JPH10158349A - 光学シート用電離放射線硬化型樹脂組成物、光学シート及びその製造方法 - Google Patents

光学シート用電離放射線硬化型樹脂組成物、光学シート及びその製造方法

Info

Publication number
JPH10158349A
JPH10158349A JP8331406A JP33140696A JPH10158349A JP H10158349 A JPH10158349 A JP H10158349A JP 8331406 A JP8331406 A JP 8331406A JP 33140696 A JP33140696 A JP 33140696A JP H10158349 A JPH10158349 A JP H10158349A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
ionizing radiation
curable resin
optical sheet
sheet
resin composition
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP8331406A
Other languages
English (en)
Inventor
Fumihiro Arakawa
文裕 荒川
Tadahiro Mazaki
忠宏 真崎
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dai Nippon Printing Co Ltd
Original Assignee
Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Dai Nippon Printing Co Ltd filed Critical Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority to JP8331406A priority Critical patent/JPH10158349A/ja
Publication of JPH10158349A publication Critical patent/JPH10158349A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Polymerisation Methods In General (AREA)
  • Epoxy Resins (AREA)
  • Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
  • Overhead Projectors And Projection Screens (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 鋭角なプリズム形状を有し肉厚な光学シート
の製造に使用できる硬化速度の速い電離放射線硬化型樹
脂組成物と、当該樹脂組成物による光学シートおよびそ
の製造方法を提供する。 【解決手段】 環状構造を有する、二以上のアクリレー
ト基を有するエポキシアクリレートと環状構造を有する
単官能アクリレートからなる組成物の光硬化に、光開始
剤として、ビス−2,6−ジメチルオキシベンゾイル−
2,4,4−トリメチルフェニルフォスフィンオキサイ
ドを使用することにより、鋭角なプリズム形状を有し肉
厚な光学シートの製造に使用することができる硬化速度
の速い電離放射線硬化型樹脂組成物が得られる。また、
上記組成物による光学的な微細構造を透明樹脂層上に形
成することにより鋭角な頂角やアスペクト比を実現した
各種光学シートが得られる。さらに、上記光学シートは
微細凹凸形状が形成されたロール凹版と透明樹脂シート
との間に当該電離放射線硬化型樹脂組成物を充填し電離
放射線により硬化させる本発明の製造方法により効率的
に製造することができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、液晶ディスプレイ
のバックライト等に使用されるプリズムシート、コリメ
ータレンズ、フレネルレンズ、レンチキュラレンズ、後
方反射レンズ、ホログラム等の表面に微細構造を有する
光学シートと、該光学シート用電離放射線硬化型樹脂組
成物、及び該光学シートの製造方法に関するものであ
る。
【0002】
【従来の技術】近年、液晶ディスプレイの急速な発展に
より、テレビモニター、ビデオモニターやコンピュータ
ディスプレーの用途に用いられるバックライト用のプリ
ズムシート、コリメータレンズ、光拡散板、集光板、投
射テレビジョンのスクリーン用のレンチキュラレンズや
フレネルレンズ等の光学シート用途として、従来では考
えられなかった鋭角な頂角やアスペクト比の大きな微細
凹凸形状を有する光学シートの早急な開発が求められて
いる。
【0003】従来、光学シートは、米国特許24825
98号公報や、米国特許3565978号公報等に開示
されている熱可塑性樹脂の射出成型、あるいは、熱プレ
ス成型により製造されるのが一般的であった。しかしな
がら、これらの製造方法では、製造時の加熱及び冷却に
長時間を必要とし、生産性が低いという問題点と、製造
された光学シートの熱収縮により版形状の再現性が十分
でないという問題点を有していた。
【0004】近年、レンズ型母型と透明フィルムの間
に、反応性樹脂を介在させ、熱や紫外線により、反応性
樹脂を硬化させることによってレンズ母型のレプリカを
製造する方法が提案されている。米国特許252486
2号公報には、(メタ)アクリル酸やメチルメタアクリ
レート等のモノマー、あるいは一部重合したこれら組成
物を光重合により光学部品を製造する方法が述べられて
いる。
【0005】また、米国特許3689346号公報や米
国特許3935359号公報には、架橋可能な、一部ポ
リマー化されたアクリルエステル等の樹脂組成物を、レ
ンズ母型に注入し、活性エネルギー線や熱によって、固
化させる方法により、光学シーとを連続的に製造する方
法が述べられている。
【0006】特開昭48−21546号公報では、透明
な挟持体間に無溶媒型光硬化性樹脂を挟持せしめ、透明
部より露光して、露光部分を硬化せしめ、挟持体の接触
面に応じた形状の光硬化性樹脂成型体を得ることを特徴
とする光学素子の製造方法が開示されている。
【0007】また、米国特許4376800号公報に
は、アクリルモノマーとウレタンアクリレートからなる
組成物を紫外線硬化にて光学物品を製造する方法が述べ
られている。しかしながら、こうした方法は、皮膚刺激
性、毒性等の強いモノマーの使用で作業環境の悪化や、
反応が完結するまでに時間が懸かり、生産性に劣る欠点
を有していた。更に、機械的物性が悪かったり、硬化時
の収縮によりフィルムのカール等の変形を生じてしまう
問題点も有していた。
【0008】特公昭62−51725号公報では、情報
トラックを有する金属性のダイ(母型)上に、飽和炭化
水素やフェニル基を含有する放射線重合性樹脂を被着
し、次いで該重合性樹脂の前記ダイと反対側の表面上に
基板を設けるか、または予め該重合性樹脂層を基板に被
着した後、該基板を有する重合性成型樹脂層を前記ダイ
上に被着し、該重合性成型樹脂を光硬化した後、該重合
性成型樹脂層とこれに結合した基板とをダイから除去す
ることによる、CDとかLD等のプラスチック情報キャ
リアの複製法を開示している。
【0009】また米国特許4576850号公報、特公
平4−5681号公報には、所謂ソフトセグメントとハ
ードセグメントと称する化合物の混合物を、紫外線照射
にて架橋硬化させることにより、熱寸法安定性の向上や
機械的物性を改良する方法が開示されている。しかしな
がらこれらの方法では、やはり硬化時間が長くかかった
り、ソフトセグメントの導入による生成硬化物の表面硬
度の低下、あるいは光学シートの硬化時の変形や、耐候
性低下の問題が残されていた。
【0010】また、従来の紫外線硬化層と樹脂透明基材
とを密着させて製造される光学シートでは、光学シート
としての機械的強度は、優れるものの、密着界面での密
着性に問題があり、長期の密着性、耐久性の面で問題が
残されていた。
【0011】
【発明が解決しようとする課題】本発明が解決しようと
する課題は、頂角が鋭角あるいはアスペクト比が大きく
電離放射線硬化型樹脂層が厚膜な光学シートの表面硬度
が高く、硬化時のシートの変形や、耐候性低下の問題が
なく、かつ硬化時間が短く、生産性に優れる光学シート
用電離放射線硬化型樹脂組成物、光学シート及びその製
造方法を提供することにある。
【0012】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記の課
題を解決するために、鋭意検討の結果、特定の電離放射
線硬化型樹脂組成物を用いた微細構造を有する電離放射
線硬化型樹脂組成物層(A)と、必要に応じて設ける接
着層(B)と、シート状の透明樹脂層(C)の、2層ま
たは3層から成る光学シートが、硬化物表面の硬度を保
持しつつ、耐久性に優れ、かつ硬化時にカール等の光学
シートとしての変形が極めて少なく、微細パターンの設
計が可能な、硬化速度の速い、新規な電離放射線硬化型
樹脂組成物と、該樹脂組成物を用いた光学シート及び、
その製造方法を見い出し、本発明を完成するに至った。
【0013】すなわち、本発明の要旨の第1は、環状構
造を有し、二つ以上のアクリレート基を有するエポキシ
アクリレート(a)と環状構造を有する単官能アクリレ
ート(b)と光開始剤(c)からなり、光開始剤(c)
にビス−2,6−ジメチルオキシベンゾイル−2,4,
4−トリメチルフェニルフォスフィンオキサイドを含む
ことを特徴とする光学シート用電離放射線硬化型樹脂組
成物、である。
【0014】また本発明の要旨の第2は、上述の光学シ
ート用電離放射線硬化型樹脂組成物からなる、微細構造
を有する電離放射線硬化型樹脂組成物層(A)と、必要
に応じて設ける接着層(B)と、シート状の透明樹脂層
(C)からなる光学シート、である。
【0015】また、本発明の要旨の第3は、微細な光学
構造を形成するための凹部が形成されたロール凹版を回
転させ、当該ロール凹版の凹部に電離放射線硬化型樹脂
液を充填する充填工程と; 前記充填工程で前記ロール
凹版の凹部に充填された前記電離放射線硬化型樹脂液に
対して、前記ロール凹版の回転方向に同期して走行する
透明樹脂シート基材を接触させる接触工程と; 前記接
触工程で前記シート基材が前記ロール凹版表面と凹部内
の電離放射線硬化型樹脂液に接触している間に、前記ロ
ール凹版と前記シート基材間にある電離放射線硬化型樹
脂液に電離放射線を照射して硬化させる硬化工程と;
前記硬化工程で硬化しかつ前記シート基材と密着した前
記電離放射線硬化型樹脂液の硬化物と前記シート基材を
前記ロール凹版から剥離する剥離工程と;からなる光学
シートの製造方法において、前記電離放射線硬化型樹脂
液が請求項1記載の光学シート用電離放射線硬化型樹脂
組成物であることを特徴とする光学シートの製造方法、
である。
【0016】
【発明の実施の形態】以下に本発明の実施形態を詳細に
説明する。本発明は、硬化速度の速い、特定の光学シー
ト用電離放射線硬化型樹脂組成物と、該電離放射線硬化
型樹脂組成物を用いた微細構造を有する電離放射線硬化
型樹脂組成物層(A)、必要に応じて設ける接着層
(B)、及びシート状の透明樹脂層(C)の、2層また
は3層から成る光学シート、並びにその製造方法であ
る。本発明は、頂角が鋭角あるいは、アスペクト比が大
きく電離放射線硬化型樹脂層が厚膜な光学シート表面の
硬度を保持しつつ、耐久性に優れ、かつ硬化時にカール
等の変形が極めて少なく、微細パターンの設計が可能な
光学シートを提供するものである。
【0017】電離放射線硬化型樹脂の硬度は、樹脂骨格
の剛性と、架橋密度、反応率等に影響される。樹脂骨格
として、ソフトな成分を導入すると、同一の架橋密度で
は、硬度が低くなってしまう。しかしながら架橋密度を
大きくして、硬度を補うと、電離放射線硬化型樹脂の硬
化時に硬化収縮が大きくなり、光学シートの変形を生じ
易い。光学シートの変形、すなわち、シートのカールを
低減させるために、電離放射線硬化型樹脂組成物の架橋
密度を小さくする一つの方法として、組成物への分子量
の大きい紫外線反応型オリゴマーの添加や、熱可塑性ポ
リマーの添加が検討されてきた。
【0018】しかし、電離放射線硬化型樹脂組成物の架
橋密度を小さくするために、分子量の大きい紫外線反応
型オリゴマーや、熱可塑性ポリマー等を用いると、硬化
前の樹脂組成物の粘度が著しく高くなる。
【0019】ところが、電離放射線硬化型樹脂組成物の
母型への均一な塗布、並びに微細構造を有する母型の複
製のためには、用いる樹脂組成物の粘度は、25°C
で、1,000cpsから12,000cpsの範囲に
あることが望ましく、12,000cpsを越えたり、
あるいは、逆に1,000cps以下では、樹脂組成物
を母型の微細部分まで十分な型入れすることが不可能と
なり、また連続塗布が困難となる。
【0020】さらにこれを改善するために、溶剤等を添
加して組成物の粘度を下げると、これら溶剤の揮発工程
が必要となり、また溶剤を揮発させた後のパターニング
の際に、微細な母型パターンの転写が困難となる。ま
た、樹脂組成物の粘度を低下させるために、反応性希釈
剤を多量に添加した場合は、組成物の硬化収縮率が大き
くなり、製造時あるいは経時的に光学シートの変形を生
じて好ましくない。
【0021】また、硬化塗膜の弾性率を小さくし、さら
に基材となる透明シートの剛性によりカール性を少なく
することが考えられる。ここで硬化塗膜の弾性率を低下
させる方法としては、分子構造中にガラス転移点の低い
ソフトセグメント成分として、ポリエーテルや脂肪族ポ
リエステル、ポリシロキサン、ポリオレフィン、アクリ
ル酸エステルを主成分としたポリアクリル等を導入する
方法が考えられる。しかしながら、このようなソフトセ
グメント成分の導入により、製品硬化物の硬度は低下
し、表面の傷つきや耐久性低下等の問題を生じる。
【0022】本発明による光学シート用電離放射線硬化
型樹脂組成物は、こうした問題点を解決するために、基
本的にソフトなセグメントを樹脂組成中に含まず、構造
的に固く、硬化物の硬度が高いものであり、しかしなが
ら架橋密度が高くないために、シートの変形が抑えられ
るものである。すなわち、本発明による光学シート用電
離放射線硬化型樹脂組成物は、分子中に極性を有する官
能基を有しており、この極性官能基により、分子間で水
素結合をとる構造を有している。
【0023】一般に、水素結合は、電気陰性度の高い原
子X,YのX−H基とY原子の間に形成されるものであ
り、電気陰性度の高い原子としては酸素、窒素原子が挙
げられる。より具体的には、本発明による光学シート用
電離放射線硬化型樹脂組成物中のエポキシアクリレート
や単官能アクリレートに含まれるX=Oである水酸基
と、Y=Oの酸素原子の間に水素結合が形成される。
【0024】水素結合の結合エネルギーは、1〜8Kc
al/molであり、通常の化学結合に比して弱いもの
であるが、分子間で形成される水素結合により、分子間
に疑似的な架橋構造が形成される。すなわち、分子間で
形成される水素結合により、分子間の凝集力が増し、こ
れによって硬化速度が増加し、さらに物性強度が高いも
のとなる。
【0025】このように、本発明による光学シート用電
離放射線硬化型樹脂組成物は、分子間水素結合を形成す
る能力を有することにより、単なるハードセグメントだ
けで構成した樹脂組成物と比較して、硬化速度が早く、
かつ硬化物が靱性を有することになり、製造時での光学
シートの割れの問題や、光学シートの耐衝撃性の向上が
図れるものである。
【0026】すなわち、本発明の環状構造を有するエポ
キシアクリレート(a)としては、ビスフェノールA型
のエポキシアクリレートやフェノールノボラック、クレ
ゾールノボラック型のエポキシアクリレート、ナフタレ
ン骨格のエポキシアクリレート、ビスフェノールF型の
エポキシアクリレート及びそれらの水添化物エポキシア
クリレートが使用できる。
【0027】またこれら環状構造を有する化合物は、ソ
フトセグメントとハードセグメントを併用した樹脂硬化
物に比べ、一般に屈折率が高く、求める屈折率を得るた
めの硬化物の厚さを薄く設定することが出来る利点を有
する。これらの一部ブロム置換体であるブロム化エポキ
シアクリレートは、さらに硬化後の屈折率が高く、レン
ズの形状を小さくすることが可能で、また燃焼性の性質
も得られるために好ましい。また、これら環状構造を有
するエポキシアクリレートを2種以上併用してもかまわ
ない。
【0028】これらエポキシアクリレートは、分子内に
環状構造をもったグリシジルエーテル化合物にエチレン
性不飽和二重結合とカルボン酸を有する化合物を反応さ
せて得られるもので、グリシジルエーテルのカルボン酸
による開環付加反応により製造されるものである。この
ときグリシジルエーテルの開環で、2級の水酸基が残基
として生成し、この水酸基が水素結合を形成するプロト
ン供与体となる。
【0029】環状構造を有する単官能アクリレート
(b)としては、炭素環状構造として、飽和、不飽和環
状構造を有する単官能アクリレート、及びヘテロ環状構
造を有する単官能アクリレートを、単独または2種以上
の併用で使用可能で、公知慣用のものが使用できる。ま
た、これら環状構造を有する単官能アクリレート(b)
は極性を有する官能基を分子内に有していることが好ま
しく、それら極性を有する官能基によって、分子間での
水素結合が形成され得るものである。
【0030】それらの代表例のみを例示すると、イソボ
ルニル(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル
(メタ)アクリレート、グリシジルシクロカーボネート
(メタ)アクリレート、フェノキシエチルアクリレー
ト、ベンジル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル
(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニル(メタ)ア
クリレート、ジシクロペンテニル(メタ)アクリレー
ト、グリシジル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ
−3−フェノキシ−プロピル(メタ)アクリレート、
(メタ)アクリロイルオキシフタリックアシッド、フェ
ノキシエチレングリコール(メタ)アクリレート、アダ
マンチル(メタ)アクリレート、モノホリン(メタ)ア
クリレート等である。また単官能アクリレート以外の環
状構造を有する単官能反応性希釈剤も本発明に使用する
ことが出来る。これら代表的なものとしては、スチレ
ン、ビニールピロリドン等を挙げることができる。
【0031】酸性を有する官能基としては、水酸基、環
状エーテル基、シクロカーボネート基、アミノ基、カル
ボキシル基、リン酸基、スルホン酸基等の酸基及びその
アルカリ金属塩等である。このような極性官能基を有す
る環状構造を有する単官能反応性希釈剤として、上述の
ものと重複するが、テトラヒドロフルフリル(メタ)ア
クリレート、グリシジルシクロカーボネート(メタ)ア
クリレート、フェノキシエチルアクリレート、2−ヒド
ロキシ−3−フェノキシ−プロピル(メタ)アクリレー
ト等が好適に使用できる。
【0032】本発明において、エネルギー線として電離
放射線を用いる。電離放射線としては、可視光線、紫外
線、X線等の電磁波、または電子線等の荷電粒子線が用
いられるが、これらの内で実用上良く用いられるのは、
紫外線である。特に近年、液晶ディスプレイのバックラ
イトに使用される光学シートの微細凹凸形状は、例えば
プリズム形状であれば頂角が鋭角に、コリメータレンズ
のような形状であればアスペクト比が大きく電離放射線
硬化型樹脂層が厚膜になる傾向にあり従来の電離放射線
硬化型樹脂組成物では硬化が不十分ないしは硬化に時間
がかかり生産性が低い問題があった。
【0033】製造工程では、紫外線等のエネルギー線
は、支持体となる透明基板面(シート状の透明樹脂層
(C))を通して照射されるため、使用されうる光開始
剤は、長波長領域に吸収能力を有する開始剤が好まし
く、紫外線が360nmから450nmの範囲、特に4
00nmから440nmにおいて光開始能力を有する光
開始剤の使用が望ましく、この点から厚膜において高い
活性を示すビス−2,6−ジメチルオキシベンゾイル−
2,4,4−トリメチルフェニルフォスフィンオキサイ
ドを用いることにより上記問題が解決された。
【0034】なお併用する光開始剤としては、公知慣用
のものが、いずれも併用できるが、そのうちでも代表的
な例を挙げれば、例えば、4−ジメチルアミノ安息香
酸、4−ジメチルアミノ安息香酸エステル、アルコキシ
アセトフェノン、ベンジルジメチルケタール、ベンゾフ
ェノン及びベンゾフェノン誘導体、ベンゾイル安息香酸
アルキル、ビス(4−ジアルキルアミノフェニル)ケト
ン、
【0035】ベンジル及びベンジル誘導体、ベンゾイン
及びベンゾイン誘導体、ベンゾインアルキルエーテル、
2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオフェノン、1−ヒ
ドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、チオキサント
ン及びチオキサントン誘導体、2,4,6−トリメチル
ベンゾイルジフェノイルフォスフィンオキシド、
【0036】2−メチル−1−〔4−(メチルチオ)フ
ェニル〕−2−モルホリノプロパン−1,2−ベンジル
−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルホリノフェニ
ル)−ブタノン−1等が挙げられる。これらのなかで
は、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、チ
オキサントンおよびチオキサントン誘導体、2,4,6
−トリメチルベンゾイルジフェノイルフォスフィンオキ
シド、2−メチル−1−〔4−(メチルチオ)フェニ
ル〕−2−モルホリノ−1−プロパノン、2−ベンジル
−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルホリノフェニ
ル)−ブタン−1−オンの群から選ばれる1種または2
種類以上の混合系が硬化性が高いので、特に好ましい。
【0037】また、光(重合)開始剤に、公知慣用の光
増感剤をも併用することができる。かかる光増感剤とし
て特に代表的なもののみを例示するに留めれば、アミン
類、尿素類、含硫黄化合物、含燐化合物、含塩素化合物
またはニトリル類もしくは、その他の含窒素化合物等で
ある。
【0038】環状構造を有するエポキシアクリレート
(a)と、環状構造を有する単官能アクリレート(b)
と、必要に応じ添加する光開始剤(c)との配合による
本発明の樹脂組成物は、系のアクリレート官能基が0.
2〜5.0mmol/gであることが必要であり、アク
リレート官能基濃度が0.2mmol/gより低いと、
硬化性が低下し、また粘度が高くなり作業性が悪くな
る。
【0039】またアクリレート官能基濃度が、5.0m
mol/gより高いと、硬化収縮により硬化シートがカ
ールしてしまう。0.2mmol/g〜5.0mmol
/gのアクリレート官能基濃度により、硬化性が良好
で、硬化時のカール等のフィルムの変形を防ぐことがで
き、かつ、良好な表面硬度を得ることが出来る。
【0040】本発明で言う光学シートの変形により生じ
るカールは、作成された光学レンズシートをA4サイズ
に切り出し、水平面上にレンズ形成面を上にして静置
し、レンズシートの端が水平面からカールした高さを測
定することにより評価することができる。レンズとして
の実装性、信頼性から、この評価法でのカール性として
は、1mm以下であることが必要である。
【0041】また、本発明により製造される光学シート
は、シート製造時やディスプレー装着時に、硬化物表面
に傷等の塗膜欠陥を生じる可能性があるが、光学レンズ
として使用するため、これらの微小な傷は、致命的な欠
陥となる。従って、本発明に用いられる樹脂組成物は、
高い表面硬度が要求され、具体的には、鉛筆硬度とし
て、JIS K−5400に準じて、H以上のものが必
要である。
【0042】即ち、本発明の配合比率は、環状構造を有
するエポキシアクリレート(a)が10%〜90%であ
り、好ましくは、30%〜85%である。また光開始剤
は、0.5重量%から10重量%の範囲での添加が好適
であり、ビス−2,6−ジメチルオキシベンゾイル−
2,4,4−トリメチルフェニルフォスフィンオキサイ
ドの添加量は、0.01重量%以下では、効果がなく逆
に5重量%以上では、硬化物が黄変し好ましくない。
【0043】また、この電離放射線硬化型樹脂の粘度と
しては、1000cps/25°C〜12000cps
/25°Cであることが好ましく、好適には、1000
cps/25°C〜8000cps/25°Cである。
また、必要に応じて、このパターンを付与する電離放射
線硬化型樹脂層中の塗膜の改質や塗装適性、母型からの
離型性を改善させるため、種々の添加剤として、紫外線
吸収剤、光安定剤、酸化防止剤、レオロジーコントロー
ル剤、シリコン添加剤、脱泡剤、等添加可能である。
【0044】本発明の光学シートは、上述の電離放射線
硬化型樹脂組成物層(A)をシート状の透明樹脂層
(C)の少なくとも一方の表面上に、必要に応じて設け
られる接着層(B)を介して積層した後、電離放射線硬
化型樹脂組成物層(A)に、所望の微細形状を有する母
型を密着させ、電離放射線硬化型樹脂層を紫外線照射に
より硬化後、この母型より剥離し、母型の微細構造を複
写した光学シートとして製造される。
【0045】ここで言うシート状の透明樹脂層(C)
は、光学シートの物理的強度を付与する目的と、微細構
造を有する母型の反対側の面の平滑性を得るために使用
される。こうしたシート状の透明樹脂層(C)を光学シ
ートに使用しない場合は、かかる平滑面を得るために、
微細構造を有する母型の反対側の面に、透明で平滑な基
板を接触せしめ、平滑面を転写して、紫外線照射により
樹脂を硬化した後、かかる平滑基板を紫外線樹脂層から
剥離することが必要となる。
【0046】こうした剥離工程は、工程数の増加、およ
び平滑面の転写面と電離放射線硬化樹脂層との剥離性が
問題となり、生産性と材料の制限が生じてしまう。ま
た、電離放射線硬化樹脂層のみで形成された光学シート
は、光学シートの生産時、光学シートの光学機器への装
着時、あるいは、光学機器使用時での物理的衝撃に対す
る強度が満足でない。それ故、シート状の透明樹脂層
(C)と電離放射線硬化型樹脂層(A)を一体化するこ
とは、光学シートの製造、強度から好ましい方法であ
る。
【0047】こうしたシート状の透明樹脂層(C)とし
ては、物理的衝撃に対して、破断強度、引張強度等の機
械的強度を有していて、均一な膜厚、平滑性、透明性、
フレキシビリティー、耐久性を有していることが必要で
ある。
【0048】この透明樹脂層(C)は、具体的にはシー
ト状のものが好ましく、とりわけ、20ミクロンから1
mm程度のものが好ましく、加工性や、フィルム物性、
透明性の観点から、特に50ミクロン〜150ミクロン
が好適である。また透明樹脂層(C)の表面は、電離放
射線硬化型樹脂層(A)との密着性向上のため、コロナ
放電処理、プラズマ処理、易接着プライマーコート等の
易接着処理を行ったものでも良い。
【0049】具体的には、透明性の良いポリエチレンテ
レフタレート等のポリエステルシート、ポリメチルメタ
クリレート等のアクリル系シート、ポリカーボネート系
シート、塩化ビニル系シート、ポリスチレンシート等が
使用できる。特に、耐久性の面から、ポリエチレンテレ
フタレート系あるいは、ポリカーボネート系のシートが
好ましい。
【0050】本発明においては、電離放射線硬化型樹脂
層(A)の耐久性はもとより、基材となるシート状の透
明樹脂層(C)の耐久性、さらには電離放射線硬化型樹
脂層(A)と、シート状の透明樹脂層(C)の密着性も
極めて重要であり、このため、基材となるシート状の透
明樹脂層(C)と、電離放射線硬化型樹脂層(A)の間
に接着層(B)を有することが好ましい。
【0051】但し、基材シートとなる透明樹脂層(C)
と、電離放射線硬化型樹脂層(A)との密着性が十分で
あったり、或いは透明樹脂層(C)表面へのコロナ放電
処理、プラズマ処理、易接着プライマーコート等の易接
着処理等により、密着性が十分な場合は、接着層(B)
は不要である。また密着性をより強固にする目的で、易
接着処理と接着層(B)とを併用することもできる。
【0052】接着層(B)としては、支持体となる透明
樹脂層(C)と微細構造を形成する電離放射線硬化型樹
脂層(A)との両方に優れた接着能力を有するものから
選定しなければならない。本発明の接着層(B)として
は、熱可塑性樹脂とポリイソシアネート、あるいは熱可
塑性樹脂とアクリレート化合物の樹脂組成物、あるいは
ポリイソシアネートとポリエステルからなる樹脂組成物
が、優れた密着性を有し、特に好ましく用いられる。
【0053】ここで言う熱可塑性樹脂としては、公知慣
用のものが使用出来るが、好ましくは、各種のセルロー
スエステルやセルロースエーテル等のセルロース樹脂、
各種(メタ)アクリル酸エステル重合体であるアクリル
ラッカー等のアクリル系樹脂、高分子量オイルフリーポ
リエステル等のポリエステル系樹脂、ポリカーボネート
系樹脂、ポリエステルやポリエーテル系のポリウレタン
等が挙げられる。特に、これらの内で、セルロース樹
脂、ポリエステル樹脂が好ましい。
【0054】ここで言うセルロースエステル樹脂とは、
セルロース中の水酸基を、酸類で部分的にエステル化し
たものであり、硝酸、硫酸、酢酸、プロピオン酸、酪
酸、その他の高級脂肪酸等の一つ以上の酸とのエステル
化により得られるものである。特に、酢酸、プロピオン
酸、酪酸によりエステル化されたセルロースエステル樹
脂が好ましく用いられる。セルロースエーテル樹脂もセ
ルロースエステル樹脂と同様に用いることができる。ま
たエステル及びエーテル結合を有するセルロース樹脂も
好ましく用いられる。
【0055】ここで言うポリエステル樹脂としては、飽
和、不飽和のポリオールと多塩基酸、あるいは低級アル
キルエステルとのエステル化反応やエステル交換反応に
よって得られる公知慣用のものである。また分子量は
3,000〜30,000のものが好ましい。こうした
ポリオール原料としては、公知慣用のものが使用できる
が、そのうち代表例を挙げれば、エチレングリコール、
1,3−プロピレングリコール、1,2−プロピレング
リコール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコ
ール、ネオペンチルグリコール、
【0056】1,3−ブタンジオール、1,4−ブタン
ジオール、1,6−ヘキサンジオール、1,9−ノナン
ジオール、1,10−デカンジオール、2,2,4−ト
リメチル−1,3−ペンタンジオール、3−メチル−
1,5−ペンタンジオール、ジクロロネオペンチルグリ
コール、ジブロモネオペンチルグリコール、ヒドロキシ
ピバリン酸ネオペンチルグリコールエステル、シクロヘ
キサンジメチロール、
【0057】1,4−シクロヘキサンジオール、トリメ
チロールエタン、トリメチロールプロパン、グリセリ
ン、3−メチルペンタン−1,3,5トリオール、ペン
タエリスリトール、ジペンタエリスリトール、トリペン
タンエリスリトール、スピログリコール、トリシクロデ
カンジメチロール、水添ビスフェノールA等である。
【0058】更に、多塩基酸化合物としては、公知慣用
の各種のカルボン酸、またはそれらの酸無水物、及びこ
れらカルボン酸化合物と低級アルキルアルコールのエス
テル化物が使用できるが、それらのうちでも特に代表的
なもののみを例示するにとどめれば、マレイン酸、フマ
ル酸、イタコン酸、シトラコン酸、テトラヒドラフタル
酸、ヘット酸、ハイミック酸、クロレンディック酸、ダ
イマー酸、アジピン酸、こはく酸、アルケニルこはく
酸、セバチン酸、アゼライン酸、
【0059】2,2,4−トリメチルアジピン酸、1,
4−シクロヘキサンジカルボン酸、テレフタル酸、2−
ナトリウムスルホテレフタル酸、2−カリウムスルホテ
レフタル酸、イソフタル酸、5−ナトリウムスルホイソ
フタル酸、5−カリウムスルホイソフタル酸、またはジ
メチル−ないしはジエチルエステルの如き、5−ナトリ
ウム−スルホイソフタル酸のジ−低級アルキルエステル
類、あるいは、オルソフタル酸、4−スルホフタル酸、
1,10−デカメチレンジカルボン酸、
【0060】ムコン酸、しゅう酸、マロン酸、グルタン
酸、トリメリット酸、ヘキサヒドロフタル酸、テトラブ
ロムフタル酸、メチルシクロヘキセントリカルボン酸も
しくはピロメリット酸、またはこれらの酸無水物、また
は、メタノール、エタノール等のアルコールエステル化
合物などが挙げられる。
【0061】またここでいう(メタ)アクリル酸エステ
ルとしては、公知慣用のものが使用できるが、より具体
的には、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)
アクリレート等のアルキル(メタ)アクリレートや、環
状構造を有する(メタ)アクリレート、ポリオキシアル
キレン(メタ)アクリレート等挙げることが出来る。
【0062】更に環状エステル化合物としては、γ−ブ
チロラクトン、γ−バレロラクトン、δ−バレロラクト
ン、ε−カプロラクトン、D−グルコノ−1,4−ラク
トン、1,10−フェナントレンカルボラクトン、4−
ペンテン−5−オリド、12−ドデカノリド等のラクト
ン類が挙げられる。
【0063】また接着層に好ましく使用し得るアクリレ
ート化合物としては、通常、反応性希釈剤として用いら
れるものや、各種アクリレートオリゴマー、アクリレー
トポリマーが使用でき、これらアクリレート化合物とし
ては、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、
ポリエステルアクリレート、ポリエーテルアクリレート
等単独または2種類以上を併用して使用できる。
【0064】この中でも、微細パターンを有する電離放
射線硬化型樹脂層との密着性の観点から、エポキシアク
リレート化合物が特に好ましい。ここで使用されるエポ
キシアクリレートとしては、上述の電離放射線硬化型樹
脂組成物で例示したものが使用でき、またこれらアクリ
レート化合物は、接着層樹脂中の10%〜60%である
ことが好適である。
【0065】アクリレート化合物が10%以下の場合
は、接着層の上層となる電離放射線硬化型樹脂層との密
着性が低下したり、耐水試験にて、白化等の現象が見ら
れたりする。また、アクリレート化合物の量が60%以
上の場合には、基材との密着性が減少する弊害を生じ易
い。また、ポリエステルやポリエーテル系のポリウレタ
ン等としては、上述のポリエステルの分子量が約500
から4000程度のポリエステルポリオールやポリエチ
レングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテト
ラメチレングリコール等のポリアルキレンオキサイドと
ポリイソシアネートとの反応で得られるポリウレタン樹
脂が使用できる。
【0066】ここで言うポリイソシアネートとしては、
単独で使用しても、あるいは、イソシアヌレート化せし
めた形のポリイソシアネートとイソシアネート化合物と
を併用してもよいことは、勿論であり、公知慣用の二官
能以上のイソシアネートをいずれも用いることができる
が、これらの代表的なもののみを例示するにとどめれ
ば、トルレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイ
ソシアネート、キシレンジイソシアネート、ジシクロヘ
キシルメタンジイソシアネートもしくはイソホロンジイ
ソシアネート、水添キシリレンジイソシアネートの如
き、各種の脂環式ジイソシアネート化合物、
【0067】またはヘキサメチレンジイソシアネートも
しくはリジンジイソシアネートの如き、各種の脂肪族ジ
イソシアネート化合物など各種の化合物などが挙げられ
る。また、上記イソシアネートモノマーをビュレット、
アロハネート、イソシアヌレート化せしめたイソシアネ
ート多量体、更にポリオールとの反応により得られるポ
リイソシアネートも使用できる。これらは単独でも、ま
た併用して使用しても良い。これらの内でもイソシアネ
ート基を分子内に3個以上有するポリイソシアネート化
合物が好ましく、特にヘキサメチレンジイソシアネート
から誘導されるポリイソシアネートが好ましい。
【0068】熱可塑性樹脂とポリイソシアネートの割合
は、熱可塑性樹脂の水酸基当量とポリイソシアネートの
イソシアネート当量の比率、OH当量/NCO当量比率
が、0.1から5の範囲、好ましくは、0.1から1の
範囲で配合することが接着性の信頼性の上で望ましい。
また接着層(B)の膜厚としては、0.2ミクロンから
10ミクロンの範囲が適切である。
【0069】シート状の透明樹脂層(C)に、接着層
(B)を塗装し、必要ならセッティング時間を設ける
か、あるいは、温度をかけて溶剤等を揮発させる。この
後、電離放射線硬化型樹脂層(A)を塗装し、所望の微
細形状を有する母型を密着させ、この状態で電離放射線
硬化型樹脂層を電離放射線硬化させることにより、シー
トと電離放射線硬化層の密着を得ることが出来る。また
接着層(B)、特に熱可塑性樹脂とアクリレート化合物
の樹脂組成物系に、光(重合)開始剤を添加すること
が、接着層の反応性を上げる観点から好ましく、かかる
開始剤としては、前述した公知慣用な開始剤が使用でき
る。
【0070】次に図1を用いて、本発明の光学シートの
製造方法の概要を説明する。まず図1において、1は所
望の凹凸が形成されたロール凹版、2はそのロール凹版
1の凹部、3は未硬化の電離放射線硬化型樹脂液、3a
は硬化した電離放射線硬化型樹脂、4は接着層(B)を
付したシート基材(C)、5はロール凹版1を押圧する
押圧ロール、6及び8は送りロール、7は電離放射線照
射装置、9は光学シート、10はTダイ型ノズル、11
は乾燥装置、12は液溜である。
【0071】電離放射線硬化型樹脂3をロール凹版1の
凹部2に充填する方法としては、図1に示した様に、ロ
ール凹版1の表面に、予め電離放射線硬化型樹脂液3を
所定量塗工しておいて、基材シート4をロール凹版1へ
供給したときに、押圧ロール5の基材背面側からの押圧
により、基材シート4を介して、塗工されている電離放
射線硬化型樹脂液3を凹部2内に配分充填させる。
【0072】この場合に、溶剤タイプの硬化性樹脂が使
用でき、乾燥装置11により溶剤を揮発除去できる。電
離放射線照射装置7は、図1に示したように1個でもよ
いが、複数個の硬化装置を設け、ロール凹版1内の樹脂
液3を多段階に硬化させるようにしてもよい。このよう
にすれば、シート基材4の走行速度を速くしても十分な
照射量が得られ、また、徐々に硬化することにより、樹
脂液3の硬化歪、シート基材4のカールや歪を低減する
ために好ましい。
【0073】次いで、シート基材4がロール凹版1に接
している間(具体的には、図中の押圧ロール5と送りロ
ール6との間に位置している時期)に、電離放射線照射
装置7により電離放射線硬化型樹脂3を硬化させる。な
お、電離放射線照射装置7により電離放射線を照射する
場合には、シート基材4側から行われるが、ロール凹版
を石英、ガラス等の電離放射線の透過性がよい材質によ
り形成して、ロール凹版1の内部側より照射することも
できる(具体的にはロール中空内に設置した照射装置に
より)。またシート基材側と凹版内部側と両面より照射
してもよい。
【0074】電離放射線照射装置7により、ロール凹版
1の凹部2内にある電離放射線硬化型樹脂3をシート基
材4に密着させる。電離放射線照射装置7を通過した
後、シート基材4をロール凹版1から剥離する。これに
より、硬化した電離放射線硬化型樹脂液3aがシート基
材4と一体となって、凹部2から脱離され、凹凸表面を
有する光学シート9が得られる。
【0075】電離放射線照射装置の電離放射線とは、電
磁波または荷電粒子線のうち、分子を重合、架橋しうる
エネルギー量子を有するものを意味し、通常、紫外線、
電子線等が用いられ、紫外線の場合には、超高圧水銀
灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、ブラッ
クライトランプ、メタルハライドランプ等の光源を用い
ることができる。
【0076】溶剤乾燥装置11は、樹脂の溶剤を揮発さ
せるための装置である。溶剤乾燥装置11としては、温
風、赤外線ヒーター等を用いることができる。なお、無
溶剤型の電離放射線硬化型樹脂を用いるときには、乾燥
装置11は不要である。
【0077】次に、この本発明の光学シートとそれを用
いる表示装置について説明する。表示装置は、液晶表示
装置を含め公知の各種方式のものが対象となり、白黒で
もカラーでもよい。また、時計、電子卓上計算機、各種
計器、ワードプロセッサー、テレビジョン、コンピュウ
ターのディスプレイ等、画像、数字、文字を表示するも
のに用いられる。また光学シートの内の光線制御用微細
構造は、光源(線光源または点光源)からの光線を屈
折、収束、発散、拡散透過または拡散反射させるもので
あり、種々の形状のものが用いられる。
【0078】図2〜図6は、本発明により製造される光
学シートのいくつかの微細構造例を模式的に示した図で
ある。ここで、図2は三角プリズム型レンチキュラレン
ズ、図3は円柱型凸レンチキュラレンズ、図4は円柱型
凹レンチキュラレンズ、図5は角錐型レンズ、図6はフ
ライアイ型(蠅目)レンズを示す。
【0079】光学シートの微細形状を有する母型として
は、フレネルレンズやレンチキュラレンズ、フライアイ
(蠅目)レンズを与える型、またはその変形としては、
例えば、多角錐、円錐台、または多角錐台の同一形状か
つ同一体種の形状を平面上に等方的に多数配列したもの
を形成することができる。ここで、角錐または角錐台と
して、正三角錐(または錐台)、正四角錐(または錐
台)、正六角錐(または錐台)を用いると、平面内に隙
間なく配列でき、かつ形状も等方的であり、水平及び垂
直方向とも同等な半値角を持たせることができ、場所に
よる変動もなく好ましい。
【0080】または、複数個の連続した三面角体また
は、4面角体のプリズム要素の配列等の光学部の形状と
同形状で逆凹凸の形状を有する面である金属製、あるい
は合成樹脂製の型を用いることが可能である。またこう
した母型は、平面上に微細形状を有しても、円筒形状の
ものの表面に有しても製造可能である。こうした円筒型
の母型を使用する連続生産例としては、米国特許368
9346号公報、特開平5−169015号公報等に記
載されている。
【0081】
【実施例】次に、実施例、比較例により、本発明をより
具体的に説明するが、本発明は、元より、これらに限定
されるべきものではない。尚、例中の部及び%は、特に
記載のない限り、すべて重量基準である。
【0082】(実施例1〜5)表1の配合により、光学
シート用電離放射線硬化型樹脂組成物(A)、及び接着
層(B)の組成物を調整した。次に、シート状の透明樹
脂層(C)として、透明なPETフィルム(膜厚125
ミクロン)を用い、この上に接着層(B)をロールコー
ターにて、乾燥膜厚約1ミクロンになるよう塗布した。
なおこの時、接着層組成物中に含有される溶剤を80°
C、30秒間の加熱処理により乾燥させた。
【0083】(接着層(B)の樹脂組成)セルロースア
セテートブチレート樹脂(ブチル化度37%、アセチル
化度13%、残存水酸基2%)15部、トルエン40
部、メチルエチルケトン40部、ヘキサメチレンジイソ
シアネートのトリメチロールプロパンアダクト型ポリイ
ソシアネート(NCO%=16.7%)5部で、合計1
00部とした。
【0084】次に、図1を用いて、本発明の光学シート
の製造方法を具体的に説明する。図1に示すように、5
0ミクロンピッチで連続して並ぶ正4面体を複数二次元
的に配列した形状を有する逆反射性レンズと同形状逆凹
凸を表面に持つ金属製ロール凹版を軸の回りに回転しつ
つ、Tダイ型ノズルから電離放射線硬化型樹脂組成物
(A)を該ロール表面に塗工し、該ロール凹版の周速度
と同期する速度で、シート状の透明樹脂層(C)(透明
PETフィルム)を走行させつつ、該透明PETフィル
ムの接着剤(B)の塗布面側と該ロール凹版表面とを、
電離放射線硬化型樹脂組成物(A)を間に介して密着さ
せ、そのままPETフィルム側から、高圧水銀ランプ
(160W/cm)2灯を10cmの位置より、照射
し、樹脂層を硬化させると同時にPETフィルムに接着
させた。
【0085】この時、PETフィルム表面に照射される
紫外線の照射量は、500mj/cm2 であった。硬化
後、PETフィルムを電離放射線硬化型樹脂層と共に、
ロール凹版から剥離し、欲するロール凹版の形状を転写
した光学シートの連続シートを製造した。光学シート、
及び硬化樹脂の物性評価結果を表4、表5に示す。
【0086】(表1)実施例1〜6の配合表
【表1】
【0087】(環状構造を有し、二つ以上のアクリレー
ト基を有するエポキシアクリレート) a1:ビスフェノールAエポキシアクリレート
【0088】(環状構造を有する単官能アクリレート) b1:イソボロニルアクリレート b2:グリシジルシクロカーボネートメタアクリレート b3:テトラヒドロフルフリルアクリレート b4:2−ヒドロキシ−3−フェノキシ−プロピル(メ
タ)アクリレート
【0089】(光開始剤) c1:ビス−2,6−ジメチルオキシベンゾイル−2,
4,4−トリメチルフェニルフォスフィンオキサイド c2:2−ヒドロキシル−2−メチル−1−フェニル−
プロパン−1−オン c3:1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニルケト
ン
【0090】(比較例1〜4)表2の配合により、比較
例1〜4の電離放射線硬化型樹脂層を調整した以外は、
実施例1〜6と同様な方法で光学シートを製造した。評
価結果を表4、表5に示す。
【0091】(表2)比較例1〜4の配合表
【表2】
【0092】(比較例のアクリレート) e1:ポリエチレングリコールジアクリレート(分子量
約370)
【0093】(比較例5)表3の配合により、比較例5
の電離放射線硬化型樹脂層を調整した以外は、実施例1
〜6と同様な方法で光学シートを製造した。評価結果を
表4、表5に示す。
【0094】(表3)比較例5の配合表
【表3】
【0095】(測定・評価方法)以下に測定・評価方法
を記載する。 (1)粘度測定 E型回転粘度計、25°Cでの粘度測定(cps)を行
った。 (2)外観判定 光学シート製造後の外観を目視にて判定した。判定基準
は、均一なレンズ表面形状が得られたものを○、一部に
割れや、形状の抜け落ちが見られるものを△、全面に割
れや、形状の抜け落ちが見られたものを×とした。 (3)鉛筆硬度測定 JIS K5400に準拠して測定を行った。H以上を
○とし、F以下を×とした。
【0096】(4)初期密着性試験 基材の透明PETと光学シート層を形成する電離放射線
硬化型樹脂層との密着性をJIS K5400に準拠し
て測定した。 (5)カール性測定法 作成された光学シートをA4サイズに切り出し、水平面
上にシート形成面を上にして静置し、光学シートの端が
水平面から自然にカールした高さ(mm)を測定した。 (6)硬化性測定 80W/cmの高圧水銀灯で、15cmのランプ高さ、
ラインスピード10m/分で照射したとき、表面タック
フリーになるまでの照射回数を測定した。照射回数が少
ない方が硬化性が良好であることを示す。
【0097】(7)ゲル分率測定 透明PET基材側より600mJ/cm2 の高圧水銀灯
で照射したときの電離放射線硬化樹脂層のゲル分率を、
透明PET基材をリファレンスとし、ソックスレイを使
用して重量変化から測定した。 (8)アクリル板への圧着試験 3cm□のアクリル板に電離放射線硬化型樹脂層が接す
るように圧着して、70°Cで72時間放置後のアクリ
ル板と電離放射線硬化型樹脂層を目視で外観を判定し
た。判定基準は、アクリル板と電離放射線硬化型樹脂層
に異常が見られるものを×、電離放射線硬化型樹脂層に
のみ異常が見られるものを△、異常の見られないものを
○とした。
【0098】(表4)評価結果
【表4】
【0099】(表5)評価結果 表5に見られるように、比較例1〜5の試料では、硬化
性測定結果で明らかなように、表面タックフリーになる
までの照射回数が2回必要であり、硬化後のゲル分率も
実施例1〜6の試料と比較して低く光硬化速度が遅いこ
とを示した。また、アクリル板への圧着試験でもアクリ
ル板と電離放射線硬化型樹脂層の双方に異常が見られ
た。比較例5の試料は、ゲル分率は高いが、外観や鉛筆
硬度の結果が劣り、また著るしいカール状態を示した。
【表5】
【0100】
【発明の効果】本発明の光学シート用の電離放射線硬化
型樹脂組成物は、液晶ディスプレイのバックライト等に
使用されるプリズムシートやコリメータレンズ、フレネ
ルレンズ、レンチキュラレンズ、後方反射レンズ、ホロ
グラム等の表面に微細構造を有する光学シートを紫外線
硬化反応により製造する方法に好適に使用でき、本発明
の光学シートは、鋭角な頂角やアスペクト比の大きい微
細構造を実現できるので光線制御を的確に行うことがで
きる。また、本発明の光学シートの製造方法によれば、
かかる特性の優れた光学シートを効率的に製造すること
ができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明による光学シートの連続製造方法の一例
を示す図である。
【図2】本発明による光学シートの例を模式的に示した
図である。
【図3】本発明による光学シートの例を模式的に示した
図である。
【図4】本発明による光学シートの例を模式的に示した
図である。
【図5】本発明による光学シートの例を模式的に示した
図である。
【図6】本発明による光学シートの例を模式的に示した
図である。
【符号の説明】
1 ロール凹版 2 凹部 3 未硬化の電離放射線硬化型樹脂液 3a 硬化した電離放射線硬化型樹脂 4 接着層(B)を付したシート基材(C) 5 押圧ロール 6 送りロール 7 電離放射線照射装置 8 送りロール 9 光学シート 10 Tダイ型ノズル 11 乾燥装置 12 液溜
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI // C08F 2/50 C08F 2/50 B29K 101:10

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 環状構造を有し、二つ以上のアクリレー
    ト基を有するエポキシアクリレート(a)と環状構造を
    有する単官能アクリレート(b)と光開始剤(c)から
    なり、光開始剤(c)にビス−2,6−ジメチルオキシ
    ベンゾイル−2,4,4−トリメチルフェニルフォスフ
    ィンオキサイドを含むことを特徴とする光学シート用電
    離放射線硬化型樹脂組成物。
  2. 【請求項2】 請求項1に記載の光学シート用電離放射
    線硬化型樹脂組成物からなる、微細構造を有する電離放
    射線硬化型樹脂組成物層(A)と、必要に応じて設ける
    接着層(B)と、シート状の透明樹脂層(C)からなる
    光学シート。
  3. 【請求項3】 微細な光学構造を形成するための凹部が
    形成されたロール凹版を回転させ、当該ロール凹版の凹
    部に電離放射線硬化型樹脂液を充填する充填工程と;前
    記充填工程で前記ロール凹版の凹部に充填された前記電
    離放射線硬化型樹脂液に対して、前記ロール凹版の回転
    方向に同期して走行する透明樹脂シート基材を接触させ
    る接触工程と;前記接触工程で前記シート基材が前記ロ
    ール凹版表面と凹部内の電離放射線硬化型樹脂液に接触
    している間に、前記ロール凹版と前記シート基材間にあ
    る電離放射線硬化型樹脂液に電離放射線を照射して硬化
    させる硬化工程と;前記硬化工程で硬化しかつ前記シー
    ト基材と密着した前記電離放射線硬化型樹脂液の硬化物
    と前記シート基材を前記ロール凹版から剥離する剥離工
    程と;からなる光学シートの製造方法において、前記電
    離放射線硬化型樹脂液が請求項1記載の光学シート用電
    離放射線硬化型樹脂組成物であることを特徴とする光学
    シートの製造方法。
JP8331406A 1996-11-28 1996-11-28 光学シート用電離放射線硬化型樹脂組成物、光学シート及びその製造方法 Pending JPH10158349A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP8331406A JPH10158349A (ja) 1996-11-28 1996-11-28 光学シート用電離放射線硬化型樹脂組成物、光学シート及びその製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP8331406A JPH10158349A (ja) 1996-11-28 1996-11-28 光学シート用電離放射線硬化型樹脂組成物、光学シート及びその製造方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH10158349A true JPH10158349A (ja) 1998-06-16

Family

ID=18243339

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP8331406A Pending JPH10158349A (ja) 1996-11-28 1996-11-28 光学シート用電離放射線硬化型樹脂組成物、光学シート及びその製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH10158349A (ja)

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2000008494A1 (en) * 1998-08-05 2000-02-17 Mitsubishi Rayon Co., Ltd. Lens sheet and method for producing the same
JP2003004950A (ja) * 2001-06-25 2003-01-08 Goyo Paper Working Co Ltd 積層導光板及びその製造方法
JP2004276416A (ja) * 2003-03-17 2004-10-07 Nissha Printing Co Ltd 凹凸インサートシートとその製造方法
JP2007084727A (ja) * 2005-09-22 2007-04-05 Dainippon Printing Co Ltd 光学シート形成用紫外線硬化型接着剤および光学シート
JP2007186570A (ja) * 2006-01-12 2007-07-26 Hitachi Chem Co Ltd 光硬化性樹脂組成物及びパターン形成法
JP2010058466A (ja) * 2008-09-05 2010-03-18 Alps Electric Co Ltd Uvナノインプリント成型体の製造方法
WO2011108333A1 (ja) * 2010-03-05 2011-09-09 コニカミノルタオプト株式会社 マイクロ流路検査チップの製造方法
CN102648669A (zh) * 2009-10-27 2012-08-22 松下电器产业株式会社 导体图案的形成方法及导体图案
WO2014010571A1 (ja) * 2012-07-09 2014-01-16 株式会社クラレ 光学素子及び集光型太陽光発電装置
US8901588B2 (en) 2007-02-13 2014-12-02 3M Innovative Properties Company LED devices having lenses and methods of making same
US9944031B2 (en) 2007-02-13 2018-04-17 3M Innovative Properties Company Molded optical articles and methods of making same

Cited By (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2000008494A1 (en) * 1998-08-05 2000-02-17 Mitsubishi Rayon Co., Ltd. Lens sheet and method for producing the same
US6628460B1 (en) 1998-08-05 2003-09-30 Mitsubishi Rayon Co., Ltd. Lens sheet and method for producing the same
US6870674B2 (en) 1998-08-05 2005-03-22 Mitsubishi Rayon Co., Ltd. Lens sheet and method of manufacturing the same
JP2003004950A (ja) * 2001-06-25 2003-01-08 Goyo Paper Working Co Ltd 積層導光板及びその製造方法
JP2004276416A (ja) * 2003-03-17 2004-10-07 Nissha Printing Co Ltd 凹凸インサートシートとその製造方法
JP2007084727A (ja) * 2005-09-22 2007-04-05 Dainippon Printing Co Ltd 光学シート形成用紫外線硬化型接着剤および光学シート
JP2007186570A (ja) * 2006-01-12 2007-07-26 Hitachi Chem Co Ltd 光硬化性樹脂組成物及びパターン形成法
US8901588B2 (en) 2007-02-13 2014-12-02 3M Innovative Properties Company LED devices having lenses and methods of making same
US9944031B2 (en) 2007-02-13 2018-04-17 3M Innovative Properties Company Molded optical articles and methods of making same
JP2010058466A (ja) * 2008-09-05 2010-03-18 Alps Electric Co Ltd Uvナノインプリント成型体の製造方法
CN102648669A (zh) * 2009-10-27 2012-08-22 松下电器产业株式会社 导体图案的形成方法及导体图案
WO2011108333A1 (ja) * 2010-03-05 2011-09-09 コニカミノルタオプト株式会社 マイクロ流路検査チップの製造方法
WO2014010571A1 (ja) * 2012-07-09 2014-01-16 株式会社クラレ 光学素子及び集光型太陽光発電装置
JPWO2014010571A1 (ja) * 2012-07-09 2016-06-23 株式会社クラレ 光学素子及び集光型太陽光発電装置
US9553227B2 (en) 2012-07-09 2017-01-24 Kuraray Co., Ltd. Optical element and concentrating photovoltaic device

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0759448B1 (en) Ionizing radiation-curable resin composition for optical article, optical article, and surface light source
JP3627304B2 (ja) 光学物品用電離放射線硬化型樹脂組成物、光学物品及び面光源
JP4275469B2 (ja) 凹凸パターン形成材料、凹凸パターン受容体、凹凸パターン形成方法、転写箔、及び光学物品
JP4324374B2 (ja) 微細凹凸パターン形成材料、微細凹凸パターン形成方法、転写箔、光学物品及びスタンパー
JP2011066100A (ja) 光硬化性転写シート、及びこれを用いた凹凸パターンの形成方法
JP4015471B2 (ja) 光硬化性樹脂組成物、微細凹凸パターン転写箔、光学物品、スタンパー及び微細凹凸パターンの形成方法
JP5209310B2 (ja) 感光性樹脂組成物、その硬化物及びそれを含有するフィルム
JPH09183929A (ja) インクジエット記録方式用紫外線硬化性樹脂組成物及びその硬化物
CN114929479A (zh) 防眩性叠层体
CN101162276A (zh) 光学膜
CN103913782B (zh) 光学片和背光单元
JP3888485B2 (ja) 紫外線硬化性組成物
JP4956167B2 (ja) 塗膜形成用転写シート及びそれを用いた被覆塗膜の形成方法
JP3051241B2 (ja) 紫外線硬化性透過型スクリーン用樹脂組成物及びその硬化物
JP2003162205A (ja) 光硬化性樹脂組成物、シート、転写箔、微細凹凸パターン形成方法、及び光学用物品
TWI884970B (zh) 防眩性積層體以及防眩性積層體之製造方法
JPH07233227A (ja) 光学シート用電離放射線硬化型樹脂組成物、光学シート及びその製造方法
JP2012107109A (ja) 光硬化性転写シート
CN113614585A (zh) 防眩性叠层体
JP2012019013A (ja) 光硬化性転写シート、及びこれを用いた凹凸パターンの形成方法
TW202103948A (zh) 高硬度成形用樹脂薄片及使用其之成形品
JP4764055B2 (ja) 光硬化性転写シート、これを用いた光情報記録媒体の製造方法、及び光情報記録媒体
WO2024057985A1 (ja) 防眩性積層体及びその製造方法
JP2006318578A (ja) 光硬化性転写シート、これを用いた光情報記録媒体の製造方法、及び光情報記録媒体
CN101512646B (zh) 光固化性转印片、使用该转印片制备光信息记录介质的方法和光信息记录介质

Legal Events

Date Code Title Description
A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20051026

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20051115

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20060316