上さ
せることができる。また、上記した決定値を分割後の図
形の他の図形に接していない辺の長さに関係した重みを
考慮した値にしても、さらに描画精度を向上させること
ができる。

【００３６】請求項４に記載の電子ビーム描画パターン
形成方法によれば、第１の分割工程を行なった後、精度
劣化の原因となる図形とその図形に接する図形とを抽出
してグループ化した後さらに分割することによって、精
度劣化の原因となる微小図形を含まないような分割がよ
り容易になる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１実施例による電子ビーム描画パタ
ーン形成方法の処理フローを示した図である。

【図２】本発明の第２実施例による電子ビーム描画パタ
ーン形成方法に用いる図形の短辺長さと重みとの関係を
示した図である。

【図３】本発明の第３実施例による電子ビーム描画パタ
ーン形成方法の効果を説明するための図形を示した概略
図である。

【図４】図３に示した図形を垂直方向に分割した図形を
示した概略図である。

【図５】図３に示した図形を水平方向に分割した図形を
示した概略図である。

【図６】本発明の第４実施例による電子ビーム描画パタ
ーン形成方法の処理フローを示した図である。

【図７】図６に示した第４実施例の処理フローを適用す
る入力図形を示した概略図である。

【図８】図７に示した入力図形に第４実施例の処理フロ
ーを適用する場合の第１ステップを示した概略図であ
る。

【図９】図７に示した入力図形に第４実施例の処理フロ
ーを適用する場合の第２ステップを示した概略図であ
る。

【図１０】図７に示した入力図形に第４実施例の処理フ
ローを適用する場合の第３ステップを示した概略図であ
る。

【図１１】図７に示した入力図形に第４実施例の処理フ
ローを適用する場合の第４ステップを示した概略図であ
る。

【図１２】従来の電子ビーム描画パターン形成方法の処
理フローを示した図である。

【図１３】従来の台形分割工程を行なう前の段階を示し
た概略図である。

【図１４】従来の台形分割工程を行なった後の図形を示
した概略図である。

【図１５】従来の改良された電子ビーム描画パターン形
成方法の図形Ａ部分の分割方法を説明するための概略図
である。

【図１６】従来の改良された電子ビーム描画パターン形
成方法の図形Ｂ部分の分割方法を説明するための概略図
である。

【図１７】従来の電子ビーム描画パターン形成方法の第
１の問題点を説明するための入力図形を示した概略図で
ある。

【図１８】図１７に示した入力図形を垂直方向に分割し
た図形Ａを示した概略図である。

【図１９】図１７に示した入力図形を水平方向に分割し
た図形Ｂを示した概略図である。

【図２０】従来の電子ビーム描画パターン形成方法の第
２の問題点を説明するための入力図形を示した概略図で
ある。

【図２１】図２０に示した入力図形を垂直方向に分割し
た図形Ａを示した概略図である。

【図２２】図２０に示した入力図形を水平方向に分割し
た図形Ｂを示した概略図である。

【図２３】従来の電子ビーム描画パターン形成方法の第
３の問題点を説明するための入力図形を示した概略図で
ある。

【図２４】図２３に示した入力図形を垂直方向に分割し
た図形Ａを示した概略図である。

【図２５】図２３に示した入力図形を水平方向に分割し
た図形Ｂを示した概略図である。

【符号の説明】

Ａ：垂直分割結果 Ｂ：水平分割結果

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 入力された図形を電子ビーム露光装置で
   描画可能な基本図形に分割する分割工程を含む電子ビー
   ム描画パターン形成方法であって、 前記分割工程は、 前記入力された図形を水平方向に分割するステップと、 前記水平方向に分割されたすべての図形に対して、長辺
   の長さを短辺の長さで割った値に基づいて決定される決
   定値を総和して第１の総和値を求めるステップと、 前記入力された図形を垂直方向に分割するステップと、 前記垂直方向に分割されたすべての図形に対して、長辺
   の長さを短辺の長さで割った値に基づいて決定される決
   定値を総和して第２の総和値を求めるステップと、 前記第１の総和値と前記第２の総和値とに基づいて分割
   方向を選択するステップとを備えた、電子ビーム描画パ
   ターン形成方法。
2. 【請求項２】 前記第１および第２の総和値を求めると
   きに用いる決定値は、前記長辺の長さを前記短辺の長さ
   で割った値にさらに前記短辺の長さに依存した重みを考
   慮した値である、請求項１に記載の電子ビーム描画パタ
   ーン形成方法。
3. 【請求項３】 前記第１および第２の総和値を求めると
   きに用いる決定値は、前記長辺の長さを前記短辺の長さ
   で割った値にさらに前記分割された図形の他の図形に接
   していない辺の長さに関係した重みを考慮した値であ
   る、請求項１に記載の電子ビーム描画パターン形成方
   法。
4. 【請求項４】 入力された図形を電子ビーム露光装置で
   描画可能な基本図形に分割する分割工程を含む電子ビー
   ム描画パターン形成方法であって、 前記分割工程は、第１の分割工程と、第２の分割工程と
   を備え、 前記第１の分割工程は、 前記入力された図形を水平方向に分割するステップと、 前記水平方向に分割されたすべての図形に対して、長辺
   の長さを短辺の長さで割った値に基づいて決定される決
   定値を総和して第１の総和値を求めるステップと、 前記入力された図形を垂直方向に分割するステップと、 前記垂直方向に分割されたすべての図形に対して、長辺
   の長さを短辺の長さで割った値に基づいて決定される決
   定値を総和して第２の総和値を求めるステップと、 前記第１の総和値と前記第２の総和値とに基づいて分割
   方向を選択するステップとを含み、 前記第２の分割工程は、 前記第１の分割工程によって選択された分割方向で分割
   された図形の中から精度劣化の原因となる図形と前記図
   形に接する図形とを抽出してグループ化するステップ
   と、 前記グループ化された図形を１つの多角形にするステッ
   プと、 その後、分割方向の選択を行なうステップとを含む、電
   子ビーム描画パターン形成方法。