JPH07243097A - ウエーハのめっき用ラック及びそれを用いためっき方法 - Google Patents
ウエーハのめっき用ラック及びそれを用いためっき方法Info
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- JPH07243097A JPH07243097A JP3614694A JP3614694A JPH07243097A JP H07243097 A JPH07243097 A JP H07243097A JP 3614694 A JP3614694 A JP 3614694A JP 3614694 A JP3614694 A JP 3614694A JP H07243097 A JPH07243097 A JP H07243097A
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- 238000007790 scraping Methods 0.000 claims 1
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Landscapes
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】ウエーハのめっき処理について、ウエーハ１枚
当たりのめっき液の使用量の節減や装置全体の小型化、
さらにはめっき槽やめっき液供給機構などの装置要素の
簡易化を図れるようにする。 【構成】２本の保持溝４を内周面に有する半環状の枠部
材５を回動開閉可能に組み合わせた構造のめっき用ラッ
ク１を用い、このめっき用ラックに２枚一組のウエーハ
Ｗをそれぞれのめっき対象面が表側になる背中合わせに
して保持させることで、１個のラックにより２枚のウエ
ーハを同時処理できるようにしている。
当たりのめっき液の使用量の節減や装置全体の小型化、
さらにはめっき槽やめっき液供給機構などの装置要素の
簡易化を図れるようにする。 【構成】２本の保持溝４を内周面に有する半環状の枠部
材５を回動開閉可能に組み合わせた構造のめっき用ラッ
ク１を用い、このめっき用ラックに２枚一組のウエーハ
Ｗをそれぞれのめっき対象面が表側になる背中合わせに
して保持させることで、１個のラックにより２枚のウエ
ーハを同時処理できるようにしている。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体用のウエーハに
めっきを施すための技術に関する。
めっきを施すための技術に関する。
【０００２】
【従来の技術】ウエーハにバンプめっきなどのめっき処
理を施すについてはそのめっき対象面だけを選択的にめ
っき液に接触させるようにすることが重要な要素になっ
ている。そのため従来では一般に図５に示すような基本
構造を持つめっきシステムが用いられている。このシス
テムは、めっき槽２０の中にウエーハＷの支持手段でも
あるカップ状の噴射槽２１を設け、この噴射槽２１の上
端にウエーハＷをそのめっき対象面が下側になる状態で
被せるようにして固定し、この状態で噴射槽２１内にめ
っき液を加熱槽２２から循環管路２３を介して噴射状で
供給するようにしており、噴射槽２１に供給されためっ
き液Ｍは、ウエーハＷのめっき対象面に接触しつつ周辺
へ広がる流れを形成してめっき槽２０に流れ出して行く
（例えば実公昭５８−８７７４号公報、実開平３−１９
７０号公報、実開平４−４４３７１号公報等を参照）。
理を施すについてはそのめっき対象面だけを選択的にめ
っき液に接触させるようにすることが重要な要素になっ
ている。そのため従来では一般に図５に示すような基本
構造を持つめっきシステムが用いられている。このシス
テムは、めっき槽２０の中にウエーハＷの支持手段でも
あるカップ状の噴射槽２１を設け、この噴射槽２１の上
端にウエーハＷをそのめっき対象面が下側になる状態で
被せるようにして固定し、この状態で噴射槽２１内にめ
っき液を加熱槽２２から循環管路２３を介して噴射状で
供給するようにしており、噴射槽２１に供給されためっ
き液Ｍは、ウエーハＷのめっき対象面に接触しつつ周辺
へ広がる流れを形成してめっき槽２０に流れ出して行く
（例えば実公昭５８−８７７４号公報、実開平３−１９
７０号公報、実開平４−４４３７１号公報等を参照）。
【０００３】これから分かるように、従来のシステムで
は、１個の噴射槽について１枚ずつしかウエーハを処理
することができない。このことは、処理効率上の問題、
特にウエーハ１枚につき使用するめっき液の量が多くな
るという問題をもたらし、また大量のウエーハを効率的
に処理するために多数の噴射槽を横方向に並べて設けな
ければならず、そのために装置全体が大型化するという
問題ももたらしている。
は、１個の噴射槽について１枚ずつしかウエーハを処理
することができない。このことは、処理効率上の問題、
特にウエーハ１枚につき使用するめっき液の量が多くな
るという問題をもたらし、また大量のウエーハを効率的
に処理するために多数の噴射槽を横方向に並べて設けな
ければならず、そのために装置全体が大型化するという
問題ももたらしている。
【０００４】また従来のシステムでは、噴射槽内にめっ
き液を噴射供給する必要があるので、めっき槽やめっき
液供給機構などの装置要素が複雑になり、このことが、
装置全体の大型化の他の要因ともなると共に、装置の固
定的な配置を要求する所以となって工場スペースの効率
的利用を妨げることになっていた。
き液を噴射供給する必要があるので、めっき槽やめっき
液供給機構などの装置要素が複雑になり、このことが、
装置全体の大型化の他の要因ともなると共に、装置の固
定的な配置を要求する所以となって工場スペースの効率
的利用を妨げることになっていた。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】従って本発明の目的
は、２枚のウエーハを１個の支持手段、具体的にはラッ
クで支持させて処理できるようにすることで、ウエーハ
１枚当たりのめっき液の使用量の節減や装置全体の小型
化、さらにはめっき槽やめっき液供給機構などの装置要
素の簡易化を図れるようにすることにある。
は、２枚のウエーハを１個の支持手段、具体的にはラッ
クで支持させて処理できるようにすることで、ウエーハ
１枚当たりのめっき液の使用量の節減や装置全体の小型
化、さらにはめっき槽やめっき液供給機構などの装置要
素の簡易化を図れるようにすることにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】このような目的のため
に、本発明では、それぞれ内周面に２本の保持溝が形成
された半環状の枠部材を互いの一端で回動可能に組み合
わせて、保持対象のウエーハの外周に相似な環状に形成
した枠体を有し、この枠体における両枠部材の保持溝が
組み合わさって形成される環状の保持溝にそれぞれの周
縁部を嵌合させることで２枚一組のウエーハをそれぞれ
のめっき対象面が表側になる背中合わせにして保持させ
るようにした構造のめっき用ラックを用いるものとして
おり、２枚一組のウエーハを保持させたこのめっき用ラ
ックをめっき槽内のめっき液に浸漬させ、この浸漬状態
で表側の各ウエーハのめっき対象面にめっき液を流動的
に接触させてめっきを施すようにしている。
に、本発明では、それぞれ内周面に２本の保持溝が形成
された半環状の枠部材を互いの一端で回動可能に組み合
わせて、保持対象のウエーハの外周に相似な環状に形成
した枠体を有し、この枠体における両枠部材の保持溝が
組み合わさって形成される環状の保持溝にそれぞれの周
縁部を嵌合させることで２枚一組のウエーハをそれぞれ
のめっき対象面が表側になる背中合わせにして保持させ
るようにした構造のめっき用ラックを用いるものとして
おり、２枚一組のウエーハを保持させたこのめっき用ラ
ックをめっき槽内のめっき液に浸漬させ、この浸漬状態
で表側の各ウエーハのめっき対象面にめっき液を流動的
に接触させてめっきを施すようにしている。
【０００７】このような本発明によると、一個のラック
で２枚のウエーハを同時に処理できるので、ウエーハ１
枚当たりのめっき液の使用量を大幅に節減できるし、ま
た処理能力当たりの装置サイズを小さくできる。
で２枚のウエーハを同時に処理できるので、ウエーハ１
枚当たりのめっき液の使用量を大幅に節減できるし、ま
た処理能力当たりの装置サイズを小さくできる。
【０００８】また本発明によると、めっき用ラックをめ
っき槽内のめっき液に浸漬させた状態でめっき液をウエ
ーハに接触させるようにしているので、従来のようなめ
っき液の噴射供給を行なう必要がなく、従ってめっき槽
やめっき液供給機構などの装置要素の大幅な簡易化を図
ることができる。
っき槽内のめっき液に浸漬させた状態でめっき液をウエ
ーハに接触させるようにしているので、従来のようなめ
っき液の噴射供給を行なう必要がなく、従ってめっき槽
やめっき液供給機構などの装置要素の大幅な簡易化を図
ることができる。
【０００９】このめっき液の噴射供給を行なわずにウエ
ーハに対するめっき液の流動状態を与える点について
は、めっき槽内でめっき液を攪拌する方法も可能である
が、めっき用ラックをめっき液中で回転させる方法が、
めっき対象面におけるめっき液の流動分布についてより
高い均一性が得られるという点で、より好ましい。
ーハに対するめっき液の流動状態を与える点について
は、めっき槽内でめっき液を攪拌する方法も可能である
が、めっき用ラックをめっき液中で回転させる方法が、
めっき対象面におけるめっき液の流動分布についてより
高い均一性が得られるという点で、より好ましい。
【００１０】また本発明では、上記のようなめっき用ラ
ックについて、保持溝の内側壁に電極端子の先端部を突
出させて設け、保持溝にウエーハの周縁部を嵌合させる
際にこの電極端子の先端部で対応部位のレジスト膜を削
り取ってウエーハへの通電を行なえるようにしている。
これはその周縁部を保持溝に嵌合させてウエーハの保持
をなすという構造を活用したもので、この結果、安定的
なめっき処理に不可欠であり従来でも様々な工夫を要求
されていたウエーハに対するカソードの通電を簡単且つ
確実に確保することができる。
ックについて、保持溝の内側壁に電極端子の先端部を突
出させて設け、保持溝にウエーハの周縁部を嵌合させる
際にこの電極端子の先端部で対応部位のレジスト膜を削
り取ってウエーハへの通電を行なえるようにしている。
これはその周縁部を保持溝に嵌合させてウエーハの保持
をなすという構造を活用したもので、この結果、安定的
なめっき処理に不可欠であり従来でも様々な工夫を要求
されていたウエーハに対するカソードの通電を簡単且つ
確実に確保することができる。
【００１１】
【実施例】以下、本発明の一実施例について説明する。
図１及び図２に示すように、本実施例によるめっき用ラ
ック１は、保持対象のウエーハＷの外周に相似な円環状
に形成された枠体２に回転力伝達部３を接続してなって
いる。
図１及び図２に示すように、本実施例によるめっき用ラ
ック１は、保持対象のウエーハＷの外周に相似な円環状
に形成された枠体２に回転力伝達部３を接続してなって
いる。
【００１２】枠体２は、それぞれ内周面に２本の保持溝
４、４を有する一対の半円環状の枠部材５、５を互いの
一端で回動可能に接続して形成されており、ウエーハＷ
の装着・取出しのために図中に想像線で示すように回動
させて開くことができるようにされている。また各枠部
材５の保持溝４、４の内側壁には図３に示すようにカソ
ード用の電極端子６の先端部が弾性的に出没可能となる
ようにして僅かに突出させられている。
４、４を有する一対の半円環状の枠部材５、５を互いの
一端で回動可能に接続して形成されており、ウエーハＷ
の装着・取出しのために図中に想像線で示すように回動
させて開くことができるようにされている。また各枠部
材５の保持溝４、４の内側壁には図３に示すようにカソ
ード用の電極端子６の先端部が弾性的に出没可能となる
ようにして僅かに突出させられている。
【００１３】このめっき用ラック１にウエーハＷを保持
させるには、先ず両枠部材５、５を上述のように開き、
そこで両枠部材５、５の間にウエーハＷ、Ｗを互いにめ
っき対象面が外側になる背中合わせにして挟んでから両
枠部材５、５を閉じる。すると各ウエーハＷは、両枠部
材５、５の保持溝４、４にそれぞれの周縁部を全周にわ
たって嵌合させた状態で枠体２に保持される。この際
に、ウエーハＷの周縁部は電極端子６の先端部を保持溝
４の内側壁内に押し込むようにして擦り、この結果そこ
に施されているレジスト膜が電極端子６の先端部で削り
取られ、電極端子６とウエーハＷとの導通状態が得られ
る。
させるには、先ず両枠部材５、５を上述のように開き、
そこで両枠部材５、５の間にウエーハＷ、Ｗを互いにめ
っき対象面が外側になる背中合わせにして挟んでから両
枠部材５、５を閉じる。すると各ウエーハＷは、両枠部
材５、５の保持溝４、４にそれぞれの周縁部を全周にわ
たって嵌合させた状態で枠体２に保持される。この際
に、ウエーハＷの周縁部は電極端子６の先端部を保持溝
４の内側壁内に押し込むようにして擦り、この結果そこ
に施されているレジスト膜が電極端子６の先端部で削り
取られ、電極端子６とウエーハＷとの導通状態が得られ
る。
【００１４】このようにして保持された両ウエーハＷ、
Ｗの裏側はめっき液に対し完全な密封状態になり、ラッ
ク１を図４に示すようにめっき槽７内のめっき液Ｍに漬
けた場合に両ウエーハＷ、Ｗの表側面、つまりめっき対
象面だけを選択的にめっき液Ｍに接触させることができ
る。
Ｗの裏側はめっき液に対し完全な密封状態になり、ラッ
ク１を図４に示すようにめっき槽７内のめっき液Ｍに漬
けた場合に両ウエーハＷ、Ｗの表側面、つまりめっき対
象面だけを選択的にめっき液Ｍに接触させることができ
る。
【００１５】このようなめっき用ラック１を用いてのめ
っき処理は、図４に示すようにめっき用ラック１をめっ
き槽７内のめっき液Ｍに漬けた状態で静かに回転させつ
つ進める。めっき用ラック１を回転させるには回転力伝
達部３を介して図外の駆動系から回転力を伝えることに
なるが、その機構は一般に知られている機構を用いるこ
とができるので、その説明及び図示は省略する。
っき処理は、図４に示すようにめっき用ラック１をめっ
き槽７内のめっき液Ｍに漬けた状態で静かに回転させつ
つ進める。めっき用ラック１を回転させるには回転力伝
達部３を介して図外の駆動系から回転力を伝えることに
なるが、その機構は一般に知られている機構を用いるこ
とができるので、その説明及び図示は省略する。
【００１６】一般にめっき液Ｍは加熱する必要がある
が、この例ではホットバス方式による間接加熱を用いて
いる。即ち、加熱用の液体Ｌを満たしたホットバス８内
にめっき槽７を漬けてめっき槽７内のめっき液Ｍを加熱
するようにしている。
が、この例ではホットバス方式による間接加熱を用いて
いる。即ち、加熱用の液体Ｌを満たしたホットバス８内
にめっき槽７を漬けてめっき槽７内のめっき液Ｍを加熱
するようにしている。
【００１７】
【発明の効果】以上説明したごとく本発明によると、一
個のラックで２枚のウエーハを同時に処理できるので、
ウエーハ１枚当たりのめっき液の使用量を大幅に節減で
き、また処理能力当たりの装置サイズを小さくできる
し、さらに従来のようなめっき液の噴射的供給を行なう
必要がないので、めっき槽やめっき液供給機構などの装
置要素の大幅な簡易化を図ることができる。
個のラックで２枚のウエーハを同時に処理できるので、
ウエーハ１枚当たりのめっき液の使用量を大幅に節減で
き、また処理能力当たりの装置サイズを小さくできる
し、さらに従来のようなめっき液の噴射的供給を行なう
必要がないので、めっき槽やめっき液供給機構などの装
置要素の大幅な簡易化を図ることができる。
【図１】本発明によるめっき用ラックの側面図。
【図２】図１中のＳＡ2 ─ＳＡ2 線に沿う断面図。
【図３】枠部材の保持溝への電極端子の組込み状態を示
す断面図。
す断面図。
【図４】図１のめっき用ラックを用いためっき処理の状
態を示す断面図。
態を示す断面図。
【図５】従来のめっき処理システムの構成図。
１ めっき用ラック ２ 枠体 ３ 回転力伝達部 ４ 保持溝 ５ 枠部材 ６ 電極端子 ７ めっき槽 Ｍ めっき液 Ｗ ウエーハ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ２５Ｄ 7/12 Ｈ０１Ｌ 21/68 Ｎ 21/321
Claims (4)
- 【請求項１】 めっき液にめっき対象面を選択的に接触
させる状態でウエーハを保持するウエーハのめっき用ラ
ックにおいて、それぞれ内周面に２本の保持溝が形成さ
れた半環状の枠部材を互いの一端で回動可能に組み合わ
せて保持対象のウエーハの外周に相似な環状に形成した
枠体を有し、この枠体における両枠部材の各保持溝にそ
れぞれの周縁部を嵌合させることで２枚一組のウエーハ
をそれぞれのめっき対象面が表側になる背中合わせにし
て保持させるようにしたことを特徴とするウエーハのめ
っき用ラック。 - 【請求項２】 保持溝の内側壁に電極端子の先端部を突
出させて設け、保持溝にウエーハの周縁部を嵌合させる
際にこの電極端子の先端部で対応部位のレジストを削り
取ってウエーハへの通電を行なえるようにした請求項１
記載のめっき用ラック。 - 【請求項３】 請求項１又は請求項２記載のめっき用ラ
ックを用いてウエーハにめっきを施すめっき方法であっ
て、２枚一組のウエーハを保持させためっき用ラックを
めっき槽内のめっき液に浸漬させ、この浸漬状態で各ウ
エーハのめっき対象面にめっき液を流動的に接触させて
めっきを施すようにしてなるめっき方法。 - 【請求項４】 めっき用ラックを回転させることにより
ウエーハに対するめっき液の流動状態を与えるようにし
た請求項３記載のめっき方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3614694A JP3286063B2 (ja) | 1994-03-07 | 1994-03-07 | ウエーハのめっき用ラック及びそれを用いためっき方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3614694A JP3286063B2 (ja) | 1994-03-07 | 1994-03-07 | ウエーハのめっき用ラック及びそれを用いためっき方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07243097A true JPH07243097A (ja) | 1995-09-19 |
| JP3286063B2 JP3286063B2 (ja) | 2002-05-27 |
Family
ID=12461660
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3614694A Expired - Fee Related JP3286063B2 (ja) | 1994-03-07 | 1994-03-07 | ウエーハのめっき用ラック及びそれを用いためっき方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3286063B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2015198955A1 (ja) * | 2014-06-27 | 2015-12-30 | 株式会社村田製作所 | めっき装置 |
| JP2017137523A (ja) * | 2016-02-01 | 2017-08-10 | アスカコーポレーション株式会社 | 半導体ウェハ |
-
1994
- 1994-03-07 JP JP3614694A patent/JP3286063B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2015198955A1 (ja) * | 2014-06-27 | 2015-12-30 | 株式会社村田製作所 | めっき装置 |
| KR20170008300A (ko) | 2014-06-27 | 2017-01-23 | 가부시키가이샤 무라타 세이사쿠쇼 | 도금 장치 |
| JPWO2015198955A1 (ja) * | 2014-06-27 | 2017-04-27 | 株式会社村田製作所 | めっき装置 |
| JP2017137523A (ja) * | 2016-02-01 | 2017-08-10 | アスカコーポレーション株式会社 | 半導体ウェハ |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3286063B2 (ja) | 2002-05-27 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |