JPH07240556A - ガスレーザ発振装置 - Google Patents
ガスレーザ発振装置Info
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- JPH07240556A JPH07240556A JP3114694A JP3114694A JPH07240556A JP H07240556 A JPH07240556 A JP H07240556A JP 3114694 A JP3114694 A JP 3114694A JP 3114694 A JP3114694 A JP 3114694A JP H07240556 A JPH07240556 A JP H07240556A
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- electrode
- laser oscillator
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Abstract
(57)【要約】
【目的】本発明は、ガスレーザの高繰り返し動作に適用
できて長寿命化を図る。 【構成】放電空間(A) を望む位置に銅板(25)を配置し、
この銅板(25)のエッジから放電空間(A) に向かってUV
光を放射して予備電離を行う。
できて長寿命化を図る。 【構成】放電空間(A) を望む位置に銅板(25)を配置し、
この銅板(25)のエッジから放電空間(A) に向かってUV
光を放射して予備電離を行う。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、予備電離の改善を図っ
たガスレーザ発振装置に関する。
たガスレーザ発振装置に関する。
【0002】
【従来の技術】ガスレーザ発振装置として、例えばエキ
シマレーザ発振装置は、安定なパルス放電を得るため
に、通常、主電極に電圧を印加する前にUV光やX線を
照射して放電空間のエキシマレーザ媒質を弱電離、つま
り予備電離している。
シマレーザ発振装置は、安定なパルス放電を得るため
に、通常、主電極に電圧を印加する前にUV光やX線を
照射して放電空間のエキシマレーザ媒質を弱電離、つま
り予備電離している。
【0003】この予備電離の方法としては、他にフォト
トリガー又は遅延電離と呼ばれる方法がある。この方法
は、各主電極に高電圧パルスを印加し、この後にUV光
やX線を照射してパルス放電を点弧させるもので、スイ
ッチング素子の長寿命化を図っている。
トリガー又は遅延電離と呼ばれる方法がある。この方法
は、各主電極に高電圧パルスを印加し、この後にUV光
やX線を照射してパルス放電を点弧させるもので、スイ
ッチング素子の長寿命化を図っている。
【0004】しかしながら、このフォトトリガーの方法
は、主電極に高電圧を印加するためのスイッチング素子
の長寿命化を図れるものの、高繰り返し動作でレーザ光
を発振することができず、そのうえエキシマレーザでは
十分な出力が得られない。
は、主電極に高電圧を印加するためのスイッチング素子
の長寿命化を図れるものの、高繰り返し動作でレーザ光
を発振することができず、そのうえエキシマレーザでは
十分な出力が得られない。
【0005】一方、予備電離方式として、UV方式、X
線方式、コロナ方式があるが、これら方式では次のよう
な問題がある。図5はUV方式の予備電離を示す図であ
る。対向配置された各主電極1、2には、ピーキングコ
ンデンサ3を介して複数のピン電極4が接続されてい
る。これらピン電極4は、各主電極1、2に沿ってそれ
ぞれ対向配置されている。
線方式、コロナ方式があるが、これら方式では次のよう
な問題がある。図5はUV方式の予備電離を示す図であ
る。対向配置された各主電極1、2には、ピーキングコ
ンデンサ3を介して複数のピン電極4が接続されてい
る。これらピン電極4は、各主電極1、2に沿ってそれ
ぞれ対向配置されている。
【0006】このようなピン電極4に所定の電圧が印加
されると、各ピン電極4間にスパーク放電が発生し、こ
のときに生じるUV光を各主電極1、2間の放電空間に
照射することにより予備電離が行われる。
されると、各ピン電極4間にスパーク放電が発生し、こ
のときに生じるUV光を各主電極1、2間の放電空間に
照射することにより予備電離が行われる。
【0007】しかしながら、このUV方式では、スパー
ク放電により不純物が発生し、ガスレーザ媒質の寿命を
短くする。又、スパーク放電によりピン電極4が摩耗し
て取換えが必要となる。
ク放電により不純物が発生し、ガスレーザ媒質の寿命を
短くする。又、スパーク放電によりピン電極4が摩耗し
て取換えが必要となる。
【0008】さらに高繰り返し動作では、予備電離能力
が低下するとともにスパーク放電の生成物によってガス
レーザ出力が低下する。図6はX線方式の予備電離を示
す図である。各主電極5、6のうち主電極6は、X線透
過部6aが形成されている。この主電極6の外側にはX
線管7が配置され、このX線管7から放射されたX線
が、X線透過部6aを透過して放電空間に照射されて予
備電離が行われるようになっている。
が低下するとともにスパーク放電の生成物によってガス
レーザ出力が低下する。図6はX線方式の予備電離を示
す図である。各主電極5、6のうち主電極6は、X線透
過部6aが形成されている。この主電極6の外側にはX
線管7が配置され、このX線管7から放射されたX線
が、X線透過部6aを透過して放電空間に照射されて予
備電離が行われるようになっている。
【0009】しかしながら、このX線方式では、予備電
離能力は優れているものの、X線しゃ蔽に対する安全性
の問題、X線発生に大きな電力を必要とするためにその
経済性の問題、装置自体が大型化する問題等がある。
離能力は優れているものの、X線しゃ蔽に対する安全性
の問題、X線発生に大きな電力を必要とするためにその
経済性の問題、装置自体が大型化する問題等がある。
【0010】図7はコロナ方式の予備電離を示す図であ
る。各主電極8、9のうち主電極9の表面上には、コロ
ナ電極10が配置されている。このコロナ電極10は、
図8に示すように円筒状に形成されたガラス等の絶縁物
11の内部に電極12を配置したものとなっている。従
って、この電極12に電圧を印加することによって、コ
ロナ電極10からUV光、電子を放電空間に放射し、予
備電離を行うものとなっている。
る。各主電極8、9のうち主電極9の表面上には、コロ
ナ電極10が配置されている。このコロナ電極10は、
図8に示すように円筒状に形成されたガラス等の絶縁物
11の内部に電極12を配置したものとなっている。従
って、この電極12に電圧を印加することによって、コ
ロナ電極10からUV光、電子を放電空間に放射し、予
備電離を行うものとなっている。
【0011】しかしながら、コロナ方式では、予備電離
能力が弱く、エキシマレーザにあまり向いていない。
又、コロナ電極10を主電極に密着させるので、高繰り
返し動作では、放電生成物が主電極表面に残留してしま
う。以上のように各予備電離方式には問題があり、かか
る問題はフォトトリガー方式にもあてはまる。
能力が弱く、エキシマレーザにあまり向いていない。
又、コロナ電極10を主電極に密着させるので、高繰り
返し動作では、放電生成物が主電極表面に残留してしま
う。以上のように各予備電離方式には問題があり、かか
る問題はフォトトリガー方式にもあてはまる。
【0012】
【発明が解決しようとする課題】以上のようにガスレー
ザの高繰り返し動作に適用することが困難であり、かつ
ガスレーザ媒質や予備電離電極の寿命が短いものであっ
た。そこで本発明は、ガスレーザの高繰り返し動作に適
用できて長寿命化を図れるガスレーザ発振装置を提供す
ることを目的とする。
ザの高繰り返し動作に適用することが困難であり、かつ
ガスレーザ媒質や予備電離電極の寿命が短いものであっ
た。そこで本発明は、ガスレーザの高繰り返し動作に適
用できて長寿命化を図れるガスレーザ発振装置を提供す
ることを目的とする。
【0013】
【課題を解決するための手段】請求項1によれば、ガス
レーザ媒質を封入したチャンバー内に各主電極を対向配
置し、これら主電極間に主放電を発生させてレーザ光を
出力するガスレーザ発振装置において、各主電極間の放
電空間を望む位置に短波長光発生用の金属電極体、放電
空間を望まない位置に短波長光トリガ用電極をそれぞれ
配置して上記目的を達成しようとするガスレーザ発振装
置である。
レーザ媒質を封入したチャンバー内に各主電極を対向配
置し、これら主電極間に主放電を発生させてレーザ光を
出力するガスレーザ発振装置において、各主電極間の放
電空間を望む位置に短波長光発生用の金属電極体、放電
空間を望まない位置に短波長光トリガ用電極をそれぞれ
配置して上記目的を達成しようとするガスレーザ発振装
置である。
【0014】請求項2によれば、金属電極体は、エッジ
の形成された金属板、又は少なくとも1本のワイヤーで
ある。請求項3によれば、金属電極体は、エッジが形成
されニッケルメッキの施された銅板である。
の形成された金属板、又は少なくとも1本のワイヤーで
ある。請求項3によれば、金属電極体は、エッジが形成
されニッケルメッキの施された銅板である。
【0015】請求項4によれば、金属電極体は、各主電
極に対しピーキングコンデンサを介して接続されてい
る。請求項5によれば、金属電極体は、各主電極の少な
くとも片側に配置されている。
極に対しピーキングコンデンサを介して接続されてい
る。請求項5によれば、金属電極体は、各主電極の少な
くとも片側に配置されている。
【0016】請求項6によれば、トリガ用電極は、金属
電極体と並列に接続された少なくとも一対のピン電極で
ある。請求項7によれば、トリガ用電極は、各主電極に
対しピーキングコンデンサを介して接続されている。
電極体と並列に接続された少なくとも一対のピン電極で
ある。請求項7によれば、トリガ用電極は、各主電極に
対しピーキングコンデンサを介して接続されている。
【0017】請求項8によれば、トリガ用電極は、各主
電極の少なくとも片側に配置されている。請求項9によ
れば、ガスレーザ媒質は、エキシマレーザ媒質である。
電極の少なくとも片側に配置されている。請求項9によ
れば、ガスレーザ媒質は、エキシマレーザ媒質である。
【0018】請求項10によれば、ガスレーザ媒質は、
10torr以下のXeと0.5〜2torr程度のHClと
を、Heにより大気圧以上に希釈したエキシマレーザ媒
質である。
10torr以下のXeと0.5〜2torr程度のHClと
を、Heにより大気圧以上に希釈したエキシマレーザ媒
質である。
【0019】
【作用】請求項1によれば、各主電極の放電空間を望む
位置に短波長光発生用の金属電極体を配置し、この金属
電極体から放電空間に向かって短波長光を放射して主放
電の点弧を行う。このときトリガ用電極により金属電極
体にコロナ放電を発生させる。
位置に短波長光発生用の金属電極体を配置し、この金属
電極体から放電空間に向かって短波長光を放射して主放
電の点弧を行う。このときトリガ用電極により金属電極
体にコロナ放電を発生させる。
【0020】このような金属電極体によるフォトトリガ
ーであれば、スパーク放電を発生させず不純物の発生を
防止できてガスレーザ媒質の長寿命化が図れ、かつX線
しゃ蔽の問題を解決できるとともに放電生成物の密着が
なくなって高繰り返し動作が可能となる。
ーであれば、スパーク放電を発生させず不純物の発生を
防止できてガスレーザ媒質の長寿命化が図れ、かつX線
しゃ蔽の問題を解決できるとともに放電生成物の密着が
なくなって高繰り返し動作が可能となる。
【0021】請求項2によれば、金属板のエッジからコ
ロナ放電が発生し、又は少なくとも1本のワイヤーから
コロナ放電が発生し、そのUV光が放電空間に照射され
る。請求項3によれば、ニッケルメッキの施された銅板
のエッジからコロナ放電が発生する。
ロナ放電が発生し、又は少なくとも1本のワイヤーから
コロナ放電が発生し、そのUV光が放電空間に照射され
る。請求項3によれば、ニッケルメッキの施された銅板
のエッジからコロナ放電が発生する。
【0022】請求項4によれば、金属電極体には、ピー
キングコンデンサから電圧が供給されてコロナ放電を発
生する。請求項5によれば、各主電極の少なくとも片側
に少なくとも1つ配置された金属電極体からコロナ放電
を発生する。
キングコンデンサから電圧が供給されてコロナ放電を発
生する。請求項5によれば、各主電極の少なくとも片側
に少なくとも1つ配置された金属電極体からコロナ放電
を発生する。
【0023】請求項6によれば、トリガ用電極間の放電
により、そのUV光が放電空間に照射される。請求項7
によれば、トリガ用電極には、ピーキングコンデンサか
ら電圧が供給されて放電を発生する。
により、そのUV光が放電空間に照射される。請求項7
によれば、トリガ用電極には、ピーキングコンデンサか
ら電圧が供給されて放電を発生する。
【0024】請求項8によれば、各主電極の少なくとも
片側に配置されたトリガ用電極から放電を発生する。請
求項9によれば、エキシマレーザ媒質に対してUV光が
照射されて予備電離が行われる。
片側に配置されたトリガ用電極から放電を発生する。請
求項9によれば、エキシマレーザ媒質に対してUV光が
照射されて予備電離が行われる。
【0025】請求項10によれば、10torr以下のXe
と0.5〜2torr程度のHClとを、Heにより大気圧
以上に希釈したエキシマレーザ媒質であれば、エキシマ
レーザ光の出力が最大となる。
と0.5〜2torr程度のHClとを、Heにより大気圧
以上に希釈したエキシマレーザ媒質であれば、エキシマ
レーザ光の出力が最大となる。
【0026】
【実施例】以下、本発明の一実施例について図面を参照
して説明する。図1はエキシマレーザ発振装置の構成図
である。チャンバー20内には、エキシマレーザ媒質が
封入されている。このエキシマレーザ媒質は、10torr
以下のXeと0.5〜2torr程度のHClとを、Heに
より大気圧以上に希釈したものとなっている。
して説明する。図1はエキシマレーザ発振装置の構成図
である。チャンバー20内には、エキシマレーザ媒質が
封入されている。このエキシマレーザ媒質は、10torr
以下のXeと0.5〜2torr程度のHClとを、Heに
より大気圧以上に希釈したものとなっている。
【0027】又、チャンバー20内には、放電部21が
設けられている。すなわち、各主電極22、23が対向
配置され、これら主電極22、23に各ピーキングコン
デンサ24を介して金属電極体としての各銅板25が接
続されている。
設けられている。すなわち、各主電極22、23が対向
配置され、これら主電極22、23に各ピーキングコン
デンサ24を介して金属電極体としての各銅板25が接
続されている。
【0028】具体的には、図2の正面図、及び図3の側
面図に示すように各主電極22、23の両側面にそれぞ
れ複数のピーキングコンデンサ24が接続され、これら
各主電極22、23間の各ピーキングコンデンサ24間
にそれぞれ各銅板25が接続されている。すなわち、各
銅板25は、上下の各ピーキングコンデンサ24間を短
絡するように接続されている。
面図に示すように各主電極22、23の両側面にそれぞ
れ複数のピーキングコンデンサ24が接続され、これら
各主電極22、23間の各ピーキングコンデンサ24間
にそれぞれ各銅板25が接続されている。すなわち、各
銅板25は、上下の各ピーキングコンデンサ24間を短
絡するように接続されている。
【0029】このような各銅板25の接続により、これ
ら銅板25は、各主電極22、23間の放電空間Aを望
む位置にそれぞれ所定間隔をおいて配置されている。こ
れら銅板25は、厚さ0.2mm、幅5mmの角型に形
成され、かつその表面にニッケルメッキが施されてい
る。
ら銅板25は、各主電極22、23間の放電空間Aを望
む位置にそれぞれ所定間隔をおいて配置されている。こ
れら銅板25は、厚さ0.2mm、幅5mmの角型に形
成され、かつその表面にニッケルメッキが施されてい
る。
【0030】図3における左端に示すピーキングコンデ
ンサ24には、放電空間を望まない位置にトリガー用ピ
ン電極33が配置されている。なお、チャンバー20内
には、ファン26及び熱交換器27が配置され、エキシ
マレーザ媒質の循環及びその熱交換が行われるようにな
っている。
ンサ24には、放電空間を望まない位置にトリガー用ピ
ン電極33が配置されている。なお、チャンバー20内
には、ファン26及び熱交換器27が配置され、エキシ
マレーザ媒質の循環及びその熱交換が行われるようにな
っている。
【0031】一方、図4は電気回路の構成図である。高
圧電源28には、抵抗29を介してサイラトロン30が
接続されている。このサイラトロン30には、主コンデ
ンサ31を介して各主電極22、23が接続されてい
る。又、サイラトロン30には、主コンデンサ31を介
して各銅板25、各ピーキングコンデンサ24が接続さ
れている。これらピーキングコンデンサ24のうち1個
のみにトリガー用ピン電極33が接続されている。な
お、各主電極22、23間には、充放電用のコイル32
が接続されている。
圧電源28には、抵抗29を介してサイラトロン30が
接続されている。このサイラトロン30には、主コンデ
ンサ31を介して各主電極22、23が接続されてい
る。又、サイラトロン30には、主コンデンサ31を介
して各銅板25、各ピーキングコンデンサ24が接続さ
れている。これらピーキングコンデンサ24のうち1個
のみにトリガー用ピン電極33が接続されている。な
お、各主電極22、23間には、充放電用のコイル32
が接続されている。
【0032】次に上記の如く構成された装置の作用につ
いて説明する。高圧電源28から抵抗29を通して主コ
ンデンサ31に充電が行われた状態に、サイラトロン3
0がオンすると、主コンデンサ31に蓄えられた電荷が
各ピーキングコンデンサ24に移行する。この移行時間
は、ほぼ200nsの間に行われる。
いて説明する。高圧電源28から抵抗29を通して主コ
ンデンサ31に充電が行われた状態に、サイラトロン3
0がオンすると、主コンデンサ31に蓄えられた電荷が
各ピーキングコンデンサ24に移行する。この移行時間
は、ほぼ200nsの間に行われる。
【0033】これらピーキングコンデンサ24への電荷
移行により、各ピーキングコンデンサ24の電圧が高く
なって所定電圧に達すると、トリガー用ピン電極33に
放電が発生し、その光により各銅板25のエッジからコ
ロナ放電が発生する。このとき、トリガー用ピン電極3
3の光が放電空間を直接照射すると、後続のコロナ放電
によるトリガーを妨害する。
移行により、各ピーキングコンデンサ24の電圧が高く
なって所定電圧に達すると、トリガー用ピン電極33に
放電が発生し、その光により各銅板25のエッジからコ
ロナ放電が発生する。このとき、トリガー用ピン電極3
3の光が放電空間を直接照射すると、後続のコロナ放電
によるトリガーを妨害する。
【0034】このコロナ放電発生により、そのUV光、
電子が、図2に示すように各主電極22、23間の放電
空間Aに照射される。この結果、各主電極22、23に
対する印加電圧が所定電圧に到達すると、これら主電極
22、23間にパルス放電が点弧し、図示しないレーザ
共振器によりレーザ共振が起こり、エキシマレーザ光が
出力される。
電子が、図2に示すように各主電極22、23間の放電
空間Aに照射される。この結果、各主電極22、23に
対する印加電圧が所定電圧に到達すると、これら主電極
22、23間にパルス放電が点弧し、図示しないレーザ
共振器によりレーザ共振が起こり、エキシマレーザ光が
出力される。
【0035】この場合、エキシマレーザ媒質は、上記の
如く10torr以下のXeと0.5〜2torr程度のHCl
とを、Heにより大気圧以上に希釈したものであるが、
XeClレーザの場合、Xe分圧がレーザ発振を支配す
る。
如く10torr以下のXeと0.5〜2torr程度のHCl
とを、Heにより大気圧以上に希釈したものであるが、
XeClレーザの場合、Xe分圧がレーザ発振を支配す
る。
【0036】実験の結果、エキシマレーザ出力は、Xe
が10torr以下で高くなり、4torrで最大を示すものと
なった。又、HCl分圧は、Xe分圧によって最適値が
多少変化する。Xeが4torrでは、HCLが分圧が1to
rrのときにエキシマレーザ出力が最大となった。この実
験は、全ガス圧2090torr(2.75気圧)までHe
で希釈したエキシマレーザ媒質により行ったもので、全
ガス圧は本装置の動作を支配しないものである。但し、
XeClで一般によく用いられている希釈ガスNeで
は、レーザ出力は得られない。
が10torr以下で高くなり、4torrで最大を示すものと
なった。又、HCl分圧は、Xe分圧によって最適値が
多少変化する。Xeが4torrでは、HCLが分圧が1to
rrのときにエキシマレーザ出力が最大となった。この実
験は、全ガス圧2090torr(2.75気圧)までHe
で希釈したエキシマレーザ媒質により行ったもので、全
ガス圧は本装置の動作を支配しないものである。但し、
XeClで一般によく用いられている希釈ガスNeで
は、レーザ出力は得られない。
【0037】このように上記一実施例においては、放電
空間Aを望む位置に銅板25を配置し、この銅板25か
ら放電空間Aに向かってUV光を放射して主放電点弧を
行うようにしたので、スパーク放電を発生することがな
くそれによる不純物の発生を防止できてガスレーザ媒質
の長寿命化が図れる。これは、特にニッケルメッキの施
された銅板25のエッジからコロナ放電が発生すること
による。X線しゃ蔽の問題を解決でき、さらに放電生成
物の密着がなくなって高繰り返し動作が可能となる。
空間Aを望む位置に銅板25を配置し、この銅板25か
ら放電空間Aに向かってUV光を放射して主放電点弧を
行うようにしたので、スパーク放電を発生することがな
くそれによる不純物の発生を防止できてガスレーザ媒質
の長寿命化が図れる。これは、特にニッケルメッキの施
された銅板25のエッジからコロナ放電が発生すること
による。X線しゃ蔽の問題を解決でき、さらに放電生成
物の密着がなくなって高繰り返し動作が可能となる。
【0038】このようにエキシマレーザの高繰り返し動
作が可能となり、従来数10Hzであったものが、例え
ば1.5kHzまで高めることができる。又、コロナ放
電発生用の電極や電源回路を持たないので、装置全体を
簡素にすることができ、これにより保守が容易にでき
る。
作が可能となり、従来数10Hzであったものが、例え
ば1.5kHzまで高めることができる。又、コロナ放
電発生用の電極や電源回路を持たないので、装置全体を
簡素にすることができ、これにより保守が容易にでき
る。
【0039】従って、現在の主流の予備電離方式である
UV方式、X線方式、コロナ方式とをそれぞれ比較する
と、本装置は、次のような効果を有する。UV方式のよ
うにスパーク放電を発生することなく、不純物の発生を
防止できる。
UV方式、X線方式、コロナ方式とをそれぞれ比較する
と、本装置は、次のような効果を有する。UV方式のよ
うにスパーク放電を発生することなく、不純物の発生を
防止できる。
【0040】X線方式のようにX線のしゃ蔽、大型化、
高価といった問題が生じない。そのうえ、本装置とX線
方式のものとを同一装置でかつ同一ガスレーザ媒質によ
り実際に比較したところ、本装置は、エキシマレーザ出
力が3分の2となるが、X線発生の電力を考慮すると、
効率は逆に1.5倍となる。
高価といった問題が生じない。そのうえ、本装置とX線
方式のものとを同一装置でかつ同一ガスレーザ媒質によ
り実際に比較したところ、本装置は、エキシマレーザ出
力が3分の2となるが、X線発生の電力を考慮すると、
効率は逆に1.5倍となる。
【0041】コロナ方式のように放電生成物が電極に密
着することがなく、高繰り返し動作が可能となり、かつ
装置全体を簡素にでき、保守が容易となる。又、エキシ
マレーザ媒質10torr以下のXeと0.5〜2torr程度
のHClとを、Heにより大気圧以上に希釈するので、
このような条件とすれば、エキシマレーザ光の出力を最
大にできる。
着することがなく、高繰り返し動作が可能となり、かつ
装置全体を簡素にでき、保守が容易となる。又、エキシ
マレーザ媒質10torr以下のXeと0.5〜2torr程度
のHClとを、Heにより大気圧以上に希釈するので、
このような条件とすれば、エキシマレーザ光の出力を最
大にできる。
【0042】なお、本発明は、上記一実施例に限定され
るものでなく次のように変形してもよい。例えば、各ピ
ーキングコンデンサ24は、各主電極22、23の両側
面に設けているが、各主電極22、23の片側のみに設
けるようにしてもよい。これにより、各銅板25を各主
電極22、23の片側のみに配置するようにしてもよ
い。
るものでなく次のように変形してもよい。例えば、各ピ
ーキングコンデンサ24は、各主電極22、23の両側
面に設けているが、各主電極22、23の片側のみに設
けるようにしてもよい。これにより、各銅板25を各主
電極22、23の片側のみに配置するようにしてもよ
い。
【0043】又、各ピーキングコンデンサ24に対して
1つの銅板25を接続するのでなく、1つのピーキング
コンデンサ24に対して複数の銅板25を接続するよう
にしてもよい。
1つの銅板25を接続するのでなく、1つのピーキング
コンデンサ24に対して複数の銅板25を接続するよう
にしてもよい。
【0044】このようにそれぞれ構成としても上記一実
施例と同様の効果を奏することができる。さらに、銅板
25に代えて、細線を用いても上記一実施例と同様の効
果を奏することができる。この場合、各細線には、電流
ピーク値約200A、電流パルス幅300nsのパルス
電流が流れるので、このパルス電流により溶断しない素
材、断面積を有するように形成することになる。
施例と同様の効果を奏することができる。さらに、銅板
25に代えて、細線を用いても上記一実施例と同様の効
果を奏することができる。この場合、各細線には、電流
ピーク値約200A、電流パルス幅300nsのパルス
電流が流れるので、このパルス電流により溶断しない素
材、断面積を有するように形成することになる。
【0045】又、銅板25は、コロナ放電が発生しやす
いように正方形、又は長方形等の角型の細線としてもよ
い。この場合、これら細線を複数本捩って電流容量を確
保するようにしてもよい。
いように正方形、又は長方形等の角型の細線としてもよ
い。この場合、これら細線を複数本捩って電流容量を確
保するようにしてもよい。
【0046】又、エキシマレーザ媒質としてXeClガ
スを用いた場合について説明したが、KrFガス、Ar
Fガスとしても上記一実施例と同様の効果を奏すること
ができる。これらの場合、Kr、Ar分圧によりレーザ
発振が支配される。さらにエキシマレーザ媒質に限ら
ず、CO2 等のガスレーザ発振装置にも適用できる。
スを用いた場合について説明したが、KrFガス、Ar
Fガスとしても上記一実施例と同様の効果を奏すること
ができる。これらの場合、Kr、Ar分圧によりレーザ
発振が支配される。さらにエキシマレーザ媒質に限ら
ず、CO2 等のガスレーザ発振装置にも適用できる。
【0047】
【発明の効果】以上詳記したように本発明によれば、ガ
スレーザの高繰り返し動作に適用できて長寿命化を図れ
るガスレーザ発振装置を提供できる。
スレーザの高繰り返し動作に適用できて長寿命化を図れ
るガスレーザ発振装置を提供できる。
【図1】本発明に係わるエキシマレーザ発振装置の一実
施例を示す構成図。
施例を示す構成図。
【図2】同装置の放電部の具体的な構成図。
【図3】放電部における銅板の配置を示す図。
【図4】電気回路の構成図。
【図5】UV方式の予備電離方式を示す構成図。
【図6】X線方式の予備電離方式を示す構成図。
【図7】コロナ方式の予備電離方式を示す構成図。
【図8】コロナ電極の構成図。
20…チャンバー、21…放電部、22,23…主電
極、24…ピーキングコンデンサ、25…銅板、28…
高圧電源、30…サイラトロン、31…主コンデンサ。
極、24…ピーキングコンデンサ、25…銅板、28…
高圧電源、30…サイラトロン、31…主コンデンサ。
Claims (10)
- 【請求項1】 ガスレーザ媒質を封入したチャンバー内
に各主電極を対向配置し、これら主電極間に主放電を発
生させてレーザ光を出力するガスレーザ発振装置におい
て、 前記各主電極間の放電空間を望む位置に短波長光発生用
の金属電極体、前記放電空間を望まない位置に短波長光
トリガ用電極をそれぞれ配置したことを特徴とするガス
レーザ発振装置。 - 【請求項2】 金属電極体は、エッジの形成された金属
板、又は少なくとも1本のワイヤーであることを特徴と
する請求項1記載のガスレーザ発振装置。 - 【請求項3】 金属電極体は、エッジが形成されニッケ
ルメッキの施された銅板であることを特徴とする請求項
1記載のガスレーザ発振装置。 - 【請求項4】 金属電極体は、各主電極に対しピーキン
グコンデンサを介して接続されていることを特徴とする
請求項1記載のガスレーザ発振装置。 - 【請求項5】 金属電極体は、各主電極の少なくとも片
側に配置されることを特徴とする請求項1記載のガスレ
ーザ発振装置。 - 【請求項6】 トリガ用電極は、金属電極体と並列に接
続された少なくとも一対のピン電極であることを特徴と
する請求項1記載のガスレーザ発振装置。 - 【請求項7】 トリガ用電極は、各主電極に対しピーキ
ングコンデンサを介して接続されていることを特徴とす
る請求項1記載のガスレーザ発振装置。 - 【請求項8】 トリガ用電極は、各主電極の少なくとも
片側に配置されることを特徴とする請求項1記載のガス
レーザ発振装置。 - 【請求項9】 ガスレーザ媒質は、エキシマレーザ媒質
であることを特徴とする請求項1記載のガスレーザ発振
装置。 - 【請求項10】 ガスレーザ媒質は、10torr以下のX
eと0.5〜2torr程度のHClとを、Heにより大気
圧以上に希釈したエキシマレーザ媒質であることを特徴
とする請求項1記載のガスレーザ発振装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3114694A JPH07240556A (ja) | 1994-03-01 | 1994-03-01 | ガスレーザ発振装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3114694A JPH07240556A (ja) | 1994-03-01 | 1994-03-01 | ガスレーザ発振装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07240556A true JPH07240556A (ja) | 1995-09-12 |
Family
ID=12323303
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3114694A Pending JPH07240556A (ja) | 1994-03-01 | 1994-03-01 | ガスレーザ発振装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07240556A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1274156A1 (de) * | 2001-07-05 | 2003-01-08 | TuiLaser AG | Gaslaser |
-
1994
- 1994-03-01 JP JP3114694A patent/JPH07240556A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1274156A1 (de) * | 2001-07-05 | 2003-01-08 | TuiLaser AG | Gaslaser |
| US6782030B2 (en) | 2001-07-05 | 2004-08-24 | Claus Strowitzki | Gas laser |
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