JPH0722851Y2 - イオン処理装置 - Google Patents
イオン処理装置Info
- Publication number
- JPH0722851Y2 JPH0722851Y2 JP1986047042U JP4704286U JPH0722851Y2 JP H0722851 Y2 JPH0722851 Y2 JP H0722851Y2 JP 1986047042 U JP1986047042 U JP 1986047042U JP 4704286 U JP4704286 U JP 4704286U JP H0722851 Y2 JPH0722851 Y2 JP H0722851Y2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- disk
- ball
- ion
- rotating shaft
- housed
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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Description
【考案の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この考案は、真空容器内で少なくとも回転させられるデ
ィスクに装着されたウエハにイオンビームを照射して当
該ウエハを処理するイオン処理装置に関し、特にディス
ク用回転軸からのイオンビーム電流の導出手段の改良に
関する。
ィスクに装着されたウエハにイオンビームを照射して当
該ウエハを処理するイオン処理装置に関し、特にディス
ク用回転軸からのイオンビーム電流の導出手段の改良に
関する。
イオン処理装置には、例えば、イオン注入装置、イオン
注入と真空蒸着とを併用するイオン蒸着薄膜形成装置、
イオンビームエッチング装置等がある。以下においては
イオン注入装置を例に説明する。
注入と真空蒸着とを併用するイオン蒸着薄膜形成装置、
イオンビームエッチング装置等がある。以下においては
イオン注入装置を例に説明する。
第２図は従来のイオン注入装置のディスク回りの一例を
部分的に示す概略断面図であり、第３図は第２図のディ
スクを示す概略平面図である。このイオン注入装置は、
例えば特開昭58−198843号公報に開示されているよう
に、イオンビーム２を走査する代わりにディスク６を回
転および並進させるいわゆるメカニカルスキャン方式の
ものである。
部分的に示す概略断面図であり、第３図は第２図のディ
スクを示す概略平面図である。このイオン注入装置は、
例えば特開昭58−198843号公報に開示されているよう
に、イオンビーム２を走査する代わりにディスク６を回
転および並進させるいわゆるメカニカルスキャン方式の
ものである。
即ち、真空容器（図示省略）内に、表面の同一半径上に
複数枚のウエハ４が装着されるディスク６が収納されて
おり、当該ディスク６は、ディスク回転・並進機構10に
よって、例えば矢印Ｂのように例えば高速回転させられ
ると共に、矢印Ｃ（第２図では紙面の表裏方向）のよう
にイオンビーム２に対して垂直に並進させられ、これに
よって各ウエハ４に均一にイオン注入が行われるように
している。
複数枚のウエハ４が装着されるディスク６が収納されて
おり、当該ディスク６は、ディスク回転・並進機構10に
よって、例えば矢印Ｂのように例えば高速回転させられ
ると共に、矢印Ｃ（第２図では紙面の表裏方向）のよう
にイオンビーム２に対して垂直に並進させられ、これに
よって各ウエハ４に均一にイオン注入が行われるように
している。
ディスク回転・並進機構10は、ガイドレール14a、14bに
直線移動可能に支えられた移動体12を備えており、ディ
スク６に結合された回転軸８は、ボールベアリング24、
25を介して当該移動体12に回転自在に支持されている。
移動体12内には、駆動軸18と回転軸８にそれぞれ取り付
けられかつ互いに噛合している歯車20、22が設けられて
おり、図示しないモータによって駆動軸18を回転させる
ことによってディスク６の前述したような回転が行われ
る。また、移動体12にはボールねじ16が噛合されてお
り、図示しないモータによってボールねじ16を回転させ
ることによって移動体12の直線移動、即ちディスク６の
前述したような並進が行われる。
直線移動可能に支えられた移動体12を備えており、ディ
スク６に結合された回転軸８は、ボールベアリング24、
25を介して当該移動体12に回転自在に支持されている。
移動体12内には、駆動軸18と回転軸８にそれぞれ取り付
けられかつ互いに噛合している歯車20、22が設けられて
おり、図示しないモータによって駆動軸18を回転させる
ことによってディスク６の前述したような回転が行われ
る。また、移動体12にはボールねじ16が噛合されてお
り、図示しないモータによってボールねじ16を回転させ
ることによって移動体12の直線移動、即ちディスク６の
前述したような並進が行われる。
ディスク６はこの例では、例えばフレオン、冷却水等の
冷媒Ｗによって冷却されるように構成されており、当該
冷媒Ｗの供給・回収のためのロータリジョイント28が移
動体12に取り付けられている。即ち、ロータリジョイン
ト28は円筒状のステータ30を有しており、上記回転軸８
がステータ30内にまで延長されてボールベアリング26で
回転自在に支持されている。そして回転軸８内からディ
スク６内にかけて、冷媒Ｗの往路42および復路44が設け
られており、ステータ30に接続された冷媒Ｗの往管36お
よび復管38がそれらにそれぞれ連通している。尚、34は
可動部等のシール用のパッキンであり、32は蓋である。
冷媒Ｗによって冷却されるように構成されており、当該
冷媒Ｗの供給・回収のためのロータリジョイント28が移
動体12に取り付けられている。即ち、ロータリジョイン
ト28は円筒状のステータ30を有しており、上記回転軸８
がステータ30内にまで延長されてボールベアリング26で
回転自在に支持されている。そして回転軸８内からディ
スク６内にかけて、冷媒Ｗの往路42および復路44が設け
られており、ステータ30に接続された冷媒Ｗの往管36お
よび復管38がそれらにそれぞれ連通している。尚、34は
可動部等のシール用のパッキンであり、32は蓋である。
上記のような装置においては、各種制御のために、ディ
スク６およびその上のウエハ４に照射されるイオンビー
ム２のビーム電流Ｉの計測が行われる。例えば、ディス
ク６の並進速度ｖは、各ウエハ４に均一にイオン注入す
るために、ビーム電流Ｉに基づて ｖ∝I/R となるように制御される。Ｒは、ディスク６の中心とイ
オンビーム２の中心間の距離である（第３図参照）。ま
た、ウエハ４に注入するイオンのドーズ量もイオンビー
ムＩに基づいて制御される。
スク６およびその上のウエハ４に照射されるイオンビー
ム２のビーム電流Ｉの計測が行われる。例えば、ディス
ク６の並進速度ｖは、各ウエハ４に均一にイオン注入す
るために、ビーム電流Ｉに基づて ｖ∝I/R となるように制御される。Ｒは、ディスク６の中心とイ
オンビーム２の中心間の距離である（第３図参照）。ま
た、ウエハ４に注入するイオンのドーズ量もイオンビー
ムＩに基づいて制御される。
上記イオンビームＩは、具体的には、回転軸８およびボ
ールベアリング24〜26を介して、非回転部、例えば移動
体12あるいはロータリジョイント28のステータ30に導出
され、そこから更に、例えば蓋32に接続されたリード線
46を経由する等して電流計測器48に導かれ、そこで計測
される。
ールベアリング24〜26を介して、非回転部、例えば移動
体12あるいはロータリジョイント28のステータ30に導出
され、そこから更に、例えば蓋32に接続されたリード線
46を経由する等して電流計測器48に導かれ、そこで計測
される。
所が、ボールベアリング24〜26には、僅かではあるが潤
滑油が塗布されており、それが絶縁被膜となってディス
ク６が電気的に浮いた状態となる場合がある。そのよう
になると、イオンビーム２の照射に伴ってディスク６が
高電圧に充電（帯電）され、それがある限度を越えると
上記絶縁被膜が破壊されて瞬時に放電され、このような
充放電が繰り返されるようになる。その結果、電流計測
器48によって計測されるビーム電流Ｉの波形は大きく乱
れ、そのためビーム電流Ｉに基づく各種制御が不能に陥
る場合もある。
滑油が塗布されており、それが絶縁被膜となってディス
ク６が電気的に浮いた状態となる場合がある。そのよう
になると、イオンビーム２の照射に伴ってディスク６が
高電圧に充電（帯電）され、それがある限度を越えると
上記絶縁被膜が破壊されて瞬時に放電され、このような
充放電が繰り返されるようになる。その結果、電流計測
器48によって計測されるビーム電流Ｉの波形は大きく乱
れ、そのためビーム電流Ｉに基づく各種制御が不能に陥
る場合もある。
そこでこの考案は、上記のような問題点を解決すること
ができるイオン処理装置を提供することを主たる目的と
する。
ができるイオン処理装置を提供することを主たる目的と
する。
この考案のイオン処理装置は、真空容器内で少なくとも
回転させられるディスクに装着されたウエハにイオンビ
ームを照射して当該ウエハを処理する装置において、デ
ィスクに結合された回転軸のディスクとは反対側の端部
の中心部内に導電性のボールケースを収納固定し、この
ボールケース内に導電性のコイルばねを収納し、かつ同
ボールケース内に導電性のボールを収納してそれをコイ
ルばねによって、回転軸の端部に対向する非回転部に弾
性的に押し付け、それによって回転軸と非回転部との導
電を図っていることを特徴とする。
回転させられるディスクに装着されたウエハにイオンビ
ームを照射して当該ウエハを処理する装置において、デ
ィスクに結合された回転軸のディスクとは反対側の端部
の中心部内に導電性のボールケースを収納固定し、この
ボールケース内に導電性のコイルばねを収納し、かつ同
ボールケース内に導電性のボールを収納してそれをコイ
ルばねによって、回転軸の端部に対向する非回転部に弾
性的に押し付け、それによって回転軸と非回転部との導
電を図っていることを特徴とする。
ディスクの回転軸に流れるビーム電流は、いずれも導電
性のボールケース、コイルばねおよびボールを経由して
非回転部に導出される。従って、従来のようにベアリン
グ部における潤滑油による絶縁被膜の影響は受けない。
しかもボールは、回転軸端部に対向する非回転部に点接
触し、しかもボールに大きな力を加える必要はないの
で、接触点における摩擦、摩耗は非常に小さく、従って
機械的な面での支障もない。
性のボールケース、コイルばねおよびボールを経由して
非回転部に導出される。従って、従来のようにベアリン
グ部における潤滑油による絶縁被膜の影響は受けない。
しかもボールは、回転軸端部に対向する非回転部に点接
触し、しかもボールに大きな力を加える必要はないの
で、接触点における摩擦、摩耗は非常に小さく、従って
機械的な面での支障もない。
第１図は、この考案の一実施例に係るイオン注入装置の
ディスク用回転軸の端部を部分的に示す拡大断面図であ
る。第２図および第３図と同一または同等部分には同一
符号を付してその説明を省略する。
ディスク用回転軸の端部を部分的に示す拡大断面図であ
る。第２図および第３図と同一または同等部分には同一
符号を付してその説明を省略する。
この実施例においては、回転軸８のディスク６とは反対
側の端部8aの中心部の穴8bに、ボールケース50を挿入固
定し、その中にコイルばね（より具体的には圧縮コイル
ばね）52およびボール54を装着しており、これによって
ボール54を、対向する非回転部、例えば蓋32に弾性的に
押しつけるようにしている。
側の端部8aの中心部の穴8bに、ボールケース50を挿入固
定し、その中にコイルばね（より具体的には圧縮コイル
ばね）52およびボール54を装着しており、これによって
ボール54を、対向する非回転部、例えば蓋32に弾性的に
押しつけるようにしている。
この場合、ボールケース50、コイルばね52およびボール
54は、回転軸８と蓋32との導電を図るためのものである
から、いずれも導電性のもの、例えば金属製のものを用
いる。また、穴8bは、例えば回転軸８に前述した冷媒Ｗ
の往路42を設ける場合に通常形成される穴をそのまま利
用すれば簡単で良い。そのような穴がなければ端部8bに
新たに穴を設けても良い。
54は、回転軸８と蓋32との導電を図るためのものである
から、いずれも導電性のもの、例えば金属製のものを用
いる。また、穴8bは、例えば回転軸８に前述した冷媒Ｗ
の往路42を設ける場合に通常形成される穴をそのまま利
用すれば簡単で良い。そのような穴がなければ端部8bに
新たに穴を設けても良い。
上記構成によれば、回転軸８、ボールケース50、コイル
ばね52、ボール54および蓋32の各部分はそれぞれ導電接
触するので、回転軸８に流れるビーム電流Ｉは、ボール
ケース50、コイルばね52およびボール54を経由して非回
転部である蓋32に安定して導出される。つまり、回転軸
８に流れるビーム電流Ｉの非回転部への導出には従来の
ようにボールベアリング24〜26を経由しないので、ボー
ルベアリング24〜26における潤滑油による絶縁被膜の影
響を受けることはなくなる。その結果、ビーム電流Ｉの
計測、更にはそれに基づく各種制御も安定して支障なく
行えるようになる。
ばね52、ボール54および蓋32の各部分はそれぞれ導電接
触するので、回転軸８に流れるビーム電流Ｉは、ボール
ケース50、コイルばね52およびボール54を経由して非回
転部である蓋32に安定して導出される。つまり、回転軸
８に流れるビーム電流Ｉの非回転部への導出には従来の
ようにボールベアリング24〜26を経由しないので、ボー
ルベアリング24〜26における潤滑油による絶縁被膜の影
響を受けることはなくなる。その結果、ビーム電流Ｉの
計測、更にはそれに基づく各種制御も安定して支障なく
行えるようになる。
ちなみに、蓋32に導出されたビーム電流Ｉを例えば前述
したような電流計測器48等へ導く手段としては種々のも
の、例えば、図示例のように蓋32と電流計測器48をリ
ード線46で接続する。ステータ30、往管36、復管38等
を経由して電流計測器48に導く、あるいはステータ3
0、第２図に示した移動体12、ガイドレール14a、14b等
を経由して電流計測器48に導く、あるいは上記〜の
幾つかを併用する等の手段が採り得る。
したような電流計測器48等へ導く手段としては種々のも
の、例えば、図示例のように蓋32と電流計測器48をリ
ード線46で接続する。ステータ30、往管36、復管38等
を経由して電流計測器48に導く、あるいはステータ3
0、第２図に示した移動体12、ガイドレール14a、14b等
を経由して電流計測器48に導く、あるいは上記〜の
幾つかを併用する等の手段が採り得る。
上記の場合、ボール54は、回転軸８と共に回転するけれ
ども、回転軸８の回転中心の一点で蓋32に接触し、しか
も導電だけのためであるからボール54に大きな力を加え
る必要はないので、ボール54と蓋32との接触点における
摩擦、摩耗は非常に小さく、従って機械的な面での支障
もない。
ども、回転軸８の回転中心の一点で蓋32に接触し、しか
も導電だけのためであるからボール54に大きな力を加え
る必要はないので、ボール54と蓋32との接触点における
摩擦、摩耗は非常に小さく、従って機械的な面での支障
もない。
なお、以上においてはディスクを回転および並進させる
イオン注入装置を例に説明したけれども、この考案はそ
れに限定されるものではなく、例えばイオンビームを直
線走査してディスクは回転させるだけのイオン注入装置
や、更にはイオン注入装置以外の一番初めに例示したよ
うなイオン処理装置にも適用することができる。
イオン注入装置を例に説明したけれども、この考案はそ
れに限定されるものではなく、例えばイオンビームを直
線走査してディスクは回転させるだけのイオン注入装置
や、更にはイオン注入装置以外の一番初めに例示したよ
うなイオン処理装置にも適用することができる。
以上のようにこの考案によれば、ディスクの回転軸に流
れるビーム電流を、いずれも導電性のボールケース、コ
イルばねおよびボールを経由して非回転部へ安定して導
出することができ、その結果、当該ビーム電流の計測、
更にはそれに基づく各種制御を安定して支障なく行える
ようになる。
れるビーム電流を、いずれも導電性のボールケース、コ
イルばねおよびボールを経由して非回転部へ安定して導
出することができ、その結果、当該ビーム電流の計測、
更にはそれに基づく各種制御を安定して支障なく行える
ようになる。
しかも、上記ボールケース、コイルばねおよびボールの
殆ど全てが、回転軸の端部内に納まった構造であるの
で、これらの部品を設けても回転軸の端部周りに特別な
スペースが必要で無く、従って回転軸の後部周りが大型
化するのを防止することができるという効果も得られ
る。
殆ど全てが、回転軸の端部内に納まった構造であるの
で、これらの部品を設けても回転軸の端部周りに特別な
スペースが必要で無く、従って回転軸の後部周りが大型
化するのを防止することができるという効果も得られ
る。
第１図は、この考案の一実施例に係るイオン注入装置の
ディスク用回転軸の端部を部分的に示す拡大断面図であ
る。第２図は、従来のイオン注入装置のディスク回りの
一例を部分的に示す概略断面図である。第３図は、第２
図のディスクを示す概略平面図である。 ２……イオンビーム、４……ウエハ、６……ディスク、
８……回転軸、24〜26……ボールベアリング、28……ロ
ータリジョイント、32……蓋、50……ボールケース、52
……コイルばね、54……ボール、Ｉ……ビーム電流。
ディスク用回転軸の端部を部分的に示す拡大断面図であ
る。第２図は、従来のイオン注入装置のディスク回りの
一例を部分的に示す概略断面図である。第３図は、第２
図のディスクを示す概略平面図である。 ２……イオンビーム、４……ウエハ、６……ディスク、
８……回転軸、24〜26……ボールベアリング、28……ロ
ータリジョイント、32……蓋、50……ボールケース、52
……コイルばね、54……ボール、Ｉ……ビーム電流。
Claims (1)
- 【請求項１】真空容器内で少なくとも回転させられるデ
ィスクに装着されたウエハにイオンビームを照射して当
該ウエハを処理する装置において、ディスクに結合され
た回転軸のディスクとは反対側の端部の中心部内に導電
性のボールケースを収納固定し、このボールケース内に
導電性のコイルばねを収納し、かつ同ボールケース内に
導電性のボールを収納してそれをコイルばねによって、
回転軸の端部に対向する非回転部に弾性的に押し付け、
それによって回転軸と非回転部との導電を図っているこ
とを特徴とするイオン処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1986047042U JPH0722851Y2 (ja) | 1986-03-29 | 1986-03-29 | イオン処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1986047042U JPH0722851Y2 (ja) | 1986-03-29 | 1986-03-29 | イオン処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62158756U JPS62158756U (ja) | 1987-10-08 |
| JPH0722851Y2 true JPH0722851Y2 (ja) | 1995-05-24 |
Family
ID=30867268
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1986047042U Expired - Lifetime JPH0722851Y2 (ja) | 1986-03-29 | 1986-03-29 | イオン処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0722851Y2 (ja) |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5932198U (ja) * | 1982-08-23 | 1984-02-28 | 石川島播磨重工業株式会社 | ポンプの回転数制御装置 |
| JPS5986143A (ja) * | 1982-11-09 | 1984-05-18 | Ulvac Corp | ウエハ自動交換装置 |
-
1986
- 1986-03-29 JP JP1986047042U patent/JPH0722851Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS62158756U (ja) | 1987-10-08 |
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