JPH07245260A - ステージ装置 - Google Patents
ステージ装置Info
- Publication number
- JPH07245260A JPH07245260A JP5808594A JP5808594A JPH07245260A JP H07245260 A JPH07245260 A JP H07245260A JP 5808594 A JP5808594 A JP 5808594A JP 5808594 A JP5808594 A JP 5808594A JP H07245260 A JPH07245260 A JP H07245260A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- retainer
- upper plate
- detector
- plate
- detected
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Machine Tool Units (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Machine Tool Sensing Apparatuses (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 リテーナの累積位置ずれを検出し、リテーナ
を損傷させずに位置の修正を可能にするステージ装置を
提供する。 【構成】 リテーナ９を介して下板３の上面に載せら
れ、下板３に対して相対移動する上板５を有し、上板５
が移動するときに、この移動距離のほぼ半分だけ同じ方
向にリテーナ９が移動するステージ装置に、検出装置２
を設けた。この検出装置２は、リテーナ９側の検出器１
４，１５と、上板５側の被検知部材１２と、検出器１
４，１５からの検出信号に基づいてリテーナ９の位置ず
れの量及び位置ずれの方向を判断する判断装置６とで構
成されている。
を損傷させずに位置の修正を可能にするステージ装置を
提供する。 【構成】 リテーナ９を介して下板３の上面に載せら
れ、下板３に対して相対移動する上板５を有し、上板５
が移動するときに、この移動距離のほぼ半分だけ同じ方
向にリテーナ９が移動するステージ装置に、検出装置２
を設けた。この検出装置２は、リテーナ９側の検出器１
４，１５と、上板５側の被検知部材１２と、検出器１
４，１５からの検出信号に基づいてリテーナ９の位置ず
れの量及び位置ずれの方向を判断する判断装置６とで構
成されている。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明はステージ装置に関し、
例えば半導体露光装置や液晶用露光装置等に用いるステ
ージ装置に関する。
例えば半導体露光装置や液晶用露光装置等に用いるステ
ージ装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、精密測定機器、精密工作機械、中
でも半導体製造に用いる投影露光装置にはステージ装置
が多用されている。
でも半導体製造に用いる投影露光装置にはステージ装置
が多用されている。
【０００３】図７は従来のステージ装置を示す斜視図、
図６はステージ装置のリテーナの位置ずれが生じること
を説明するための図である。
図６はステージ装置のリテーナの位置ずれが生じること
を説明するための図である。
【０００４】従来のステージ装置１０１は、下板１０３
と、下板１０３の上面に配置され複数のニードルローラ
１０８を回転可能に保持するリテーナ１０９と、ローラ
１０８及びリテーナ１０９を介して下板１０３に載せら
れた上板１０５とを備えている。
と、下板１０３の上面に配置され複数のニードルローラ
１０８を回転可能に保持するリテーナ１０９と、ローラ
１０８及びリテーナ１０９を介して下板１０３に載せら
れた上板１０５とを備えている。
【０００５】上板１０５には図示しない送りねじが螺合
され、送りねじをモータで回転させると上板１０５はロ
ーラ１０８を介して下板１０３上をＡ方向とＢ方向とに
往復移動する。このとき、ニードルローラ１０８が転動
することにより上板１０５がニードルローラ１０８上を
滑らずに移動すれば、上板１０５の移動距離Ｌに対して
リテーナ１０９の移動距離は理論上Ｌ／２になる。
され、送りねじをモータで回転させると上板１０５はロ
ーラ１０８を介して下板１０３上をＡ方向とＢ方向とに
往復移動する。このとき、ニードルローラ１０８が転動
することにより上板１０５がニードルローラ１０８上を
滑らずに移動すれば、上板１０５の移動距離Ｌに対して
リテーナ１０９の移動距離は理論上Ｌ／２になる。
【０００６】しかし、実際にはステージ装置１０１の加
工誤差やニードルローラ１０８の転動摩擦などにより、
上板１０５及び下板１０３とリテーナ１０９との間には
わずかな滑りが発生し、図６のようにＡ方向とＢ方向と
で微妙なずれ△Ｌ1 ，△Ｌ2が生じる。これらのずれ△
Ｌ1 ，△Ｌ2 が等量ならば上板１０５の往復運動に伴っ
てこれらが互いに相殺し合い、上板１０５及び下板１０
３に対するリテーナ１０９の相対位置関係は保たれる
が、実際には加工誤差や転動摩擦は移動方向で異なるか
ら往復時のずれ△Ｌ1 ，△Ｌ2 は不等量である。その
上、上記のようにリテーナ１０９は上板１０５の移動に
伴って従動的に移動するように構成され、位置を直接コ
ントロールすることができないから、ステージ装置１０
１を長期間使用するとリテーナ１０９が設定範囲の外に
移動し、ついには下板１０３から脱落する恐れがある。
工誤差やニードルローラ１０８の転動摩擦などにより、
上板１０５及び下板１０３とリテーナ１０９との間には
わずかな滑りが発生し、図６のようにＡ方向とＢ方向と
で微妙なずれ△Ｌ1 ，△Ｌ2が生じる。これらのずれ△
Ｌ1 ，△Ｌ2 が等量ならば上板１０５の往復運動に伴っ
てこれらが互いに相殺し合い、上板１０５及び下板１０
３に対するリテーナ１０９の相対位置関係は保たれる
が、実際には加工誤差や転動摩擦は移動方向で異なるか
ら往復時のずれ△Ｌ1 ，△Ｌ2 は不等量である。その
上、上記のようにリテーナ１０９は上板１０５の移動に
伴って従動的に移動するように構成され、位置を直接コ
ントロールすることができないから、ステージ装置１０
１を長期間使用するとリテーナ１０９が設定範囲の外に
移動し、ついには下板１０３から脱落する恐れがある。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】このような現象を防止
するために、図７のステージ装置１０１では、リテーナ
１０９のストッパ１２１を案内面１０７の両端に固定
し、位置ずれが大きくなるとリテーナ１０９がストッパ
１２１に突き当たるようにした。この構造によれば、リ
テーナ１０９の脱落が防止されるとともに、リテーナ１
０９がストッパ１２１に突き当った状態で上板１０５を
更に移動させることにより上板１０５及び下板１０３と
リテーナ１０９との相対位置を修正することができる。
するために、図７のステージ装置１０１では、リテーナ
１０９のストッパ１２１を案内面１０７の両端に固定
し、位置ずれが大きくなるとリテーナ１０９がストッパ
１２１に突き当たるようにした。この構造によれば、リ
テーナ１０９の脱落が防止されるとともに、リテーナ１
０９がストッパ１２１に突き当った状態で上板１０５を
更に移動させることにより上板１０５及び下板１０３と
リテーナ１０９との相対位置を修正することができる。
【０００８】しかし、このようにリテーナ１０９をスト
ッパ１２１に頻繁に突き当てる構成では、ステージ装置
１０１の反復動作を繰り返すうちにに重い上板１０５の
慣性を受けて、リテーナ１０９が波状に変形し、ニード
ルローラ１０８に傷がつき、更にはリテーナ１０９が破
損することがある。このように、リテーナ１０９が変形
しニードルローラ１０８が損傷すると、露光工程の間テ
ーブル（図示せず）を介して上板１０５に載せられた被
露光部材が振動や衝撃を受けながら、その位置再現精度
が著しく低下する。
ッパ１２１に頻繁に突き当てる構成では、ステージ装置
１０１の反復動作を繰り返すうちにに重い上板１０５の
慣性を受けて、リテーナ１０９が波状に変形し、ニード
ルローラ１０８に傷がつき、更にはリテーナ１０９が破
損することがある。このように、リテーナ１０９が変形
しニードルローラ１０８が損傷すると、露光工程の間テ
ーブル（図示せず）を介して上板１０５に載せられた被
露光部材が振動や衝撃を受けながら、その位置再現精度
が著しく低下する。
【０００９】この発明はこのような事情に鑑みてなされ
たもので、その課題はリテーナの累積位置ずれを検出
し、リテーナを損傷させずに位置の修正を可能にするス
テージ装置を提供することである。
たもので、その課題はリテーナの累積位置ずれを検出
し、リテーナを損傷させずに位置の修正を可能にするス
テージ装置を提供することである。
【００１０】
【課題を解決するための手段】前述の課題を解決するた
め請求項１記載の発明のステージ装置は、下板と、前記
下板の上面に配置され、複数のローラを回転可能に保持
するリテーナと、前記リテーナを介して前記下板の上面
に載せられ、前記下板に対して相対移動する上板とを有
し、前記上板が移動するときに、この移動距離のほぼ半
分だけ同じ方向に前記リテーナが移動するステージ装置
において、前記上板と前記リテーナとの相対位置のずれ
を検出する検出手段を備えている。
め請求項１記載の発明のステージ装置は、下板と、前記
下板の上面に配置され、複数のローラを回転可能に保持
するリテーナと、前記リテーナを介して前記下板の上面
に載せられ、前記下板に対して相対移動する上板とを有
し、前記上板が移動するときに、この移動距離のほぼ半
分だけ同じ方向に前記リテーナが移動するステージ装置
において、前記上板と前記リテーナとの相対位置のずれ
を検出する検出手段を備えている。
【００１１】また、請求項２記載の発明のステージ装置
は、前記検出手段は、前記上板が前記下板に対してほぼ
中央の原点位置にあるときに前記検出を行う。
は、前記検出手段は、前記上板が前記下板に対してほぼ
中央の原点位置にあるときに前記検出を行う。
【００１２】更に、請求項３記載の発明のステージ装置
は、前記検出手段は、前記上板と前記リテーとの相対位
置のずれが所定量を越えたことを検出する。
は、前記検出手段は、前記上板と前記リテーとの相対位
置のずれが所定量を越えたことを検出する。
【００１３】また、請求項４記載の発明のステージ装置
は、前記検出手段は、前記リテーナと前記上板との一方
に設けられた被検知部材と、前記リテーナと前記上板と
の他方に設けられ、前記リテーナの移動方向に沿って所
定間隔隔てられた第１検出器と第２検出器と、前記第１
検出器の第１信号と前記第２検出器の第２信号とが異種
の信号のときは、前記上板と前記リテーナとの相対位置
のずれが所定量を越えたと判断する判断手段と、から構
成されている。
は、前記検出手段は、前記リテーナと前記上板との一方
に設けられた被検知部材と、前記リテーナと前記上板と
の他方に設けられ、前記リテーナの移動方向に沿って所
定間隔隔てられた第１検出器と第２検出器と、前記第１
検出器の第１信号と前記第２検出器の第２信号とが異種
の信号のときは、前記上板と前記リテーナとの相対位置
のずれが所定量を越えたと判断する判断手段と、から構
成されている。
【００１４】更に、請求項５記載の発明のステージ装置
は、前記被検知部材は、前記移動方向と平行な方向に被
検知片を有しており、前記被検知片の長さは、前記所定
間隔より長い。
は、前記被検知部材は、前記移動方向と平行な方向に被
検知片を有しており、前記被検知片の長さは、前記所定
間隔より長い。
【００１５】また、請求項６記載の発明のステージ装置
は、前記被検知部材は、一対の被検知片を有している。
は、前記被検知部材は、一対の被検知片を有している。
【００１６】更に、請求項７記載の発明のステージ装置
は、前記被検知部材が前記上板に設けられ、前記第１検
出器と前記第２検出器とが前記リテーナに設けられてい
るときに、前記第１検出器のみが前記被検知部材を検出
したときは、前記リテーナが前記第２検出器側に所定量
を越えてずれており、前記第２検出器のみが前記被検知
部材を検出したときは、前記リテーナが前記第１検出器
側に所定量を越えてずれていると検出する。
は、前記被検知部材が前記上板に設けられ、前記第１検
出器と前記第２検出器とが前記リテーナに設けられてい
るときに、前記第１検出器のみが前記被検知部材を検出
したときは、前記リテーナが前記第２検出器側に所定量
を越えてずれており、前記第２検出器のみが前記被検知
部材を検出したときは、前記リテーナが前記第１検出器
側に所定量を越えてずれていると検出する。
【００１７】また、請求項８記載の発明のステージ装置
は、前記一対の検出器は、光を射出する光学式センサで
あり、前記被検知部材は、前記射出した光を遮断する板
部材である。
は、前記一対の検出器は、光を射出する光学式センサで
あり、前記被検知部材は、前記射出した光を遮断する板
部材である。
【００１８】
【作用】前述のように上板とリテーナとの相対位置のず
れを検出する検出手段を備えているので、例えば露光工
程などでリテーナの位置ずれを監視することができる。
れを検出する検出手段を備えているので、例えば露光工
程などでリテーナの位置ずれを監視することができる。
【００１９】また、検出手段を、リテーナと上板との一
方に設けられた被検知部材と、リテーナと上板との他方
に設けられ、リテーナの移動方向に沿って所定間隔隔て
られた第１検出器と第２検出器と、第１検出器の第１信
号と第２検出器の第２信号とが異種の信号のときは、上
板とリテーナとの相対位置のずれが所定量を越えたと判
断する判断手段とで構成したので、リテーナの位置ずれ
の方向を検出することができる。
方に設けられた被検知部材と、リテーナと上板との他方
に設けられ、リテーナの移動方向に沿って所定間隔隔て
られた第１検出器と第２検出器と、第１検出器の第１信
号と第２検出器の第２信号とが異種の信号のときは、上
板とリテーナとの相対位置のずれが所定量を越えたと判
断する判断手段とで構成したので、リテーナの位置ずれ
の方向を検出することができる。
【００２０】更に、リテーナが原点位置にあるときの被
検知部材と検出器との距離を所定値とし、常時リテーナ
の位置ずれが所定値を越えたときにリテーナの位置修正
をすれば位置ずれの方向に加えて位置ずれ量を知ること
ができるので、例えば駆動手段と組み合わせてリテーナ
の位置修正を自動化することができる。
検知部材と検出器との距離を所定値とし、常時リテーナ
の位置ずれが所定値を越えたときにリテーナの位置修正
をすれば位置ずれの方向に加えて位置ずれ量を知ること
ができるので、例えば駆動手段と組み合わせてリテーナ
の位置修正を自動化することができる。
【００２１】
【実施例】以下、この発明の実施例を図面に基づいて説
明する。
明する。
【００２２】図１はこの発明の一実施例に係るステージ
装置の斜視図、図２は図１のＩ方向矢視図、図３は図１
のＩＩ方向矢視図である。また、図４は光学式センサと
オン・オフ板との関係を説明するための図である。
装置の斜視図、図２は図１のＩ方向矢視図、図３は図１
のＩＩ方向矢視図である。また、図４は光学式センサと
オン・オフ板との関係を説明するための図である。
【００２３】ステージ装置１は、検出装置（検出手段）
２、下板３、セパレータ４、上板５及び上板５の駆動装
置（図示せず）などを備えている。
２、下板３、セパレータ４、上板５及び上板５の駆動装
置（図示せず）などを備えている。
【００２４】図１〜３に示すように、下板３の上面に堤
状に形成された案内面７上にはセパレータ４が載ってい
る。セパレータ４は、多数のニードルローラ（ローラ）
８をリテーナ９で回転自在に保持したニードルベアリン
グである。上板５はセパレータ４を介して下板３の上に
載せられ、図１のＡ，Ｂ方向に往復移動可能である。ス
テージ装置１は半導体露光装置等に用いられ、上板５に
は図示しないテーブルが載せられ、その上に被露光部材
が載せられる。
状に形成された案内面７上にはセパレータ４が載ってい
る。セパレータ４は、多数のニードルローラ（ローラ）
８をリテーナ９で回転自在に保持したニードルベアリン
グである。上板５はセパレータ４を介して下板３の上に
載せられ、図１のＡ，Ｂ方向に往復移動可能である。ス
テージ装置１は半導体露光装置等に用いられ、上板５に
は図示しないテーブルが載せられ、その上に被露光部材
が載せられる。
【００２５】図３に示す上板５と下板３との基準線１
０，１１は上板５の移動方向での上板５と下板３との中
点である。基準線１０，１１が図３のように一致する位
置を原点位置といい、正常な状態では上板５が原点位置
にあるときセパレータ４の移動方向中点も基準線１０，
１１と一致する原点位置にある。
０，１１は上板５の移動方向での上板５と下板３との中
点である。基準線１０，１１が図３のように一致する位
置を原点位置といい、正常な状態では上板５が原点位置
にあるときセパレータ４の移動方向中点も基準線１０，
１１と一致する原点位置にある。
【００２６】駆動装置は図示しない反転可能なモータと
送りねじ機構を備え、上板５を原点位置から等距離Ｌだ
けＡ、Ｂ方向に移動させることができる。上板５の下板
３に対する位置は図示しないレーザ干渉計により常時計
測されている。このときセパレータ４の移動距離は上板
５及び下板３との間に生じる多少の滑りによりＡ方向で
Ｌ／２＋△Ｌ1 ，Ｂ方向でＬ／２＋△Ｌ2 になるが、Ａ
方向とＢ方向とのずれ△Ｌ1 ，△Ｌ2 が異なるから、上
板５が往復移動を繰り返すうちにセパレータ４がＡ，Ｂ
いずれか一方にずれる現象が発生する。
送りねじ機構を備え、上板５を原点位置から等距離Ｌだ
けＡ、Ｂ方向に移動させることができる。上板５の下板
３に対する位置は図示しないレーザ干渉計により常時計
測されている。このときセパレータ４の移動距離は上板
５及び下板３との間に生じる多少の滑りによりＡ方向で
Ｌ／２＋△Ｌ1 ，Ｂ方向でＬ／２＋△Ｌ2 になるが、Ａ
方向とＢ方向とのずれ△Ｌ1 ，△Ｌ2 が異なるから、上
板５が往復移動を繰り返すうちにセパレータ４がＡ，Ｂ
いずれか一方にずれる現象が発生する。
【００２７】検出装置２は、図１〜３に示すように、中
点を基準線１０に合わせて上板５に取付けられたオン・
オフ板（被検知部材，板部材）１２と、リテーナ９に取
付けられその移動方向に垂直に突出した保持金具１３
と、この保持金具１３に取付けられた光学式センサ（第
１と第２の検出器）１４，１５と、光学式センサ１４の
第１信号と光学式センサ１５の第２信号とを受ける判断
装置（判断手段）６とを備えている。
点を基準線１０に合わせて上板５に取付けられたオン・
オフ板（被検知部材，板部材）１２と、リテーナ９に取
付けられその移動方向に垂直に突出した保持金具１３
と、この保持金具１３に取付けられた光学式センサ（第
１と第２の検出器）１４，１５と、光学式センサ１４の
第１信号と光学式センサ１５の第２信号とを受ける判断
装置（判断手段）６とを備えている。
【００２８】図４（ａ）に示すように、各光学式センサ
１４，１５の間にはセパレータ４の移動方向に所定の間
隔Ｐが設けられており、オン・オフ板１２の移動方向長
さＱは間隔Ｐより長い。図４（ａ）はセパレータ４が原
点位置にある状態を示し、この状態でオン・オフ板１２
の端部と、各光学式センサ１４，１５の内側端部との間
にはそれぞれセパレータ４の位置ずれの限界値Ｒ（所定
量）が設けられている。
１４，１５の間にはセパレータ４の移動方向に所定の間
隔Ｐが設けられており、オン・オフ板１２の移動方向長
さＱは間隔Ｐより長い。図４（ａ）はセパレータ４が原
点位置にある状態を示し、この状態でオン・オフ板１２
の端部と、各光学式センサ１４，１５の内側端部との間
にはそれぞれセパレータ４の位置ずれの限界値Ｒ（所定
量）が設けられている。
【００２９】各光学式センサ１４，１５はそれぞれ図示
しない発光部と受光部とを備え、発光部からの射出光が
受光部に入射している間はリード線１６，１７を介して
判断装置６にオン信号を送り、図３、図４（ａ）及び
（ｂ）に示すように、オン・オフ板１２が発光部からの
射出光を遮ると判断装置６にオフ信号を送る。判断装置
６は光学式センサ１４，１５からの信号が互いに異種信
号（一方がオン信号で他方がオフ信号）になると、オフ
信号を発信したセンサ側にセパレータ４がずれ、その位
置ずれ量が限界値Ｒを越したと判断する。この判断は露
光工程で上板５が原点位置に戻る度に行われ、セパレー
タ４の位置ずれを常時監視する。
しない発光部と受光部とを備え、発光部からの射出光が
受光部に入射している間はリード線１６，１７を介して
判断装置６にオン信号を送り、図３、図４（ａ）及び
（ｂ）に示すように、オン・オフ板１２が発光部からの
射出光を遮ると判断装置６にオフ信号を送る。判断装置
６は光学式センサ１４，１５からの信号が互いに異種信
号（一方がオン信号で他方がオフ信号）になると、オフ
信号を発信したセンサ側にセパレータ４がずれ、その位
置ずれ量が限界値Ｒを越したと判断する。この判断は露
光工程で上板５が原点位置に戻る度に行われ、セパレー
タ４の位置ずれを常時監視する。
【００３０】図４（ｂ）は上板５が原点位置に戻ったと
きのセパレータ４（光学式センサ１４，１５）の位置を
示し、この図ではセパレータ４はＡ方向に位置ずれを起
こしている。このとき、光学式センサ１４はオフ信号を
発信し、光学式センサ１５はオン信号を発信するから、
上記のように判断装置６はオン信号を出したセンサ１５
側にセパレータ４が位置ずれを起こしたと判断し、例え
ば警告ランプや警報ブザーによりセパレータ４の位置修
正を促す。
きのセパレータ４（光学式センサ１４，１５）の位置を
示し、この図ではセパレータ４はＡ方向に位置ずれを起
こしている。このとき、光学式センサ１４はオフ信号を
発信し、光学式センサ１５はオン信号を発信するから、
上記のように判断装置６はオン信号を出したセンサ１５
側にセパレータ４が位置ずれを起こしたと判断し、例え
ば警告ランプや警報ブザーによりセパレータ４の位置修
正を促す。
【００３１】また、セパレータ４の位置ずれを常時監視
していれば、光学式センサ１４，１５からの同種信号が
異種信号に変った時点での位置ずれ量は上記の限界値Ｒ
であるから、位置ずれ方向とともに位置ずれ量を知るこ
とができる。
していれば、光学式センサ１４，１５からの同種信号が
異種信号に変った時点での位置ずれ量は上記の限界値Ｒ
であるから、位置ずれ方向とともに位置ずれ量を知るこ
とができる。
【００３２】この実施例のステージ装置１によれば、従
来例と異なってセパレータ４をストッパに付き当てる構
成ではないので、リテーナ９の破損と変形あるいはニー
ドルローラ８の損傷などが発生せず、被露光部材の位置
再現精度が高く保たれる。
来例と異なってセパレータ４をストッパに付き当てる構
成ではないので、リテーナ９の破損と変形あるいはニー
ドルローラ８の損傷などが発生せず、被露光部材の位置
再現精度が高く保たれる。
【００３３】また、位置ずれ方向とともに位置ずれ量を
知ることができるので、セパレータ４の位置修正を自動
化することが可能になり、作業者はセパレータ４の位置
監視作業と位置修正作業とから解放される。
知ることができるので、セパレータ４の位置修正を自動
化することが可能になり、作業者はセパレータ４の位置
監視作業と位置修正作業とから解放される。
【００３４】図５はこの発明の他の実施例の要部を示
し、図５は光学式センサとオン・オフ板との関係を説明
するための図である。
し、図５は光学式センサとオン・オフ板との関係を説明
するための図である。
【００３５】上板５の下板３に対する位置はレーザ干渉
計により常時監視され制御されているから、セパレータ
４の位置ずれをリテーナ９と下板３との間で検出しても
よい。被検知部材は下板３に取付けられており、この被
検知部材には一対の被検知片１８，１９が形成されてい
る。光学式センサ１４，１５はリテーナ９側に設けられ
ている。被検知片１８の外側端部から被検知片１９の外
側端部までは間隔Ｑに設定され、光学式センサ１４，１
５の移動方向長さは被検知片１８，１９の内側端部間の
間隔Ｐより長い。図５（ａ）はセパレータ４が原点位置
にある状態を示し、この状態で被検知片１８，１９の各
外側端部と光学式センサ１４，１５の各内側端部との間
にはセパレータ４の位置ずれの限界値Ｒが設けられてい
る。
計により常時監視され制御されているから、セパレータ
４の位置ずれをリテーナ９と下板３との間で検出しても
よい。被検知部材は下板３に取付けられており、この被
検知部材には一対の被検知片１８，１９が形成されてい
る。光学式センサ１４，１５はリテーナ９側に設けられ
ている。被検知片１８の外側端部から被検知片１９の外
側端部までは間隔Ｑに設定され、光学式センサ１４，１
５の移動方向長さは被検知片１８，１９の内側端部間の
間隔Ｐより長い。図５（ａ）はセパレータ４が原点位置
にある状態を示し、この状態で被検知片１８，１９の各
外側端部と光学式センサ１４，１５の各内側端部との間
にはセパレータ４の位置ずれの限界値Ｒが設けられてい
る。
【００３６】図５（ｂ）は上板５が原点位置に戻ったと
きのセパレータ４（光学式センサ１４，１５）の位置を
示しており、このようにセパレータ４はＢの方向に位置
ずれを起こしている。このとき光学式センサ１４はオン
信号を出し、光学式センサ１５はオフ信号を出すから、
判断装置６によってセパレータ４の位置ずれがセンサ１
４側に生じていると判断され、前述の実施例と同様に、
警告ランプなどによりセパレータ４の位置修正が促され
るか、あるいは自動で位置修正が行われる。
きのセパレータ４（光学式センサ１４，１５）の位置を
示しており、このようにセパレータ４はＢの方向に位置
ずれを起こしている。このとき光学式センサ１４はオン
信号を出し、光学式センサ１５はオフ信号を出すから、
判断装置６によってセパレータ４の位置ずれがセンサ１
４側に生じていると判断され、前述の実施例と同様に、
警告ランプなどによりセパレータ４の位置修正が促され
るか、あるいは自動で位置修正が行われる。
【００３７】この実施例のステージ装置によれば、前述
の実施例と同様の効果を得ることができる。
の実施例と同様の効果を得ることができる。
【００３８】なお、前述の各実施例のようにセパレータ
の位置ずれを原点位置で行う構成は、Ａ，Ｂ両方向の位
置ずれを検出可能であり、広いユーザの仕様に対応する
標準的な構成であるが、必要に応じて原点位置からＡ、
Ｂ方向のフルストローク位置間の任意の位置で位置ずれ
の検出を行うように構成してもよい。
の位置ずれを原点位置で行う構成は、Ａ，Ｂ両方向の位
置ずれを検出可能であり、広いユーザの仕様に対応する
標準的な構成であるが、必要に応じて原点位置からＡ、
Ｂ方向のフルストローク位置間の任意の位置で位置ずれ
の検出を行うように構成してもよい。
【００３９】また、前述の各実施例のようにセパレータ
４の位置ずれは上板又は下板との間で検出できるが、各
実施例と異なって光学式センサ１４，１５のような検出
器を上板又は下板に取付けてもよい。このように構成す
ればセンサ１４，１５のリード線１６，１７を引く力が
セパレータ４に作用しないから位置ずれ防止の面で有効
である。
４の位置ずれは上板又は下板との間で検出できるが、各
実施例と異なって光学式センサ１４，１５のような検出
器を上板又は下板に取付けてもよい。このように構成す
ればセンサ１４，１５のリード線１６，１７を引く力が
セパレータ４に作用しないから位置ずれ防止の面で有効
である。
【００４０】なお、検出器に実施例のような光学式セン
サ１４，１５を用いた場合の板部材は光を遮断できるも
のなら金属やプラスチックの他どのような材質でもよ
い。又、検出器はこのような光学式センサの他に、例え
ばリテーナ側の部材と上板又は下板側の部材との間でコ
ンデンサや作動変圧器を構成し、それぞれ静電容量や起
電力の変化により位置ずれ量を検出するような電気式で
もよい。本願発明には非接触式又は接触式であっても接
触抵抗が小さいものならばすべての変位（長さ）検出手
段を用いることができる。
サ１４，１５を用いた場合の板部材は光を遮断できるも
のなら金属やプラスチックの他どのような材質でもよ
い。又、検出器はこのような光学式センサの他に、例え
ばリテーナ側の部材と上板又は下板側の部材との間でコ
ンデンサや作動変圧器を構成し、それぞれ静電容量や起
電力の変化により位置ずれ量を検出するような電気式で
もよい。本願発明には非接触式又は接触式であっても接
触抵抗が小さいものならばすべての変位（長さ）検出手
段を用いることができる。
【００４１】更に、前述の各実施例では、案内面７が平
面であるいわゆるフラットガイドに適用した場合につい
て述べたが、本願発明はニードルローラを保持するリテ
ーナをＶ字形に案内溝に組み突けたものにも適用できる
し、クロスローラガイドなどのガイド全般に適用するこ
とができる。
面であるいわゆるフラットガイドに適用した場合につい
て述べたが、本願発明はニードルローラを保持するリテ
ーナをＶ字形に案内溝に組み突けたものにも適用できる
し、クロスローラガイドなどのガイド全般に適用するこ
とができる。
【００４２】
【発明の効果】以上説明したようにこの発明のステージ
装置によれば、リテーナの位置ずれを常時監視し、リテ
ーナを損傷させずその位置修正を可能にすることができ
る。
装置によれば、リテーナの位置ずれを常時監視し、リテ
ーナを損傷させずその位置修正を可能にすることができ
る。
【００４３】また、一対の検出器を用いて位置ずれが所
定量を越えたことを検出する構成では、位置ずれの方向
と位置ずれ量とを検出することができるので、リテーナ
の位置修正の自動化も可能になり、リテーナの位置の監
視及び修正に伴う煩雑な作業を不要にし得る。
定量を越えたことを検出する構成では、位置ずれの方向
と位置ずれ量とを検出することができるので、リテーナ
の位置修正の自動化も可能になり、リテーナの位置の監
視及び修正に伴う煩雑な作業を不要にし得る。
【図１】図１はこの発明の一実施例に係るステージ装置
を示す斜視図である。
を示す斜視図である。
【図２】図２は図１のＩ方向矢視図である。
【図３】図３は図１のＩＩ方向矢視図である。
【図４】図４はステージ装置の検出装置の上面図であ
る。
る。
【図５】図５は図１のステージ装置によるリテーナの位
置ずれ検出を説明するための図である。
置ずれ検出を説明するための図である。
【図６】図６はリテーナの位置ずれが生じることを説明
するための図である。
するための図である。
【図７】図７は従来のステージ装置を示す斜視図であ
る。
る。
１ ステージ装置 ２ 検出装置 ３ 下板 ５ 上板 ６ 判断装置 ８ ニードルローラ ９ リテーナ １２ オン・オフ板 １４，１５ 光学式センサ １８，１９ 被検知片
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｂ２３Ｑ 17/00 Ａ Ｈ０１Ｌ 21/68 Ｋ Ｂ２３Ｑ 1/18 Ｚ 1/26 Ｄ
Claims (8)
- 【請求項１】 下板と、 前記下板の上面に配置され、複数のローラを回転可能に
保持するリテーナと、 前記リテーナを介して前記下板の上面に載せられ、前記
下板に対して相対移動する上板とを有し、 前記上板が移動するときに、この移動距離のほぼ半分だ
け同じ方向に前記リテーナが移動するステージ装置にお
いて、 前記上板と前記リテーナとの相対位置のずれを検出する
検出手段を備えていることを特徴とするステージ装置。 - 【請求項２】 前記検出手段は、前記上板が前記下板に
対してほぼ中央の原点位置にあるときに前記検出を行う
ことを特徴とする請求項１記載のステージ装置。 - 【請求項３】 前記検出手段は、前記上板と前記リテー
との相対位置のずれが所定量を越えたことを検出するこ
とを特徴とする請求項１または請求項２記載のステージ
装置。 - 【請求項４】 前記検出手段は、 前記リテーナと前記上板との一方に設けられた被検知部
材と、 前記リテーナと前記上板との他方に設けられ、前記リテ
ーナの移動方向に沿って所定間隔隔てられた第１検出器
と第２検出器と、 前記第１検出器の第１信号と前記第２検出器の第２信号
とが異種の信号のときは、前記上板と前記リテーナとの
相対位置のずれが所定量を越えたと判断する判断手段
と、から構成されていることを特徴とする請求項３記載
のステージ装置。 - 【請求項５】 前記被検知部材は、前記移動方向と平行
な方向に被検知片を有しており、 前記被検知片の長さは、前記所定間隔より長いことを特
徴とする請求項４記載のステージ装置。 - 【請求項６】 前記被検知部材は、一対の被検知片を有
していることを特徴とする請求項４記載のステージ装
置。 - 【請求項７】 前記被検知部材が前記上板に設けられ、 前記第１検出器と前記第２検出器とが前記リテーナに設
けられているときに、 前記第１検出器のみが前記被検知部材を検出したとき
は、前記リテーナが前記第２検出器側に所定量を越えて
ずれており、 前記第２検出器のみが前記被検知部材を検出したとき
は、前記リテーナが前記第１検出器側に所定量を越えて
ずれていると検出することを特徴とする請求項４記載の
ステージ装置。 - 【請求項８】 前記一対の検出器は、光を射出する光学
式センサであり、 前記被検知部材は、前記射出した光を遮断する板部材で
あることを特徴とする請求項４記載のステージ装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5808594A JPH07245260A (ja) | 1994-03-03 | 1994-03-03 | ステージ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5808594A JPH07245260A (ja) | 1994-03-03 | 1994-03-03 | ステージ装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07245260A true JPH07245260A (ja) | 1995-09-19 |
Family
ID=13074097
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5808594A Withdrawn JPH07245260A (ja) | 1994-03-03 | 1994-03-03 | ステージ装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07245260A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002227837A (ja) * | 2001-01-31 | 2002-08-14 | Toshiba Mach Co Ltd | 有限型ころがり案内のずれ補正方法および装置 |
| KR20080037569A (ko) * | 2006-10-26 | 2008-04-30 | 도시바 기카이 가부시키가이샤 | 리테이너의 변위를 방지하기 위한 장치 |
| JP2012030304A (ja) * | 2010-07-29 | 2012-02-16 | Honda Motor Co Ltd | 位置検出方法及び工作機械 |
-
1994
- 1994-03-03 JP JP5808594A patent/JPH07245260A/ja not_active Withdrawn
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002227837A (ja) * | 2001-01-31 | 2002-08-14 | Toshiba Mach Co Ltd | 有限型ころがり案内のずれ補正方法および装置 |
| KR20080037569A (ko) * | 2006-10-26 | 2008-04-30 | 도시바 기카이 가부시키가이샤 | 리테이너의 변위를 방지하기 위한 장치 |
| JP2012030304A (ja) * | 2010-07-29 | 2012-02-16 | Honda Motor Co Ltd | 位置検出方法及び工作機械 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US7140486B2 (en) | Device for monitoring abnormality in a chain | |
| SE8604100D0 (sv) | Industrirobotutrustning | |
| EP1707293A1 (en) | Method and device for measuring and adjusting the electrode for taper machining on an electrical discharge machine | |
| WO2001025123A1 (en) | Pusher, puller, loader, unloader, and working device | |
| JPH07245260A (ja) | ステージ装置 | |
| JPH05288618A (ja) | 部品装着装置における外力測定回路 | |
| KR20200026751A (ko) | 가공 장치의 메인터넌스 방법 및 가공 장치 | |
| JP7537921B2 (ja) | 切削装置 | |
| KR102549877B1 (ko) | 회전공구의 변위측정시스템 | |
| KR101556530B1 (ko) | 절단모재의 끝단측정방법 및 그 절단시스템 | |
| CN113059579A (zh) | 一种柔性作业装置 | |
| US6259057B1 (en) | Automatically focusing structure of laser sculpturing machine | |
| JPH0596479A (ja) | 直交座標型ロボツト | |
| KR200488228Y1 (ko) | 피삭재 이탈방지 지그 | |
| KR970000646B1 (ko) | 테이프본딩장치 | |
| JPH065853U (ja) | 工具破損検出装置 | |
| CN115326293A (zh) | 气密性检测装置及检测方法 | |
| JP4063526B2 (ja) | ウエハ位置決め装置のウエハ座回転軸線位置決め方法およびその方法を用いたウエハ位置決め装置 | |
| JP3248247B2 (ja) | 露光装置 | |
| KR950008056A (ko) | 조립본체에 대한 조립부품의 조립방법 및 동방법에 사용하는 산업용 로보트 | |
| JPS61253443A (ja) | 線条体表面欠陥検出装置 | |
| JP4774342B2 (ja) | 射出成形機 | |
| JPH06170572A (ja) | レ−ザ加工機のギャップ量検出装置 | |
| JP2549717B2 (ja) | 移動機構 | |
| US5017082A (en) | Handling apparatus |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20010508 |