JPH07233462A - 金属蒸着フィルムの製造方法 - Google Patents
金属蒸着フィルムの製造方法Info
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- JPH07233462A JPH07233462A JP2694994A JP2694994A JPH07233462A JP H07233462 A JPH07233462 A JP H07233462A JP 2694994 A JP2694994 A JP 2694994A JP 2694994 A JP2694994 A JP 2694994A JP H07233462 A JPH07233462 A JP H07233462A
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Abstract
(57)【要約】
【構成】プラスチックフイルムからなる基体の表面を、
Ｔｉ、Ｐｄ、Ａｌの中から選択された金属で被覆された
マグネトロン電極を使用し、８×１０−1 パスカル以下
の圧力および１０Ｗ・分／ｍ2 以上の処理強度で低温プ
ラズマ処理し、該処理面に連続して金属蒸着膜を設ける
ことを特徴とする金属蒸着フィルムの製造方法。 【効果】酸素バリア性、および水蒸気バリア性の優れた
金属蒸着フィルム安定して、かつ廉価に製造できる。
Ｔｉ、Ｐｄ、Ａｌの中から選択された金属で被覆された
マグネトロン電極を使用し、８×１０−1 パスカル以下
の圧力および１０Ｗ・分／ｍ2 以上の処理強度で低温プ
ラズマ処理し、該処理面に連続して金属蒸着膜を設ける
ことを特徴とする金属蒸着フィルムの製造方法。 【効果】酸素バリア性、および水蒸気バリア性の優れた
金属蒸着フィルム安定して、かつ廉価に製造できる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、金属蒸着フィルムの製
造方法に関する。更に詳しくは、酸素や水蒸気などの気
体の遮断性に優れ、特に、食品包装等に適した金属蒸着
フィルムの製造方法に関するものである。
造方法に関する。更に詳しくは、酸素や水蒸気などの気
体の遮断性に優れ、特に、食品包装等に適した金属蒸着
フィルムの製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】これまで、アルミニウム等の金属あるい
は、金属化合物のプラスチックフィルムへの真空蒸着は
金銀糸、コンデンサ、食品包装材料などに幅広く用いら
れてきた。しかし、一般にこれらの蒸着膜は単に基体で
あるプラスチックフィルムなどにそのまま真空蒸着され
るため、基体との接着力が弱いなどの問題があり、種々
改良方法が検討されている。
は、金属化合物のプラスチックフィルムへの真空蒸着は
金銀糸、コンデンサ、食品包装材料などに幅広く用いら
れてきた。しかし、一般にこれらの蒸着膜は単に基体で
あるプラスチックフィルムなどにそのまま真空蒸着され
るため、基体との接着力が弱いなどの問題があり、種々
改良方法が検討されている。
【０００３】例えば、プラスチックフイルムを低温プラ
ズマ雰囲気中で処理した後、金属を蒸着する蒸着フィル
ムの製造方法として、特公昭５２−２５８６８、特開昭
６３−２４２５３４、特開昭６３−２７０４５５、特開
平３−２４７７５０などの提案がある。
ズマ雰囲気中で処理した後、金属を蒸着する蒸着フィル
ムの製造方法として、特公昭５２−２５８６８、特開昭
６３−２４２５３４、特開昭６３−２７０４５５、特開
平３−２４７７５０などの提案がある。
【０００４】しかしながら、かかる従来の、低温プラズ
マ雰囲気中で処理した後、金属を蒸着した蒸着フィルム
の主たる目的は、蒸着膜と基体との接着力を高めること
にあり、ガスバリア性の向上についてはまったく考慮さ
れていなかった。またこれらの提案には、次のような問
題点があった。
マ雰囲気中で処理した後、金属を蒸着した蒸着フィルム
の主たる目的は、蒸着膜と基体との接着力を高めること
にあり、ガスバリア性の向上についてはまったく考慮さ
れていなかった。またこれらの提案には、次のような問
題点があった。
【０００５】特公昭５２−２５８６８、特開昭６３−２
４２５３４に述べられているスパッタリングによる方法
や低温プラズマ雰囲気中での処理では、スパッタリング
や低温プラズマ処理の圧力と金属蒸着時の圧力に隔たり
があり、同一槽内でスパッタリング、低温プラズマ処理
と蒸着を同時に行なうことができない。特開昭６３−２
７０４５５のフィルム表面温度をガラス転移温度以下に
保つ方法はポリプロピレンフィルム等のガラス転移温度
が氷点下のものでは実現にコストがかかり、ガスバリア
性の改良効果も小さい。また、特開平３−２４７７５０
に述べられている方法では、放電処理時の圧力が高く、
緻密な金属蒸着膜の形成ができず、十分なガスバリア性
が得られない。
４２５３４に述べられているスパッタリングによる方法
や低温プラズマ雰囲気中での処理では、スパッタリング
や低温プラズマ処理の圧力と金属蒸着時の圧力に隔たり
があり、同一槽内でスパッタリング、低温プラズマ処理
と蒸着を同時に行なうことができない。特開昭６３−２
７０４５５のフィルム表面温度をガラス転移温度以下に
保つ方法はポリプロピレンフィルム等のガラス転移温度
が氷点下のものでは実現にコストがかかり、ガスバリア
性の改良効果も小さい。また、特開平３−２４７７５０
に述べられている方法では、放電処理時の圧力が高く、
緻密な金属蒸着膜の形成ができず、十分なガスバリア性
が得られない。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】近年、食生活が豊かと
なり、いろいろな食品や菓子類が市場に登場するに従
い、品質の向上や、品質の長期保存性がより一層重視さ
れるようになってきた。特にスナック菓子等の包装にお
いては、内容物の酸化や湿りを防止し、できたての品質
をより長期間確保するため、これまで以上のガスバリア
性が要望されはじめた。
なり、いろいろな食品や菓子類が市場に登場するに従
い、品質の向上や、品質の長期保存性がより一層重視さ
れるようになってきた。特にスナック菓子等の包装にお
いては、内容物の酸化や湿りを防止し、できたての品質
をより長期間確保するため、これまで以上のガスバリア
性が要望されはじめた。
【０００７】本発明は、かかる蒸着膜の酸素および水蒸
気のガスバリア性に対する格段の向上を目的として、汎
用用途のプラスチックフィルム上に同一槽内で長時間安
定して低温プラズマ処理と蒸着ができ、かつ酸素および
水蒸気のガスバリア性に優れた金属蒸着フィルムを製造
することを目的とするものである。
気のガスバリア性に対する格段の向上を目的として、汎
用用途のプラスチックフィルム上に同一槽内で長時間安
定して低温プラズマ処理と蒸着ができ、かつ酸素および
水蒸気のガスバリア性に優れた金属蒸着フィルムを製造
することを目的とするものである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明は、プラスチック
フイルムからなる基体の表面を、Ｔｉ、Ｐｄ、Ａｌの中
から選択された金属で被覆されたマグネトロン電極を使
用し、８×１０−1 パスカル以下の圧力および１０Ｗ・
分／ｍ2 以上の処理強度で低温プラズマ処理し、該処理
面に連続して金属蒸着膜を設けることを特徴とする金属
蒸着フィルムの製造方法である。
フイルムからなる基体の表面を、Ｔｉ、Ｐｄ、Ａｌの中
から選択された金属で被覆されたマグネトロン電極を使
用し、８×１０−1 パスカル以下の圧力および１０Ｗ・
分／ｍ2 以上の処理強度で低温プラズマ処理し、該処理
面に連続して金属蒸着膜を設けることを特徴とする金属
蒸着フィルムの製造方法である。
【０００９】本発明でいうプラスチックフィルムとは、
有機重合体を溶融または、溶解押出しし、必要に応じて
長手方向および／または幅方向に延伸したものである。
有機重合体としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロ
ピレンなどのポリオレフィン、ポリエチレンテレフタレ
ート、ポリエチレン−２，６−ナフタレートなどのポリ
エステル、ナイロン６、ナイロン６６、ナイロン１２な
どのポリアミド、塩化ビニル、塩化ビニリデン、ポリビ
ニルアルコール、芳香族ポリアミド、ポリアミドイミ
ド、ポリイミド、ポリエーテルイミド、ポリサルフォ
ン、ポリエーテルサルフォン、ポリエーテルエーテルケ
トン、ポリアリレート、ポリフェニレンサルファィド、
ポリフェニレンオキサイド、テトラフルオロエチレン、
１塩化３弗化エチレン、弗素化エチレンプロピレン共重
合体などがあげられる。
有機重合体を溶融または、溶解押出しし、必要に応じて
長手方向および／または幅方向に延伸したものである。
有機重合体としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロ
ピレンなどのポリオレフィン、ポリエチレンテレフタレ
ート、ポリエチレン−２，６−ナフタレートなどのポリ
エステル、ナイロン６、ナイロン６６、ナイロン１２な
どのポリアミド、塩化ビニル、塩化ビニリデン、ポリビ
ニルアルコール、芳香族ポリアミド、ポリアミドイミ
ド、ポリイミド、ポリエーテルイミド、ポリサルフォ
ン、ポリエーテルサルフォン、ポリエーテルエーテルケ
トン、ポリアリレート、ポリフェニレンサルファィド、
ポリフェニレンオキサイド、テトラフルオロエチレン、
１塩化３弗化エチレン、弗素化エチレンプロピレン共重
合体などがあげられる。
【００１０】また、これらの共重合体や、他の有機重合
体との共重合体であっても良く、他の有機重合体を含有
するものであっても良い。これらの有機重合体に公知の
添加剤、例えば、帯電防止剤、紫外線吸収剤、可塑剤、
滑剤、着色剤などが添加されていても良い。特に、長手
方向および幅方向に延伸された二軸延伸ポリプロピレン
フィルム、および二軸延伸ポリエチレンテレフタレート
フィルムに最も有効な手段として用いることができる。
体との共重合体であっても良く、他の有機重合体を含有
するものであっても良い。これらの有機重合体に公知の
添加剤、例えば、帯電防止剤、紫外線吸収剤、可塑剤、
滑剤、着色剤などが添加されていても良い。特に、長手
方向および幅方向に延伸された二軸延伸ポリプロピレン
フィルム、および二軸延伸ポリエチレンテレフタレート
フィルムに最も有効な手段として用いることができる。
【００１１】本発明のプラスチックフィルムの厚さは、
特に制限を受けないが、包装材料としての適性から３〜
２００μｍの範囲が望ましい。機械的特性や可撓性の点
では、更に好ましくは、５〜１００μｍの範囲であるこ
とが望ましい。最も好ましくは、８〜３０μｍである。
特に制限を受けないが、包装材料としての適性から３〜
２００μｍの範囲が望ましい。機械的特性や可撓性の点
では、更に好ましくは、５〜１００μｍの範囲であるこ
とが望ましい。最も好ましくは、８〜３０μｍである。
【００１２】かかるプラスチックフィルムの少なくとも
一方の面に、真空蒸着法により、金属膜が形成される。
原料の金属としては、Ａｌ、Ｚｎ、Ｍｇ、Ｓｎ等の金属
が好ましく、Ｔｉ、Ｉｎ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｐｂ、Ｆ
ｅ等も使用できる。これらの中で生産性、コストの点か
らＡｌが最も好ましい。
一方の面に、真空蒸着法により、金属膜が形成される。
原料の金属としては、Ａｌ、Ｚｎ、Ｍｇ、Ｓｎ等の金属
が好ましく、Ｔｉ、Ｉｎ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｐｂ、Ｆ
ｅ等も使用できる。これらの中で生産性、コストの点か
らＡｌが最も好ましい。
【００１３】本発明における真空蒸着の方法は蒸発源か
ら金属を蒸発させ、基材フィルム上に蒸着膜を形成する
もので、このための蒸発源としては抵抗加熱方式のボー
ト形式や、輻射あるいは高周波加熱によるルツボ形式
や、電子ビーム加熱による方式などがあるが、特に限定
されない。
ら金属を蒸発させ、基材フィルム上に蒸着膜を形成する
もので、このための蒸発源としては抵抗加熱方式のボー
ト形式や、輻射あるいは高周波加熱によるルツボ形式
や、電子ビーム加熱による方式などがあるが、特に限定
されない。
【００１４】本方法における真空装置内の蒸着部の圧力
は、金属膜の光沢、金属膜の緻密性、表面電気抵抗値、
ガスバリア性に大きく影響することが、本発明により明
らかとなっており、優れたガスバリア性を有する金属蒸
着膜を得るためには、蒸着部の圧力が１．３３×１０
−2 パスカル以下の圧力で行う必要がある。通常蒸着装
置には差動排気がなされており、蒸着部を上記圧力に保
つには低温プラズマ処理を８×１０−1 パスカル以下で
行なう必要がある。更に好ましくは、６×１０− 1 パス
カル以下の圧力が望ましい。
は、金属膜の光沢、金属膜の緻密性、表面電気抵抗値、
ガスバリア性に大きく影響することが、本発明により明
らかとなっており、優れたガスバリア性を有する金属蒸
着膜を得るためには、蒸着部の圧力が１．３３×１０
−2 パスカル以下の圧力で行う必要がある。通常蒸着装
置には差動排気がなされており、蒸着部を上記圧力に保
つには低温プラズマ処理を８×１０−1 パスカル以下で
行なう必要がある。更に好ましくは、６×１０− 1 パス
カル以下の圧力が望ましい。
【００１５】かかる圧力で真空蒸着を行なうためには、
同一真空槽内で行なう前処理の低温プラズマ処理は、プ
ラズマ放電の安定性、処理強度などの点で放電電極とし
て、プレーナーマグネトロン電極、または、同軸円柱型
マグネトロン電極を選択することが必要である。
同一真空槽内で行なう前処理の低温プラズマ処理は、プ
ラズマ放電の安定性、処理強度などの点で放電電極とし
て、プレーナーマグネトロン電極、または、同軸円柱型
マグネトロン電極を選択することが必要である。
【００１６】この放電を行なうための電源周波数は直流
からラジオ周波数の範囲で選択できるが、電力導入の容
易さ、放電の安定性から直流（ＤＣ）が最も好ましい。
からラジオ周波数の範囲で選択できるが、電力導入の容
易さ、放電の安定性から直流（ＤＣ）が最も好ましい。
【００１７】このマグネトロン電極の材質の選定が最も
重要である。電極を覆う金属の材質はＴｉ、Ｐｄ、Ａｌ
の中から選択される。これら以外の金属例えばＣｕ上
に、これら金属が蒸着あるいはメッキされたものも同様
に用いることができる。これら以外の金属、たとえばＣ
ｕやステンレススチールが表面にある場合、ガスバリア
性、特に水蒸気バリア性が十分ではなく、時には処理を
行なわない場合より水蒸気バリア性が悪化する。
重要である。電極を覆う金属の材質はＴｉ、Ｐｄ、Ａｌ
の中から選択される。これら以外の金属例えばＣｕ上
に、これら金属が蒸着あるいはメッキされたものも同様
に用いることができる。これら以外の金属、たとえばＣ
ｕやステンレススチールが表面にある場合、ガスバリア
性、特に水蒸気バリア性が十分ではなく、時には処理を
行なわない場合より水蒸気バリア性が悪化する。
【００１８】かかる電極を使用して行なう低温プラズマ
処理時に導入するガスの流量は、蒸着槽の圧力の上昇を
極力少なくするため、プラズマ放電を開始する最低の流
量にすることが重要である。望ましくは、プラズマ処理
を行う領域に図１の９に示したようなカバーを設け、プ
ラズマ処理の領域のみ、蒸着層より圧力を高くすること
でより安定したプラズマ放電処理が可能となる。
処理時に導入するガスの流量は、蒸着槽の圧力の上昇を
極力少なくするため、プラズマ放電を開始する最低の流
量にすることが重要である。望ましくは、プラズマ処理
を行う領域に図１の９に示したようなカバーを設け、プ
ラズマ処理の領域のみ、蒸着層より圧力を高くすること
でより安定したプラズマ放電処理が可能となる。
【００１９】低温プラズマ処理の処理強度は、単位面積
（１ｍ2 ）当たりの、電力（Ｗ）×単位時間（１分）す
なわち、Ｅ値であらわし、処理強度が大きくなるほど、
ガスバリア性は向上する。優れたガスバリア性を得るた
めには、１０Ｗ・分／ｍ2 以上の処理強度が望ましい。
かかる本発明の低温プラズマ処理は、被処理基体である
プラスチックフィルムに金属が蒸着される直前の冷却ド
ラム上に接する位置において処理するのが基体フィルム
の熱負けが少なく、またガスバリア性に及ぼす処理効果
が大きく好ましい。
（１ｍ2 ）当たりの、電力（Ｗ）×単位時間（１分）す
なわち、Ｅ値であらわし、処理強度が大きくなるほど、
ガスバリア性は向上する。優れたガスバリア性を得るた
めには、１０Ｗ・分／ｍ2 以上の処理強度が望ましい。
かかる本発明の低温プラズマ処理は、被処理基体である
プラスチックフィルムに金属が蒸着される直前の冷却ド
ラム上に接する位置において処理するのが基体フィルム
の熱負けが少なく、またガスバリア性に及ぼす処理効果
が大きく好ましい。
【００２０】蒸着金属膜の膜厚としては、ガスバリア性
および可撓性などの点で、１０〜２００ｎｍの範囲が好
ましい。１０ｎｍ未満では、ガスバリア性、特に、酸素
バリア性が十分でなく、特に、２００ｎｍを超えると、
蒸着時の熱負けの発生や金属膜の可撓性が悪くなり、さ
らに折曲げなどにより、割れや、剥離が生じやすくな
る。更に好ましくは、２０〜１００ｎｍである。
および可撓性などの点で、１０〜２００ｎｍの範囲が好
ましい。１０ｎｍ未満では、ガスバリア性、特に、酸素
バリア性が十分でなく、特に、２００ｎｍを超えると、
蒸着時の熱負けの発生や金属膜の可撓性が悪くなり、さ
らに折曲げなどにより、割れや、剥離が生じやすくな
る。更に好ましくは、２０〜１００ｎｍである。
【００２１】以下、本発明を図面を用いて詳細に説明す
る。
る。
【００２２】本発明の金属蒸着フィルムの製造方法の一
例を図１を用いて説明する。
例を図１を用いて説明する。
【００２３】真空容器１内に設置されたフィルム巻出し
軸２より巻き出されたプラスチックフィルム５は、−３
０℃〜６０℃に温度調節された加熱・冷却ドラム３に沿
って、走行しながらフィルム巻取り軸４に巻き取られ
る。同時に、蒸発器６内のルツボ７から金属が蒸発さ
れ、プラスチックフィルム５に蒸着される。金属が蒸着
される前部分にマグネトロン電極８を設け、電極カバー
９内に低温プラズマ処理用ガスボンベ１１からガス流量
制御装置１０をへて炭酸ガスを導入しながら低温プラズ
マ処理を行う。
軸２より巻き出されたプラスチックフィルム５は、−３
０℃〜６０℃に温度調節された加熱・冷却ドラム３に沿
って、走行しながらフィルム巻取り軸４に巻き取られ
る。同時に、蒸発器６内のルツボ７から金属が蒸発さ
れ、プラスチックフィルム５に蒸着される。金属が蒸着
される前部分にマグネトロン電極８を設け、電極カバー
９内に低温プラズマ処理用ガスボンベ１１からガス流量
制御装置１０をへて炭酸ガスを導入しながら低温プラズ
マ処理を行う。
【００２４】
【物性の測定方法ならびに効果の評価法】本発明の特性
値は以下の測定法による。
値は以下の測定法による。
【００２５】（１）酸素透過率 ＡＳＴＭ Ｄ−３９８５に準じて、モダンコントロール
社製酸素透過率測定装置ＯＸ−ＴＲＡＮ１００を用い
て、２０℃、０％ＲＨの条件にて測定した。
社製酸素透過率測定装置ＯＸ−ＴＲＡＮ１００を用い
て、２０℃、０％ＲＨの条件にて測定した。
【００２６】（２）水蒸気透過率 モダンコントロール社製水蒸気透過率計“ＰＥＲＭＡＴ
ＲＡＮ”−Ｗ１Ａを用いて、４０℃、９０％ＲＨの条件
で測定した。
ＲＡＮ”−Ｗ１Ａを用いて、４０℃、９０％ＲＨの条件
で測定した。
【００２７】
【実施例】以下、実施例について説明する。
【００２８】実施例１ 包装用タイプの二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフ
ィルム（東レ（株）製“ルミラー”タイプＰ６０、厚さ
１２μｍ）を基体として、この上に真空蒸着法により、
アルミニウム膜を形成した。
ィルム（東レ（株）製“ルミラー”タイプＰ６０、厚さ
１２μｍ）を基体として、この上に真空蒸着法により、
アルミニウム膜を形成した。
【００２９】電子ビーム加熱型真空蒸着機を２×１０
−3 パスカルまで真空排気した後、圧力４×１０−1 パ
スカルまで炭酸ガスを導入し、Ｔｉ製のＤＣプレーナー
マグネトロン電極を使用し、Ｅ値１００Ｗ・分／ｍ2 の
強度で低温プラズマ処理を行ない、続いて、アルミニウ
ムの真空蒸着を行なった。真空蒸着はアルミナルツボ
（日本カーボンセラム（株）製）に粒状アルミニウム
（真空冶金（株）製、純度９９．９９％）を充填して、
アルミニウムを電子ビームで加熱溶融しながら蒸発せし
め、膜厚３０ｎｍのアルミニウム膜を形成した。この時
のフィルム冷却ドラムの温度は３０℃であった。このア
ルミニウム蒸着フィルムを実施例１とした。
−3 パスカルまで真空排気した後、圧力４×１０−1 パ
スカルまで炭酸ガスを導入し、Ｔｉ製のＤＣプレーナー
マグネトロン電極を使用し、Ｅ値１００Ｗ・分／ｍ2 の
強度で低温プラズマ処理を行ない、続いて、アルミニウ
ムの真空蒸着を行なった。真空蒸着はアルミナルツボ
（日本カーボンセラム（株）製）に粒状アルミニウム
（真空冶金（株）製、純度９９．９９％）を充填して、
アルミニウムを電子ビームで加熱溶融しながら蒸発せし
め、膜厚３０ｎｍのアルミニウム膜を形成した。この時
のフィルム冷却ドラムの温度は３０℃であった。このア
ルミニウム蒸着フィルムを実施例１とした。
【００３０】実施例２、実施例３ 実施例１の低温プラズマ処理強度を２０Ｗ・分／ｍ2 、
２００Ｗ・分／ｍ2 としたときのアルミニウム蒸着フィ
ルムをそれぞれ実施例２、実施例３とした。
２００Ｗ・分／ｍ2 としたときのアルミニウム蒸着フィ
ルムをそれぞれ実施例２、実施例３とした。
【００３１】実施例４ 実施例１の包装用タイプの二軸延伸ポリエチレンテレフ
タレートフィルムの替わりに、包装用タイプの二軸延伸
ポリプロピレンフィルム（東レ（株）製“トレファン”
タイプＹ７４６、厚さ１８μｍ）を基体としたアルミニ
ウム蒸着フィルムを実施例４とした。
タレートフィルムの替わりに、包装用タイプの二軸延伸
ポリプロピレンフィルム（東レ（株）製“トレファン”
タイプＹ７４６、厚さ１８μｍ）を基体としたアルミニ
ウム蒸着フィルムを実施例４とした。
【００３２】実施例５、実施例６ 実施例４の低温プラズマ処理強度を２０Ｗ・分／ｍ2 、
２００Ｗ・分／ｍ2 としたときのアルミニウム蒸着フィ
ルムをそれぞれ実施例５、実施例６とする。
２００Ｗ・分／ｍ2 としたときのアルミニウム蒸着フィ
ルムをそれぞれ実施例５、実施例６とする。
【００３３】実施例７ 実施例４の低温プラズマ処理を、Ｐｄ製のプレーナーマ
グネトロン電極を用いて行なったアルミニウム蒸着フィ
ルムを実施例７とした。
グネトロン電極を用いて行なったアルミニウム蒸着フィ
ルムを実施例７とした。
【００３４】実施例８ 実施例４の低温プラズマ処理を、Ｔｉ製の同軸マグネト
ロン電極を用いて行なったアルミニウム蒸着フィルムを
実施例８とした。
ロン電極を用いて行なったアルミニウム蒸着フィルムを
実施例８とした。
【００３５】実施例９ 実施例４の低温プラズマ処理を、Ａｌ製の同軸マグネト
ロン電極を用いて行なったアルミニウム蒸着フィルムを
実施例９とした。
ロン電極を用いて行なったアルミニウム蒸着フィルムを
実施例９とした。
【００３６】比較例１ 実施例１で低温プラズマ処理を行わないアルミニウム蒸
着フィルムを比較例１とした。
着フィルムを比較例１とした。
【００３７】比較例２ 実施例１の低温プラズマ処理の処理強度を５Ｗ・分／ｍ
2 としたアルミニウム蒸着フィルムを比較例２とした。
2 としたアルミニウム蒸着フィルムを比較例２とした。
【００３８】比較例３ 実施例４で低温プラズマ処理を行わないアルミニウム蒸
着フィルムを比較例３とした。
着フィルムを比較例３とした。
【００３９】比較例４ 実施例４の低温プラズマ処理の処理強度を５Ｗ・分／ｍ
2 としたアルミニウム蒸着フィルムを比較例４とした。
2 としたアルミニウム蒸着フィルムを比較例４とした。
【００４０】比較例５ 実施例４の炭酸ガス導入量を増加し、圧力１×１０0 パ
スカルで低温プラズマ処理を行なったときのアルミニウ
ム蒸着フィルムを比較例５とした。
スカルで低温プラズマ処理を行なったときのアルミニウ
ム蒸着フィルムを比較例５とした。
【００４１】比較例６ 実施例４の低温プラズマ処理を、Ｃｕ製のプレーナーマ
グネトロン電極を用いて行なったアルミニウム蒸着フィ
ルムを比較例６とした。
グネトロン電極を用いて行なったアルミニウム蒸着フィ
ルムを比較例６とした。
【００４２】比較例７ 実施例４の低温プラズマ処理を、ステンレススチール製
の同軸マグネトロン電極を用いて行なったアルミニウム
蒸着フィルムを比較例７とした。
の同軸マグネトロン電極を用いて行なったアルミニウム
蒸着フィルムを比較例７とした。
【００４３】実施例１〜実施例９、比較例１〜比較例７
の特性を表１に示す。
の特性を表１に示す。
【００４４】
【表１】
【００４５】
【発明の効果】本発明の金属蒸着フィルムの製造方法に
よれば、ガスバリア性の優れたフィルムを安定して、か
つ廉価に製造でき、本発明で得られる金属蒸着フィルム
は、その優れたガスバリア性を活用して、食品、医薬
品、電子部品、機械部品などの包装材料として広く用い
ることができる。
よれば、ガスバリア性の優れたフィルムを安定して、か
つ廉価に製造でき、本発明で得られる金属蒸着フィルム
は、その優れたガスバリア性を活用して、食品、医薬
品、電子部品、機械部品などの包装材料として広く用い
ることができる。
【図１】本発明の製造方法を実施するための低温プラズ
マ処理用マグネトロン電極を備えた真空蒸着装置の一例
を示した概略図である。
マ処理用マグネトロン電極を備えた真空蒸着装置の一例
を示した概略図である。
【符号の説明】 １：真空容器 ２：フィルム巻出し軸 ３：加熱・冷却ドラム ４：フィルム巻取り軸 ５：プラスチックフィルム ６：蒸発器 ７：ルツボ ８：マグネトロン電極 ９：電極カバー １０：ガス流量制御装置 １１：低温プラズマ処理用ガスボンベ
Claims (1)
- 【請求項１】 プラスチックフイルムからなる基体の表
面を、Ｔｉ、Ｐｄ、Ａｌの中から選択された金属で被覆
されたマグネトロン電極を使用し、８×１０− 1 パスカ
ル以下の圧力および１０Ｗ・分／ｍ2 以上の処理強度で
低温プラズマ処理し、該処理面に連続して金属蒸着膜を
設けることを特徴とする金属蒸着フィルムの製造方法。
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| JP02694994A JP3396943B2 (ja) | 1994-02-24 | 1994-02-24 | ガスバリア性金属蒸着フィルムの製造方法 |
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|---|---|
| JPH07233462A true JPH07233462A (ja) | 1995-09-05 |
| JP3396943B2 JP3396943B2 (ja) | 2003-04-14 |
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ID=12207411
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| JP02694994A Expired - Fee Related JP3396943B2 (ja) | 1994-02-24 | 1994-02-24 | ガスバリア性金属蒸着フィルムの製造方法 |
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|---|---|
| JP (1) | JP3396943B2 (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20010078862A (ko) * | 2001-05-02 | 2001-08-22 | 조육형 | 산화물 증착 플라스틱 필름의 연속 열처리 방법 및 시스템 |
| GB2410504A (en) * | 2004-02-02 | 2005-08-03 | Seiko Epson Corp | Metallic coated ornamental plastics article |
| JP2012097331A (ja) * | 2010-11-04 | 2012-05-24 | Toray Advanced Film Co Ltd | 金属蒸着フィルムの製造方法 |
| JP2013142161A (ja) * | 2012-01-10 | 2013-07-22 | Toray Advanced Film Co Ltd | 蒸着フィルムの製造方法および積層包装材料 |
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| JP2019044157A (ja) * | 2017-08-30 | 2019-03-22 | 東レ株式会社 | 熱可塑性樹脂フィルム |
-
1994
- 1994-02-24 JP JP02694994A patent/JP3396943B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| KR20010078862A (ko) * | 2001-05-02 | 2001-08-22 | 조육형 | 산화물 증착 플라스틱 필름의 연속 열처리 방법 및 시스템 |
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| GB2410504B (en) * | 2004-02-02 | 2006-03-29 | Seiko Epson Corp | Ornamental article, method of manufacturing ornamental article, and timepiece |
| JP2012097331A (ja) * | 2010-11-04 | 2012-05-24 | Toray Advanced Film Co Ltd | 金属蒸着フィルムの製造方法 |
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