JPH07233227A - 光学シート用電離放射線硬化型樹脂組成物、光学シート及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【構成】 環状構造を有し、二つ以上のアクリレート基
を有するエポキシアクリレート（ａ）と、環状構造を有
する単官能アクリレート（ｂ）と、必要に応じて添加さ
れる光開始剤（ｃ）からなり、アクリレート官能基が
０．２〜５．０ｍｍｏｌ／ｇで、２５℃における粘度が
１０００〜１２０００ｃｐｓであり、かつ硬化収縮率
が、５．５％以下であることを特徴とする光学シート用
電離放射線硬化型樹脂組成物、該電離放射線硬化型樹脂
組成物を用いた光学シート並びに該光学シートの製造方
法。 【効果】 本発明は、フレネルレンズ、レンチキュラレ
ンズ、後方反射レンズ等に有用な、表面硬度が高く、硬
化時の変形や耐候性低下の問題がなく、かつ硬化時間が
短く、生産性に優れる、表面に微細構造を有する光学シ
ート用の電離放射線硬化型樹脂組成物、光学シート及び
その製造方法を提供できる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、液晶ディスプレー、ビ
デオプロジェクター等に使用されるフレネルレンズ、レ
ンチキュラレンズ、後方反射レンズ、ホログラム等の表
面に微細構造を有する光学シートと、該光学シート用樹
脂組成物、及び該光学シートの製造方法に関するもので
ある。

【０００２】

【従来の技術】近年、液晶ディスプレ−の急速な発展に
より、テレビモニタ−、ビデオモニタ−やコンピュ−タ
ディスプレ−の屋外や車内での使用が可能となり、これ
らの用途に用いられるバックライト用の光拡散板、集光
板、投射テレビジョンのスクリーン用のレンチキュラレ
ンズやフレンネルレンズ等の光学シート用途として、従
来では考えられなかった高温、低温条件下、または高湿
度、低湿度条件下での使用に十分耐え得る光学シートの
早急な開発が求められている。

【０００３】従来、光学シートは、米国特許２４８２５
９８号公報や、米国特許３５６５９７８号公報等に開示
されている熱可塑性樹脂の射出成形、あるいは、熱プレ
ス成形により製造されるのが一般的であった。しかしな
がら、これらの製造方法では、製造時の加熱及び冷却に
長時間を必要とし、生産性が低いという問題点と、製造
された光学シートの耐久性が十分でないと言う問題点を
有していた。

【０００４】近年、レンズ型母型と透明フィルムの間
に、反応性樹脂を介在させ、熱や紫外線により、反応性
樹脂を硬化させることによってレンズ母型のレプリカを
製造する方法が提案されている。米国特許２５２４８６
２号公報には、（メタ）アクリル酸やメチルメタアクリ
レート等のモノマー、あるいは一部重合したこれら組成
物を光重合により光学部品を製造する方法が述べられて
いる。

【０００５】また、米国特許３６８９３４６号公報や米
国特許３９３５３５９号公報には、架橋可能な、一部ポ
リマー化されたアクリルエステル等の樹脂組成物を、レ
ンズ母型に注入し、活性エネルギー線や熱によって、固
化させる方法により、光学シートを連続的に製造する方
法が述べられている。

【０００６】特開昭４８−２１５４６号公報では、透明
な狭持体間に無溶媒型光硬化性樹脂を狭持せしめ、透明
部より露光して、露光部分を硬化せしめ、狭持体の接触
面に応じた形状の光硬化性樹脂成形体を得ることを特徴
とする光学素子の製造方法が開示されている。

【０００７】また、米国特許４３７６８００号公報に
は、アクリルモノマーとウレタンアクリレートからなる
組成物を紫外線硬化にて光学物品を製造する方法が述べ
られている。しかしながら、こうした方法は、皮膚刺激
性、毒性等の強いモノマ−の使用で作業環境の悪化や、
反応が完結するまでに時間が懸かり、生産性に劣る欠点
を有していた。更に、機械的物性が悪かったり、硬化時
の収縮によりフィルムのカール等の変形を生じてしまう
問題点も有していた。

【０００８】特公昭６２−５１７２５号公報では、情報
トラックを有する金属製のダイ（母型）上に、飽和炭化
水素やフェニル基を含有する放射線重合性樹脂を被着
し、次いで該重合性樹脂の前記ダイと反対側の表面上に
基板を設けるか、または予め該重合性樹脂層を基板に被
着した後、該基板を有する重合性成形樹脂層を前記ダイ
上に被着し、該重合性成形樹脂を光硬化した後、該重合
性成形樹脂層とこれに結合した基板とをダイから除去す
ることによる、ＣＤとかＬＤ等のプラスチック情報キャ
リアの複製法を開示している。

【０００９】また米国特許４５７６８５０号公報、特公
平４−５６８１号公報には、所謂ソフトセグメントとハ
ードセグメントと称する化合物の混合物を、紫外線照射
にて架橋硬化させることにより、熱寸法安定性の向上や
機械的物性を改良する方法が開示されている。しかしな
がらこれらの方法では、やはり硬化時間が長くかかった
り、ソフトセグメントの導入による生成硬化物の表面硬
度の低下、あるいは光学シートの硬化時の変形や、耐候
性低下の問題が残されていた。

【００１０】また、従来の紫外線硬化層と樹脂透明基材
とを密着させて製造される光学シートでは、光学シート
としての機械的強度は、優れるものの、密着界面での密
着性に問題があり、長期の密着性、耐久性の面で問題が
残されていた。

【００１１】

【発明が解決しようとする課題】本発明が解決しようと
する課題は、光学シートの表面硬度が高く、硬化時のシ
ートの変形や、耐候性低下の問題がなく、かつ硬化時間
が短く、生産性に優れる光学シート用電離放射線硬化型
樹脂組成物、光学シート及びその製造方法を提供するこ
とにある。

【００１２】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記の課
題を解決する為に、鋭意検討の結果、特定の電離放射線
硬化型樹脂組成物を用いた微細構造を有する電離放射線
硬化型樹脂組成物層（Ａ）と、接着層（Ｂ）と、シート
状の透明樹脂層（Ｃ）の３層から成る光学シ−トが、硬
化物表面の硬度を保持しつつ、耐久性に優れ、かつ硬化
時にカール等の光学シートとしての変形が極めて少な
く、かつ膜厚が薄く、微細パターンの設計が可能な、硬
化速度の速い、新規な電離放射線硬化型樹脂組成物と、
該樹脂組成物を用いた光学シート及び、その製造方法を
見い出し、本発明を完成するに至った。

【００１３】即ち、本発明は、環状構造を有し、二つ以
上のアクリレート基を有するエポキシアクリレート
（ａ）と、環状構造を有する単官能アクリレート（ｂ）
と、必要に応じて添加される光開始剤（ｃ）からなり、
アクリレート官能基が０．２〜５．０ｍｍｏｌ／ｇで、
２５℃における粘度が１０００〜１２０００ｃｐｓであ
り、かつ式１にて算出される硬化収縮率が、５．５％以
下であることを特徴とする光学シート用電離放射線硬化
型樹脂組成物である。 硬化収縮率（％）＝（ＤS−ＤL）／ＤS × １００ （式１） （但し、式中のＤLは硬化前の組成物の比重、ＤSは硬化
後の比重を表わす。）

【００１４】また本発明は、環状構造を有し、二つ以上
のアクリレート基を有するエポキシアクリレート（ａ）
が、ビスフェノールＡ及び／または水添ビスフェノール
Ａの構造を有するエポキシアクリレートであることを特
徴とする光学シート用電離放射線硬化型樹脂組成物であ
り、更に環状構造を有し、二つ以上のアクリレート基を
有するエポキシアクリレート（ａ）が、一部ハロゲン置
換されたビスフェノールＡ及び／または水添ビスフェノ
ールＡの構造を有するエポキシアクリレートであること
を特徴とする光学シート用樹脂組成物を含むものであ
る。

【００１５】また本発明の光学シート用樹脂組成物の環
状構造を有する単官能アクリレート（ｂ）は、特にイソ
ボロニル（メタ）アクリレート、またはグリシジルシク
ロカーボネート（メタ）アクリレート、またはテトラヒ
ドロフルフリル（メタ）アクリレート、または２−ヒド
ロキシ−３−フェノキシ−プロピル（メタ）アクリレー
トであることを特徴とする光学シート用樹脂組成物であ
る。

【００１６】また本発明は、上述の光学シート用電離放
射線硬化型樹脂組成物から成る、微細構造を有する電離
放射線硬化型樹脂組成物層（Ａ）と、必要に応じて設け
る接着層（Ｂ）と、シート状の透明樹脂層（Ｃ）から成
る光学シ−トである。

【００１７】また本発明の該光学シ−トは、接着層
（Ｂ）が、セルロース樹脂（ｂ1）と、ポリイソシアネ
−ト（ｂ2）とから成るものや、接着層（Ｂ）が、分子
量３０００から３００００のポリエステル樹脂（ｂ3）
と、ポリイソシアネ−ト（ｂ2）とから成るもの、及び
接着層（Ｂ）が、分子量３０００から３００００のポリ
エステル樹脂（ｂ3）と、環状構造を有するエポキシア
クリレートと、光開始剤から成り、かつ該エポキシアク
リレ−トの含量が１０％〜６０％であることを特徴とす
る光学シートである。

【００１８】また本発明の光学シ−トは、シート状の透
明樹脂層（Ｃ）が、ポリエステル、またはポリカ−ボネ
−ト樹脂であることを特徴とする光学シートであり、上
述の光学シート用電離放射線硬化型樹脂組成物から成る
微細構造を有する層（Ａ）と、接着層（Ｂ）と、ポリエ
ステルまたはポリカ−ボネ−ト樹脂から成るシート状の
透明樹脂層（Ｃ）から成る光学シ−トである。

【００１９】また本発明の光学シ−トは、上述の光学シ
ート用電離放射線硬化型樹脂組成物から成る微細構造を
有する層（Ａ）と、セルロース樹脂（ｂ1）と、ポリイ
ソシアネ−ト（ｂ2）から成る接着層（Ｂ）と、ポリエ
ステルまたはポリカ−ボネ−ト樹脂から成るシート状の
透明樹脂層（Ｃ）から成る光学シ−トであり、

【００２０】また同様に、上述の光学シート用電離放射
線硬化型樹脂組成物から成る微細構造を有する層（Ａ）
と、分子量３０００から３００００のポリエステル樹脂
（ｂ3）と、ポリイソシアネ−ト（ｂ2）とから成る接着
層（Ｂ）と、ポリエステルまたはポリカ−ボネ−ト樹脂
から成るシート状の透明樹脂層（Ｃ）から成る光学シ−
トであり、

【００２１】また上述の光学シート用電離放射線硬化型
樹脂組成物から成る微細構造を有する層（Ａ）と、分子
量３０００から３００００のポリエステル樹脂と、環状
構造を有するエポキシアクリレートと、光開始剤から成
り、かつエポキシアクリレ−トの含量が１０％〜６０％
である樹脂組成物から成る接着層（Ｂ）と、ポリエステ
ルまたはポリカ−ボネ−ト樹脂から成るシート状の透明
樹脂層（Ｃ）から成る光学シ−トである。

【００２２】また本発明は、所望の微細凹凸形状の型が
形成されたロール凹版を回転させ、そのロール凹版の少
なくとも凹部に電離放射線硬化型樹脂液を充填する充填
工程と；前記充填工程で前記ロール凹版に充填された前
記電離放射線硬化型樹脂液に対して、前記ロール凹版の
回転方向に同期して走向する透明樹脂シート基材を接触
させる接触工程と；

【００２３】前記接触工程で前記シート基材が前記ロー
ル凹版に接触している間に、前記ロール凹版と前記シー
ト基材間にある電離放射線硬化型樹脂液に電離放射線を
照射して硬化させる硬化工程と；前記硬化工程で硬化す
る前記電離放射線硬化型樹脂液と前記シート基材とを密
着させる密着工程と；

【００２４】前記密着工程で密着した前記電離放射線硬
化型樹脂液の硬化物と前記シート基材を前記ロール凹版
から剥離する剥離工程と；を含み、前記電離放射線硬化
型樹脂液が上述の光学シート用電離放射線硬化型樹脂組
成物であることを特徴とする光学シートの製造方法であ
る。

【００２５】また本発明は、透明樹脂シート基材に接着
剤層を塗装する工程と；所望の微細凹凸形状の型が形成
されたロール凹版を回転させ、そのロール凹版の少なく
とも凹部に電離放射線硬化型樹脂液を充填する充填工程
と；前記充填工程で前記ロール凹版に充填された前記電
離放射線硬化型樹脂液に対して、前記ロール凹版の回転
方向に同期して走向する透明樹脂シート基材の接着剤層
側を接触させる接触工程と；

【００２６】前記接触工程で前記シート基材が前記ロー
ル凹版に接触している間に、前記ロール凹版と前記シー
ト基材間にある電離放射線硬化型樹脂液に電離放射線を
照射して硬化させる硬化工程と；前記硬化工程で硬化す
る前記電離放射線硬化型樹脂液と前記シート基材とを接
着剤層を介して密着させる密着工程と；

【００２７】前記密着工程で密着した前記電離放射線硬
化型樹脂液の硬化物と前記シート基材を前記ロール凹版
から剥離する剥離工程と；を含み、電離放射線硬化型樹
脂液が上述の光学シート用電離放射線硬化型樹脂組成物
であることを特徴とする光学シートの製造方法を含むも
のである。

【００２８】また本発明は、光学シ−トの接着層（Ｂ）
中に含まれる光開始剤の吸光波長が４００ｎｍ以下に存
在し、電離放射線硬化型樹脂組成物層（Ａ）中に含まれ
る光開始剤の吸光波長が４５０ｎｍ以下に存在すること
を特徴とする光学シートの製造方法を含むものである。

【００２９】以下に本発明を詳細に説明する。本発明
は、硬化速度の速い、特定の光学シート用電離放射線硬
化型樹脂組成物と、該電離放射線硬化型樹脂組成物を用
いた微細構造を有する電離放射線硬化型樹脂組成物層
（Ａ）、必要に応じて設ける接着層（Ｂ）、及びシート
状の透明樹脂層（Ｃ）の３層から成る光学シ−ト、並び
にその製造方法である。本発明は、光学シート表面の硬
度を保持しつつ、耐久性に優れ、かつ硬化時にカール等
の変形が極めて少なく、膜厚が薄く、微細パターンの設
計が可能な光学シートを提供するものである。

【００３０】電離放射線硬化型樹脂の硬度は、樹脂骨格
の剛性と、架橋密度、反応率等に影響される。樹脂骨格
として、ソフトな成分を導入すると、同一の架橋密度で
は、硬度が低くなってしまう。しかしながら架橋密度を
大きくして、硬度を補うと、電離放射線硬化型樹脂の硬
化時に硬化収縮が大きくなり、光学シートの変形を生じ
易い。

【００３１】光学シートの変形、即ち、シートのカール
を低減させる為に、電離放射線硬化型樹脂組成物の架橋
密度を小さくする一つの方法として、組成物への分子量
の大きい紫外線反応型オリゴマーの添加や、熱可塑性ポ
リマーの添加が検討されてきた。

【００３２】しかし、電離放射線硬化型樹脂組成物の架
橋密度を小さくする為に、分子量の大きい紫外線反応型
オリゴマーや、熱可塑性ポリマー等を用いると、硬化前
の樹脂組成物の粘度が著しく高くなる。

【００３３】ところが、電離放射線硬化型樹脂組成物の
母型への均一な塗布、並びに微細構造を有する母型の複
製の為には、用いる樹脂組成物の粘度は、２５℃で１０
００ｃｐｓから１２０００ｃｐｓの範囲にあることが望
ましく、１２０００ｃｐｓを越えたり、あるいは、逆に
１０００ｃｐｓ以下では、樹脂組成物を母型の微細部分
まで十分な型入れすることが不可能となり、また連続塗
布が困難となる。

【００３４】更にこれを改善する為に、溶剤等を添加し
て組成物の粘度を下げると、これら溶剤の揮発工程が必
要となり、また溶剤を揮発させた後のパターニングの際
に、微細な母型パターンの転写が困難となる。また、樹
脂組成物の粘度を低下させる為に、反応性希釈剤を多量
に添加した場合は、組成物の硬化収縮率が大きくなり、
製造時あるいは経時的に光学シ−トの変形を生じて好ま
しくない。

【００３５】また、硬化塗膜の弾性率を小さくし、更に
基材となる透明シートの剛性によりカール性を少なくす
ることが考えられる。ここで硬化塗膜の弾性率を低下さ
せる方法としては、分子構造中にガラス転移点の低いソ
フトセグメント成分として、ポリエーテルや脂肪族ポリ
エステル、ポリシロキサン、ポリオレフィン、アクリル
酸エステルを主成分としたポリアクリル等を導入する方
法が考えられる。しかしながら、このようなソフトセグ
メント成分の導入により、製品硬化物の硬度は低下し、
表面の傷つきや耐久性低下等の問題を生じる。

【００３６】本発明による光学シート用電離放射線硬化
型樹脂組成物は、こうした問題点を解決する為に、基本
的にソフトなセグメントを樹脂組成中に含まず、構造的
に固く、硬化物の硬度が高いものであり、しかしながら
架橋密度が高くない為に、シートの変形が抑えられるも
のである。即ち、本発明による光学シート用電離放射線
硬化型樹脂組成物は、分子中に極性を有する官能基を有
しており、この極性官能基により、分子間で水素結合を
とる構造を有している。

【００３７】一般に、水素結合は、電気陰性度の高い原
子Ｘ，ＹのＸ−Ｈ基とＹ原子の間に形成されるものであ
り、電気陰性度の高い原子としては酸素、窒素原子が挙
げられる。より具体的には、本発明による光学シート用
電離放射線硬化型樹脂組成物中のエポキシアクリレート
や単官能アクリレートに含まれるＸ＝Ｏである水酸基
と、Ｙ＝Ｏの酸素原子の間に水素結合が形成される。

【００３８】水素結合の結合エネルギーは、１〜８Ｋｃ
ａｌ／ｍｏｌであり、通常の化学結合に比して弱いもの
であるが、分子間で形成される水素結合により、分子間
に疑似的な架橋構造が形成される。即ち、分子間で形成
される水素結合により、分子間の凝集力が増し、これに
よって硬化速度が増加し、更に物性強度が高いものとな
る。

【００３９】このように、本発明による光学シート用電
離放射線硬化型樹脂組成物は、分子間水素結合を形成す
る能力を有することにより、単なるハードセグメントだ
けで構成した樹脂組成物と比較して、硬化速度が早く、
かつ硬化物が靭性を有することになり、製造時での光学
シートの割れの問題や、光学シートの耐衝撃性の向上が
図れるものである。

【００４０】即ち、本発明の環状構造を有するエポキシ
アクリレート（ａ）としては、ビスフェノールＡ型のエ
ポキシアクリレートやフェノールノボラック、クレゾー
ルノボラック型のエポキシアクリレート、ナフタレン骨
格のエポキシアクリレート、ビスフェノールＦ型のエポ
キシアクリレート及びそれらの水添化物エポキシアクリ
レートが使用できる。

【００４１】またこれら環状構造を有する化合物は、ソ
フトセグメントとハードセグメントを併用した樹脂硬化
物に比べ、一般に屈折率が高く、求める屈折率を得る為
の硬化物の厚さを薄く設定することが出来る利点を有す
る。これらの一部ブロム置換体であるブロム化エポキシ
アクリレートは、更に硬化後の屈折率が高く、レンズの
形状を小さくすることが可能で、また難燃性の性質も得
られる為に好ましい。また、これら環状構造を有するエ
ポキシアクリレートを２種以上併用してもかまわない。

【００４２】これらエポキシアクリレートは、分子内に
環状構造をもったグリシジルエーテル化合物にエチレン
性不飽和二重結合とカルボン酸を有する化合物を反応さ
せて得られるもので、グリシジルエーテルのカルボン酸
による開環付加反応により製造されるものである。この
ときグリシジルエーテルの開環で、２級の水酸基が残基
として生成し、この水酸基が水素結合を形成するプロト
ン供与体となる。

【００４３】環状構造を有する単官能アクリレート
（ｂ）としては、炭素環状構造として、飽和、不飽和環
状構造を有する単官能アクリレート、及びヘテロ環状構
造を有する単官能アクリレートを、単独または２種以上
の併用で使用可能で、公知慣用のものが使用できる。ま
た、これら環状構造を有する単官能アクリレート（ｂ）
は、極性を有する官能基を分子内に有していることが好
ましく、それら極性を有する官能基によって、分子間で
の水素結合が形成され得るものである。

【００４４】それらの代表例のみを例示すると、イソボ
ルニル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル
（メタ）アクリレート、グリシジルシクロカーボネート
（メタ）アクリレート、フェノキシエチルアクリレー
ト、ベンジル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル
（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）ア
クリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレー
ト、グリシジル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ
−３−フェノキシ−プロピル（メタ）アクリレート、

【００４５】（メタ）アクリロイルオキシフタリックア
シッド、フェノキシエチレングリコール（メタ）アクリ
レート、アダマンチル（メタ）アクリレート、モノホリ
ン（メタ）アクリレート等である。また単官能アクリレ
ート以外の環状構造を有する単官能反応性希釈剤も本発
明に使用する事が出来る。これら代表的なものとして
は、スチレン、ビニ−ルピロリドン等を挙げることが出
来る。

【００４６】極性を有する官能基としては、水酸基、環
状エーテル基、シクロカーボネート基、アミノ基、カル
ボキシル基、リン酸基、スルホン酸基等の酸基及びその
アルカリ金属塩等である。このような極性官能基を有す
る環状構造を有する単官能反応性希釈剤として、上述の
ものと重複するが、テトラヒドロフルフリル（メタ）ア
クリレート、グリシジルシクロカーボネート（メタ）ア
クリレート、フェノキシエチルアクリレート、２−ヒド
ロキシ−３−フェノキシ−プロピル（メタ）アクリレー
等が好適に使用できる。

【００４７】本発明において、エネルギー線として電離
放射線を用いる。電離放射線としては、可視光線、紫外
線、Ｘ線等の電磁波、または電子線等の荷電粒子線が用
いられるが、これらの内で実用上良く用いられるのは、
可視光線、紫外線、または電子線である。特に可視光線
または紫外線を用いて、本発明の樹脂調製物ならびに樹
脂組成物を硬化させる場合には、波長が１，０００〜
８，０００オングストロームなる紫外線または可視光線
によって、解離し、ラジカルを発生するような光（重
合）開始剤（ｃ）を使用すべきである。

【００４８】かかる光（重合）開始剤としては、公知慣
用のものが、いずれも併用できるが、そのうちでも代表
的な例を挙げれば、例えば４−ジメチルアミノ安息香
酸、４−ジメチルアミノ安息香酸エステル、アルコキシ
アセトフェノン、ベンジルジメチルケタール、ベンゾフ
ェノンおよびベンゾフェノン誘導体、ベンゾイル安息香
酸アルキル、ビス（４−ジアルキルアミノフェニル）ケ
トン、

【００４９】ベンジルおよびベンジル誘導体、ベンゾイ
ンおよびベンゾイン誘導体、ベンゾインアルキルエーテ
ル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェノン、１
−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、チオキサ
ントンおよびチオキサントン誘導体、２，４，６−トリ
メチルベンゾイルジフェノイルフォスフィンオキシド、

【００５０】２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フ
ェニル］−２−モルホリノプロパン−１、２−ベンジル
−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニ
ル）−ブタノン−１等が挙げられる。

【００５１】これらのなかでは、１−ヒドロキシシクロ
ヘキシルフェニルケトン、チオキサントンおよびチオキ
サントン誘導体、２，４，６−トリメチルベンゾイルジ
フェノイルフォスフィンオキシド、２−メチル−１−
［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノ−１
−プロパノン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１
−（４−モルホリノフェニル）−ブタン−１−オンの群
から選ばれる１種または２種類以上の混合系が硬化性が
高いので、特に好ましい。

【００５２】また、光（重合）開始剤に、公知慣用の光
増感剤をも併用することができる。かかる光増感剤とし
て特に代表的なもののみを例示するに留めれば、アミン
類、尿素類、含硫黄化合物、含燐化合物、含塩素化合物
またはニトリル類もしくは、その他の含窒素化合物等で
ある。

【００５３】製造工程では、紫外線等のエネルギ−線
は、支持体となる透明基板面（シート状の透明樹脂層
（Ｃ））を通して照射される為、使用されうる光開始剤
は、長波長領域に吸光能力を有する開始剤が好ましく、
紫外線が３６０ｎｍから４５０ｎｍの範囲、特に４００
から４４０ｎｍにおいて光開始能力を有する光開始剤の
使用が望ましい。４５０ｎｍ以上の光を吸収するもの
は、組成物の安定性が悪く、完全に遮光した環境での製
造が必要となり、その取扱いが極めて困難となる。

【００５４】こうした光の波長に吸光、開始能力を有す
る開始剤としては、２，４，６−トリメチルベンゾイル
ジフェノイルフォスフィンオキシド、チオキサンソンや
置換チオキサンソン類、２−ベンジル−２−ジメチルア
ミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン−
１、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モ
ルフォリノフェニル）−ブタン−１−オン等が挙げられ
る。なお、電子線を用いる場合は、これら光開始剤や光
増感剤は不要である。

【００５５】環状構造を有するエポキシアクリレート
（ａ）と、環状構造を有する単官能アクリレート（ｂ）
と、必要に応じ添加する光開始剤（ｃ）との配合による
本発明の樹脂組成物は、系のアクリレート官能基が０．
２〜５．０ｍｍｏｌ／ｇであることが必要であり、アク
リレート官能基濃度が０．２ｍｍｏｌ／ｇより低いと、
硬化性が低下し、また粘度が高くなり作業性が悪くな
る。

【００５６】またアクリレート官能基濃度が、５．０ｍ
ｍｏｌ／ｇより高いと、硬化収縮により硬化シートがカ
ールしてしまう。０．２ｍｍｏｌ／ｇ〜５．０ｍｍｏｌ
／ｇのアクリレート官能基濃度により、硬化性が良好
で、硬化時のカール等のフィルムの変形を防ぐことがで
き、かつ、良好な表面硬度が得ることが出来る。

【００５７】本発明で言う光学シートの変形により生じ
るカールは、作成された光学レンズシートをＡ４サイズ
に切り出し、水平面上にレンズ形成面を上にして静置
し、レンズシートの端が水平面からカールした高さを測
定することにより評価することができる。レンズとして
の実装性、信頼性から、この評価法でのカール性として
は、１ｍｍ以下であることが必要である。

【００５８】光学シートの変形、即ち、カール性は、樹
脂の硬化収縮率との相関性が深い。硬化収縮率は、硬化
前の樹脂比重（ＤL）と硬化後の樹脂比重（ＤS）から、
式１により算出でき、本発明で使用される樹脂組成物の
硬化収縮率は、５．５％以下であることが必要である。 硬化収縮率（％）＝（ＤS−ＤL）／ＤS × １００ （式１）

【００５９】また、本発明により製造される光学シート
は、シート製造時やディスプレー装着時に、硬化物表面
に傷等の塗膜欠陥を生じる可能性があるが、光学レンズ
として使用する為、これらの微小な傷は、致命的な欠陥
となる。従って、本発明に用いられる樹脂組成物は、高
い表面硬度が要求され、具体的には、鉛筆硬度として、
ＪＩＳ Ｋ−５４００に準じて、Ｈ以上のものが必要で
ある。

【００６０】即ち、本発明の配合比率は、環状構造を有
するエポキシアクリレート（ａ）が１０％〜９０％であ
り、好ましくは、３０％〜８５％である。また光開始剤
は、０．５重量％から１０重量％の範囲での添加が好適
である。

【００６１】また、この電離放射線硬化型樹脂の粘度と
しては、１０００ｃｐｓ／２５℃〜１２０００ｃｐｓ／
２５℃であることが好ましく、好適には、１０００ｃｐ
ｓ／２５℃〜８０００ｃｐｓ／２５℃である。また、必
要に応じて、このパターンを付与する電離放射線硬化型
樹脂層中の塗膜の改質や塗装適性、母型からの離型性を
改善させるため、種々の添加剤として、紫外線吸収剤、
光安定剤、酸化防止剤、レオロジーコントロール剤、シ
リコン添加剤、脱泡剤、等添加可能である。

【００６２】本発明の光学シ−トは、上述の電離放射線
硬化型樹脂組成物層（Ａ）をシート状の透明樹脂層
（Ｃ）の少なくとも一方の表面上に、必要に応じて設け
られる接着層（Ｂ）を介して積層した後、電離放射線硬
化型樹脂組成物層（Ａ）に、所望の微細形状を有する母
型を密着させ、電離放射線硬化型樹脂層を紫外線照射に
より硬化後、この母型より剥離し、母型の微細構造を複
写した光学シートとして製造される。

【００６３】ここで言うシート状の透明樹脂層（Ｃ）
は、光学シ−トの物理的強度を付与する目的と、微細構
造を有する母型の反対側の面の平滑性を得るために使用
される。こうしたシ−ト状の透明樹脂層（Ｃ）を光学シ
−トに使用しない場合は、かかる平滑面を得るために、
微細構造を有する母型の反対側の面に、透明で平滑な基
板を接触せしめ、平滑面を転写して、紫外線照射により
樹脂を硬化した後、かかる平滑基板を紫外線樹脂層から
剥離することが必要となる。

【００６４】こうした剥離工程は、工程数の増加、およ
び平滑面の転写面と電離放射線硬化樹脂層との剥離性が
問題となり、生産性と材料の制限が生じてしまう。ま
た、電離放射線硬化樹脂層のみで形成された光学シ−ト
は、光学シートの生産時、光学シ−トの光学機器への装
着時、あるいは、光学機器使用時での物理的衝撃に対す
る強度が満足でない。

【００６５】この為、電離放射線硬化樹脂層の膜厚を厚
くし、強度を持たせることが考えられるが、電離放射線
硬化樹脂層の膜厚が厚くなると、膜厚方向での硬化度合
の不均一さや、硬化歪が生じ易くなる。それ故、シート
状の透明樹脂層（Ｃ）と電離放射線硬化樹脂層（Ａ）を
一体化する事は、光学シートの製造、強度から好ましい
方法である。

【００６６】こうしたシート状の透明樹脂層（Ｃ）とし
ては、物理的衝撃に対して、破断強度、引張強度等の機
械的強度を有していて、均一な膜厚、平滑性、透明性、
フレキシビリティ、耐久性を有していることが必要であ
る。

【００６７】この透明樹脂層（Ｃ）は、具体的にはシー
ト状のものが好ましく、とりわけ、２０ミクロンから１
ｍｍ程度のものが好ましく、加工性や、フィルム物性、
透明性の観点から、特に５０ミクロン〜１５０ミクロン
が好適である。また透明樹脂層（Ｃ）の表面は、電離放
射線硬化型樹脂層（Ａ）との密着性向上の為、コロナ放
電処理、プラズマ処理、易接着プライマーコート等の易
接着処理を行ったものでも良い。

【００６８】具体的には、透明性の良いポリエチレンテ
レフタレート等のポリエステルシート、ポリメチルメタ
クリレート等のアクリル系シート、ポリカーボネート系
シート、塩化ビニル系シート、ポリスチレンシート等が
使用できる。特に、耐久性の面から、ポリエチレンテレ
フタレ−ト系あるいは、ポリカ−ボネ−ト系のシ−トが
好ましい。

【００６９】本発明においては、電離放射線硬化型樹脂
層（Ａ）の耐久性はもとより、基材となるシート状の透
明樹脂層（Ｃ）の耐久性、更には電離放射線硬化樹脂層
（Ａ）と、シート状の透明樹脂層（Ｃ）の密着性も極め
て重要であり、この為、基材となるシート状の透明樹脂
層（Ｃ）と、電離放射線硬化樹脂層（Ａ）の間に接着層
（Ｂ）を有することが好ましい。

【００７０】但し、基材シートとなる透明樹脂層（Ｃ）
と、電離放射線硬化型樹脂層（Ａ）との密着性が十分で
あったり、或いは透明樹脂層（Ｃ）表面へのコロナ放電
処理、プラズマ処理、易接着プライマーコート等の易接
着処理等により、密着性が十分な場合は、接着層（Ｂ）
は不要である。また密着性をより強固にする目的で、易
接着処理と接着層（Ｂ）とを併用することもできる。

【００７１】接着層（Ｂ）としては、支持体となる透明
樹脂層（Ｃ）と微細構造を形成する電離放射線硬化型樹
脂層（Ａ）との両方に優れた接着能力を有するものから
選定しなければならない。本発明の接着層（Ｂ）として
は、熱可塑性樹脂とポリイソシアネート（ｂ2）、ある
いは熱可塑性樹脂とアクリレート化合物の樹脂組成物、
あるいはポリイソシアネ−ト（ｂ2）とポリエステル
（ｂ3）からなる樹脂組成物が、優れた密着性を有し、
特に好ましく用いられる。

【００７２】ここで言う熱可塑性樹脂としては、公知慣
用のものが使用出来るが、好ましくは、各種のセルロー
スエステルやセルロースエーテル等のセルロース樹脂
（ｂ1）、各種（メタ）アクリル酸エステル重合体であ
るアクリルラッカー等のアクリル系樹脂、高分子量オイ
ルフリーポリエステル等のポリエステル系樹脂、ポリカ
ーボネート系樹脂、ポリエステルやポリエーテル系のポ
リウレタン等が挙げられる。特に、これらの内で、セル
ロース樹脂（ｂ1）、ポリエステル樹脂（ｂ3）が好まし
い。

【００７３】ここで言うセルロースエステル樹脂とは、
セルロース中の水酸基を、酸類で部分的にエステル化し
たものであり、硝酸、硫酸、酢酸、プロピオン酸、酪
酸、その他の高級脂肪酸等の一つ以上の酸とのエステル
化により得られるものである。特に、酢酸、プロピオン
酸、酪酸によりエステル化されたセルロースエステル樹
脂が好ましく用いられる。セルロースエーテル樹脂もセ
ルロースエステル樹脂と同様に用いることができる。ま
たエステル及びエーテル結合を有するセルロース樹脂も
好ましく用いられる。

【００７４】ここで言うポリエステル樹脂（ｂ3）とし
ては、飽和、不飽和のポリオールと多塩基酸、あるいは
低級アルキルエステルとのエステル化反応やエステル交
換反応によって得られる公知慣用のものである。また分
子量は３，０００〜３０，０００のものが好ましい。こ
うしたポリオール原料としては、公知慣用のものが使用
できるが、そのうち代表例を挙げれば、エチレングリコ
ール、１，３−プロピレングリコール、１，２−プロピ
レングリコール、ジエチレングリコール、ジプロピレン
グリコール、ネオペンチルグリコール、

【００７５】１，３−ブタンジオール、１，４−ブタン
ジオール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナン
ジオール、１，１０−デカンジオール、２，２，４−ト
リメチル−１，３−ペンタンジオール、３−メチル−
１，５−ペンタンジオール、ジクロロネオペンチルグリ
コール、ジブロモネオペンチルグリコール、ヒドロキシ
ピバリン酸ネオペンチルグリコールエステル、シクロヘ
キサンジメチロール、

【００７６】１，４−シクロヘキサンジオール、トリメ
チロールエタン、トリメチロールプロパン、グリセリ
ン、３−メチルペンタン−１，３，５−トリオール、ペ
ンタエリスリトール、ジペンンタエリスリトール、トリ
ペンタエリスリトール、スピログリコール、トリシクロ
デカンジメチロール、水添ビスフェノールＡ等である。

【００７７】更に、多塩基酸化合物としては、公知慣用
の各種のカルボン酸、またはそれらの酸無水物、及びこ
れらカルボン酸化合物と低級アルキルアルコールのエス
テル化物が使用できるが、それらのうちでも特に代表的
なもののみを例示するにとどめれば、マレイン酸、フマ
ル酸、イタコン酸、シトラコン酸、テトラヒドロフタル
酸、ヘット酸、ハイミック酸、クロレンディック酸、ダ
イマー酸、アジピン酸、こはく酸、アルケニルこはく
酸、セバチン酸、アゼライン酸、

【００７８】２，２，４−トリメチルアジピン酸、１，
４−シクロヘキサンジカルボン酸、テレフタル酸、２−
ナトリウムスルホテレフタル酸、２−カリウムスルホテ
レフタル酸、イソフタル酸、５−ナトリウムスルホイソ
フタル酸、５−カリウムスルホイソフタル酸、またはジ
メチル−ないしはジエチルエステルの如き、５−ナトリ
ウム−スルホイソフタル酸のジ−低級アルキルエステル
類、あるいは、オルソフタル酸、４−スルホフタル酸、
１，１０−デカメチレンジカルボン酸、

【００７９】ムコン酸、しゅう酸、マロン酸、グルタン
酸、トリメリット酸、ヘキサヒドロフタル酸、テトラブ
ロムフタル酸、メチルシクロヘキセントリカルボン酸も
しくはピロメリット酸、またはこれらの酸無水物、また
は、メタノール、エタノール等のアルコールエステル化
合物などが挙げられる。

【００８０】またここでいう（メタ）アクリル酸エステ
ルとしては、公知慣用のもが使用できるが、より具体的
には、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）ア
クリレート等のアルキル（メタ）アクリレートや、環状
構造を有する（メタ）アクリレート、ポリオキシアルキ
レン（メタ）アクリレート等挙げることが出来る。

【００８１】更に環状エステル化合物としては、γ−ブ
チロラクトン、γ−バレロラクトン、δ−バレロラクト
ン、ε−カプロラクトン、Ｄ−グルコノ−１，４−ラク
トン、１，１０−フェナントレンカルボラクトン、４−
ペンテン−５−オリド、１２−ドデカノリド等のラクト
ン類が挙げられる。

【００８２】また接着層に好ましく使用し得るアクリレ
ート化合物としては、通常、反応性希釈剤として用いら
れるものや、各種アクリレートオリゴマー、アクリレー
トポリマーが使用でき、これらアクリレート化合物とし
ては、エポキシアクリレ−ト、ウレタンアクリレ−ト、
ポリエステルアクリレート、ポリエーテルアクリレート
等単独または２種類以上を併用して使用できる。

【００８３】この中でも、微細パターンを有する電離放
射線硬化型樹脂層との密着性の観点から、エポキシアク
リレート化合物が特に好ましい。ここで使用されるエポ
キシアクリレートとしては、上述の電離放射線硬化型樹
脂組成物で例示したものが使用でき、またこれらアクリ
レート化合物は、接着層樹脂中の１０％〜６０％である
ことが好適である。

【００８４】アクリレ−ト化合物が１０％以下の場合
は、接着層の上層となる電離放射線硬化樹脂層との密着
性が低下したり、耐水試験にて、白化等の現象が見られ
たりする。 また、アクリレート化合物の量が６０％以
上の場合には、基材との密着性が減少する弊害を生じ易
い。

【００８５】また、ポリエステルやポリエーテル系のポ
リウレタン等としては、上述のポリエステルの分子量が
約５００から４０００程度のポリエステルポリオールや
ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、
ポリテトラメチレングリコール等のポリアルキレンオキ
サイドとポリイソシアネートとの反応で得られるポリウ
レタン樹脂が使用できる。

【００８６】ここで言うポリイソシアネートとしては、
単独で使用しても、あるいは、イソシアヌレート化せし
めた形のポリイソシアネートとイソシアネート化合物と
を併用してもよいことは、勿論であり、公知慣用の二官
能以上のイソシアネートをいずれも用いることができる
が、これらの代表的なもののみを例示するにとどめれ
ば、トルレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイ
ソシアネート、キシレンジイソシアネート、ジシクロヘ
キシルメタンジイソシアネートもしくはイソホロンジイ
ソシアネート、水添キシリレンジイソシアネートの如
き、各種の脂環式ジイソシアネート化合物、

【００８７】またはヘキサメチレンジイソシアネートも
しくはリジンジイソシアネートの如き、各種の脂肪族ジ
イソシアネート化合物など各種の化合物などが挙げられ
る。また、上記イソシアネ−トモノマ−をビュレット、
アロハネ−ト、イソシアヌレ−ト化せしめたイソシアネ
−ト多量体、更にポリオ−ルとの反応により得られるポ
リイソシアネ−トも使用できる。これらは単独でも、ま
た併用して使用しても良い。これらの内でもイソシアネ
−ト基を分子中に３個以上有するポリイソシアネ−ト化
合物が好ましく、特にヘキサメチレンジイソシアネート
から誘導されるポリイソシアネ−トが好ましい。

【００８８】熱可塑性樹脂とポリイソシアネ−トの割合
は、熱可塑性樹脂の水酸基当量とポリイソシアネ−トの
イソシアネ−ト当量の比率、ＯＨ当量／ＮＣＯ当量比率
が、０．１から５の範囲、好ましくは、０．１から１の
範囲で配合することが接着性の信頼性の上で望ましい。
また接着層（Ｂ）の膜厚としては、０．２ミクロンから
１０ミクロンの範囲が適切である。

【００８９】シート状の透明樹脂層（Ｃ）に、接着層
（Ｂ）を塗装し、必要ならセッティング時間を設ける
か、あるいは、温度をかけて溶剤等を揮発させる。この
後、電離放射線硬化型樹脂層（Ａ）を塗装し、所望の微
細形状を有する母型を密着させ、この状態で電離放射線
硬化型樹脂層を電離放射線硬化させることにより、シー
トと電離放射線硬化層の密着を得ることが出来る。

【００９０】また接着層（Ｂ）、特に熱可塑性樹脂とア
クリレート化合物の樹脂組成物系に、光（重合）開始剤
を添加することが 接着層の反応性を上げる観点から好
ましく、かかる開始剤としては、前述の光開始剤が使用
できる。

【００９１】次に図１を用いて、本発明の光学シートの
製造方法の概要を説明する。まず図１において、１は所
望の凹凸が形成されたロール凹版、２はそのロール凹版
１の凹部、３は未硬化の電離放射線硬化性樹脂液、３ａ
は硬化した電離放射線硬化性樹脂、４は接着層（Ｂ）を
付したシート基材（Ｃ）、５はロール凹版１を押圧する
押圧ロール、６及び８は送りロール、７は電離放射線照
射装置、９は光学シート、１０はＴダイ型ノズル、１１
は乾燥装置、１２は液溜である。

【００９２】電離放射線硬化型樹脂３をロール凹版１の
凹部２に充填する方法としては、図１に示した様に、ロ
ール凹版１の表面に、予め電離放射線硬化型樹脂液３を
所定量塗工しておいて、基材シート４をロール凹版１へ
供給したときに、押圧ロール５の基材背面側からの押圧
により、基材シート４を介して、塗工されている電離放
射線硬化型樹脂液３を凹部２内に配分充填させる。

【００９３】この場合に、溶剤タイプの硬化性樹脂が使
用でき、乾燥装置１１により溶剤を揮発除去できる。電
離放射線照射装置７は、図１に示したように１個でもよ
いが、複数個の硬化装置を設け、ロール凹版１内の樹脂
液３を多段階に硬化させるようにしてもよい。このよう
にすれば、シート基材４の走行速度を速くしても十分な
照射量が得られ、また、徐々に硬化することにより、樹
脂液３の硬化歪、シート基材４のカールや歪を低減する
ために好ましい。

【００９４】次いで、シート基材４がロール凹版１に接
している間（具体的には、図中の押圧ロール５と送りロ
ール６との間に位置している時期）に、電離放射線照射
装置７により電離放射線硬化型樹脂３を硬化させる。な
お、電離放射線照射装置７により電離放射線を照射する
場合には、シート基材４側から行われるが、ロール凹版
を石英、ガラス等の電離放射線の透過性がよい材質によ
り形成して、ロール凹版１の内部側より照射する事もで
きる（具体的にはロール中空内に設置した照射装置によ
り）。また、シート基材側と凹版内部側と両面より照射
してもよい。

【００９５】電離放射線照射装置７により、ロール凹版
１の凹部２内にある電離放射線硬化型樹脂３をシート基
材４に密着させる。電離放射線照射装置７を通過した
後、シート基材４をロール凹版１から剥離する。これに
より、硬化した電離放射線硬化型樹脂液３ａがシート基
材４と一体となって、凹部２から脱離され、凹凸表面を
有する光学シート９が得られる。

【００９６】電離放射線照射装置の電離放射線とは、電
磁波または荷電粒子線のうち、分子を重合、架橋しうる
エネルギー量子を有するものを意味し、通常、紫外線、
電子線等が用いられ、紫外線の場合には、超高圧水銀
灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、ブラッ
クライトランプ、メタルハライドランプ等の光源を用い
ることができる。

【００９７】また電子線の場合には、コックロフトワル
トン型、バンデグラフ型、共振変圧器型絶縁コア変圧器
型、あるいは、直線型、ダイナミトロン型、高周波型等
の各種電子線加速器等の照射源を備えた装置を用いるこ
とができ、１００〜１０００ＫｅＶ、好ましくは１００
〜３００ＫｅＶのエネルギーを持つ電子を照射する。照
射線量としては、通常０．５〜３０Ｍｒａｄ程度が好ま
しい。

【００９８】溶剤乾燥装置１１は、樹脂の溶剤を揮発さ
せるための装置である。溶剤乾燥装置１１としては、温
風、赤外線ヒーター等を用いることができる。なお、無
溶剤型の電離放射線硬化型樹脂を用いるときには、乾燥
装置１１は不要である。

【００９９】次に、この本発明の光学シートとそれを用
いる表示装置について説明する。表示装置は、液晶表示
装置を含め公知の各種方式のものが対象となり、白黒で
もカラーでもよい。また、時計、電子卓上計算機、各種
計器、ワードプロセッサー、テレビジョン、コンピュウ
ターのディスプレイ等、画像、数字、文字を表示するも
のに用いられる。また光学シートの内の線制御用微細構
造は、光源（線光源または点光源）からの光線を屈折、
収束、発散、拡散透過または拡散反射させるものであ
り、種々の形状のものが用いられる。

【０１００】図２〜図６は、本発明により製造される光
学シートのいくつかの微細構造例を模式的に示した図で
ある。ここで、図２は三角プリズム型レンチキュラレン
ズ、図３は円柱型凸レンチキュラレンズ、図４は円柱型
凹レンチキュラレンズ、図５は角錐型レンズ、図６はフ
ライアイ型（蠅目）レンズを示す。

【０１０１】光学シートの微細形状を有する母型として
は、フレネルレンズやレンチキュラレンズ、フライアイ
（蠅目）レンズを与える型、又はその変形としては、例
えば、多角錐、円錐台、または多角錐台の同一形状かつ
同一体種の形状を平面上に等方的に多数配列したものを
形成することができる。ここで、角錐または角錐台とし
て、正三角錐（または錐台）、正四角錐（または錐
台）、正六角錐（または錐台）を用いると、平面内に隙
間なく配列でき、かつ形状も等方的であり、水平および
垂直方向とも同等な半値角を持たせることができ、場所
による変動もなく好ましい。

【０１０２】または、複数個の連続した三面角体また
は、４面角体のプリズム要素の配列等の光学部の形状と
同形状で逆凹凸の形状を有する面である金属製、あるい
は合成樹脂製の型を用いることが可能である。またこう
した母型は、平面上に微細形状を有しても、円筒形状の
ものの表面に有しても製造可能である。こうした円筒型
の母型を使用する連続生産例としては、米国特許３６８
９３４６号公報、特開平５−１６９０１５号公報等に記
載されている。

【０１０３】

【実施例】次に、実施例、比較例により、本発明をより
具体的に説明するが、本発明は、元より、これらに限定
されるべきものではない。尚、例中の部及び％は、特に
記載のない限り、すべて重量基準である。

【０１０４】（実施例１〜５）表１の配合により、光学
シート用電離放射線硬化型樹脂組成物（Ａ）、及び接着
層（Ｂ）の組成物を調製した。次に、シート状の透明樹
脂層（Ｃ）として、透明なＰＥＴフィルム（膜厚１００
ミクロン）を用い、この上に接着層（Ｂ）をロールコー
ターにて、乾燥膜厚約１ミクロンになるよう塗布した。
なおこの時、接着層組成物中に含有される溶剤を８０
℃、３０秒間の加熱処理により乾燥させた。

【０１０５】（実施例１、４及び５の接着層（Ｂ）の樹
脂組成）高分子量オイルフリーポリエステル樹脂（テレ
フタル酸、イソフタル酸、アジピン酸、エチレングルコ
ール、１，６−ヘキサンジオ−ル、ネオペンチルグリコ
−ルの縮合体、分子量 約５０００）１０部、ビスフェ
ノールＡエポキシアクリレート２部、トルエン４部、酢
酸ブチル４部で、合計２０部とした。

【０１０６】（実施例２及び３の接着層（Ｂ）の樹脂組
成）セルロースアセテートブチレート樹脂（ブチル化度
３７％、アセチル化度１３％、残存水酸基２％）１５
部、トルエン４０部、メチルエチルケトン４０部、ヘキ
サメチレンジイソシアネートのトリメチロールプロパン
アダクト型ポリイソシアネ−ト（ＮＣＯ％＝１６．７
％）５部で、合計２０部とした。

【０１０７】次に、図１を用いて、本発明の光学シート
の製造方法を具体的に説明する。図１に示すように、５
０ミクロンピッチで連続して並ぶ正４面体を複数二次元
的に配列した形状を有する逆反射性レンズと同形状逆凹
凸を表面に持つ金属製ロール凹版を軸の回りに回転しつ
つ、Ｔダイ型ノズルから電離放射線硬化型樹脂組成物
（Ａ）を該ロール表面に塗工し、該ロール凹版の周速度
と同期する速度で、

【０１０８】シート状の透明樹脂層（Ｃ）（透明ＰＥＴ
フィルム）を走行させつつ、該透明ＰＥＴフィルムの接
着剤（Ｂ）の塗布面側と該ロール凹版表面とを、電離放
射線硬化型樹脂組成物（Ａ）を間に介して密着させ、そ
のままＰＥＴフィルム側から、高圧水銀ランプ（１６０
Ｗ／ｃｍ）２灯を１０ｃｍの位置より、照射し、樹脂層
を硬化させると同時にＰＥＴフィルムに接着させた。

【０１０９】この時ＰＥＴフィルム表面に照射される紫
外線の照射量は、５００ｍｊ／ｃｍ²であった。硬化
後、ＰＥＴフィルムを電離放射線硬化樹脂層と共に、ロ
ール凹版から剥離し、欲するロール凹版の形状を転写し
た光学シートの連続シートを製造した。光学シート、及
び硬化樹脂の物性評価結果を表５〜７に示す。

【０１１０】

【０１１１】（環状構造を有し、二つ以上のアクリレー
ト基を有するエポキシアクリレート） ａ1：ビスフェノールＡエポキシアクリレート ａ2：ブロム化ビスフェノールＡアクリレート

【０１１２】（環状構造を有する単官能アクリレート） ｂ1：イソボロニルアクリレート ｂ2：グリシジルシクロカーボネートメタアクリレート ｂ3：テトラヒドロフルフリルアクリレート ｂ4：２−ヒドロキシ−３−フェノキシ−プロピル（メ
タ）アクリレート

【０１１３】（光開始剤） ｃ1：１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン ｃ2：ベンジルジメチルケタール

【０１１４】（比較例１〜４）表２の配合により、比較
例１〜４の電離放射線硬化型樹脂層を調製した以外は、
実施例１〜５と同様な方法で光学シートを製造した。評
価結果を表５〜７に示す。

【０１１５】

【０１１６】（比較例のアクリレート） ｅ1：ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート ｅ2：ポリエチレングリコールジアクリレート（分子量
約３７０）

【０１１７】（比較例５及び６）表３の配合及び下に示
す接着層の配合により、比較例５〜８の電離放射線硬化
型樹脂層を調製した以外は、実施例１〜５と同様な方法
で光学シートを製造した。評価結果を表５〜７に示す。

【０１１８】

【０１１９】（比較例５及び６の接着層の樹脂組成）高
分子量オイルフリーポリエステル樹脂（テレフタル酸、
イソフタル酸、アジピン酸、エチレングルコール、１，
６−ヘキサンジオ−ル、ネオペンチルグリコ−ルの縮合
体、分子量 約５，０００）１２部、トルエン４部、酢
酸ブチル４部で、合計２０部とした。

【０１２０】（比較例７、８）表３の配合により、電離
放射線硬化型樹脂を調製し、透明ＰＥＴフィルム上に、
接着層を塗装しないで、実施例と同様な装置、及び同様
な方法にて光学シートを作成した。評価結果を表５〜７
に示す。

【０１２１】（比較例９）攪拌器、温度計、添加ロー
ト、及び乾燥空気スパージャーを備えた反応器中に、イ
ソホロンジイソシアネート６６７部、塩化第１錫０．０
５部を仕込み、７０℃に加温した。反応内容物を攪拌し
ながら、加温したポリカプロラクトンジオール（ＴＯＮ
Ｅ Ｐ０２０１）７９５部を加えた。

【０１２２】１３時間、７０℃で攪拌し、末端イソシア
ネートのポリカプロラクトンウレタンポリマーを製造し
た。次に、２−ヒドロキシエチルメタクリレート４００
部を３．５時間をかけて加えた。赤外スペクトルにより
残存イソシアネートが実質的に認められなくなるまで、
反応を約１３時間継続した。

【０１２３】次に、このウレタンアクリレートに、２
（Ｎ−ブチルカルバミル）エチルメタクリレート４６
５．５部と、光開始剤として２，２−ジエトキシアセト
フェノン１１．６部を加えて混合溶解し、目的とする米
国特許４５７６８５０記載の実施例２の硬化組成物を調
製した。

【０１２４】（測定・評価方法）以下に測定・評価方法
を記載する。

【０１２５】（１）粘度測定 Ｅ型回転粘度計、２５℃での粘度測定（ｃｐｓ）を行っ
た。

【０１２６】（２）初期外観判定 光学シート製造後の外観を目視にて判定した。判定基準
は、均一なレンズ表面形状が得られたものを○、一部に
割れや、形状の抜け落ちが見られたものを△、全面に割
れや、形状の抜け落ちがみられたものを×とした。

【０１２７】（３）鉛筆硬度測定 ＪＩＳ Ｋ５４００に準拠して測定を行った。Ｈ以上を
○とし、Ｆ以下を×とした。

【０１２８】（４）初期密着性測定 基材の透明ＰＥＴと光学シート層を形成する電離放射線
硬化樹脂層との密着性をＪＩＳ Ｋ５４００に準拠して
測定した。

【０１２９】（５）沸水密着性測定 作成された光学レンズシートを、９５℃以上の沸水に４
時間浸漬させ、室温に取り出し、２時間後の密着性をＪ
ＩＳ Ｋ５４００に準拠して測定した。１００／１００
は全ての小片が密着していたことを示す。０／１００は
全ての小片が剥離したことを示す。

【０１３０】（６）沸水後外観評価 作成された光学レンズシートを、９５℃以上の沸水に４
時間浸漬させ、室温に取り出し、外観塗膜状態を目視に
て評価した。

【０１３１】（７）促進耐候密着性 作成された光学レンズシートを、フェードメーター（ス
ガ試験機：ブラックパネル温度：６３±３℃）で４００
時間促進耐候試験をおこなって、密着性をＪＩＳ Ｋ５
４００に準拠して測定した。

【０１３２】（８）カール性測定法 作成された光学シートをＡ４サイズに切り出し、水平面
上にシート形成面を上にして静置し、光学シートの端が
水平面から自然にカールした高さ（ｍｍ）を測定した。

【０１３３】（９）硬化収縮率測定法 実施例、比較例の電離放射線硬化型樹脂組成物をそれぞ
れ内径３０ｍｍ、高さ１０ｍｍのステンレス製パンに、
約５ｍｍの高さまで入れ、高圧水銀灯（８０Ｗ／ｃｍ）
のコンベア式紫外線照射装置を用い、空気雰囲気下で１
０００ｍｊ／ｃｍ²の紫外線を照射して比重測定用の硬
化物を作成した。

【０１３４】これをＪＩＳ Ｋ７１１２ Ｂ法に準拠
し、２３±２℃で硬化物の比重（ＤS）を測定した。但
し、浸せき液には、蒸留水を使用し、２３±２℃で樹脂
組成物の比重（ＤL）を測定し、次式により硬化収縮率
を算出した。測定結果は２回の測定結果の平均値で示
す。 硬化収縮率（％）＝（ＤS−ＤL）／ＤS ×１００

【０１３５】（１０）硬化性１ ８０Ｗ／ｃｍの高圧水銀灯で、１５ｃｍのランプ高さ、
ラインスピ−ド１０ｍ／ｍｉｎで照射したとき、表面タ
ックフリ−になるまでの照射回数を測定した。照射回数
が少ない方が硬化性が良好であることを示す。

【０１３６】（１１）硬化性２ フォトＤＳＣ（パ−キンエルマ−社株式会社製、ＤＰＡ
−７型）にて測定した反応速度定数（窒素雰囲気下）を
示す。

【０１３７】（１２）表面硬度 空気中で電離放射線硬化（高圧水銀灯；８０Ｗ／ｃｍ、
１０００ｍｊ／ｃｍ²）を行った時の表面の鉛筆硬度を
示す。

【０１３８】（１３）屈折率 実施例１〜５及び比較例９の組成物をガラス板上に、５
０μｍの厚さに塗装し、高圧水銀灯（８０Ｗ／ｃｍ）に
て、１０００ｍｊ／ｃｍ²の紫外線を照射して硬化させ
た。硬化層をガラス板から剥し、試料とした。試料をプ
リズムに密着させる中間液として、１−ブロモナフタレ
ンを用い、Ａｂｂｅ屈折計にて、試料温度２５℃にて測
定した。結果を表９に示す。

【０１３９】

【０１４０】

【０１４１】

【０１４２】

【０１４３】

【０１４４】

【発明の効果】本発明は、フレネルレンズ、レンチキュ
ラレンズ、後方反射レンズ等に有用な、表面硬度が高
く、硬化時の変形や耐候性低下の問題がなく、かつ硬化
時間が短く、生産性に優れる、表面に微細構造を有する
光学シート用の電離放射線硬化型樹脂組成物、光学シー
ト及びその製造方法を提供できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明による光学シートの連続製造方法の一例
を示す図である。

【図２】本発明による光学シートの例を模式的に示した
図である。

【図３】本発明による光学シートの例を模式的に示した
図である。

【図４】本発明による光学シートの例を模式的に示した
図である。

【図５】本発明による光学シートの例を模式的に示した
図である。

【図６】本発明による光学シートの例を模式的に示した
図である。

【符号の説明】

１ ロール凹版 ２ 凹部 ３ 未硬化の電離放射線硬化型樹脂組成物（Ａ） ３ａ硬化した電離放射線硬化型樹脂組成物（Ａ） ４ 接着層（Ｂ）を付したシート基材（Ｃ） ５ 押圧ロール ６ 送りロール ７ 硬化装置 ８ 送りロール ９ 光学シート １０ Ｔダイ型ノズル １１ 乾燥装置 １２ 液溜

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｇ０３Ｆ 7/028 // Ｂ２９Ｋ 63:00 Ｂ２９Ｌ 11:00 (72)発明者 西尾 俊和 東京都新宿区市谷加賀町一丁目１番１号 大日本印刷株式会社内 (72)発明者 雨宮 裕之 東京都新宿区市谷加賀町一丁目１番１号 大日本印刷株式会社内 (72)発明者 竹内 道子 東京都新宿区市谷加賀町一丁目１番１号 大日本印刷株式会社内

Claims (18)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 環状構造を有し、二つ以上のアクリレー
   ト基を有するエポキシアクリレート（ａ）と、環状構造
   を有する単官能アクリレート（ｂ）と、必要に応じて添
   加される光開始剤（ｃ）からなり、アクリレート官能基
   が０．２〜５．０ｍｍｏｌ／ｇで、２５℃における粘度
   が１０００〜１２０００ｃｐｓであり、かつ式１にて算
   出される硬化収縮率が、５．５％以下であることを特徴
   とする光学シート用電離放射線硬化型樹脂組成物。 硬化収縮率（％）＝（ＤS−ＤL）／ＤS × １００ （式１） （但し、式中のＤLは硬化前の組成物の比重、ＤSは硬化
   後の比重を表わす。）
2. 【請求項２】 環状構造を有し、二つ以上のアクリレー
   ト基を有するエポキシアクリレート（ａ）が、ビスフェ
   ノールＡ及び／または水添ビスフェノールＡの構造を有
   するエポキシアクリレートであることを特徴とする請求
   項１記載の光学シート用電離放射線硬化型樹脂組成物。
3. 【請求項３】 環状構造を有し、二つ以上のアクリレー
   ト基を有するエポキシアクリレート（ａ）が、一部ハロ
   ゲン置換されたビスフェノールＡ及び／または水添ビス
   フェノールＡの構造を有するエポキシアクリレートであ
   ることを特徴とする請求項１記載の光学シート用樹脂組
   成物。
4. 【請求項４】 環状構造を有する単官能アクリレート
   （ｂ）が、イソボロニル（メタ）アクリレートであるこ
   とを特徴とする請求項１記載の光学シート用樹脂組成
   物。
5. 【請求項５】 環状構造を有する単官能アクリレート
   （ｂ）が、グリシジルシクロカーボネート（メタ）アク
   リレートであることを特徴とする請求項１から４のいず
   れか一つに記載の光学シート用樹脂組成物。
6. 【請求項６】 環状構造を有する単官能アクリレート
   （ｂ）が、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレー
   トであることを特徴とする請求項１から４のいずれか一
   つに記載の光学シート用樹脂組成物。
7. 【請求項７】 環状構造を有する単官能アクリレート
   （ｂ）が、２−ヒドロキシ−３−フェノキシ−プロピル
   （メタ）アクリレートであることを特徴とする請求項１
   から４のいずれか一つに記載の光学シート用樹脂組成
   物。
8. 【請求項８】 請求項１から７のいずれか一つに記載の
   光学シート用電離放射線硬化型樹脂組成物から成る、微
   細構造を有する電離放射線硬化型樹脂組成物層（Ａ）
   と、必要に応じて設ける接着層（Ｂ）と、シート状の透
   明樹脂層（Ｃ）から成る光学シ−ト。
9. 【請求項９】 接着層（Ｂ）が、セルロース樹脂（ｂ
   1）と、ポリイソシアネ−ト（ｂ2）とから成ることを特
   徴とする請求項８記載の光学シート。
10. 【請求項１０】 接着層（Ｂ）が、分子量３０００から
    ３００００のポリエステル樹脂（ｂ3）と、ポリイソシ
    アネ−ト（ｂ2）とから成ることを特徴とする請求項８
    記載の光学シート。
11. 【請求項１１】 接着層（Ｂ）が、分子量３０００から
    ３００００のポリエステル樹脂（ｂ3）と、環状構造を
    有するエポキシアクリレートと、光開始剤から成り、か
    つ該エポキシアクリレ−トの含量が１０％〜６０％であ
    ることを特徴とする請求項８記載の光学シート。
12. 【請求項１２】 シート状の透明樹脂層（Ｃ）が、ポリ
    エステル、またはポリカ−ボネ−ト樹脂であることを特
    徴とする請求項８から１１のいずれか一つに記載の光学
    シート。
13. 【請求項１３】 請求項１から７のいずれか一つに記載
    の光学シート用電離放射線硬化型樹脂組成物から成る微
    細構造を有する層（Ａ）と、セルロース樹脂（ｂ1）
    と、ポリイソシアネ−ト（ｂ2）から成る接着層（Ｂ）
    と、ポリエステルまたはポリカ−ボネ−ト樹脂から成る
    シート状の透明樹脂層（Ｃ）から成る光学シ−ト。
14. 【請求項１４】 請求項１から７のいずれか一つに記載
    の光学シート用電離放射線硬化型樹脂組成物から成る微
    細構造を有する層（Ａ）と、分子量３０００から３００
    ００のポリエステル樹脂（ｂ3）と、ポリイソシアネ−
    ト（ｂ2）とから成る接着層（Ｂ）と、ポリエステルま
    たはポリカ−ボネ−ト樹脂から成るシート状の透明樹脂
    層（Ｃ）から成る光学シ−ト。
15. 【請求項１５】 請求項１から７のいずれか一つに記載
    の光学シート用電離放射線硬化型樹脂組成物から成る微
    細構造を有する層（Ａ）と、分子量３０００から３００
    ００のポリエステル樹脂と、環状構造を有するエポキシ
    アクリレートと、光開始剤から成り、かつエポキシアク
    リレ−トの含量が１０％〜６０％である樹脂組成物から
    成る接着層（Ｂ）と、ポリエステルまたはポリカ−ボネ
    −ト樹脂から成るシート状の透明樹脂層（Ｃ）から成る
    光学シ−ト。
16. 【請求項１６】 所望の微細凹凸形状の型が形成された
    ロール凹版を回転させ、そのロール凹版の少なくとも凹
    部に電離放射線硬化型樹脂液を充填する充填工程と；前
    記充填工程で前記ロール凹版に充填された前記電離放射
    線硬化型樹脂液に対して、前記ロール凹版の回転方向に
    同期して走向する透明樹脂シート基材を接触させる接触
    工程と；前記接触工程で前記シート基材が前記ロール凹
    版に接触している間に、前記ロール凹版と前記シート基
    材間にある電離放射線硬化型樹脂液に電離放射線を照射
    して硬化させる硬化工程と；前記硬化工程で硬化する前
    記電離放射線硬化型樹脂液と前記シート基材とを密着さ
    せる密着工程と；前記密着工程で密着した前記電離放射
    線硬化型樹脂液の硬化物と前記シート基材を前記ロール
    凹版から剥離する剥離工程と；を含み、前記電離放射線
    硬化型樹脂液が請求項１から７のいずれか一つに記載の
    光学シート用電離放射線硬化型樹脂組成物であることを
    特徴とする光学シートの製造方法。
17. 【請求項１７】 透明樹脂シート基材に接着剤層を塗装
    する工程と；所望の微細凹凸形状の型が形成されたロー
    ル凹版を回転させ、そのロール凹版の少なくとも凹部に
    電離放射線硬化型樹脂液を充填する充填工程と；前記充
    填工程で前記ロール凹版に充填された前記電離放射線硬
    化型樹脂液に対して、前記ロール凹版の回転方向に同期
    して走向する透明樹脂シート基材の接着剤層側を接触さ
    せる接触工程と；前記接触工程で前記シート基材が前記
    ロール凹版に接触している間に、前記ロール凹版と前記
    シート基材間にある電離放射線硬化型樹脂液に電離放射
    線を照射して硬化させる硬化工程と；前記硬化工程で硬
    化する前記電離放射線硬化型樹脂液と前記シート基材と
    を接着剤層を介して密着させる密着工程と；前記密着工
    程で密着した前記電離放射線硬化型樹脂液の硬化物と前
    記シート基材を前記ロール凹版から剥離する剥離工程
    と；を含み、前記電離放射線硬化型樹脂液が請求項１か
    ら７のいずれか一つに記載の光学シート用電離放射線硬
    化型樹脂組成物であることを特徴とする光学シートの製
    造方法。
18. 【請求項１８】 接着層（Ｂ）中に含まれる光開始剤の
    吸光波長が、４００ｎｍ以下に存在し、電離放射線硬化
    型樹脂組成物層（Ａ）中に含まれる光開始剤の吸光波長
    が４５０ｎｍ以下に存在することを特徴とする請求項１
    ６または１７に記載の光学シートの製造方法。