JPH07244204A - ２波長反射防止膜 - Google Patents
２波長反射防止膜Info
- Publication number
- JPH07244204A JPH07244204A JP6034773A JP3477394A JPH07244204A JP H07244204 A JPH07244204 A JP H07244204A JP 6034773 A JP6034773 A JP 6034773A JP 3477394 A JP3477394 A JP 3477394A JP H07244204 A JPH07244204 A JP H07244204A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wavelength
- refractive index
- antireflection film
- index layer
- film
- Prior art date
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- Pending
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- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
- Optical Filters (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 露光光及びアライメント光において十分な反
射防止効果をもたせ、かつ、露光光の波長（中心波長）
に対して広帯域な反射防止特性をもたせる。 【構成】 第１波長λ1 ＝248.4nm 近辺と第１波長より
長波長側の第２波長λ2近辺に反射率の極小を持つ２波
長反射防止膜において、反射防止膜を「高屈折率層２１
と中間屈折率層２２との交互多層膜と媒質側の最終層で
ある低屈折率層２３」で構成し、かつ高屈折率層２１と
してZrO2、HfO2、Sc2O3 、Y2O3のいずれかを使用する。
射防止効果をもたせ、かつ、露光光の波長（中心波長）
に対して広帯域な反射防止特性をもたせる。 【構成】 第１波長λ1 ＝248.4nm 近辺と第１波長より
長波長側の第２波長λ2近辺に反射率の極小を持つ２波
長反射防止膜において、反射防止膜を「高屈折率層２１
と中間屈折率層２２との交互多層膜と媒質側の最終層で
ある低屈折率層２３」で構成し、かつ高屈折率層２１と
してZrO2、HfO2、Sc2O3 、Y2O3のいずれかを使用する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、第１波長λ1 ＝248.4n
m 近辺と第１波長より長波長側の第２波長λ2 近辺（例
えば、632.8nm 、720nm 、780nm 、810nm)にそれぞれ反
射率の極小を持ち、光学基板上に形成される２波長反射
防止膜に関する。
m 近辺と第１波長より長波長側の第２波長λ2 近辺（例
えば、632.8nm 、720nm 、780nm 、810nm)にそれぞれ反
射率の極小を持ち、光学基板上に形成される２波長反射
防止膜に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、集積化の進んだＩＣを製造するた
めに、縮小投影露光装置が使用されている。ＩＣの集積
化に伴い縮小投影露光装置に用いられる露光用の光の波
長の短波長化が進んでいる。現在、露光用の光におい
て、主流となっている波長は、エキシマレーザーから発
光される紫外線である。他方、縮小投影露光装置の光学
系では露光光以外に半導体基板のアライメント用とし
て、レジストの感光しない長波長の光、例えば632.8nm
(He-Neレーザー) 、670nm(半導体レーザー) 、720nm(半
導体レーザー) 、780nm(半導体レーザー) 、810nm （半
導体レーザー) などが用いられている。
めに、縮小投影露光装置が使用されている。ＩＣの集積
化に伴い縮小投影露光装置に用いられる露光用の光の波
長の短波長化が進んでいる。現在、露光用の光におい
て、主流となっている波長は、エキシマレーザーから発
光される紫外線である。他方、縮小投影露光装置の光学
系では露光光以外に半導体基板のアライメント用とし
て、レジストの感光しない長波長の光、例えば632.8nm
(He-Neレーザー) 、670nm(半導体レーザー) 、720nm(半
導体レーザー) 、780nm(半導体レーザー) 、810nm （半
導体レーザー) などが用いられている。
【０００３】そのため、縮小投影露光装置内に使用され
る光学要素としてレンズ上に形成される反射防止膜に
は、第１波長λ1 ＝248.4nm 近辺と第１波長より長波長
側の第２波長λ2 近辺（例えば、632.8nm 、670nm 、72
0nm 、780nm 、810nm)にそれぞれ反射率の極小を持つ２
波長反射防止膜が要求されている。このような２波長反
射防止膜は、特開昭63-113501 号公報に開示されてい
る。しかし、この、２波長反射防止膜は、膜材料固有の
光吸収やレーザー光による膜の劣化を考慮すると設計の
自由度が少なく、２波長双方とも十分な反射防止をする
ことが困難であった。また、露光光の反射防止帯域が狭
いため、製造する上で成膜条件を制御することが困難で
あり、歩留まりも良くなかった。
る光学要素としてレンズ上に形成される反射防止膜に
は、第１波長λ1 ＝248.4nm 近辺と第１波長より長波長
側の第２波長λ2 近辺（例えば、632.8nm 、670nm 、72
0nm 、780nm 、810nm)にそれぞれ反射率の極小を持つ２
波長反射防止膜が要求されている。このような２波長反
射防止膜は、特開昭63-113501 号公報に開示されてい
る。しかし、この、２波長反射防止膜は、膜材料固有の
光吸収やレーザー光による膜の劣化を考慮すると設計の
自由度が少なく、２波長双方とも十分な反射防止をする
ことが困難であった。また、露光光の反射防止帯域が狭
いため、製造する上で成膜条件を制御することが困難で
あり、歩留まりも良くなかった。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】従来の２波長反射防止
膜は、第１波長λ1 ＝248.4nm 近辺の反射率の極小ピー
ク幅が狭いと言う問題点を有していた。一般に、反射率
の極小ピークは、製造する上でバラツキがあり、極小位
置がずれることが多い。従って、従来の２波長反射防止
膜のように、反射率の極小ピーク幅が狭い場合では、目
的とする248.4nmでの反射率が高くなり（つまり、反射
防止にならない）、不良品が多く製造されると言う問題
点がある。
膜は、第１波長λ1 ＝248.4nm 近辺の反射率の極小ピー
ク幅が狭いと言う問題点を有していた。一般に、反射率
の極小ピークは、製造する上でバラツキがあり、極小位
置がずれることが多い。従って、従来の２波長反射防止
膜のように、反射率の極小ピーク幅が狭い場合では、目
的とする248.4nmでの反射率が高くなり（つまり、反射
防止にならない）、不良品が多く製造されると言う問題
点がある。
【０００５】そこで本発明は露光光及びアライメント光
において十分な反射防止効果をもたせ、かつ、露光光の
波長（中心波長）に対して広帯域な反射防止特性をもっ
た２波長反射防止膜をを提供することを目的とする。
において十分な反射防止効果をもたせ、かつ、露光光の
波長（中心波長）に対して広帯域な反射防止特性をもっ
た２波長反射防止膜をを提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】そのため、本発明は「第
１波長λ1 ＝248.4nm 近辺と第１波長より長波長側の第
２波長λ2 近辺に反射率の極小を持つ２波長反射防止膜
において、反射防止膜を「高屈折率層と中屈折率層との
交互多層膜と媒質側の最終層である低屈折率層」で構成
し、かつ前記高屈折率層としてZrO2、HfO2、Sc2O3 、Y2
O3のいずれかを使用したことを特徴とする２波長反射防
止膜（請求項１）」を提供する。
１波長λ1 ＝248.4nm 近辺と第１波長より長波長側の第
２波長λ2 近辺に反射率の極小を持つ２波長反射防止膜
において、反射防止膜を「高屈折率層と中屈折率層との
交互多層膜と媒質側の最終層である低屈折率層」で構成
し、かつ前記高屈折率層としてZrO2、HfO2、Sc2O3 、Y2
O3のいずれかを使用したことを特徴とする２波長反射防
止膜（請求項１）」を提供する。
【０００７】
【作用】本発明では２波長反射防止膜を「高屈折率層と
中屈折率層との交互多層膜と媒質側の最終層である低屈
折率層」で構成し、かつ、好ましくは高屈折率層のうち
の少なくとも１層を非常に薄い膜で構成したため、露光
光近辺では十分で広帯域な反射防止効果をもち、またア
ライメント光においても十分な反射防止効果をもたすこ
とができる。以下、実施例により本発明をより具体的に
説明するが、本発明はこれに限るものではない。
中屈折率層との交互多層膜と媒質側の最終層である低屈
折率層」で構成し、かつ、好ましくは高屈折率層のうち
の少なくとも１層を非常に薄い膜で構成したため、露光
光近辺では十分で広帯域な反射防止効果をもち、またア
ライメント光においても十分な反射防止効果をもたすこ
とができる。以下、実施例により本発明をより具体的に
説明するが、本発明はこれに限るものではない。
【０００８】
【実施例】図１に本発明の実施例による２波長反射防止
膜を形成したレンズの構成図を示す。基板（２０）は合
成石英からなるレンズとし、基板上に高屈折率膜（２
１）であるＨｆＯ2 と中間屈折率膜（２２）であるＡｌ
2 Ｏ3 の交互層を３周期、更に低屈折率膜（２３）であ
るＭｇＦ2 を真空蒸着法により成膜した。本実施例の膜
構成は表１に示す通りである。
膜を形成したレンズの構成図を示す。基板（２０）は合
成石英からなるレンズとし、基板上に高屈折率膜（２
１）であるＨｆＯ2 と中間屈折率膜（２２）であるＡｌ
2 Ｏ3 の交互層を３周期、更に低屈折率膜（２３）であ
るＭｇＦ2 を真空蒸着法により成膜した。本実施例の膜
構成は表１に示す通りである。
【０００９】
【表１】
【００１０】このようにして得られた２波長反射防止膜
の分光特性を図２に示す。この特性によれば、波長248.
4 ｎｍのエキシマレーザー波長において反射率が0.2 ％
以下、225 ｎｍ〜330 ｎｍの範囲で反射率が0.5 ％以
下、更に、632.8 ｎｍの波長において1.0 ％以下にする
ことが出来、本発明の目的である露光波長近辺において
広帯域化の２波長反射防止膜を開発することが出来た。
の分光特性を図２に示す。この特性によれば、波長248.
4 ｎｍのエキシマレーザー波長において反射率が0.2 ％
以下、225 ｎｍ〜330 ｎｍの範囲で反射率が0.5 ％以
下、更に、632.8 ｎｍの波長において1.0 ％以下にする
ことが出来、本発明の目的である露光波長近辺において
広帯域化の２波長反射防止膜を開発することが出来た。
【００１１】次に耐久性については、耐湿性、耐溶剤
性、密着性等の耐久性も従来に比べ遜色はなかった。耐
レーザー性についてはエキシマレーザーの連続照射テス
ト（200 ｍＪ／ｃｍ2 、100 Ｈｚ、100 万発）を行い、
損傷や特性の変動は見られなかった。本実施例では、高
屈折率膜の材料として、ＨｆＯ2 を用いたが、これは、
ＺｒＯ2、Ｓｃ2Ｏ 3及びＹ2Ｏ3等を用いてもよい。ま
た、中間屈折率としてはＭｇＯ等を用いてもよい。ま
た、低屈折率層としては、ＣａＦ2、Ｎａ3ＡｌＦ6、Ｌ
ｉＦ、ＡｌＦ3及びＳｉＯ2 等を用いてもよい。
性、密着性等の耐久性も従来に比べ遜色はなかった。耐
レーザー性についてはエキシマレーザーの連続照射テス
ト（200 ｍＪ／ｃｍ2 、100 Ｈｚ、100 万発）を行い、
損傷や特性の変動は見られなかった。本実施例では、高
屈折率膜の材料として、ＨｆＯ2 を用いたが、これは、
ＺｒＯ2、Ｓｃ2Ｏ 3及びＹ2Ｏ3等を用いてもよい。ま
た、中間屈折率としてはＭｇＯ等を用いてもよい。ま
た、低屈折率層としては、ＣａＦ2、Ｎａ3ＡｌＦ6、Ｌ
ｉＦ、ＡｌＦ3及びＳｉＯ2 等を用いてもよい。
【００１２】また、本実施例では、第２層及び第６層に
おける高屈折率層の光学膜厚を使用する光の設計波長を
λとして０．０７λとしたが、この膜厚は０．０１λ〜
０．１２λの範囲であればよい。また、２つの高屈折率
層の膜厚を薄くする必要はなく、１つの層だけ薄くする
ことでもよい。
おける高屈折率層の光学膜厚を使用する光の設計波長を
λとして０．０７λとしたが、この膜厚は０．０１λ〜
０．１２λの範囲であればよい。また、２つの高屈折率
層の膜厚を薄くする必要はなく、１つの層だけ薄くする
ことでもよい。
【００１３】
【発明の効果】以上のように本発明によれば露光波長で
ある248.4 ｎｍ近辺で広帯域な２波長反射防止膜となる
為、製造のばらつきによる不良品が格段に減り、曲率の
あるレンズにも対応することができる。更に、２波長反
射防止膜となっているため、アライメント光も露光装置
の光学系に使用できる。
ある248.4 ｎｍ近辺で広帯域な２波長反射防止膜となる
為、製造のばらつきによる不良品が格段に減り、曲率の
あるレンズにも対応することができる。更に、２波長反
射防止膜となっているため、アライメント光も露光装置
の光学系に使用できる。
【図１】本発明の実施例による２波長反射防止膜を形成
したレンズを示す概略断面図である。
したレンズを示す概略断面図である。
【図２】本発明の実施例による２波長反射防止膜の分光
反射率特性を示す図である。
反射率特性を示す図である。
２０・・・・・合成石英基板 ２１・・・・・高屈折率物質 ２２・・・・・中間屈折率物質 ２３・・・・・低屈折率物質
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 平山 義一 東京都千代田区丸の内３丁目２番３号 株 式会社ニコン内
Claims (3)
- 【請求項１】 第１波長λ1 ＝248.4nm 近辺と第１波長
より長波長側の第２波長λ2 近辺に反射率の極小を持つ
２波長反射防止膜において、反射防止膜を「高屈折率層
と中間屈折率層との交互多層膜と媒質側の最終層である
低屈折率層」で構成し、かつ前記高屈折率層としてZr
O2、HfO2、Sc2O3 、Y2O3のいずれかを使用することを特
徴とする２波長反射防止膜。 - 【請求項２】 前記第２波長λ2 が632.8nm であること
を特徴とする請求項１記載の２波長反射防止膜。 - 【請求項３】 前記高屈折率層のうちの少なくとも１層
が非常に薄い膜であることを特徴とする請求項１または
２記載の２波長反射防止膜。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6034773A JPH07244204A (ja) | 1994-03-04 | 1994-03-04 | ２波長反射防止膜 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6034773A JPH07244204A (ja) | 1994-03-04 | 1994-03-04 | ２波長反射防止膜 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07244204A true JPH07244204A (ja) | 1995-09-19 |
Family
ID=12423627
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6034773A Pending JPH07244204A (ja) | 1994-03-04 | 1994-03-04 | ２波長反射防止膜 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07244204A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2005066668A1 (en) * | 2003-12-30 | 2005-07-21 | 3M Innovative Properties Company | Multilayer reflector with suppression of high order reflections |
| US7169441B2 (en) * | 1999-12-22 | 2007-01-30 | Schott Spezialglas Gmbh | Method for making a UV-reflecting interference layer system |
| JPWO2010016242A1 (ja) * | 2008-08-04 | 2012-01-19 | 株式会社ニコン・エシロール | 光学部品及び光学部品の製造方法 |
| JP2021523412A (ja) * | 2018-05-11 | 2021-09-02 | コーニング インコーポレイテッド | 曲面フイルムおよびその製造方法 |
-
1994
- 1994-03-04 JP JP6034773A patent/JPH07244204A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7169441B2 (en) * | 1999-12-22 | 2007-01-30 | Schott Spezialglas Gmbh | Method for making a UV-reflecting interference layer system |
| WO2005066668A1 (en) * | 2003-12-30 | 2005-07-21 | 3M Innovative Properties Company | Multilayer reflector with suppression of high order reflections |
| US7019905B2 (en) | 2003-12-30 | 2006-03-28 | 3M Innovative Properties Company | Multilayer reflector with suppression of high order reflections |
| CN100454051C (zh) * | 2003-12-30 | 2009-01-21 | 3M创新有限公司 | 抑制高阶反射的多层反射器 |
| JPWO2010016242A1 (ja) * | 2008-08-04 | 2012-01-19 | 株式会社ニコン・エシロール | 光学部品及び光学部品の製造方法 |
| JP2021523412A (ja) * | 2018-05-11 | 2021-09-02 | コーニング インコーポレイテッド | 曲面フイルムおよびその製造方法 |
| US11977205B2 (en) | 2018-05-11 | 2024-05-07 | Corning Incorporated | Curved surface films and methods of manufacturing the same |
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