JPH07247278A - 安定剤としてのベンゾフラン−2−オン - Google Patents
安定剤としてのベンゾフラン−2−オンInfo
- Publication number
- JPH07247278A JPH07247278A JP6247355A JP24735594A JPH07247278A JP H07247278 A JPH07247278 A JP H07247278A JP 6247355 A JP6247355 A JP 6247355A JP 24735594 A JP24735594 A JP 24735594A JP H07247278 A JPH07247278 A JP H07247278A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- carbon atoms
- atom
- represented
- following formula
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/04—Oxygen-containing compounds
- C08K5/15—Heterocyclic compounds having oxygen in the ring
- C08K5/151—Heterocyclic compounds having oxygen in the ring having one oxygen atom in the ring
- C08K5/1535—Five-membered rings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D307/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom
- C07D307/77—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom ortho- or peri-condensed with carbocyclic rings or ring systems
- C07D307/78—Benzo [b] furans; Hydrogenated benzo [b] furans
- C07D307/82—Benzo [b] furans; Hydrogenated benzo [b] furans with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to carbon atoms of the hetero ring
- C07D307/83—Oxygen atoms
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Furan Compounds (AREA)
- Anti-Oxidant Or Stabilizer Compositions (AREA)
- Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Fireproofing Substances (AREA)
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
- Table Devices Or Equipment (AREA)
Abstract
するための安定剤としてのベンゾフラン−2−オンの提
供。 【構成】式Iの化合物、その製法、該化合物と有機材料
(例,ポリエチレン,ポリプロピレン)とからなる組成
物。 【化1】 〔R1 =Cl,OH,OCONHCH3 等、R2 ,
R3 ,R4 ,R5 =H,Cl,アルキル,シクロヘキシ
ル,フェニルアルキル等〕
Description
ポリマーと安定剤としてベンゾフラン−2−オンとから
なる組成物、酸化、熱または光誘導分解に対して有機材
料を安定化するためのそれらの使用方法、および新規ベ
ンゾフラン−2−オンに関するものである。
おいて公知であり、そして特にBeilstein 18, 17および
Beilstein E III/IV, 18, 154-166 において言及され、
またTh. Kappe 等, Monatshefte fur Chemie 99, 990
(1968); J. Morvan 等, Bull.Soc. Chem. Fr.1979, 58
3; L. F. Clarke 等, J. Org. Chem. 57, 362 (1992);
M. Julia等, Bull. Soc. Chem. Fr.1965, 2175またはH.
Sterk等, Monatsheftefur Chemie 99, 2223 (1968)
に記載されている。上記化合物が有機材料の安定剤とし
て使用されることを記載している刊行物はない。有機ポ
リマーの安定剤としてのいくつかのベンゾフラン−2−
オンの使用は、特にUS−A−4325863;US−
A−4338244およびUS−A−5175312に
開示されている。
る分解を受けやすい有機材料の安定剤としての使用に特
に適当である新規なベンゾフラン−2−オンの提供を課
題とする。
の選択された群が酸化、熱または光誘導分解を受けやす
い有機材料の安定剤としての使用に特に適当であること
が今見出された。従って、本発明は、(a)酸化、熱ま
たは光誘導分解を受けやすい有機材料、および(b)少
なくとも1種の次式I:
表される基を表し、R’1 は水素原子、炭素原子数1な
いし25のアルカノイル基、炭素原子数3ないし25の
アルケノイル基、酸素原子、硫黄原子もしくは次式:
のアルカノイル基;炭素原子数6ないし9のシクロアル
キルカルボニル基、テノイル基、フロイル基、ベンゾイ
ル基または炭素原子数1ないし12のアルキル基で置換
されたベンゾイル基;ナフトイル基または炭素原子数1
ないし12のアルキル基で置換されたナフトイル基;炭
素原子数1ないし25のアルカンスルホニル基、フルオ
ロ置換された炭素原子数1ないし25のアルカンスルホ
ニル基;フェニルスルホニル基または炭素原子数1ない
し12のアルキル基で置換されたフェニルスルホニル
基;次式:
いに独立して水素原子、塩素原子、ヒドロキシ基、炭素
原子数1ないし25のアルキル基、炭素原子数7ないし
9のフェニルアルキル基、非置換もしくは炭素原子数1
ないし4のアルキル基で置換されたフェニル基、非置換
もしくは炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換され
た炭素原子数5ないし8のシクロアルキル基;炭素原子
数1ないし18のアルコキシ基、炭素原子数1ないし1
8のアルキルチオ基、炭素原子数1ないし4のアルキル
アミノ基、ジ(炭素原子数1ないし4のアルキル)アミ
ノ基、炭素原子数1ないし25のアルカノイルオキシ
基、炭素原子数1ないし25のアルカノイルアミノ基、
炭素原子数3ないし25のアルケノイルオキシ基、酸素
原子、硫黄原子もしくは次式:
のアルカノイルオキシ基;炭素原子数6ないし9のシク
ロアルキルカルボニルオキシ基、ベンゾイルオキシ基ま
たは炭素原子数1ないし12のアルキル基で置換された
ベンゾイルオキシ基を表すか;または置換基対R2 およ
びR3 またはR3 およびR4 またはR4 およびR5 の各
々は結合している炭素原子と一緒になってベンゼン環を
形成し;R4 はさらに次式:−(CH2 )p −COR9
または−(CH2 )q OHで表される基を表すか、また
はR3 およびR5 が水素原子を表すならば、R4 はさら
に次式II:
1ないし8のアルキル基を表し、R7 は水素原子または
炭素原子数1ないし8のアルキル基を表し、R8 は直接
結合、炭素原子数1ないし18のアルキレン基、酸素原
子、硫黄原子もしくは次式:
のアルキレン基;炭素原子数2ないし18のアルケニレ
ン基、炭素原子数2ないし20のアルキリデン基、炭素
原子数7ないし20のフェニルアルキリデン基、炭素原
子数5ないし8のシクロアルキレン基、炭素原子数7も
しくは8のビシクロアルキレン基、非置換もしくは炭素
原子数1ないし4のアルキル基で置換されたフェニレン
基、次式:
または次式:
次式:
アルキル基またはフェニル基を表し、R12およびR13は
互いに独立して水素原子、CF3 、炭素原子数1ないし
12のアルキル基またはフェニル基を表すか、またはR
12およびR13は結合している炭素原子と一緒になって、
非置換または1ないし3個の炭素原子数1ないし4のア
ルキル基で置換された炭素原子数5ないし8のシクロア
ルキリデン環を形成し、R14およびR15は互いに独立し
て水素原子または炭素原子数1ないし18のアルキル基
を表し、Mは原子価rの金属カチオンを表し、nは0、
1または2を表し、pは0、1または2を表し、qは
1、2、3、4、5または6を表し、そしてrは1、2
または3を表す)で表される化合物からなる組成物に関
する。
子またはヨウ素原子である。塩素原子が好ましい。
イル基は分岐基または非分岐基であり、典型的にはホル
ミル基、アセチル基、プロピオニル基、ブタノイル基、
ペンタノイル基、ヘキサノイル基、ヘプタノイル基、オ
クタノイル基、ノナノイル基、デカノイル基、ウンデカ
ノイル基、ドデカノイル基、トリデカノイル基、テトラ
デカノイル基、ペンタデカノイル基、ヘキサデカノイル
基、ヘプタデカノイル基、オクタデカノイル基、エイコ
サノイル基またはドコサノイル基等である。アルカノイ
ル基として定義されるR’1 は好ましくは2ないし18
個、最も好ましくは2ないし12個、例えば2ないし6
個の炭素原子を含有する。アセチル基が特に好ましい。
イルオキシ基は分岐基または非分岐基であり、典型的に
はホルミルオキシ基、アセトキシ基、プロピオニルオキ
シ基、ブタノイルオキシ基、ペンタノイルオキシ基、ヘ
キサノイルオキシ基、ヘプタノイルオキシ基、オクタノ
イルオキシ基、ノナノイルオキシ基、デカノイルオキシ
基、ウンデカノイルオキシ基、ドデカノイルオキシ基、
トリデカノイルオキシ基、テトラデカノイルオキシ基、
ペンタデカノイルオキシ基、ヘキサデカノイルオキシ
基、ヘプタデカノイルオキシ基、オクタデカノイルオキ
シ基、エイコサノイルオキシ基またはドコサノイルオキ
シ基等である。炭素原子数1ないし18、好ましくは2
ないし12、例えば2ないし6のアルカノイルオキシ基
が好ましい。アセトキシ基が特に好ましい。
は分岐基または非分岐基であり、典型的にはプロペノイ
ル基、2−ブテノイル基、3−ブテノイル基、イソブテ
ノイル基、n−2,4−ペンタジエノイル基、3−メチ
ル−2−ブテノイル基、n−2−オクテノイル基、n−
2−ドデセノイル基、イソドデセノイル基、オレオイル
基、n−2−オクタデセノイル基またはn−4−オクタ
デセノイル基等である。炭素原子数3ないし18、好ま
しくは3ないし12、例えば3ないし6、最も好ましく
は3または4のアルケノイル基が好ましい。
キシ基は分岐基または非分岐基であり、典型的にはプロ
ペノイルオキシ基、2−ブテノイルオキシ基、3−ブテ
ノイルオキシ基、イソブテノイルオキシ基、n−2,4
−ペンタジエノイルオキシ基、3−メチル−2−ブテノ
イルオキシ基、n−2−オクテノイルオキシ基、n−2
−ドデセノイルオキシ基、イソドデセノイルオキシ基、
オレオイルオキシ基、n−2−オクタデセノイルオキシ
基またはn−4−オクタデセノイルオキシ基等である。
炭素原子数3ないし18、好ましくは3ないし12、例
えば3ないし6、最も好ましくは3または4のアルケノ
イルオキシ基が好ましい。
のアルカノイル基は典型的には以下の基である:CH3
−O−CH2 CO−,CH3 −S−CH2 CO−,CH
3 −NH−CH2 CO−,CH3 −N(CH3 )−CH
2 CO−,CH3−O−CH2 CH2 −O−CH2 CO
−,CH3 −(O−CH2 CH2 −)2 O−CH2 CO
−,CH3 −(O−CH2 CH2 −)3 O−CH2 CO
−またはCH3 −(O−CH2 CH2 −)4 O−CH2
CO−。
のアルカノイルオキシ基は典型的には以下の基である:
CH3 −O−CH2 COO−,CH3 −S−CH2 CO
O−,CH3 −NH−CH2 COO−,CH3 −N(C
H3 )−CH2 COO−,CH3 −O−CH2 CH2 −
O−CH2 COO−,CH3 −(O−CH2 CH2 −)
2 O−CH2 COO−,CH3 −(O−CH2 CH
2 −)3 O−CH2 COO−またはCH3 −(O−CH
2 CH2 −)4 O−CH2 COO−。
ルボニル基は典型的にはシクロペンチルカルボニル基、
シクロヘキシルカルボニル基、シクロヘプチルカルボニ
ル基またはシクロオクチルカルボニル基である。シクロ
ヘキシルカルボニル基が好ましい。
ルボニルオキシ基は典型的にはシクロペンチルカルボニ
ルオキシ基、シクロヘキシルカルボニルオキシ基、シク
ロヘプチルカルボニルオキシ基またはシクロオクチルカ
ルボニルオキシ基である。シクロヘキシルカルボニルオ
キシ基が好ましい。
または2のアルキル基を含む炭素原子数1ないし12の
アルキル置換ベンゾイル基は典型的にはo−、m−また
はp−メチルベンゾイル基、2,3−ジメチルベンゾイ
ル基、2,4−ジメチルベンゾイル基、2,5−ジメチ
ルベンゾイル基、2,6−ジメチルベンゾイル基、3,
4−ジメチルベンゾイル基、3,5−ジメチルベンゾイ
ル基、2−メチル−6−エチルベンゾイル基、4−第三
ブチルベンゾイル基、2−エチルベンゾイル基、2,
4,6−トリメチルベンゾイル基、2,6−ジメチル−
4−第三ブチルベンゾイル基または3,5−ジ第三ブチ
ルベンゾイル基である。好ましい置換基は炭素原子数1
ないし8のアルキル基、最も好ましくは炭素原子数1な
いし4のアルキル基である。
または2のアルキル基を含む炭素原子数1ないし12の
アルキル置換ベンゾイルオキシ基は典型的にはo−、m
−またはp−メチルベンゾイルオキシ基、2,3−ジメ
チルベンゾイルオキシ基、2,4−ジメチルベンゾイル
オキシ基、2,5−ジメチルベンゾイルオキシ基、2,
6−ジメチルベンゾイルオキシ基、3,4−ジメチルベ
ンゾイルオキシ基、3,5−ジメチルベンゾイルオキシ
基、2−メチル−6−エチルベンゾイルオキシ基、4−
第三ブチルベンゾイルオキシ基、2−エチルベンゾイル
オキシ基、2,4,6−トリメチルベンゾイルオキシ
基、2,6−ジメチル−4−第三ブチルベンゾイルオキ
シ基または3,5−ジ第三ブチルベンゾイルオキシ基で
ある。好ましい置換基は炭素原子数1ないし8のアルキ
ル基、最も好ましくは炭素原子数1ないし4のアルキル
基である。
であり、そして好ましくは1ないし3個、最も好ましく
は1または2個のアルキル基を含む炭素原子数1ないし
12のアルキル置換ナフトイル基は典型的には1−、2
−、3−、4−、5−、6−、7−または8−メチルナ
フトイル基、1−、2−、3−、4−、5−、6−、7
−または8−エチルナフトイル基、4−第三ブチルナフ
トイル基または6−第三ブチルナフトイル基である。特
に好ましい置換基は炭素原子数1ないし8のアルキル
基、最も好ましくは炭素原子数1ないし4のアルキル基
である。
ニル基は分岐基または非分岐基であり、典型的にはメタ
ンスルホニル基、エタンスルホニル基、プロパンスルホ
ニル基、ブタンスルホニル基、ペンタンスルホニル基、
ヘキサンスルホニル基、ヘプタンスルホニル基、オクタ
ンスルホニル基、ノナンスルホニル基またはドコサンス
ルホニル基等である。炭素原子数1ないし18、好まし
くは1ないし12、例えば2ないし6のアルカンスルホ
ニル基が好ましい。メタンスルホニル基が特に好まし
い。
5のアルカンスルホニル基は典型的にはトリフルオロメ
タンスルホニル基である。
または2のアルキル基を有する炭素原子数1ないし12
のアルキル置換フェニルスルホニル基は典型的にはo
−、m−またはp−メチルフェニルスルホニル基、p−
エチルフェニルスルホニル基、p−プロピルフェニルス
ルホニル基またはp−ブチルフェニルスルホニル基であ
る。好ましい置換基は炭素原子数1ないし8のアルキル
基、最も好ましくは炭素原子数1ないし4のアルキル基
である。p−メチルフェニルスルホニル基が特に好まし
い。
または非分岐基であり、そして典型的にはメチル基、エ
チル基、プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、
第二ブチル基、イソブチル基、第三ブチル基、2−エチ
ルブチル基、n−ペンチル基、イソペンチル基、1−メ
チルペンチル基、1,3−ジメチルブチル基、n−ヘキ
シル基、1−メチルヘキシル基、n−ヘプチル基、イソ
ヘプチル基、1,1,3,3−テトラメチルブチル基、
1−メチルヘプチル基、3−メチルヘプチル基、n−オ
クチル基、2−エチルヘキシル基、1,1,3−トリメ
チルヘキシル基、1,1,3,3−テトラメチルペンチ
ル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、1−メチル
ウンデシル基、ドデシル基、1,1,3,3,5,5−
ヘキサメチルヘキシル基、トリデシル基、テトラデシル
基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル
基、オクタデシル基、エイコシル基またはドコシル基等
である。R2 およびR4 の好ましい意味は典型的には炭
素原子数1ないし18のアルキル基である。R4 の特に
好ましい意味は炭素原子数1ないし4のアルキル基であ
る。
基は典型的にはベンジル基、α−メチルベンジル基、
α,α−ジメチルベンジル基または2−フェニルエチル
基であってよい。ベンジル基およびα,α−ジメチルベ
ンジル基が好ましい。
は2のアルキル基を有する炭素原子数1ないし4のアル
キル置換フェニル基は典型的にはo−、m−またはp−
メチルフェニル基、2,3−ジメチルフェニル基、2,
4−ジメチルフェニル基、2,5−ジメチルフェニル
基、2,6−ジメチルフェニル基、3,4−ジメチルフ
ェニル基、3,5−ジメチルフェニル基、2−メチル−
6−エチルフェニル基、4−第三ブチルフェニル基、2
−エチルフェニル基または2,6−ジエチルフェニル基
であってよい。
キル基で置換された炭素原子数5ないし8のシクロアル
キル基は典型的にはシクロペンチル基、メチルシクロペ
ンチル基、ジメチルシクロペンチル基、シクロヘキシル
基、メチルシクロヘキシル基、ジメチルシクロヘキシル
基、トリメチルシクロヘキシル基、第三ブチルシクロヘ
キシル基、シクロヘプチル基またはシクロオクチル基で
ある。シクロヘキシル基および第三ブチルシクロヘキシ
ル基が好ましい。
基または非分岐基であり、そして典型的にはメトキシ
基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、n
−ブトキシ基、イソブトキシ基、ペントキシ基、イソペ
ントキシ基、ヘキソキシ基、ヘプトキシ基、オクトキシ
基、デシルオキシ基、テトラデシルオキシ基、ヘキサデ
シルオキシ基またはオクタデシルオキシ基である。炭素
原子数1ないし12、好ましくは1ないし8、例えば1
ないし6のアルコキシ基が好ましい。
岐基または非分岐基であり、そして典型的にはメチルチ
オ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、イソプロピルチ
オ基、n−ブチルチオ基、イソブチルチオ基、ペンチル
チオ基、イソペンチルチオ基、ヘキシルチオ基、ヘプチ
ルチオ基、オクチルチオ基、デシルチオ基、テトラデシ
ルチオ基、ヘキサデシルチオ基またはオクタデシルチオ
基である。炭素原子数1ないし12、好ましくは1ない
し8、例えば1ないし6のアルキルチオ基が好ましい。
岐基または非分岐基であり、そして典型的にはメチルア
ミノ基、エチルアミノ基、プロピルアミノ基、イソプロ
ピルアミノ基、n−ブチルアミノ基、イソブチルアミノ
基または第三ブチルアミノ基である。
ミノ基はまた、2つの部分が互いに独立して分岐基また
は非分岐基であり、そして典型的にはジメチルアミノ
基、メチルエチルアミノ基、ジエチルアミノ基、メチル
−n−プロピルアミノ基、メチルイソプロピルアミノ
基、メチル−n−ブチルアミノ基、メチルイソブチルア
ミノ基、エチルイソブチルアミノ基、エチル−n−ブチ
ルアミノ基、エチルイソブチルアミノ基、エチル第三ブ
チルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、イソプロピル
−n−ブチルアミノ基、イソプロピルイソブチルアミノ
基、ジ−n−ブチルアミノ基またはジイソブチルアミノ
基である。
基は非分岐基または分岐基であり、そして典型的にはホ
ルミルアミノ基、アセチルアミノ基、プロピオニルアミ
ノ基、ブタノイルアミノ基、ペンタノイルアミノ基、ヘ
キサノイルアミノ基、ヘプタノイルアミノ基、オクタノ
イルアミノ基、ノナノイルアミノ基、デカノイルアミノ
基、ウンデカノイルアミノ基、ドデカノイルアミノ基、
トリデカノイルアミノ基、テトラデカノイルアミノ基、
ペンタデカノイルアミノ基、ヘキサデカノイルアミノ
基、ヘプタデカノイルアミノ基、オクタデカノイルアミ
ノ基、エイコサノイルアミノ基、またはドコサノイルア
ミノ基である。炭素原子数2ないし18、好ましくは2
ないし12、例えば2ないし6のアルカノイルアミノ基
が好ましい。
分岐基または非分岐基であり、そして典型的にはメチレ
ン基、エチレン基、プロピレン基、トリメチレン基、テ
トラメチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン
基、ヘプタメチレン基、オクタメチレン基、デカメチレ
ン基、ドデカメチレン基またはオクタデカメチレン基で
ある。炭素原子数1ないし12のアルキレン基が好まし
く、そして炭素原子数1ないし8のアルキレン基が特に
好ましい。
のアルキレン基は典型的には以下の基である:−CH2
−O−CH2 −,−CH2 −S−CH2 −,−CH2 −
NH−CH2 −,−CH2 −N(CH3 )−CH2 −,
−CH2 −O−CH2 CH2 −O−CH2 −,−CH2
−(O−CH2 CH2 −)2 O−CH2 −,−CH2 −
(O−CH2 CH2 −)3 O−CH2 −,−CH2 −
(O−CH2CH2 −)4 O−CH2 −または−CH2
CH2 −S−CH2 CH2 −。
は典型的にはビニレン基、メチルビニレン基、オクテニ
ルエチレン基またはドデセニルエチレン基である。炭素
原子数2ないし8のアルケニレン基が好ましい。
は典型的にはエチリデン基、プロピリデン基、ブチリデ
ン基、ペンチリデン基、4−メチルペンチリデン基、ヘ
プチリデン基、ノニリデン基、トリデシリデン基、ノナ
デシリデン基、1−メチルエチリデン基、1−エチルプ
ロピリデン基または1−エチルペンチリデン基であり得
る。炭素原子数2ないし8のアルキリデン基が好まし
い。
リデン基は典型的にはベンジリデン基、2−フェニルエ
チリデン基または1−フェニル−2−ヘキシリデン基で
あり得る。炭素原子数7ないし9のフェニルアルキリデ
ン基が好ましい。
基は2つの遊離原子価と少なくとも1つの環単位を有す
る飽和炭化水素基であり、そして典型的にはシクロペン
チレン基、シクロヘキシレン基、シクロヘプチレン基ま
たはシクロオクチレン基である。シクロヘキシレン基が
好ましい。
ン基はビシクロヘプチレン基またはビシクロオクチレン
基であってよい。
キル基で置換されたフェニレン基は1,2−、1,3−
または1,4−フェニレン基であってよい。
または2の分岐または非分岐アルキル基を含む炭素原子
数1ないし4のアルキル置換された炭素原子数5ないし
8のシクロアルキリデン環は典型的にはシクロペンチリ
デン、メチルシクロペンチリデン、ジメチルシクロペン
チリデン、シクロヘキシリデン、メチルシクロヘキシリ
デン、ジメチルシクロヘキシリデン、トリメチルシクロ
ヘキシリデン、第三ブチルシクロヘキシリデン、シクロ
ヘプチリデンまたはシクロオクチリデンである。シクロ
ヘキシリデンおよび第三ブチルシクロヘキシリデンが好
ましい。
くはアルカリ金属カチオン、アルカリ土類金属カチオン
またはアルミニウムカチオン、典型的にはNa+ 、
K+ 、Mg++、Ca++またはAl+++ である。
素原子、炭素原子数1ないし18のアルカノイル基、炭
素原子数3ないし18のアルケノイル基、酸素原子、硫
黄原子もしくは次式:
のアルカノイル基;炭素原子数6ないし8のシクロアル
キルカルボニル基、テノイル基、フロイル基、ベンゾイ
ル基または炭素原子数1ないし8のアルキル基で置換さ
れたベンゾイル基;ナフトイル基または炭素原子数1な
いし8のアルキル基で置換されたナフトイル基;炭素原
子数1ないし18のアルカンスルホニル基、フルオロ置
換された炭素原子数1ないし18のアルカンスルホニル
基;フェニルスルホニル基または炭素原子数1ないし8
のアルキル基で置換されたフェニルスルホニル基;次
式:
いに独立して水素原子、塩素原子、ヒドロキシ基、炭素
原子数1ないし25のアルキル基、炭素原子数7ないし
9のフェニルアルキル基、非置換もしくは炭素原子数1
ないし4のアルキル基で置換されたフェニル基、非置換
もしくは炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換され
た炭素原子数5ないし8のシクロアルキル基;炭素原子
数1ないし12のアルコキシ基、炭素原子数1ないし1
2のアルキルチオ基、炭素原子数1ないし4のアルキル
アミノ基、ジ(炭素原子数1ないし4のアルキル)アミ
ノ基、炭素原子数1ないし18のアルカノイルオキシ
基、炭素原子数1ないし18のアルカノイルアミノ基、
炭素原子数3ないし18のアルケノイルオキシ基、酸素
原子、硫黄原子もしくは次式:
のアルカノイルオキシ基;炭素原子数6ないし8のシク
ロアルキルカルボニルオキシ基、ベンゾイルオキシ基ま
たは炭素原子数1ないし8のアルキル基で置換されたベ
ンゾイルオキシ基を表すか、または置換基対R2 および
R3 またはR3 およびR4 またはR4 およびR5 の各々
が結合している炭素原子と一緒になってベンゼン環を形
成し;R4がさらに次式:−(CH2 )p −COR9 ま
たは−(CH2 )q OHで表される基を表すか;または
R3 およびR5 が水素原子を表すならば、R4 がさらに
次式II:
1ないし6のアルキル基を表し、R7 が水素原子または
炭素原子数1ないし6のアルキル基を表し、R8 が直接
結合、炭素原子数1ないし12のアルキレン基、酸素原
子、硫黄原子もしくは次式:
のアルキレン基;炭素原子数2ないし12のアルケニレ
ン基、炭素原子数2ないし12のアルキリデン基、炭素
原子数7ないし12のフェニルアルキリデン基、炭素原
子数5ないし8のシクロアルキレン基、炭素原子数7も
しくは8のビシクロアルキレン基またはフェニレン基を
表し、R9 がヒドロキシ基、炭素原子数1ないし12の
アルコキシ基または次式:
表し、R11が炭素原子数1ないし12のアルキル基また
はフェニル基を表し、R12およびR13がメチル基を表す
か、または結合している炭素原子と一緒になって、非置
換または1ないし3個の炭素原子数1ないし4のアルキ
ル基で置換された炭素原子数5ないし8のシクロアルキ
リデン環を形成し、R14およびR15が互いに独立して水
素原子または炭素原子数1ないし8のアルキル基を表
し、そしてqが2、3、4、5または6を表す化合物を
含む組成物である。
びR5 の少なくとも2つが水素原子を表す化合物を含む
組成物が好ましい。
表す化合物含むを組成物もまた好ましい。
R1 が塩素原子、臭素原子また次式:−OR’1 で表さ
れる基を表し、R’1 が水素原子、炭素原子数1ないし
12のアルカノイル基、酸素原子により中断された炭素
原子数3ないし12のアルカノイル基;シクロヘキシル
カルボニル基、ベンゾイル基、ナフトイル基、炭素原子
数1ないし12のアルカンスルホニル基、フルオロ置換
された炭素原子数1ないし12のアルカンスルホニル
基;フェニルスルホニル基または炭素原子数1ないし4
のアルキル基で置換されたフェニルスルホニル基;次
式:
1ないし6のアルキル基を表し、R8 が直接結合、炭素
原子数1ないし12のアルキレン基、酸素原子、硫黄原
子もしくは次式:
のアルキレン基;炭素原子数2ないし12のアルケニレ
ン基、炭素原子数2ないし12のアルキリデン基、炭素
原子数7ないし12のフェニルアルキリデン基、炭素原
子数5ないし8のシクロアルキレン基、炭素原子数7も
しくは8のビシクロアルキレン基またはフェニレン基を
表し、R9 がヒドロキシ基、炭素原子数1ないし12の
アルコキシ基または次式:
表し、R11が炭素原子数1ないし12のアルキル基また
はフェニル基を表し、そしてR14およびR15が互いに独
立して水素原子または炭素原子数1ないし8のアルキル
基を表す化合物を含む組成物である。
1 が水素原子、炭素原子数1ないし8のアルカノイル
基、ベンゾイル基、メタンスルホニル基、p−メチルフ
ェニルスルホニル基、次式:
1ないし4のアルキル基を表し、R10が−NH−を表
し、R11が炭素原子数1ないし8のアルキル基またはフ
ェニル基を表し、そしてnが2を表す化合物を含むもの
である。
R2 、R3 、R4 およびR5 が互いに独立して水素原
子、塩素原子、ヒドロキシ基、炭素原子数1ないし18
のアルキル基、炭素原子数7ないし9のフェニルアルキ
ル基、フェニル基、炭素原子数5ないし8のシクロアル
キル基、炭素原子数1ないし6のアルコキシ基、シクロ
ヘキシルカルボニルオキシ基もしくはベンゾイルオキシ
基を表すか、または置換基対R2 およびR3 またはR3
およびR4またはR4 およびR5 の各々が結合している
炭素原子と一緒になってベンゼン環を形成し;R4 がさ
らに次式:−(CH2 )p −COR9 を表すか;または
R3およびR5 が水素原子を表すならば、R4 がさらに
式IIで表される基を表し、R7 が水素原子または炭素
原子数1ないし4のアルキル基を表し、R8 が炭素原子
数1ないし12のアルキレン基またはフェニレン基を表
し、R9 がヒドロキシ基または炭素原子数1ないし8の
アルコキシ基を表し、R10が−NH−を表し、R11が炭
素原子数1ないし8のアルキル基またはフェニル基を表
し、そしてR12およびR13がメチル基を表すか、または
結合している炭素原子と一緒になって炭素原子数5ない
し8のシクロアルキリデン環を形成する化合物を含有す
る組成物である。
R1 が塩素原子または次式:−OR’1 で表される基を
表し、R’1 が水素原子、炭素原子数1ないし8のアル
カノイル基、ベンゾイル基、メタンスルホニル基、トリ
フルオロメタンスルホニル基、フェニルスルホニル基ま
たは炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換されたフ
ェニルスルホニル基を表すか、または次式:
いに独立して水素原子、塩素原子、炭素原子数1ないし
18のアルキル基、炭素原子数7ないし9のフェニルア
ルキル基、フェニル基、シクロヘキシル基、炭素原子数
1ないし6のアルコキシ基を表し、R4 がさらに次式:
−(CH2 )p −COR9 で表される基を表すか;また
はR3およびR5 が水素原子を表すならば、R4 がさら
に次式II:
1ないし4のアルキル基を表し、R9 がヒドロキシ基ま
たは炭素原子数1ないし8のアルコキシ基を表し、R10
が−NH−を表し、R11が炭素原子数1ないし4のアル
キル基またはフェニル基を表し、R12およびR13が結合
している炭素原子と一緒になってシクロヘキシリデン環
を形成し、nが2を表し、そしてpが2を表す化合物を
含む組成物である。
1 が塩素原子または次式:−OR’1 で表される基を表
し、R’1 が水素原子、アセチル基、次式:
アルキル基、炭素原子数7ないし9のフェニルアルキル
基またはシクロヘキシル基を表し、R3 が水素原子を表
し、R4 が炭素原子数1ないし4のアルキル基、炭素原
子数7ないし9のフェニルアルキル基、シクロヘキシル
基、−CH2 CH2 COOHまたは次式II:
素原子または炭素原子数1ないし4のアルキル基を表
し、R10が−NH−を表し、R11が炭素原子数1ないし
4のアルキル基を表し、R12およびR13が結合している
炭素原子と一緒になってシクロヘキシリデン環を形成
し、そしてnが2を表す化合物を含む組成物である。
誘導分解に対して有機材料を安定化するのに適当であ
る。
えばポリプロピレン、ポリイソブチレン、ポリブテン−
1、ポリ−4−メチルペンテン−1、ポリイソプレンま
たはポリブタジエン、並びにシクロオレフィン例えばシ
クロペンテンまたはノルボルネンのポリマー、ポリエチ
レン(非架橋でも架橋されていてもよい)、例えば高密
度ポリエチレン(HDPE)、低密度ポリエチレン(L
DPE)、線状低密度ポリエチレン(LLDPE)、分
岐低密度ポリエチレン(BLDPE)。
モノオレフィンのポリマー、好ましくはポリエチレンお
よびポリプロピレンは異なる方法、特に以下の方法によ
り製造され得る: a)ラジカル重合(通常、高温高圧下)。 b)周期表のIVb、Vb、VIbまたはVIII族の
金属1種以上を通常含有する触媒を用いる接触重合。こ
れらの金属は通常1以上の配位子、典型的にはπ(パ
イ)−またはσ(シグマ)−配位されていてよい酸化
物、ハロゲン化物、アルコレート、エステル、エーテ
ル、アミン、アルキル、アルケニルおよび/またはアリ
ールを有する。これらの金属錯体は遊離体であっても、
または基体(substrate) 、典型的には活性化塩化マグネ
シウム、塩化チタン(III)、アルミナまたは酸化ケ
イ素に固定されていてもよい。これらの触媒は重合化媒
体に可溶性であっても、不溶性であってもよい。触媒は
重合においてそれ自体で使用され得、またその他の活性
化剤、典型的には金属アルキル、金属水素化物、金属ア
ルキルハロゲン化物、金属アルキル酸化物または金属ア
ルキルオキサンが使用され得る(上記金属は周期表のI
a、IIaおよび/またはIIIa族の元素である)。
活性化剤はその他のエステル、エーテル、アミンまたは
シリルエーテル基で慣用方法により変性されてもよい。
上記触媒系は通常フィリップス、スタンダード・オイル
・インディアナ、チーグラー(−ナッタ)、TNZ(デ
ュポン)、メタロセンまたは単一部位触媒(single sit
e catalyst, SSC)と命名されている。
物、例えばポリプロピレンとポリイソブチレンとの混合
物、ポリプロピレンとポリエチレンとの混合物(例えば
PP/HDPE,PP/LDPE)および異なる種類の
ポリエチレンの混合物(例えばLDPE/HDPE)。
たは他のビニルモノマーとのコポリマー、例えばエチレ
ン/プロピレンコポリマー、線状低密度ポリエチレン
(LLDPE)およびこれと低密度ポリエチレン(LD
PE)との混合物、プロピレン/ブテン−1コポリマ
ー、プロピレン/イソブチレンコポリマー、エチレン/
ブテン−1コポリマー、エチレン/ヘキセンコポリマ
ー、エチレン/メチルペンテンコポリマー、エチレン/
ヘプテンコポリマー、エチレン/オクテンコポリマー、
プロピレン/ブタジエンコポリマー、イソブチレン/イ
ソプレンコポリマー、エチレン/アルキルアクリレート
コポリマー、エチレン/アルキルメタクリレートコポリ
マー、エチレン/酢酸ビニルコポリマーおよびそれらの
一酸化炭素とのコポリマーまたはエチレン/アクリル酸
コポリマーおよびそれらの塩類(アイオノマー)、並び
にエチレンとプロピレンとジエン例えばヘキサジエン、
ジシクロペンタジエンまたはエチリデンノルボルネンと
のターポリマー;および上記コポリマー相互の、および
項1.に記載のポリマーとの混合物、例えばポリプロピ
レン/エチレンプロピレンコポリマー、LDPE/エチ
レン−酢酸ビニルコポリマー(EVA)、LDPE/エ
チレン−アクリル酸コポリマー(EAA)、LLDPE
/EVA、LLDPE/EAAおよび交互またはランダ
ムポリアルキレン/一酸化炭素コポリマー、およびそれ
らとその他のポリマー例えばポリアミドとの混合物。
いし9のもの)およびそれらの水素化変性体(例えば粘
着付与剤)およびポリアルキレンとデンプンとの混合
物。
レン)、ポリ(α−メチルスチレン)。
ジエンまたはアクリル誘導体とのコポリマー、例えばス
チレン/ブタジエン、スチレン/アクリロニトリル、ス
チレン/アルキルメタクリレート、スチレン/ブタジエ
ン/アルキルアクリレート、スチレン/ブタジエン/ア
ルキルメタクリレート、スチレン/無水マレイン酸、ス
チレン/アクリロニトリル/メチルアクリレート;スチ
レンコポリマーと別のポリマー、例えばポリアクリレー
ト、ジエンポリマーまたはエチレン/プロピレン/ジエ
ンターポリマーからの高耐衝撃性混合物;およびスチレ
ンのブロックコポリマー例えばスチレン/ブタジエン/
スチレン、スチレン/イソプレン/スチレン、スチレン
/エチレン/ブチレン/スチレンまたはスチレン/エチ
レン/プロピレン/スチレン。
グラフトコポリマー、例えばポリブタジエンにスチレ
ン、ポリブタジエン−スチレンまたはポリブタジエン−
アクリロニトリルコポリマーにスチレン、ポリブタジエ
ンにスチレンおよびアクリロニトリル(またはメタクリ
ロニトリル)、ポリブタジエンにスチレン、アクリロニ
トリルおよびメチルメタアクリレート、ポリブタジエン
にスチレンおよび無水マレイン酸;ポリブタジエンにス
チレン、アクリロニトリルおよび無水マレイン酸;ポリ
ブタジエンにスチレンおよびマレイミド;ポリブタジエ
ンにスチレンおよびアルキルアクリレート;エチレン/
プロピレン/ジエンターポリマーにスチレンおよびアク
リロニトリル、ポリアルキルアクリレートまたはポリア
ルキルメタクリレートにスチレンおよびアクリロニトリ
ル、アクリレート/ブタジエンコポリマーにスチレンお
よびアクリロニトリル、並びにこれらと項6.に列挙し
たコポリマーとの混合物、例えばABS−、MBS−、
ASA−またはAES−ポリマーとして知られているコ
ポリマー混合物。
ロロプレン、塩素化ゴム、塩素化またはスルホ塩素化ポ
リエチレン、エチレンと塩素化エチレンとのコポリマ
ー、エピクロロヒドリンホモ−およびコポリマー、特に
ハロゲン含有ビニル化合物のポリマー、例えばポリ塩化
ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリフッ化ビニル、ポリ
フッ化ビニリデン並びにこれらのコポリマー、例えば塩
化ビニル/塩化ビニリデン、塩化ビニル/酢酸ビニルま
たは塩化ビニリデン/酢酸ビニルコポリマー。
ら誘導されるポリマー、例えばポリアクリレートおよび
ポリメタアクリレート;ブチルアクリレートで耐衝撃性
に変性されたポリメチルメタクリレート、ポリアクリル
アミドおよびポリアクリロニトリル。
たは他の不飽和モノマーとのコポリマー、例えばアクリ
ロニトリル/ブタジエンコポリマー、アクリロニトリル
/アルキルアクリレートコポリマー、アクリロニトリル
/アルコキシアルキルアクリレートもしくはアクリロニ
トリル/ハロゲン化ビニルコポリマーまたはアクリロニ
トリル/アルキルメタアクリレート/ブタジエンターポ
リマー。
はそれらのアシル誘導体もしくはアセタールから誘導さ
れるポリマー、例えばポリビニルアルコール、ポリ酢酸
ビニル、ポリビニルステアレート、ポリビニルベンゾエ
ート、ポリビニルマレエート、ポリビニルブチレート、
ポリアリルフタレートまたはポリアリルメラミン;並び
にこれらと項1.に記載したオレフィンとのコポリマ
ー。
コポリマー、例えばポリアルキレングリコール、ポリエ
チレンオキシド、ポリプロピレンオキシドまたはこれら
とビスグリシジルエーテルとのコポリマー。
メチレンおよびエチレンオキシドをコモノマーとして含
むポリオキシメチレン;熱可塑性ポリウレタン、アクリ
レートまたはMBSで変性されたポリアセタール。
フィド、およびポリフェニレンオキシドとスチレンポリ
マーまたはポリアミドとの混合物。
を含むポリエーテル、ポリエステルまたはポリブタジエ
ンと他方の成分として脂肪族または芳香族ポリイソシア
ネートとから誘導されたポリウレタン並びにその前駆
体。
/またはアミノカルボン酸または相当するラクタムから
誘導されたポリアミドおよびコポリアミド。例えばポリ
アミド4、ポリアミド6、ポリアミド6/6、6/1
0、6/9、6/12、4/6、12/12、ポリアミ
ド11、ポリアミド12、m−キシレン、ジアミンおよ
びアジピン酸から出発する芳香族ポリアミド;ヘキサメ
チレンジアミンとイソフタル酸および/またはテレフタ
ル酸とから、変性剤としてエラストマーを添加して、ま
たは添加せずに製造されたポリアミド、例えばポリ−
2,4,4−トリメチルヘキサメチレンテレフタルアミ
ドまたはポリ−m−フェニレンイソフタルアミド;上記
ポリアミドとポリオレフィン、オレフィンコポリマー、
アイオノマーまたは化学結合化もしくはグラフト化エラ
ストマーとの、またはポリエーテル、例えばポリエチレ
ングリコール、ポリプロピレングリコールまたはポリテ
トラメチレングリコールとのブロックコポリマー;並び
にEPDMまたはABSで変性させたポリアミドまたは
コポリアミド;および加工の間に縮合したポリアミド
(RIMポリアミド系)。
イミドおよびポリベンズイミダゾール。
/またはヒドロキシカルボン酸から誘導されたポリエス
テルまたは相当するラクトン、例えばポリエチレンテレ
フタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ−1,
4−ジメチロール−シクロヘキサンテレフタレートおよ
びポリヒドロキシベンゾエート並びにヒドロキシ末端ポ
リエーテルから誘導されたブロックコポリエーテルエス
テル;およびポリカーボネートまたはMBSで変性され
たポリエステル。
ルカーボネート。
ンおよびポリエーテルケトン。
他方の成分としてフェノール、尿素およびメラミンから
誘導された架橋ポリマー、例えばフェノール/ホルムア
ルデヒド樹脂、尿素/ ホルムアルデシド樹脂およびメラ
ミン/ホルムアルデヒド樹脂。
価アルコールとのコポリエステルおよび架橋剤としての
ビニル化合物から誘導された不飽和ポリエステル樹脂、
および燃焼性の低いそれらのハロゲン含有変性物。
ポキシアクリレート、ウレタンアクリレートまたはポリ
エステルアクリレートから誘導された架橋性アクリル樹
脂。
シアネートまたはエポキシ樹脂と架橋されたアルキド樹
脂、ポリエステル樹脂およびアクリレート樹脂。
ジルエーテルまたは脂環式ジエポキシドから誘導された
架橋エポキシ樹脂。
ゴム、ゼラチンおよびこれらの化学的に変性させた重合
同族体誘導体、例えば酢酸セルロース、プロピオン酸セ
ルロースおよび酪酸セルロースまたはセルロースエーテ
ル例えばメチルセルロース;並びにロジンおよびそれら
の誘導体。
レンド)、例えばPP/EPDM、ポリアミド/EPD
MまたはABS、PVC/EVA、PVS/ABS、P
VC/MBS、PC/ABS、PBTP/ABS、PC
/ASA、PC/PBT、PVC/CPE、PVC/ア
クリレート、POM/熱可塑性PUR、PC/熱可塑性
PUR、POM/アクリレート、POM/MBS、PP
O/HIPS、PPO/PA6.6およびコポリマー、
PA/HDPE、PA/PP、PA/PPO。
混合物である天然および合成有機材料、例えば鉱油、動
物および植物脂肪、オイルおよびワックスまたは合成エ
ステル(例えばフタレート、アジペート、ホスフェート
またはトリメリテート)をベースとした上記オイル、脂
肪およびワックス、並びにあらゆる重量比で混合された
合成エステルと鉱油との混合物で、その材料は典型的に
は繊維紡績油として、並びにこのような材料の水性エマ
ルジョンとして使用される。
ョン、例えばカルボキシル化スチレン/ブタジエンコポ
リマーの天然ラテックス。
天然、半合成または好ましくは合成有機ポリマー、特に
好ましくは熱可塑性ポリマー、増粘剤または接着剤であ
る。特に好ましい有機材料はポリオレフィン、例えばポ
リプロピレンまたはポリエチレンである。
および酸化分解、特に熱可塑性樹脂の加工の間に生じる
熱の作用下での分解に対する新規化合物の効果である。
それ故に、本発明の化合物は加工安定剤としての使用に
極めて適している。
料の重量を規準として0.0005ないし5%、好まし
くは0.001ないし2%、典型的には0.01ないし
2%の濃度で安定化されるべき有機材料に添加される。
加え、その他の補助安定剤、典型的には以下の安定剤を
含有し得る: 1.酸化防止剤 1.1.アルキル化モノフェノールの例 2,6−ジ−第三ブチル−4−メチルフェノール、2−
第三ブチル−4,6−ジメチルフェノール、2,6−ジ
−第三ブチル−4−エチルフェノール、2,6−ジ−第
三ブチル−4−n−ブチルフェノール、2,6−ジ−第
三ブチル−4−イソブチルフェノール、2,6−ジシク
ロペンチル−4−メチルフェノ−ル、2−(α−メチル
シクロヘキシル)−4,6−ジメチルフェノール、2,
6−ジオクタデシル−4−メチルフェノ−ル、2,4,
6−トリシクロヘキシルフェノール、2,6−ジ−第三
ブチル−4−メトキシメチルフェノール、2,6−ジノ
ニル−4−メチルフェノール、2,4−ジメチル−6−
(1’−メチルウンデシ−1’−イル)フェノール、
2,4−ジメチル−6−(1’−メチルヘプタデシ−
1’−イル)フェノール、2,4−ジメチル−6−
(1’−メチルトリデシ−1’−イル)フェノールおよ
びその混合物。
例 2,4−ジオクチルチオメチル−6−第三ブチルフェノ
ール、2,4−ジオクチルチオメチル−6−メチルフェ
ノール、2,4−ジオクチルチオメチル−6−エチルフ
ェノール、2,6−ジドデシルチオメチル−4−ノニル
フェノール。
ドロキノンの例 2,6−ジ第三ブチル−4−メトキシフェノール、2,
5−ジ第三ブチルヒドロキノン、2,5−ジ第三アミル
ヒドロキノン、2,6−ジフェニル−4−オクタデシル
オキシフェノール、2,6−ジ第三ブチルヒドロキノ
ン、2,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシアニソー
ル、3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシアニソー
ル、3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシフェニルス
テアレート、ビス(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロ
キシフェニル)アジペート。
ェロール、δ−トコフェロールおよびそれらの混合物
(ビタミンE)
ーテルの例 2,2’−チオビス(6−第三ブチル−4−メチルフェ
ノール)、2,2’−チオビス(4−オクチルフェノー
ル)、4,4’−チオビス(6−第三ブチル−3−メチ
ルフェノール)、4,4’−チオビス(6−第三ブチル
−2−メチルフェノール)、4,4’−チオビス(3,
6−ジ第二アミルフェノール)、4,4’−ビス(2,
6−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)ジスルフィ
ド。
フェノール)、2,2’−メチレンビス(6−第三ブチ
ル−4−エチルフェノール)、2,2’−メチレンビス
〔4−メチル−6−(α−メチルシクロヘキシル)フェ
ノール〕、2,2’−メチレンビス(4−メチル−6−
シクロヘキシルフェノール)、2,2’−メチレンビス
(6−ノニル−4−メチルフェノール)、2,2’−メ
チレンビス(4,6−ジ−第三ブチルフェノール)、
2,2’−エチリデンビス(4,6−ジ−第三ブチルフ
ェノール)、2,2’−エチリデンビス(6−第三ブチ
ル−4−イソブチルフェノール)、2,2’−メチレン
ビス〔6−(α−メチルベンジル)−4−ノニルフェノ
ール〕、2,2’−メチレンビス〔6−(α,α−ジメ
チルベンジル)−4−ノニルフェノール〕、4,4’−
メチレンビス(2,6−ジ−第三ブチルフェノール)、
4,4’−メチレンビス(6−第三ブチル−2−メチル
フェノール)、1,1−ビス(5−第三ブチル−4−ヒ
ドロキシ−2−メチルフェニル)ブタン、2,6−ビス
(3−第三ブチル−5−メチル−2−ヒドロキシベンジ
ル)−4−メチルフェノール、1,1,3−トリス(5
−第三ブチル−4−ヒドロキシ−2−メチルフェニル)
ブタン、1,1−ビス(5−第三ブチル−4−ヒドロキ
シ−2−メチルフェニル)−3−n−ドデシルメルカプ
トブタン、エチレングリコール−ビス〔3,3−ビス
(3’−第三ブチル−4’ーヒドロキシフェニル)ブチ
レート〕、ビス(3−第三ブチル−4ーヒドロキシ−5
−メチルフェニル)ジシクロペンタジエン、ビス〔2−
(3’−第三ブチル−2’ーヒドロキシ−5’−メチル
ベンジル)−6−第三ブチル−4−メチルフェニル〕テ
レフタレート、1,1−ビス(3,5−ジメチル−2−
ヒドロキシフェニル)ブタン、2,2−ビス(3,5−
ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロパン、
2,2−ビス(5−第三ブチル−4−ヒドロキシ−2−
メチルフェニル)−4−n−ドデシルメルカプトブタ
ン、1,1,5,5−テトラ(5−第三ブチル−4−ヒ
ドロキシ−2−メチルフェニル)ペンタン。
合物の例 3,5,3’,5’−テトラ第三ブチル−4,4’−ジ
ヒドロキシジベンジルエーテル、オクタデシル−4−ヒ
ドロキシ−3,5−ジメチルベンジルメルカプトアセテ
ート、トリス(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシ
ベンジル)アミン、ビス(4−第三ブチル−3−ヒドロ
キシ−2,6−ジメチルベンジル)ジチオテレフタレー
ト、ビス(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシベン
ジル)スルフィド、イソオクチル−3,5−ジ第三ブチ
ル−4−ヒドロキシベンジルメルカプトアセテート。
の例 ジオクタデシル−2,2−ビス(3,5−ジ第三ブチル
−2−ヒドロキシベンジル)マロネート、ジオクタデシ
ル−2−(3−第三ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチ
ルベンジル)マロネート、ジドデシルメルカプトエチル
−2,2−ビス(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキ
シベンジル)マロネート、ビス〔4−(1,1,3,3
−テトラメチルブチル)フェニル〕−2,2−ビス
(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシベンジル)マ
ロネート。
の例 1,3,5−トリス(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒド
ロキシベンジル)−2,4,6−トリメチルベンゼン、
1,4−ビス(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシ
ベンジル)−2,3,5,6−テトラメチルベンゼン、
2,4,6−トリス(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒド
ロキシベンジル)フェノール。
ジ第三ブチル−4−ヒドロキシアニリノ)−1,3,5
−トリアジン、2−オクチルメルカプト−4,6−ビス
(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシアニリノ)−
1,3,5−トリアジン、2−オクチルメルカプト−
4,6−ビス(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシ
フェノキシ)−1,3,5−トリアジン、2,4,6−
トリス(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシフェノ
キシ)−1,2,3−トリアジン、1,3,5−トリス
(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシベンジル)イ
ソシアヌレート、1,3,5−トリス(4−第三ブチル
−3−ヒドロキシ−2,6−ジメチルベンジル)イソシ
アヌレート、2,4,6−トリス(3,5−ジ第三ブチ
ル−4−ヒドロキシフェニルエチル)−1,3,5−ト
リアジン、1,3,5−トリス(3,5−ジ第三ブチル
−4−ヒドロキシフェニルプロピオニル)ヘキサヒドロ
−1,3,5−トリアジン、1,3,5−トリス(3,
5−ジシクロヘキシル−4−ヒドロキシベンジル)イソ
シアヌレート。
ジルホスホネート、ジエチル−3,5−ジ第三ブチル−
4−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジオクタデシル
3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシベンジルホスホ
ネート、ジオクタデシル5−第三ブチル−4−ヒドロキ
シ3−メチルベンジルホスホネート、3,5−ジ第三ブ
チル−4−ヒドロキシベンジルホスホン酸のモノエチル
エステルのカルシウム塩。
ステアリン酸−アニリド、オクチルN−(3,5−ジ−
第三ブチル−4−ヒドロキシフェニル)−カルバメー
ト。
4−ヒドロキシフェニル)プロピオン酸と以下の一価ま
たは多価アルコールとのエステル アルコールの例:メタノール、エタノール、オクタノー
ル、オクタデカノール、1,6−ヘキサンジオール、
1,9−ノナンジオール、エチレングリコール、1,2
−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジ
エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチ
レングリコール、ペンタエリトリトール、トリス(ヒド
ロキシエチル)イソシアヌレート、N,N’−ビス(ヒ
ドロキシエチル)オキサミド、3−チアウンデカノー
ル、3−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジ
オール、トリメチロールプロパン、4−ヒドロキシメチ
ル−1−ホスファ−2,6,7−トリオキサビシクロ
〔2.2.2〕オクタン。
ドロキシ−3−メチルフェニル)プロピオン酸と以下の
一価または多価アルコールとのエステル アルコールの例:メタノール、エタノール、オクタノー
ル、オクタデカノール、1,6−ヘキサンジオール、
1,9−ノナンジオール、エチレングリコール、1,2
−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジ
エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチ
レングリコール、ペンタエリトリトール、トリス(ヒド
ロキシエチル)イソシアヌレート、N,N’−ビス(ヒ
ドロキシエチル)オキサミド、3−チアウンデカノー
ル、3−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジ
オール、トリメチロールプロパン、4−ヒドロキシメチ
ル−1−ホスファ−2,6,7−トリオキサビシクロ
〔2.2.2〕オクタン。
ヘキシル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオン酸と以
下の一価または多価アルコールとのエステル アルコールの例:メタノール、エタノール、オクタノー
ル、オクタデカノール、1,6−ヘキサンジオール、
1,9−ノナンジオール、エチレングリコール、1,2
−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジ
エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチ
レングリコール、ペンタエリトリトール、トリス(ヒド
ロキシエチル)イソシアヌレート、N,N’−ビス(ヒ
ドロキシエチル)オキサミド、3−チアウンデカノー
ル、3−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジ
オール、トリメチロールプロパン、4−ヒドロキシメチ
ル−1−ホスファ−2,6,7−トリオキサビシクロ
〔2.2.2〕オクタン。
ドロキシフェニル酢酸と以下の一価または多価アルコー
ルとのエステル アルコールの例:メタノール、エタノール、オクタノー
ル、オクタデカノール、1,6−ヘキサンジオール、
1,9−ノナンジオール、エチレングリコール、1,2
−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジ
エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチ
レングリコール、ペンタエリトリトール、トリス(ヒド
ロキシエチル)イソシアヌレート、N,N’−ビス(ヒ
ドロキシエチル)オキサミド、3−チアウンデカノー
ル、3−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジ
オール、トリメチロールプロパン、4−ヒドロキシメチ
ル−1−ホスファ−2,6,7−トリオキサビシクロ
〔2.2.2〕オクタン。
4−ヒドロキシフェニル)プロピオン酸のアミドの例 N,N’−ビス(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロ
キシフェニルプロピオニル)ヘキサメチレンジアミン、
N,N’−ビス(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロ
キシフェニルプロピオニル)トリメチレンジアミン、
N,N’−ビス(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロ
キシフェニルプロピオニル)ヒドラジン。
アゾールの例 2−(2’−ヒドロキシ−5’−メチルフェニル)ベン
ゾトリアゾール、2−(3’,5’−ジ第三ブチル−
2’−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール、2−
(5’−第三ブチル−2’−ヒドロキシフェニル)ベン
ゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−5’−
(1,1,3,3−テトラメチルブチル)フェニル)ベ
ンゾトリアゾール、2−(3’,5’−ジ第三ブチル−
2’−ヒドロキシフェニル)−5−クロロベンゾトリア
ゾール、2−(3’−第三ブチル−2’−ヒドロキシ−
5’−メチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾー
ル、2−(3’−第二ブチル−5’−第三ブチル−2’
−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール、2−
(2’−ヒドロキシ−4’−オクチルオキシフェニル)
ベンゾトリアゾール、2−(3’,5’−ジ第三アミル
−2’−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール、2
−(3’,5’−ビス(α,α−ジメチルベンジル)−
2’−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール、2−
(3’−第三ブチル−2’−ヒドロキシ−5’−(2−
オクチルオキシカルボニルエチル)フェニル)−5−ク
ロロベンゾトリアゾール、2−(3’−第三ブチル−
5’−〔2−(2−エチルヘキシルオキシ)カルボニル
エチル〕−2’−ヒドロキシフェニル)−5−クロロベ
ンゾトリアゾール、2−(3’−第三ブチル−2’−ヒ
ドロキシ−5’−(2−メトキシカルボニルエチル)フ
ェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(3’
−第三ブチル−2’−ヒドロキシ−5’−(2−メトキ
シカルボニルエチル)フェニル)ベンゾトリアゾール、
2−(3’−第三ブチル−2’−ヒドロキシ−5’−
(2−オクチルオキシカルボニルエチル)フェニル)ベ
ンゾトリアゾール、2−(3’−第三ブチル−5’−
〔2−(2−エチルヘキシルオキシ)カルボニルエチ
ル〕−2’−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾー
ル、2−(3’−ドデシル−2’−ヒドロキシ−5’−
メチルフェニル)ベンゾトリアゾールおよび2−(3’
−第三ブチル−2’−ヒドロキシ−5’−(2−イソオ
クチルオキシカルボニルエチル)フェニルベンゾトリア
ゾールの混合物、2,2’−メチレンビス〔4−(1,
1,3,3−テトラメチルブチル)−6−ベンゾトリア
ゾール−2−イルフェノール〕;2−〔3’−第三ブチ
ル−5’−(2−メトキシカルボニルエチル)−2’−
ヒドロキシフェニル〕−2H−ベンゾトリアゾールとポ
リエチレングリコール300とのエステル交換体;次
式:〔R−CH2 CH2 −COO(CH2 )3 −〕2 −
(式中、Rは3’−第三ブチル−4’−ヒドロキシ−
5’−2H−ベンゾトリアゾール−2−イルフェニル基
を表す)で表される化合物。
の例 4−ヒドロキシ−、4−メトキシ−、4−オクチルオキ
シ−、4−デシルオキシ−、4−ドデシルオキシ−、4
−ベンジルオキシ−、4,2’,4’−トリヒドロキシ
−および2’−ヒドロキシ−4,4’−ジメトキシ誘導
体。
のエステルの例 4−第三ブチルフェニルサリチレート、フェニルサリチ
レート、オクチルフェニルサリチレート、ジベンゾイル
レゾルシノール、ビス(4−第三ブチルベンゾイル)レ
ゾルシノール、ベンゾイルレゾルシノール、2,4−ジ
−第三ブチルフェニル3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒ
ドロキシベンゾエート、ヘキサデシル3,5−ジ−第三
ブチル−4−ヒドロキシベンゾエート、オクタデシル
3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシベンゾエー
ト、2−メチル−4,6−ジ第三ブチルフェニル3,5
−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシベンゾエート。
イソオクチルα−シアノ−β, β−ジフェニル−アクリ
レート、メチルα−カルボメトキシシンナメート、メチ
ルα−シアノ−β−メチル−p−メトキシシンナメー
ト、ブチルα−シアノ−β−メチル−p−メトキシシン
ナメート、メチルα−カルボメトキシ−p −メトキシシ
ンナメートおよびN−(β−カルボメトキシ−β−シア
ノビニル) −2−メチルインドリン。
メチルブチル) フェノール〕のニッケル錯体、例えば
1:1または1:2錯体であって、所望によりn−ブチ
ルアミン、トリエタノールアミンもしくはN−シクロヘ
キシルジエタノールアミンのような他の配位子を伴うも
の、ニッケルジブチルジチオカルバメート、モノアルキ
ルエステル、例えば4−ヒドロキシ−3,5−ジ−第三
ブチルベンジルホスホン酸のメチルもしくはエチルエス
テルのニッケル塩、ケトキシム例えば2−ヒドロキシ−
4−メチル−フェニルウンデシルケトキシムのニッケル
錯体、1−フェニル−4−ラウロイル−5−ヒドロキシ
−ピラゾールのニッケル錯体であって、所望により他の
配位子を伴うもの。
ケート、ビス(2,2,6,6−テトラメチルピペリジ
ル)スクシネート、ビス(1,2,2,6,6−ペンタ
メチルピペリジル)セバケート、ビス(1,2,2,
6,6−ペンタメチルピペリジル)n−ブチル−3,5
−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシベンジルマロネート、
1−(2−ヒドロキシエチル)−2,2,6,6−テト
ラメチル−4−ヒドロキシピペリジンとコハク酸との縮
合生成物、N,N’−ビス(2,2,6,6−テトラメ
チル−4−ピペリジル)ヘキサメチレンジアミンと4−
第三オクチルアミノ−2,6−ジクロロ−1,3,5−
トリアジンとの縮合生成物、トリス(2,2,6,6−
テトラメチル−4−ピペリジル)ニトリロトリアセテー
ト、テトラキス(2,2,6,6−テトラメチル−4−
ピペリジル)−1,2,3,4−ブタンテトラカルボキ
シレート、1,1’−(1,2−エタンジイル)−ビス
(3,3,5,5−テトラメチルピペラジノン)、4−
ベンゾイル−2,2,6,6−テトラメチルピペリジ
ン、4−ステアリルオキシ−2,2,6,6−テトラメ
チルピペリジン、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメ
チルピペリジル)−2−n−ブチル−2−(2−ヒドロ
キシ−3,5−ジ第三ブチルベンジル)マロネート、3
−n−オクチル−7,7,9,9−テトラメチル−1,
3,8−トリアザスピロ〔4.5〕デカン−2,4−ジ
オン、ビス(1−オクチルオキシ−2,2,6,6−テ
トラメチルピペリジル)セバケート、ビス(1−オクチ
ル−2,2,6,6−テトラメチルピペリジル)スクシ
ネート、N,N’−ビス(2,2,6,6−テトラメチ
ルピペリジル−4−ピペリジル)ヘキサメチレンジアミ
ンと4−モルホリノ−2,6−ジクロロ−1,3,5−
トリアジンとの縮合生成物、2−クロロ−4,6−ビス
(4−n−ブチルアミノ−2,2,6,6−テトラメチ
ルピペリジル)−1,3,5−トリアジンと1,2−ビ
ス(3−アミノプロピルアミノ)エタンとの縮合生成
物、2−クロロ−4,6−ジ(4−n−ブチルアミノ−
1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジル)−1,
3,5−トリアジンと1,2−ビス(3−アミノプロピ
ルアミノ)エタンとの縮合生成物、8−アセチル−3−
ドデシル−7,7,9,9−テトラメチル−1,3,8
−トリアザスピロ〔4.5〕デカン−2,4−ジオン、
3−ドデシル−1−(2,2,6,6−テトラメチル−
4−ピヘリジル)ピロリジン−2,5−ジオン、3−ド
デシル−1−(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4
−ピペリジル)ピロリジン−2,5−ジオン。
ジエトキシアニリド、2,2’−ジオクチルオキシ−
5,5’−ジ第三ブトキサニリド、2,2’−ジドデシ
ルオキシ−5,5’−ジ第三ブトキサニリド、2−エト
キシ−2’−エチルオキサニリド、N,N’−ビス(3
−ジメチルアミノプロピル)オキサミド、2−エトキシ
−5−第三ブチル−2’−エトキサニリドおよび該化合
物と2エトキシ−2’−エチル−5,4’−ジ第三ブト
キサニリドとの混合物、オルト−およびパラ−メトキシ
−二置換オキサニリドの混合物およびo−およびp−エ
トキシ−二置換オキサニリドの混合物。
−1,3,5−トリアジンの例 2,4,6−トリス(2−ヒドロキシ−4−オクチルオ
キシフェニル) −1,3,5−トリアジン、2−(2−
ヒドロキシ−4−オクチルオキシフェニル)−4,6−
ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリ
アジン、2−(2,4−ジヒドロキシフェニル)−4,
6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−
トリアジン、2,4−ビス(2−ヒドロキシ−4−プロ
ピルオキシフェニル)−6−(2,4−ジメチルフェニ
ル)−1,3,5−トリアジン、2−(2−ヒドロキシ
−4−オクチルオキシフェニル) −4,6−ビス(4−
メチルフェニル)−1,3,5−トリアジン、2−(2
−ヒドロキシ−4−ドデシルオキシフェニル) −4,6
−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−ト
リアジン、2−〔2−ヒドロキシ−4−(2−ヒドロキ
シ−3−ブチルオキシプロポキシ)フェニル〕−4,6
−ビス(2,4−ジメチル)−1,3,5−トリアジ
ン、2−〔2−ヒドロキシ−4−(2−ヒドロキシ−3
−オクチルオキシプロピルオキシ)フェニル〕−4,6
−ビス(2,4−ジメチル)−1,3,5−トリアジ
ン。
N’−サリチロイルヒドラジン、N,N’−ビス(サリ
チロイル)ヒドラジン、N,N’−ビス(3,5−ジ第
三ブチル−4−ヒドロキシフェニルプロピオニル)ヒド
ラジン、3−サリチロイルアミノ−1,2,4−トリア
ゾール、ビス(ベンジリデン)オキサリルジヒドラジ
ド、オキサニリド、イソフタロイルジヒドラジド、セバ
コイルビスフェニルヒドラジド、N,N’−ジアセチル
アジポイルジヒドラジド、N,N’−ビス(サリチロイ
ル)オキサリルジヒドラジド、N,N’−ビス(サリチ
ロイル)チオプロピオニルジヒドラジド。
ィット、フェニルジアルキルホスフィット、トリス(ノ
ニルフェニル)ホスフィット、トリラウリルホスフィッ
ト、トリオクタデシルホスフィット、ジステアリルペン
タエリトリトールジホスフィット、トリス(2,4−ジ
第三ブチルフェニル)ホスフィット、ジイソデシルペン
タエリトリトールジホスフィット、ビス(2,4−ジ第
三ブチルフェニル)ペンタエリトリトールジホスフィッ
ト、ビス(2,6−ジ第三ブチル−4−メチルフェニ
ル)ペンタエリトリトールジホスフィット、ジイソデシ
ルオキシペンタエリトリトールジホスフィット、ビス
(2,4−ジ第三ブチル−6−メチルフェニル)ペンタ
エリトリトールジホスフィット、ビス(2,4,6−ト
リス(第三ブチルフェニル)ペンタエリトリトールジホ
スフィット、トリステアリルソルビトールトリホスフィ
ット、テトラキス(2,4−ジ第三ブチルフェニル)
4,4’−ビフェニレンジホスホナイト、6−イソオク
チルオキシ−2,4,8,10−テトラ第三ブチル−1
2H−ジベンズ〔d,g〕−1,3,2−ジオキサホス
ホシン、6−フルオロ−2,4,8,10−テトラ第三
ブチル−12−メチル−ジベンズ〔d,g〕−1,3,
2−ジオキサホスホシン、ビス(2,4−ジ第三ブチル
−6−メチルフェニル)メチルホスフィット、ビス
(2,4−ジ第三ブチル−6−メチルフェニル)エチル
ホスフィット。
ステアリル、ミリスチルまたはトリデシルエステル、メ
ルカプトベンズイミダゾール、または2−メルカプトベ
ンズイミダゾールの亜鉛塩、ジブチルジチオカルバミン
酸亜鉛、ジオクタデシルジスルフィド、ペンタエリトリ
トールテトラキス(β−ドデシルメルカプト)プロピオ
ネート。
び二価マンガンの塩。
トリアリルシアヌレート、尿素誘導体、ヒドラジン誘導
体、アミン、ポリアミド、ポリウレタン、高級脂肪酸の
アルカリ金属塩およびアルカリ土類金属塩、例えばカル
シウムステアレート、亜鉛ステアレート、マグネシウム
ベヘネート、マグネシウムステアレート、ナトリウムリ
シノレートおよびカリウムパルミテート、アンチモンピ
ロカテコレートまたはスズピロカテコレート。
酸。
維、アスベスト、タルク、カオリン、雲母(マイカ)、
硫酸バリウム、金属酸化物および水酸化物、カーボンブ
ラックおよびグラファイト。
止剤および発泡剤。
材料の全重量を規準として0.01ないし10%の濃度
で使用される。
よび式Iで表される化合物の他に、その他の添加剤、好
ましくはフェノール系酸化防止剤、光安定剤および/ま
たは加工安定剤を含有する。
止剤(上記リストの項1)、立体障害性アミン(上記リ
ストの項2.6)、ホスフィットおよびホスホナイト
(上記リストの項4)および過酸化物スカベンジャー
(上記リストの項5)である。
の添加剤は、好都合には成形品への成形前または成形の
間に公知方法により有機ポリマーに混入されるか、また
は化合物の溶液または分散液を有機ポリマーに塗布し、
次にその溶媒を蒸発させることにより添加される。式I
で表される化合物はまた、該化合物を典型的には2.5
ないし25重量%の濃度で含有するマスターバッチの形
態で、安定化されるべき材料に添加され得る。
くは重合中、または架橋前に添加されてもよい。
純粋な形態で、またはワックス、オイルもしくはポリマ
ーにカプセル化されて混入され得る。
有機ポリマーに噴霧されてもよい。それらはその他の添
加剤(典型的には慣用の上記添加剤)またはその溶融物
を希釈し得、その結果、安定化されるべきポリマーに上
記添加剤と一緒に噴霧され得る。重合触媒の不活性化の
間の噴霧による適用は特に有利であり、その場合におけ
る噴霧は不活性化のために使用される蒸気と共に好都合
に作用する。
たは添加剤なしに球形の重合化ポリオレフィンに噴霧す
ることは好都合であり得る。
にはシート、フィラメント、リボン、成形用材料、型材
または塗料組成物用結合材、接着剤またはパテであって
よい。
される化合物を有機材料に混合するか、または適用する
ことからなる、酸化、熱または光誘導分解に対して有機
材料を安定化する方法に関する。
レフィン中の安定剤、特に熱安定剤として特別な利点で
もって使用される。優れた安定化は、上記化合物が有機
ホスフィットまたはホスホナイトと組み合わせて使用さ
れた場合に達成される。この場合、新規化合物は、相当
に低濃度で、典型的にはポリオレフィンに基づいて0.
0001ないし0.050重量%、好ましくは0.00
01ないし0.015重量%で有効であるという利点を
有する。有機ホスフィットまたはホスホナイトはポリオ
レフィンを規準として0.01ないし2重量%、好まし
くは0.01ないし1重量%の濃度で通常使用される。
DE−A−4202276に開示された有機ホスフィッ
トまたはホスホナイトを使用することが好ましい。該特
許明細書の特許請求の範囲、実施例、第4頁最後のパラ
グラフから第8頁が特に参照される。特に適当なホスフ
ィットおよびホスホナイトはまた上記の補助安定剤のリ
ストの項4に見出されるであろう。
化合物(式I)を有機ホスフィットまたはホスホナイト
およびフェノール系酸化防止剤と三重に組み合わせるこ
とにより得られる。
表される基を表し、R’1 は水素原子、炭素原子数1な
いし25のアルカノイル基、炭素原子数3ないし25の
アルケノイル基、酸素原子、硫黄原子もしくは次式:
のアルカノイル基;炭素原子数6ないし9のシクロアル
キルカルボニル基、テノイル基、フロイル基、ベンゾイ
ル基または炭素原子数1ないし12のアルキル基で置換
されたベンゾイル基;ナフトイル基または炭素原子数1
ないし12のアルキル基で置換されたナフトイル基;炭
素原子数1ないし25のアルカンスルホニル基、フルオ
ロ置換された炭素原子数1ないし25のアルカンスルホ
ニル基;フェニルスルホニル基または炭素原子数1ない
し12のアルキル基で置換されたフェニルスルホニル
基;次式:
いに独立して水素原子、塩素原子、ヒドロキシ基、炭素
原子数1ないし25のアルキル基、炭素原子数7ないし
9のフェニルアルキル基、非置換もしくは炭素原子数1
ないし4のアルキル基で置換されたフェニル基、非置換
もしくは炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換され
た炭素原子数5ないし8のシクロアルキル基;炭素原子
数1ないし18のアルコキシ基、炭素原子数1ないし1
8のアルキルチオ基、炭素原子数1ないし4のアルキル
アミノ基、ジ(炭素原子数1ないし4のアルキル)アミ
ノ基、炭素原子数1ないし25のアルカノイルオキシ
基、炭素原子数1ないし25のアルカノイルアミノ基、
炭素原子数3ないし25のアルケノイルオキシ基、酸素
原子、硫黄原子もしくは次式:
のアルカノイルオキシ基;炭素原子数6ないし9のシク
ロアルキルカルボニルオキシ基、ベンゾイルオキシ基ま
たは炭素原子数1ないし12のアルキル基で置換された
ベンゾイルオキシ基を表すか;または置換基対R2 およ
びR3 またはR3 およびR4 またはR4 およびR5 の各
々は結合している炭素原子と一緒になってベンゼン環を
形成するが;ただしR2 、R3 、R4 またはR5 の少な
くとも1つは水素原子ではなく;R1 がハロゲン原子ま
たはヒドロキシ基を表すならば、R2 は水素原子ではな
く;そしてR2 がメチル基またはメチルアミン基を表す
ならば、R4 は水素原子およびヒドロキシ基ではなく;
R4 はさらに次式:−(CH2 )p −COR9 または−
(CH2 )q OHで表される基を表すか、またはR3 お
よびR5 が水素原子を表すならば、R4 はさらに次式I
Ia:
1ないし8のアルキル基を表し、R7 は水素原子または
炭素原子数1ないし8のアルキル基を表し、R8 は直接
結合、炭素原子数1ないし18のアルキレン基、酸素原
子、硫黄原子もしくは次式:
のアルキレン基;炭素原子数2ないし18のアルケニレ
ン基、炭素原子数2ないし20のアルキリデン基、炭素
原子数7ないし20のフェニルアルキリデン基、炭素原
子数5ないし8のシクロアルキレン基、炭素原子数7も
しくは8のビシクロアルキレン基、非置換もしくは炭素
原子数1ないし4のアルキル基で置換されたフェニレン
基、次式:
または次式:
次式:
アルキル基またはフェニル基を表し、R12およびR13は
互いに独立して水素原子、CF3 、炭素原子数1ないし
12のアルキル基またはフェニル基を表すか、またはR
12およびR13は結合している炭素原子と一緒になって、
非置換または1ないし3個の炭素原子数1ないし4のア
ルキル基で置換された炭素原子数5ないし8のシクロア
ルキリデン環を形成し、R14およびR15は互いに独立し
て水素原子または炭素原子数1ないし18のアルキル基
を表し、Mは原子価rの金属カチオンを表し、nは0、
1または2を表し、pは0、1または2を表し、qは
1、2、3、4、5または6を表し、そしてrは1、2
または3を表す)で表される新規化合物に関する。
は新規組成物に関して上記した好ましい意味に一致す
る。
す化合物もまた好ましい。
中、R1 が塩素原子、臭素原子または次式:−OR’1
で表される基を表し、R’1 が水素原子、炭素原子数1
ないし12のアルカノイル基、酸素原子により中断され
た炭素原子数3ないし12のアルカノイル基;シクロヘ
キシルカルボニル基、ベンゾイル基、ナフトイル基、炭
素原子数1ないし12のアルカンスルホニル基、フルオ
ロ置換された炭素原子数1ないし12のアルカンスルホ
ニル基;フェニルスルホニル基または炭素原子数1ない
し4のアルキル基で置換されたフェニルスルホニル基;
次式:
いに独立して水素原子、塩素原子、ヒドロキシ基、炭素
原子数1ないし18のアルキル基、炭素原子数7ないし
9のフェニルアルキル基、フェニル基、炭素原子数5な
いし8のシクロアルキル基、炭素原子数1ないし6のア
ルコキシ基、シクロヘキシルカルボニルオキシ基または
ベンゾイルオキシ基を表すか、または置換基対R2 およ
びR3 またはR3 およびR4 またはR4 およびR5 の各
々が結合している炭素原子と一緒になってベンゼン環を
形成するが;ただしR2 、R3 、R4 およびR5 の少な
くとも1つは水素原子ではなく;R1 がヒドロキシ基、
塩素原子または臭素原子を表すならば、R2 が水素原子
ではなく;そしてR2 がメチル基またはヒドロキシ基を
表すならば、R4が水素原子およびヒドロキシ基ではな
く;そしてR4 がさらに次式:−(CH2)p −COR
9 で表される基を表すか;またはR3 およびR5 が水素
原子を表すならば、R4 がさらに次式IIa:
1ないし6のアルキル基を表し、R8 が炭素原子数1な
いし12のアルキレン基またはフェニレン基を表し、R
9 がヒドロキシ基または炭素原子数1ないし8のアルコ
キシ基を表し、R10が−NH−を表し、R11が炭素原子
数1ないし8のアルキル基またはフェニル基を表し、そ
してR12およびR13が結合している炭素原子と一緒にな
って炭素原子数5ないし8のシクロアルキリデン環を形
成する化合物である。
式中R1 が塩素原子または次式:−OR’1 で表される
基を表し、R’1 が水素原子、炭素原子数1ないし8の
アルカノイル基、ベンゾイル基、メタンスルホニル基、
トリフルオロメタンスルホニル基;フェニルスルホニル
基または炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換され
たフェニルスルホニル基;次式:
いに独立して水素原子、塩素原子、炭素原子数1ないし
18のアルキル基、炭素原子数7ないし9のフェニルア
ルキル基、フェニル基、シクロヘキシル基、炭素原子数
1ないし6のアルコキシ基を表すが;ただしR2 、
R3 、R4 またはR5 の少なくとも1つは水素原子では
なく;R1がヒドロキシ基または塩素原子を表すなら
ば、R2 が水素原子ではなく;そしてR2 がメチル基を
表すならば、R4 が水素原子ではなく;R4 がさらに次
式:−(CH2 )p −COR9 で表される基を表すか、
またはR3 およびR5 が水素原子を表すならば、R4 が
さらに次式IIa:
1ないし4のアルキル基を表し、R9 がヒドロキシ基ま
たは炭素原子数1ないし8のアルコキシ基を表し、R10
が−NH−を表し、R11が炭素原子数1ないし4のアル
キル基またはフェニル基を表し、R12およびR13が結合
している炭素原子と一緒になってシクロヘキシリデン環
を形成し、nが2を表し、そしてpが2を表す化合物で
ある。
す化合物は、H. Sterk等, Monatshefte fur Chemie 9
9, 2223 (1968) に記載されているように、次式Ibま
たはIc:
で、式IおよびIaは式IbおよびIcの2種類の互変
異性体を含むものと常に理解されるべきである。
記載の方法に類似の方法によりそれ自体公知の方法で製
造され得る。
そしてあるものは高価で、環境保護の観点から、全く安
全なわけではない試薬、例えば二酸化セレンを必要とす
る。
じ意味を表す)で表されるフェノール1当量をグリオキ
シル酸0.8ないし2.0当量と反応させて次式IV:
じ意味を表す)で表される化合物を得、そして b)上記式I中、R’1 が水素原子ではない化合物を製
造するために、式IVで表される生成化合物をハロゲン
化水素酸、オキシ硫酸のハロゲン化物、リン酸のハロゲ
ン化物、亜リン酸のハロゲン化物、次式V: R’1 −OH (V) で表される酸、次式VI R’1 −Y (VI) で表される酸ハライド、次式VII: R’1 −O−R16 (VII) で表されるエステル、次式VIII: R’1 −O−R’1 (VIII) で表される対称もしくは非対称無水物、または次式I
X: R11−N=C=O (IX) で表されるイソシアネート(上記式V、VI、VII、
VIIIおよびIXで表される化合物中のR’1 および
R11は上で定義されたものと同じ意味を表すが、ただし
R’1 は水素原子ではなく;R16は炭素原子数1ないし
8のアルキル基を表し、そしてYはフッ素原子、塩素原
子、臭素原子またはヨウ素原子を表す)と反応させるこ
とからなる式Iで表される化合物の製造方法に関する。
用的には、通常40ないし60%水性溶液の市販の形態
で使用され得る。
興味深い製造方法は、グリオキシル酸を40ないし60
%、好ましくは50%の水性グリオキシル酸の形態で使
用することからなる。
の水は反応の間に蒸留により、通常は水との共沸混合物
を形成する溶媒を用いて、除去される。
応に関与せず、そして典型的には炭化水素、例えばシク
ロヘキサンまたはメチルシクロヘキサン;芳香族炭化水
素、例えばベンゼン、トルエンまたはキシレン;ハロゲ
ン化炭化水素、例えば1,2−ジクロロエタン;または
エーテル、例えばメチル第三ブチルエーテルを包含す
る。
シル酸と溶媒なしに反応させると、溶融体で式IVで表
される化合物が得られ、反応の水は通常の圧力下、好ま
しくはわずかに真空下で好都合に蒸留される。
いし120℃の範囲で行うことが好ましい。特に好まし
い温度範囲は60ないし90℃である。
シル酸との反応は好ましくは触媒の存在下で行われる。
酸アルミニウム、イオン交換樹脂、ゼオライト、天然シ
ートシリケートまたは変性シートシリケートである。
塩の酸、典型的には塩化水素酸、硫酸、リン酸、メタン
スルホン酸、p−トルエンスルホン酸またはカルボン酸
例えば酢酸である。p−トルエンスルホン酸が特に好ま
しい。
ルミニウム、塩化亜鉛またはブロモトリフルオリドエー
テレートである。四塩化スズおよび塩化アルミニウムが
特に好ましい。
で広く使用されており、そして不定形ケイ酸アルミニウ
ムとして知られてもいるものである。これらの化合物は
約10−30%の一酸化ケイ素と70−90%の酸化ア
ルミニウムとを含有する。特に好ましいケイ酸アルミニ
ウムはケジェン(アクゾ)[Ketjen (Akzo)] から利用可
能な登録商標HA−HPVである。
に有するスチレン−ジビニルベンゼン樹脂、例えばロー
ム・アンド・ハースから入手可能な登録商標アンバーラ
イト200(Amberlite 200) および登録商標アンバーリ
スト(Amberlyst) 、またはダウ・ケミカルズから入手可
能な登録商標ダウエックス50(Dowex 50);過フッ素化
イオン交換樹脂、例えばデュポンにより販売されている
登録商標ナフィオンH(Nafion H);またはその他の過酸
イオン交換樹脂、例えばT. Yamaguchi, Applied Cataly
sis,61, 1-25 (1990) またはM. Hino 等,J. Chem. So
c. Chem. Commun. 1980, 851-852 に記載されているも
のである。
おいてクラッキング触媒として広く使用されており、そ
して異なる結晶構造の結晶性シリコン−アルミニウムオ
キシドとして知られているものである。特に好ましいゼ
オライトはユニオン・カーバイドから入手可能なファウ
ジャサイツ(Faujasites)、例えばゼオライトX(Zeolith
X) 、ゼオライトY(Zeolith Y) およびウルトラスタビ
ル・ゼオライトY(ultrastabile Zeolith Y);モービル
石油社から入手可能なゼオライト・ベータ(Zeolith Bet
a)およびゼオライトZSM−12(Zeolith ZSM-12);ノ
ートンから入手可能なゼオライト・モルデニット(Zeoli
th Mordenit)である(上記名称はいずれも登録商標)。
土」と呼ばれ、そして典型的には分解、粉砕、鉱酸での
処理および工業的にカ焼されたベントナイトまたはモン
モリロナイトを包含する。特に適当な天然シートシリケ
ートはラポート・アドソーベンツ社から入手可能である
登録商標ファルキャット(Fulcat)タイプのもの、例えば
ファルキャット22A、ファルキャット22B、ファル
キャット20またはファルキャット40;ラポート・ア
ドソーベンツ社から入手可能である登録商標ファルモン
ト(Fulmont) タイプ、例えばファルモントXMP−3ま
たはファルモントXMP−4である。特に好ましい触媒
はファルキャット22Bである。その他のファルキャッ
トタイプおよびファルモントタイプのものもまた、例え
ば酸中心の構成において個々のタイプの間にわずかな違
いがあるだけであるので、上記好ましいクラスに属す
る。
レー」と呼ばれ、そして上記の天然シートシリケートか
ら、該シリケート層の間に例えばジルコニウム、鉄、亜
鉛、ニッケル、クロム、コバルトまたはマグネシウムの
酸化物をさらに含むことにより誘導される。触媒のこの
タイプは文献、特にJ. Clark等,J. Chem. Soc. Chem.
Commun. 1989, 1353-1354 に記載されているように広く
使用されるが、ごく少数の会社からしか供給されていな
い。特に好ましい変性シートシリケートは典型的にはコ
ントラクト・ケミカルズから入手可能な登録商標エンビ
ロキャット(Envirocat) EPZ−10、エンビロキャッ
トEPZGまたはエンビロキャットEPICを包含す
る。
は変性シートシリケートである。式IIIで表されるフ
ェノールとグリオキシル酸との反応をファルキャットタ
イプ触媒の存在下で行うのが好ましい。触媒の量は式I
IIで表されるフェノールを規準として0.01ないし
5モル%、好ましくは0.1ないし1.0モル%であ
る。
I中、R’1 が水素原子を表さない化合物を製造するた
めの反応工程b)の反応条件は一般に公知であり、そし
てOrganikum 1986, 186-191 頁,388 頁および402-408
頁に記載されたエステル化法に従って一般に選択され得
る。
水素酸、臭化水素酸またはヨウ化水素酸である。塩化水
素酸が好ましい。オキシ硫酸のハロゲン化物は典型的に
は塩化チオニル、塩化スルフリルまたは臭化チオニルで
ある。塩化チオニルが好ましい。適当なリン酸または亜
リン酸のハロゲン化物は三塩化リン、三臭化リン、三ヨ
ウ化リン、五塩化リン、ホスホロキシクロリドまたは五
フッ化リンを包含する。ホスホロキシクロリドが特に好
ましい。
ゲン化物、例えば塩化チオニル;式VIで表される酸ハ
ロゲン化物;式VIIで表されるエステル;式VIII
で表される対称無水物を使用することが好ましい。
ン化物、例えば塩化チオニルを使用する場合、式IVで
表される化合物の反応を溶媒なしで、0ないし40℃の
温度範囲、好ましくは室温で行うのが好ましい。塩化チ
オニルは式IVで表される化合物に対して通常2ないし
10倍過剰、好ましくは2ないし6倍過剰に使用され
る。反応は触媒、例えばジメチルホルムアミドの存在下
に行われ得る。
塩素原子または臭素原子、最も好ましくは塩素原子を表
す酸ハロゲン化物が工程b)において使用されるなら
ば、式IVで表される化合物の反応を溶媒および塩基の
存在下で行うのが好ましい。塩基は式IVで表される化
合物に対して触媒量ないし化学量論量から複数倍のモル
過剰の量までの変化する量で用いることができる。反応
の間に形成される塩化水素は塩基により塩化物に変換さ
れ、該塩化物は次いで濾過および/または適当な水相ま
たは固相での洗浄により除去され得、その場合には第2
の水不混和性溶媒が使用され得る。生成物は濃縮または
蒸発により乾燥させた有機相の残渣を再結晶することに
より通常精製される。
(典型的にはトルエン、キシレン、ヘキサン、ペンタン
またはその他の石油エーテル留分)、ハロゲン化炭化水
素(典型的にはジ−またはトリクロロメタン、1,2−
ジクロロエタン、1,1,1−トリクロロエタン)、エ
ーテル(例えばジエチルエーテル、ジブチルエーテルま
たはテトラヒドロフラン)およびアセトニトリル、ジメ
チルホルムアミド、ジメチルスルホキシドまたはN−メ
チルピロリドンを包含する。
ルアミン、トリエチルエミン、トリブチルアミン、N,
N−ジメチルアニリン、N,N−ジエチルアニリン;ピ
リジン;ヒドリド(例えば水素化リチウム、ナトリウム
またはカリウム)またはエルコレート(例えばナトリウ
ムメチレート)を包含する。
好ましくは炭素原子数1ないし4のアルキル基、最も好
ましくはメチル基またはエチル基を表すエステルが工程
b)で使用されるならば、式IVで表される化合物の反
応はアルコールと共沸混合物を形成する溶媒の存在下で
行うことが好ましい。反応の間に形成するアルコール
(R16−OH)は蒸留により連続的に除去され得る。
溶媒は反応に関与せず、そして典型的には炭化水素、例
えばシクロヘキサン;芳香族炭化水素、例えばベンゼン
またはトルエン;ハロゲン化炭化水素、例えば1,2−
ジクロロエタン;またはエーテル、例えばメチル第三ブ
チルエーテルを包含する。
エンスルホン酸、メタンスルホン酸、硫酸または塩化水
素酸;ならびにルイス酸、例えば三フッ化ホウ素エーテ
レートまたは塩化アルミニウムで触媒され得る。
R’1 が好ましくは炭素原子数2ないし6のアルカノイ
ル基、好ましくはアセチル基を表す対称無水物が工程
b)で使用されるならば、式IVで表される化合物との
反応はその他の溶媒を添加せずに、そして20ないし2
00℃の温度範囲、例えば式VIIIで表される無水物
の沸点、好ましくは60ないし180℃で行うのが好ま
しい。
ソシアネートが使用されるならば、式IVで表される化
合物との反応はその他の溶媒を添加せずに、そして20
ないし200℃の温度範囲、例えば式IXで表されるイ
ソシアネートの沸点、好ましくは60ないし180℃で
行うのが好ましい。
在下で行われるのが好ましい。好ましい触媒は式III
で表されるフェノールとグリオキシル酸との反応に関し
て上記したものである。
るか、またはそれ自体公知の方法で製造され得る。
r organischen Chemie,Vol. 6/1c, 1030 に従って製造
され得る。
る。なお、以下の実施例において、部および%はそれぞ
れ重量部および重量%である。 実施例1:5,7−ジ第三ブチル−3−ヒドロキシ−3
H−ベンゾフラン−2−オン〔化合物(101),第1
表〕の製造 2,4−ジ第三ブチルフェノール(97%)21.2g
(0.10モル)、50%水性グリオキシル酸16.3
g(0.11モル)およびp−トルエンスルホン酸一水
和物0.05g(0.26ミリモル)の1,2−ジクロ
ロエタン30ml中の混合物を窒素下3.5時間、水分
離器上で還流する。その後、反応混合物を真空ロータリ
ーエバポレーターで濃縮する。残渣をヘキサン80ml
中に採取し、そして水で3回洗浄する。水相を分液ロー
トで分離し、そしてさらにヘキサン30mlで抽出す
る。有機相を一緒にし、硫酸マグネシウムで乾燥させ、
そして真空ロータリーエバポレーターで濃縮する。残渣
は濃い黄色樹脂の形態で分析により純粋な5,7−ジ第
三ブチル−3−ヒドロキシ−3H−ベンゾフラン−2−
オン〔化合物(101),第1表〕26.23g(〜1
00%)である。
3)、(104)、(105)、(109)、(11
0)および(111)が相当するフェノール、例えば4
−第三ブチル−2−メチルフェノール、2,4−ジクロ
ロヘキシルフェノール、2−(ヘキサデシ−2−イル)
−4−メチルフェノール、3−〔3−第三ブチル−4−
ヒドロキシフェニル〕プロピオン酸、2,4−ビス
(α,α−ジメチルベンジル)フェノールおよび4−メ
チル−2−(1,1,3,3−テトラメチルブチ−1−
イル)フェノールとグリオキシル酸とから製造される。
化合物(107)を製造するために、2当量のグリオキ
シル酸が1,1−ビス(3−第三ブチル−4−ヒドロキ
シフェニル)シクロヘキサンから出発して使用される。
シ−5−メチル−3H−ベンゾフラン−2−オン〔化合
物(102),第1表〕の製造 2−第三ブチル−4−メチルフェノール49.8g
(0.30モル)、50%水性グリオキシル酸48.9
g(0.33モル)およびp−トルエンスルホン酸一水
和物0.15g(0.79ミリモル)の1,2−ジクロ
ロエタン90ml中の混合物を窒素下3.5時間、水分
離器上で還流する。その後、反応混合物を+5℃まで冷
却し、そして濾過により沈澱物を単離し、そして冷却
1,2−ジクロロエタンで洗浄する。濾過残渣を高真空
下室温で乾燥させると、融点152−160℃の7−第
三ブチル−3−ヒドロキシ−5−メチル−3H−ベンゾ
フラン−2−オン〔化合物(102),第1表〕54.
0g(82%)が得られる。
三ブチル−3H−ベンゾフラン−2−オン〔化合物(1
06),第1表〕の製造 2,4−ジ第三ブチルフェノール(97%)21.2g
(0.10モル)、50%水性グリオキシル酸16.3
g(0.11モル)およびp−トルエンスルホン酸一水
和物0.05g(0.26ミリモル)の1,2−ジクロ
ロエタン30ml中の混合物を窒素下3.5時間、水分
離器上で還流する。その後、反応混合物を真空ロータリ
ーエバポレーターで濃縮する。残渣を無水酢酸9.9m
l(0.105モル)中に採取し、そして溶液を90分
間還流する。反応混合物を次いで室温まで冷却し、第三
ブチルメチルエーテル100mlで希釈し、水で連続的
に洗浄し、そして炭酸水素ナトリウム溶液で希釈する。
水相を分離し、そして第三ブチルメチルエーテル50m
lで抽出する。有機相を一緒にし、硫酸マグネシウムで
乾燥させ、そして真空ロータリーエバポレーターで濃縮
する。残渣に対し溶媒系ジクロロメタン/ヘキサン=
2:1を用いるシリカゲル上でのクロマトグラフィーを
行うと3−アセトキシ−5,7−ジ第三ブチル−3H−
ベンゾフラン−2−オン〔化合物(106),第1表〕
28.0g(92%)が濃い赤色樹脂として得られる。
5−メチル−3H−ベンゾフラン−2−オン〔化合物
(108),第1表〕の製造 塩化チオニル2.4ml(55.0ミリモル)中の7−
第三ブチル−3−ヒドロキシ−5−メチル−3H−ベン
ゾフラン−2−オン〔化合物(102),実施例2,第
1表〕2.2g(10.0ミリモル)の懸濁液に、ジメ
チルホルムアミドを1滴添加し、そして混合物を室温で
2時間攪拌する。その後、過剰な塩化チオニルを真空ロ
ータリーエバポレーターで留去する。残渣に対し溶媒系
ジクロロメタン/ヘキサン=1:1を用いるシリカゲル
上でのクロマトグラフィーおよびメタノールからの純粋
な画分の結晶化を行うと融点81−86℃の7−第三ブ
チル−3−クロロ−5−メチル−3H−ベンゾフラン−
2−オン〔化合物(108),第1表〕0.30g(1
3%)が得られる。
オキシ)−5−メチル−7−第三ブチル−3H−ベンゾ
フラン−2−オン〔化合物(112),第1表〕の製造 7−第三ブチル−3−ヒドロキシ−5−メチル−3H−
ベンゾフラン−2−オン〔化合物(102),実施例
2〕5.5g(25.0ミリモル)、メチルイソシアネ
ート3ml(50.0ミリモル)およびメタンスルホン
酸2滴の混合物を3時間15分還流する。次にメチルイ
ソシアネート3ml(50.0ミリモル)およびメタン
スルホン酸2滴を再び添加する。反応混合物をさらに1
6時間還流し、ジクロロメタンで希釈し、そして水およ
び5%水性炭酸水素ナトリウム溶液で洗浄する。有機相
を一緒にし、硫酸マグネシウムで乾燥させ、そして真空
ロータリーエバポレーターで濃縮する。残渣をトルエン
から再結晶させると融点138−143℃の3−(N−
メチルカルバモイルオキシ)−5−メチル−7−第三ブ
チル−3H−ベンゾフラン−2−オン〔化合物(11
2),第1表〕4.45g(65%)が得られる。
チル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオニルオキシ〕
−7−第三ブチル−5−メチル−3H−ベンゾフラン−
2−オン〔化合物(113),第1表〕の製造 7−第三ブチル−3−ヒドロキシ−5−メチル−3H−
ベンゾフラン−2−オン〔化合物(102),実施例
2〕5.5g(25.0ミリモル)およびトリエチルア
ミン3.9ml(28.0ミリモル)のジクロロメタン
30ml中の溶液をジクロロメタン10ml中の3−
(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プ
ロピオニルクロリド〔3−(3,5−ジ第三ブチル−4
−ヒドロキシフェニル)プロピオン酸7.8g(28.
0ミリモル)と塩化チオニルとから製造された〕8.3
2g(28.0ミリモル)の溶液に滴下して添加する。
反応混合物を次に1時間還流し、次いで冷却し、そして
水および5%水性炭酸水素ナトリウム溶液で洗浄する。
有機相を一緒にし、硫酸マグネシウムで乾燥させ、そし
て真空ロータリーエバポレーターで濃縮する。残渣をア
セトニトリルから3回結晶化させと融点151−154
℃の3−〔3−(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキ
シフェニル)プロピオニルオキシ〕−7−第三ブチル−
5−メチル−3H−ベンゾフラン−2−オン〔化合物
(113),第1表〕4.6g(38%)が得られる。
の安定化 イルガノックス(登録商標,Irganox )1076(n−
オクタデシル3−〔3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロ
キシフェニル〕プロピオネート0.025%で予め安定
化されたポリプロピレン粉末(プロファックス650
1)1.3kg(メルトインデックス3.2g/10
分,230℃/2.16kgで測定)にイルガノックス
1010(ペンタエリトリトールテトラキス〔3−
(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プ
ロピオネート〕0.05%、ステアリン酸カルシウム
0.05%、DHT 4A(登録商標,協和化学工業株
式会社,Mg4.5 Al2 (OH)13CO3 ・3.5H2
O)0.03%および第1表の化合物0.05%を配合
する。この配合物を次にシリンダー直径20mm、長さ
400mmを有する押出機において100rpmで、3
つの加熱領域を以下の温度:260,270,280℃
に調節して押出した。押出物を水浴を介してそれを引く
ことにより冷却し、次いで粒化する。この粒状物を繰り
返し押し出す。3回の押出後、メルトインデックスを測
定する(230℃/2.16kgで)。メルトインデッ
クスにおける実質的な増加は顕著な鎖長分解、すなわち
低い安定化を意味する。結果を第2表に示す。
Claims (22)
- 【請求項1】(a)酸化、熱または光誘導分解を受けや
すい有機材料、および(b)少なくとも1種の次式I: 【化1】 (式中、 R1 はハロゲン原子または次式:−OR’1 で表される
基を表し、 R’1 は水素原子、炭素原子数1ないし25のアルカノ
イル基、炭素原子数3ないし25のアルケノイル基、酸
素原子、硫黄原子もしくは次式: 【化2】 で表される基により中断された炭素原子数3ないし25
のアルカノイル基;炭素原子数6ないし9のシクロアル
キルカルボニル基、テノイル基、フロイル基、ベンゾイ
ル基または炭素原子数1ないし12のアルキル基で置換
されたベンゾイル基;ナフトイル基または炭素原子数1
ないし12のアルキル基で置換されたナフトイル基;炭
素原子数1ないし25のアルカンスルホニル基、フルオ
ロ置換された炭素原子数1ないし25のアルカンスルホ
ニル基;フェニルスルホニル基または炭素原子数1ない
し12のアルキル基で置換されたフェニルスルホニル
基;次式: 【化3】 で表される基を表し、 R2 、R3 、R4 およびR5 は互いに独立して水素原
子、塩素原子、ヒドロキシ基、炭素原子数1ないし25
のアルキル基、炭素原子数7ないし9のフェニルアルキ
ル基、非置換もしくは炭素原子数1ないし4のアルキル
基で置換されたフェニル基、非置換もしくは炭素原子数
1ないし4のアルキル基で置換された炭素原子数5ない
し8のシクロアルキル基;炭素原子数1ないし18のア
ルコキシ基、炭素原子数1ないし18のアルキルチオ
基、炭素原子数1ないし4のアルキルアミノ基、ジ(炭
素原子数1ないし4のアルキル)アミノ基、炭素原子数
1ないし25のアルカノイルオキシ基、炭素原子数1な
いし25のアルカノイルアミノ基、炭素原子数3ないし
25のアルケノイルオキシ基、酸素原子、硫黄原子もし
くは次式: 【化4】 で表される基により中断された炭素原子数3ないし25
のアルカノイルオキシ基;炭素原子数6ないし9のシク
ロアルキルカルボニルオキシ基、ベンゾイルオキシ基ま
たは炭素原子数1ないし12のアルキル基で置換された
ベンゾイルオキシ基を表すか;または置換基対R2 およ
びR3 またはR3 およびR4 またはR4 およびR5 の各
々は結合している炭素原子と一緒になってベンゼン環を
形成し;R4 はさらに次式:−(CH2 )p −COR9
または−(CH2 )q OHで表される基を表すか、また
はR3 およびR5 が水素原子を表すならば、R4 はさら
に次式II: 【化5】 で表される基を表し、 R6 は水素原子または炭素原子数1ないし8のアルキル
基を表し、 R7 は水素原子または炭素原子数1ないし8のアルキル
基を表し、 R8 は直接結合、炭素原子数1ないし18のアルキレン
基、酸素原子、硫黄原子もしくは次式: 【化6】 で表される基により中断された炭素原子数2ないし18
のアルキレン基;炭素原子数2ないし18のアルケニレ
ン基、炭素原子数2ないし20のアルキリデン基、炭素
原子数7ないし20のフェニルアルキリデン基、炭素原
子数5ないし8のシクロアルキレン基、炭素原子数7も
しくは8のビシクロアルキレン基、非置換もしくは炭素
原子数1ないし4のアルキル基で置換されたフェニレン
基、次式: 【化7】 で表される基を表し、 R9 はヒドロキシ基、次式: 【化8】 で表される基、炭素原子数1ないし18のアルコキシ基
または次式: 【化9】 で表される基を表し、 R10は酸素原子、−NH−または次式: 【化10】 で表される基を表し、 R11は炭素原子数1ないし18のアルキル基またはフェ
ニル基を表し、 R12およびR13は互いに独立して水素原子、CF3 、炭
素原子数1ないし12のアルキル基またはフェニル基を
表すか、またはR12およびR13は結合している炭素原子
と一緒になって、非置換または1ないし3個の炭素原子
数1ないし4のアルキル基で置換された炭素原子数5な
いし8のシクロアルキリデン環を形成し、 R14およびR15は互いに独立して水素原子または炭素原
子数1ないし18のアルキル基を表し、 Mは原子価rの金属カチオンを表し、 nは0、1または2を表し、 pは0、1または2を表し、 qは1、2、3、4、5または6を表し、そしてrは
1、2または3を表す)で表される化合物からなる組成
物。 - 【請求項2】 上記式中、 R’1 が水素原子、炭素原子数1ないし18のアルカノ
イル基、炭素原子数3ないし18のアルケノイル基、酸
素原子、硫黄原子もしくは次式: 【化11】 で表される基により中断された炭素原子数3ないし18
のアルカノイル基;炭素原子数6ないし8のシクロアル
キルカルボニル基、テノイル基、フロイル基、ベンゾイ
ル基または炭素原子数1ないし8のアルキル基で置換さ
れたベンゾイル基;ナフトイル基または炭素原子数1な
いし8のアルキル基で置換されたナフトイル基;炭素原
子数1ないし18のアルカンスルホニル基、フルオロ置
換された炭素原子数1ないし18のアルカンスルホニル
基;フェニルスルホニル基または炭素原子数1ないし8
のアルキル基で置換されたフェニルスルホニル基;次
式: 【化12】 で表される基を表し、 R2 、R3 、R4 およびR5 が互いに独立して水素原
子、塩素原子、ヒドロキシ基、炭素原子数1ないし25
のアルキル基、炭素原子数7ないし9のフェニルアルキ
ル基、非置換もしくは炭素原子数1ないし4のアルキル
基で置換されたフェニル基、非置換もしくは炭素原子数
1ないし4のアルキル基で置換された炭素原子数5ない
し8のシクロアルキル基;炭素原子数1ないし12のア
ルコキシ基、炭素原子数1ないし12のアルキルチオ
基、炭素原子数1ないし4のアルキルアミノ基、ジ(炭
素原子数1ないし4のアルキル)アミノ基、炭素原子数
1ないし18のアルカノイルオキシ基、炭素原子数1な
いし18のアルカノイルアミノ基、炭素原子数3ないし
18のアルケノイルオキシ基、酸素原子、硫黄原子もし
くは次式: 【化13】 で表される基により中断された炭素原子数3ないし18
のアルカノイルオキシ基;炭素原子数6ないし8のシク
ロアルキルカルボニルオキシ基、ベンゾイルオキシ基ま
たは炭素原子数1ないし8のアルキル基で置換されたベ
ンゾイルオキシ基を表すか、または置換基対R2 および
R3 またはR3 およびR4 またはR4 およびR5 の各々
が結合している炭素原子と一緒になってベンゼン環を形
成し;R4がさらに次式:−(CH2 )p −COR9 ま
たは−(CH2 )q OHで表される基を表すか;または
R3 およびR5 が水素原子を表すならば、R4 がさらに
次式II: 【化14】 で表される基を表し、 R6 が水素原子または炭素原子数1ないし6のアルキル
基を表し、 R7 が水素原子または炭素原子数1ないし6のアルキル
基を表し、 R8 が直接結合、炭素原子数1ないし12のアルキレン
基、酸素原子、硫黄原子もしくは次式: 【化15】 で表される基により中断された炭素原子数2ないし12
のアルキレン基;炭素原子数2ないし12のアルケニレ
ン基、炭素原子数2ないし12のアルキリデン基、炭素
原子数7ないし12のフェニルアルキリデン基、炭素原
子数5ないし8のシクロアルキレン基、炭素原子数7も
しくは8のビシクロアルキレン基またはフェニレン基を
表し、 R9 がヒドロキシ基、炭素原子数1ないし12のアルコ
キシ基または次式: 【化16】 で表される基を表し、 R10が酸素原子または−NH−を表し、 R11が炭素原子数1ないし12のアルキル基またはフェ
ニル基を表し、 R12およびR13がメチル基を表すか、または結合してい
る炭素原子と一緒になって、非置換または1ないし3個
の炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換された炭素
原子数5ないし8のシクロアルキリデン環を形成し、 R14およびR15が互いに独立して水素原子または炭素原
子数1ないし8のアルキル基を表し、そしてqが2、
3、4、5または6を表す、請求項1記載の組成物。 - 【請求項3】 上記式中、置換基R2 、R3 、R4 およ
びR5 の少なくとも2つが水素原子を表す、請求項1記
載の組成物。 - 【請求項4】 上記式中、R3 およびR5 が水素原子を
表す、請求項1記載の組成物。 - 【請求項5】 上記式中、 R1 が塩素原子、臭素原子また次式:−OR’1 で表さ
れる基を表し、 R’1 が水素原子、炭素原子数1ないし12のアルカノ
イル基、酸素原子により中断された炭素原子数3ないし
12のアルカノイル基;シクロヘキシルカルボニル基、
ベンゾイル基、ナフトイル基、炭素原子数1ないし12
のアルカンスルホニル基、フルオロ置換された炭素原子
数1ないし12のアルカンスルホニル基;フェニルスル
ホニル基または炭素原子数1ないし4のアルキル基で置
換されたフェニルスルホニル基;次式: 【化17】 で表される基を表し、 R7 が水素原子または炭素原子数1ないし6のアルキル
基を表し、 R8 が直接結合、炭素原子数1ないし12のアルキレン
基、酸素原子、硫黄原子もしくは次式: 【化18】 で表される基により中断された炭素原子数2ないし12
のアルキレン基;炭素原子数2ないし12のアルケニレ
ン基、炭素原子数2ないし12のアルキリデン基、炭素
原子数7ないし12のフェニルアルキリデン基、炭素原
子数5ないし8のシクロアルキレン基、炭素原子数7も
しくは8のビシクロアルキレン基またはフェニレン基を
表し、 R9 がヒドロキシ基、炭素原子数1ないし12のアルコ
キシ基または次式: 【化19】 で表される基を表し、 R10が酸素原子または−NH−を表し、 R11が炭素原子数1ないし12のアルキル基またはフェ
ニル基を表し、そしてR14およびR15が互いに独立して
水素原子または炭素原子数1ないし8のアルキル基を表
す、請求項1記載の組成物。 - 【請求項6】 上記式中、 R’1 が水素原子、炭素原子数1ないし8のアルカノイ
ル基、ベンゾイル基、メタンスルホニル基、p−メチル
フェニルスルホニル基、次式: 【化20】 で表される基を表し、 R7 が水素原子または炭素原子数1ないし4のアルキル
基を表し、 R10が−NH−を表し、 R11が炭素原子数1ないし8のアルキル基またはフェニ
ル基を表し、そしてnが2を表す、請求項1記載の組成
物。 - 【請求項7】 上記式中、 R2 、R3 、R4 およびR5 が互いに独立して水素原
子、塩素原子、ヒドロキシ基、炭素原子数1ないし18
のアルキル基、炭素原子数7ないし9のフェニルアルキ
ル基、フェニル基、炭素原子数5ないし8のシクロアル
キル基、炭素原子数1ないし6のアルコキシ基、シクロ
ヘキシルカルボニルオキシ基もしくはベンゾイルオキシ
基を表すか、または置換基対R2 およびR3 またはR3
およびR4またはR4 およびR5 の各々が結合している
炭素原子と一緒になってベンゼン環を形成し;R4 がさ
らに次式:−(CH2 )p −COR9 を表すか;または
R3およびR5 が水素原子を表すならば、R4 がさらに
式IIで表される基を表し、 R7 が水素原子または炭素原子数1ないし4のアルキル
基を表し、 R8 が炭素原子数1ないし12のアルキレン基またはフ
ェニレン基を表し、 R9 がヒドロキシ基または炭素原子数1ないし8のアル
コキシ基を表し、 R10が−NH−を表し、 R11が炭素原子数1ないし8のアルキル基またはフェニ
ル基を表し、そしてR12およびR13がメチル基を表す
か、または結合している炭素原子と一緒になって炭素原
子数5ないし8のシクロアルキリデン環を形成する、請
求項1記載の組成物。 - 【請求項8】 上記式中、 R1 が塩素原子または次式:−OR’1 で表される基を
表し、 R’1 が水素原子、炭素原子数1ないし8のアルカノイ
ル基、ベンゾイル基、メタンスルホニル基、トリフルオ
ロメタンスルホニル基、フェニルスルホニル基または炭
素原子数1ないし4のアルキル基で置換されたフェニル
スルホニル基を表すか、または次式: 【化21】 で表される基を表し、 R2 、R3 、R4 およびR5 が互いに独立して水素原
子、塩素原子、炭素原子数1ないし18のアルキル基、
炭素原子数7ないし9のフェニルアルキル基、フェニル
基、シクロヘキシル基、炭素原子数1ないし6のアルコ
キシ基を表し、R 4 がさらに次式:−(CH2 )p −C
OR9 で表される基を表すか;またはR3およびR5 が
水素原子を表すならば、R4 がさらに次式II: 【化22】 で表される基を表し、 R7 が水素原子または炭素原子数1ないし4のアルキル
基を表し、 R9 がヒドロキシ基または炭素原子数1ないし8のアル
コキシ基を表し、 R10が−NH−を表し、 R11が炭素原子数1ないし4のアルキル基またはフェニ
ル基を表し、 R12およびR13が結合している炭素原子と一緒になって
シクロヘキシリデン環を形成し、 nが2を表し、そしてpが2を表す、請求項1記載の組
成物。 - 【請求項9】 上記式中、 R1 が塩素原子または次式:−OR’1 で表される基を
表し、 R’1 が水素原子、アセチル基、次式: 【化23】 で表される基を表し、 R2 が炭素原子数1ないし16のアルキル基、炭素原子
数7ないし9のフェニルアルキル基またはシクロヘキシ
ル基を表し、 R3 が水素原子を表し、 R4 が炭素原子数1ないし4のアルキル基、炭素原子数
7ないし9のフェニルアルキル基、シクロヘキシル基、
−CH2 CH2 COOHまたは次式II: 【化24】 で表される基を表し、 R5 が水素原子を表し、 R7 が水素原子または炭素原子数1ないし4のアルキル
基を表し、 R10が−NH−を表し、 R11が炭素原子数1ないし4のアルキル基を表し、 R12およびR13が結合している炭素原子と一緒になって
シクロヘキシリデン環を形成し、そしてnが2を表す、
請求項1記載の組成物。 - 【請求項10】 成分(a)および(b)の他にその他
の添加剤を含有する請求項1記載の組成物。 - 【請求項11】 その他の添加剤がフェノール系酸化防
止剤、光安定剤および/または加工安定剤から選択され
る請求項10記載の組成物。 - 【請求項12】 少なくとも1種の有機ホスフィットま
たはホスホナイトタイプの化合物を添加剤として含有す
る請求項10記載の組成物。 - 【請求項13】 成分(a)が天然、半合成および合成
ポリマーから選択される請求項1記載の組成物。 - 【請求項14】 成分(a)がポリオレフィンである請
求項1記載の組成物。 - 【請求項15】 成分(a)がポリエチレンまたはポリ
プロピレンである請求項1記載の組成物。 - 【請求項16】 成分(a)の重量を規準として成分
(b)を0.0005ないし5%含有する請求項1記載
の組成物。 - 【請求項17】 次式Ia: 【化25】 (式中、 R1 はハロゲン原子または次式:−OR’1 で表される
基を表し、 R’1 は水素原子、炭素原子数1ないし25のアルカノ
イル基、炭素原子数3ないし25のアルケノイル基、酸
素原子、硫黄原子もしくは次式: 【化26】 で表される基により中断された炭素原子数3ないし25
のアルカノイル基;炭素原子数6ないし9のシクロアル
キルカルボニル基、テノイル基、フロイル基、ベンゾイ
ル基または炭素原子数1ないし12のアルキル基で置換
されたベンゾイル基;ナフトイル基または炭素原子数1
ないし12のアルキル基で置換されたナフトイル基;炭
素原子数1ないし25のアルカンスルホニル基、フルオ
ロ置換された炭素原子数1ないし25のアルカンスルホ
ニル基;フェニルスルホニル基または炭素原子数1ない
し12のアルキル基で置換されたフェニルスルホニル
基;次式: 【化27】 で表される基を表し、 R2 、R3 、R4 およびR5 は互いに独立して水素原
子、塩素原子、ヒドロキシ基、炭素原子数1ないし25
のアルキル基、炭素原子数7ないし9のフェニルアルキ
ル基、非置換もしくは炭素原子数1ないし4のアルキル
基で置換されたフェニル基、非置換もしくは炭素原子数
1ないし4のアルキル基で置換された炭素原子数5ない
し8のシクロアルキル基;炭素原子数1ないし18のア
ルコキシ基、炭素原子数1ないし18のアルキルチオ
基、炭素原子数1ないし4のアルキルアミノ基、ジ(炭
素原子数1ないし4のアルキル)アミノ基、炭素原子数
1ないし25のアルカノイルオキシ基、炭素原子数1な
いし25のアルカノイルアミノ基、炭素原子数3ないし
25のアルケノイルオキシ基、酸素原子、硫黄原子もし
くは次式: 【化28】 で表される基により中断された炭素原子数3ないし25
のアルカノイルオキシ基;炭素原子数6ないし9のシク
ロアルキルカルボニルオキシ基、ベンゾイルオキシ基ま
たは炭素原子数1ないし12のアルキル基で置換された
ベンゾイルオキシ基を表すか;または置換基対R2 およ
びR3 またはR3 およびR4 またはR4 およびR5 の各
々は結合している炭素原子と一緒になってベンゼン環を
形成するが;ただしR2 、R3 、R4 およびR5 の少な
くとも1つは水素原子ではなく;R1 がハロゲン原子ま
たはヒドロキシ基を表すならば、R2 は水素原子ではな
く;そしてR2 がメチル基またはメチルアミン基を表す
ならば、R4 は水素原子およびヒドロキシ基ではなく;
R4 はさらに次式:−(CH2 )p −COR9 または−
(CH2 )q OHで表される基を表すか、またはR3 お
よびR5 が水素原子を表すならば、R4 はさらに次式I
Ia: 【化29】 で表される基を表し、 R6 は水素原子または炭素原子数1ないし8のアルキル
基を表し、 R7 は水素原子または炭素原子数1ないし8のアルキル
基を表し、 R8 は直接結合、炭素原子数1ないし18のアルキレン
基、酸素原子、硫黄原子もしくは次式: 【化30】 で表される基により中断された炭素原子数2ないし18
のアルキレン基;炭素原子数2ないし18のアルケニレ
ン基、炭素原子数2ないし20のアルキリデン基、炭素
原子数7ないし20のフェニルアルキリデン基、炭素原
子数5ないし8のシクロアルキレン基、炭素原子数7も
しくは8のビシクロアルキレン基、非置換もしくは炭素
原子数1ないし4のアルキル基で置換されたフェニレン
基、次式: 【化31】 で表される基を表し、 R9 はヒドロキシ基、次式: 【化32】 で表される基、炭素原子数1ないし18のアルコキシ基
または次式: 【化33】 で表される基を表し、 R10は酸素原子、−NH−または次式: 【化34】 で表される基を表し、 R11は炭素原子数1ないし18のアルキル基またはフェ
ニル基を表し、 R12およびR13は互いに独立して水素原子、CF3 、炭
素原子数1ないし12のアルキル基またはフェニル基を
表すか、またはR12およびR13は結合している炭素原子
と一緒になって、非置換または1ないし3個の炭素原子
数1ないし4のアルキル基で置換された炭素原子数5な
いし8のシクロアルキリデン環を形成し、 R14およびR15は互いに独立して水素原子または炭素原
子数1ないし18のアルキル基を表し、 Mは原子価rの金属カチオンを表し、 nは0、1または2を表し、 pは0、1または2を表し、 qは1、2、3、4、5または6を表し、そしてrは
1、2または3を表す)で表される化合物。 - 【請求項18】 上記式中、R3 およびR5 が水素原子
を表す請求項17記載の化合物。 - 【請求項19】 上記式中、 R1 が塩素原子、臭素原子または次式:−OR’1 で表
される基を表し、 R’1 が水素原子、炭素原子数1ないし12のアルカノ
イル基、酸素原子により中断された炭素原子数3ないし
12のアルカノイル基;シクロヘキシルカルボニル基、
ベンゾイル基、ナフトイル基、炭素原子数1ないし12
のアルカンスルホニル基、フルオロ置換された炭素原子
数1ないし12のアルカンスルホニル基;フェニルスル
ホニル基または炭素原子数1ないし4のアルキル基で置
換されたフェニルスルホニル基;次式: 【化35】 で表される基を表し、 R2 、R3 、R4 およびR5 が互いに独立して水素原
子、塩素原子、ヒドロキシ基、炭素原子数1ないし18
のアルキル基、炭素原子数7ないし9のフェニルアルキ
ル基、フェニル基、炭素原子数5ないし8のシクロアル
キル基、炭素原子数1ないし6のアルコキシ基、シクロ
ヘキシルカルボニルオキシ基またはベンゾイルオキシ基
を表すか、または置換基対R2 およびR3 またはR3 お
よびR4 またはR4 およびR5 の各々が結合している炭
素原子と一緒になってベンゼン環を形成するが;ただし
R2 、R3 、R4 またはR5 の少なくとも1つは水素原
子ではなく;R1 がヒドロキシ基、塩素原子または臭素
原子を表すならば、R2 が水素原子ではなく;そしてR
2 がメチル基またはヒドロキシ基を表すならば、R4が
水素原子およびヒドロキシ基ではなく;そしてR4 がさ
らに次式:−(CH2)p −COR9 で表される基を表
すか;またはR3 およびR5 が水素原子を表すならば、
R4 がさらに次式IIa: 【化36】 で表される基を表し、 R7 が水素原子または炭素原子数1ないし6のアルキル
基を表し、 R8 が炭素原子数1ないし12のアルキレン基またはフ
ェニレン基を表し、 R9 がヒドロキシ基または炭素原子数1ないし8のアル
コキシ基を表し、 R10が−NH−を表し、 R11が炭素原子数1ないし8のアルキル基またはフェニ
ル基を表し、そしてR12およびR13がメチル基を表す
か、または結合している炭素原子と一緒になって炭素原
子数5ないし8のシクロアルキリデン環を形成する請求
項17記載の化合物。 - 【請求項20】 上記式中、 R1 が塩素原子または次式:−OR’1 で表される基を
表し、 R’1 が水素原子、炭素原子数1ないし8のアルカノイ
ル基、ベンゾイル基、メタンスルホニル基、トリフルオ
ロメタンスルホニル基;フェニルスルホニル基または炭
素原子数1ないし4のアルキル基で置換されたフェニル
スルホニル基;次式: 【化37】 で表される基を表し、 R2 、R3 、R4 およびR5 が互いに独立して水素原
子、塩素原子、炭素原子数1ないし18のアルキル基、
炭素原子数7ないし9のフェニルアルキル基、フェニル
基、シクロヘキシル基、炭素原子数1ないし6のアルコ
キシ基を表すが;ただしR2 、R3 、R4 またはR5 の
少なくとも1つは水素原子ではなく;R1がヒドロキシ
基または塩素原子を表すならば、R2 が水素原子ではな
く;そしてR2 がメチル基を表すならば、R4 が水素原
子ではなく;R4 がさらに次式:−(CH2 )p −CO
R9 で表される基を表すか、またはR3 およびR5 が水
素原子を表すならば、R4 がさらに次式IIa: 【化38】 で表される基を表し、 R7 が水素原子または炭素原子数1ないし4のアルキル
基を表し、 R9 がヒドロキシ基または炭素原子数1ないし8のアル
コキシ基を表し、 R10が−NH−を表し、 R11が炭素原子数1ないし4のアルキル基またはフェニ
ル基を表し、 R12およびR13が結合している炭素原子と一緒になって
シクロヘキシリデン環を形成し、 nが2を表し、そしてpが2を表す請求項17記載の化
合物。 - 【請求項21】a)次式III: 【化39】 (式中の全ての記号は式Iに対して定義されたものと同
じ意味を表す)で表されるフェノール1当量をグリオキ
シル酸0.8ないし2.0当量と反応させて次式IV: 【化40】 (式中の全ての記号は式Iに対して定義されたものと同
じ意味を表す)で表される化合物を得、そして b)上記式I中、R’1 が水素原子ではない化合物を製
造するために、式IVで表される生成化合物をハロゲン
化水素酸、オキシ硫酸のハロゲン化物、リン酸のハロゲ
ン化物、亜リン酸のハロゲン化物、次式V: R’1 −OH (V) で表される酸、次式VI R’1 −Y (VI) で表される酸ハライド、次式VII: R’1 −O−R16 (VII) で表されるエステル、次式VIII: R’1 −O−R’1 (VIII) で表される対称もしくは非対称無水物、または次式I
X: R11−N=C=O (IX) で表されるイソシアネート(上記式V、VI、VII、
VIIIおよびIXで表される化合物中のR’1 および
R11は請求項1で定義されたものと同じ意味を表すが、
ただしR’1 は水素原子ではなく;R16は炭素原子数1
ないし8のアルキル基を表し、そしてYはフッ素原子、
塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子を表す)と反応さ
せることからなる式Iで表される化合物の製造方法。 - 【請求項22】 グリオキシル酸が40ないし60%、
好ましくは50%の水性グリオキシル酸として使用され
る請求項21記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CH2811/93-9 | 1993-09-17 | ||
| CH281193 | 1993-09-17 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07247278A true JPH07247278A (ja) | 1995-09-26 |
| JP3793950B2 JP3793950B2 (ja) | 2006-07-05 |
Family
ID=4242127
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24735594A Expired - Lifetime JP3793950B2 (ja) | 1993-09-17 | 1994-09-14 | 安定剤としてのベンゾフラン−2−オン |
Country Status (15)
| Country | Link |
|---|---|
| US (3) | US5614572A (ja) |
| EP (1) | EP0644190B1 (ja) |
| JP (1) | JP3793950B2 (ja) |
| KR (1) | KR100361629B1 (ja) |
| CN (1) | CN1052230C (ja) |
| AT (1) | ATE177740T1 (ja) |
| BR (1) | BR9403592A (ja) |
| CA (1) | CA2132134C (ja) |
| CZ (1) | CZ289139B6 (ja) |
| DE (1) | DE59407946D1 (ja) |
| ES (1) | ES2130385T3 (ja) |
| RU (1) | RU2135489C1 (ja) |
| SK (1) | SK280591B6 (ja) |
| TW (1) | TW270133B (ja) |
| ZA (1) | ZA947184B (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2007132615A1 (ja) * | 2006-05-12 | 2007-11-22 | Konica Minolta Opto, Inc. | セルロースアシレートフィルムの製造方法、セルロースアシレートフィルム、偏光板及び液晶表示装置 |
| DE112007001060T5 (de) | 2006-05-01 | 2009-03-12 | Idemitsu Kosan Co., Ltd. | Einkapselndes Material für optische Halbleiter |
| WO2010067779A1 (ja) | 2008-12-09 | 2010-06-17 | 出光興産株式会社 | 光学部品用樹脂原料組成物、光学部品用樹脂および光学部品 |
| WO2012056972A1 (ja) | 2010-10-25 | 2012-05-03 | 出光興産株式会社 | (メタ)アクリレート系組成物 |
| WO2023068290A1 (ja) * | 2021-10-22 | 2023-04-27 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 熱可塑性樹脂組成物、成形体、熱可塑性樹脂組成物の製造方法及び透過率向上方法 |
| DE112022002000T5 (de) | 2021-04-07 | 2024-01-18 | Idemitsu Kosan Co., Ltd. | Wärmehärtbare zusammensetzung zum spritzgiessen, verfahren zur herstellung eines formgegenstands unter verwendung derselben und gehärtetes produkt |
| DE112022002023T5 (de) | 2021-04-07 | 2024-02-15 | Idemitsu Kosan Co., Ltd. | Wärmehärtbare zusammensetzung zum spritzgiessen, verfahren zur herstellung eines formgegenstands unter verwendung derselben und gehärtetes produkt |
Families Citing this family (23)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| TW270133B (ja) * | 1993-09-17 | 1996-02-11 | Ciba Geigy | |
| TW416970B (en) * | 1995-05-31 | 2001-01-01 | Ciba Sc Holding Ag | Carrier-bound light stabilizers and antioxidants as fillers and stabilizers |
| EP0839623B1 (de) * | 1996-10-30 | 2001-01-31 | Ciba SC Holding AG | Stabilisatorkombination für das Rotomolding-Verfahren |
| AU7814598A (en) * | 1997-06-05 | 1998-12-21 | Dyneon Llc | Polymer stabilization |
| WO1999003915A1 (en) | 1997-07-14 | 1999-01-28 | Dover Chemical Corporation | Lactone/phosphite blends |
| JP2001515942A (ja) * | 1997-09-10 | 2001-09-25 | チバ スペシャルティ ケミカルズ ホールディング インコーポレーテッド | 着色剤として有用なイソキシンジゴ及びそれらの製造 |
| DE19801462A1 (de) * | 1998-01-16 | 1999-07-22 | Basf Ag | Katalysator und Verfahren zur Herstellung von Polytetrahydrofuran |
| US6281361B1 (en) | 1998-04-08 | 2001-08-28 | Ciba Specialty Chemicals Corp. | Dibenzonaphthyrones |
| BR9914978A (pt) * | 1998-11-02 | 2001-08-14 | Ciba Sc Holding Ag | Estabilização de produtos de cuidados do corpo e domésticos |
| CN1330645C (zh) * | 1999-03-10 | 2007-08-08 | 西巴特殊化学品控股有限公司 | 作为有机材料着色剂的苯并呋喃-2-酮类化合物 |
| US6664317B2 (en) | 2000-02-18 | 2003-12-16 | Ciba Specialty Chemicals Corporation | Stabilized gamma irradiated polyolefins |
| CN1182127C (zh) * | 2000-06-28 | 2004-12-29 | 中国医学科学院药物研究所 | 新的取代的2-苯并[c]呋喃酮化合物,其制备方法以及包含它们的药物组合物 |
| WO2002012391A1 (en) * | 2000-08-09 | 2002-02-14 | A & M Styrene Co., Ltd. | Aromatic monovinyl resin composition |
| US6569927B1 (en) | 2000-10-06 | 2003-05-27 | Uniroyal Chemical Company, Inc. | Thermoplastic resins stabilized by blends of sterically hindered phenols, secondary amines, and lactones |
| DE60205734T2 (de) * | 2001-03-20 | 2006-03-09 | Ciba Speciality Chemicals Holding Inc. | Flammhemmende zusammensetzungen |
| TW593303B (en) * | 2001-09-11 | 2004-06-21 | Ciba Sc Holding Ag | Stabilization of synthetic polymers |
| CN101128528B (zh) * | 2005-02-25 | 2011-10-12 | 西巴特殊化学品控股有限公司 | 氟化的化合物 |
| US20070049666A1 (en) * | 2005-08-30 | 2007-03-01 | James Haworth | Tocopherol compositions and uses |
| CN100345836C (zh) * | 2005-10-17 | 2007-10-31 | 湘潭大学 | 一种苯并呋喃酮类稳定剂及其应用 |
| EP2167570A1 (en) | 2007-06-29 | 2010-03-31 | Basell Poliolefine Italia S.R.L. | An irradiated polyolefin composition comprising a non - phenolic stabilizer |
| US7988881B2 (en) * | 2008-09-30 | 2011-08-02 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Multilayer laminates comprising chiral nematic liquid crystals |
| US8286405B1 (en) * | 2009-08-11 | 2012-10-16 | Agp Plastics, Inc. | Fire and impact resistant window and building structures |
| MX375961B (es) * | 2014-08-05 | 2025-03-07 | Basf Se | Derivados de difosfito de 3-fenil-benzofuran-2-ona como estabilizantes. |
Family Cites Families (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB2042562B (en) * | 1979-02-05 | 1983-05-11 | Sandoz Ltd | Stabilising polymers |
| ES2062486T3 (es) * | 1989-08-31 | 1994-12-16 | Ciba Geigy Ag | 3-fenilbenzofuran-2-onas. |
| US5175312A (en) * | 1989-08-31 | 1992-12-29 | Ciba-Geigy Corporation | 3-phenylbenzofuran-2-ones |
| GB2252325A (en) * | 1991-01-31 | 1992-08-05 | Ciba Geigy Ag | Stabilised polyolefin |
| TW206220B (ja) * | 1991-07-01 | 1993-05-21 | Ciba Geigy Ag | |
| GB2267490B (en) * | 1992-05-22 | 1995-08-09 | Ciba Geigy Ag | 3-(Carboxymethoxyphenyl)benzofuran-2-one stabilisers |
| CH686306A5 (de) * | 1993-09-17 | 1996-02-29 | Ciba Geigy Ag | 3-Aryl-benzofuranone als Stabilisatoren. |
| TW270133B (ja) * | 1993-09-17 | 1996-02-11 | Ciba Geigy |
-
1994
- 1994-08-30 TW TW083107936A patent/TW270133B/zh active
- 1994-09-08 DE DE59407946T patent/DE59407946D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1994-09-08 EP EP94810520A patent/EP0644190B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1994-09-08 ES ES94810520T patent/ES2130385T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1994-09-08 AT AT94810520T patent/ATE177740T1/de not_active IP Right Cessation
- 1994-09-12 US US08/304,470 patent/US5614572A/en not_active Expired - Fee Related
- 1994-09-14 KR KR1019940023791A patent/KR100361629B1/ko not_active Expired - Lifetime
- 1994-09-14 JP JP24735594A patent/JP3793950B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1994-09-14 SK SK1103-94A patent/SK280591B6/sk unknown
- 1994-09-15 CZ CZ19942261A patent/CZ289139B6/cs not_active IP Right Cessation
- 1994-09-15 CA CA002132134A patent/CA2132134C/en not_active Expired - Fee Related
- 1994-09-16 BR BR9403592A patent/BR9403592A/pt not_active IP Right Cessation
- 1994-09-16 ZA ZA947184A patent/ZA947184B/xx unknown
- 1994-09-16 CN CN94115267A patent/CN1052230C/zh not_active Expired - Lifetime
- 1994-09-16 RU RU94033474A patent/RU2135489C1/ru not_active IP Right Cessation
-
1996
- 1996-09-17 US US08/715,057 patent/US5693829A/en not_active Expired - Lifetime
-
1997
- 1997-06-25 US US08/881,977 patent/US5807505A/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE112007001060T5 (de) | 2006-05-01 | 2009-03-12 | Idemitsu Kosan Co., Ltd. | Einkapselndes Material für optische Halbleiter |
| WO2007132615A1 (ja) * | 2006-05-12 | 2007-11-22 | Konica Minolta Opto, Inc. | セルロースアシレートフィルムの製造方法、セルロースアシレートフィルム、偏光板及び液晶表示装置 |
| JP5401987B2 (ja) * | 2006-05-12 | 2014-01-29 | コニカミノルタ株式会社 | セルロースアシレートフィルムの製造方法、セルロースアシレートフィルム、偏光板及び液晶表示装置 |
| WO2010067779A1 (ja) | 2008-12-09 | 2010-06-17 | 出光興産株式会社 | 光学部品用樹脂原料組成物、光学部品用樹脂および光学部品 |
| WO2012056972A1 (ja) | 2010-10-25 | 2012-05-03 | 出光興産株式会社 | (メタ)アクリレート系組成物 |
| US10526433B2 (en) | 2010-10-25 | 2020-01-07 | Idemitsu Kosan Co., Ltd. | (Meth)acrylate composition |
| DE112022002000T5 (de) | 2021-04-07 | 2024-01-18 | Idemitsu Kosan Co., Ltd. | Wärmehärtbare zusammensetzung zum spritzgiessen, verfahren zur herstellung eines formgegenstands unter verwendung derselben und gehärtetes produkt |
| DE112022002023T5 (de) | 2021-04-07 | 2024-02-15 | Idemitsu Kosan Co., Ltd. | Wärmehärtbare zusammensetzung zum spritzgiessen, verfahren zur herstellung eines formgegenstands unter verwendung derselben und gehärtetes produkt |
| WO2023068290A1 (ja) * | 2021-10-22 | 2023-04-27 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 熱可塑性樹脂組成物、成形体、熱可塑性樹脂組成物の製造方法及び透過率向上方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0644190A1 (de) | 1995-03-22 |
| ATE177740T1 (de) | 1999-04-15 |
| CN1106032A (zh) | 1995-08-02 |
| KR100361629B1 (ko) | 2003-02-05 |
| US5614572A (en) | 1997-03-25 |
| ZA947184B (en) | 1995-03-17 |
| US5693829A (en) | 1997-12-02 |
| CN1052230C (zh) | 2000-05-10 |
| SK110394A3 (en) | 1995-06-07 |
| BR9403592A (pt) | 1995-05-16 |
| ES2130385T3 (es) | 1999-07-01 |
| DE59407946D1 (de) | 1999-04-22 |
| RU2135489C1 (ru) | 1999-08-27 |
| SK280591B6 (sk) | 2000-04-10 |
| CZ289139B6 (cs) | 2001-11-14 |
| CZ226194A3 (en) | 1995-04-12 |
| TW270133B (ja) | 1996-02-11 |
| EP0644190B1 (de) | 1999-03-17 |
| US5807505A (en) | 1998-09-15 |
| CA2132134C (en) | 2006-04-04 |
| KR950008500A (ko) | 1995-04-17 |
| RU94033474A (ru) | 1996-07-20 |
| CA2132134A1 (en) | 1995-03-18 |
| JP3793950B2 (ja) | 2006-07-05 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH07247278A (ja) | 安定剤としてのベンゾフラン−2−オン | |
| JP3505604B2 (ja) | 安定剤として使用するための3−(2−アシルオキシエトキシフェニル)ベンゾフラン−2−オン | |
| JP3293006B2 (ja) | 安定剤としての3−(ジヒドロベンゾフラン−5−イル)ベンゾフラン−2−オン | |
| JP3023586B2 (ja) | 安定剤としての3−アリールベンゾフラノン | |
| JP3250056B2 (ja) | 3−(カルボキシメトキシフェニル)ベンゾフラン−2−オン安定剤 | |
| US5216052A (en) | Bisbenzofuran-2-ones | |
| KR0151398B1 (ko) | 3-페닐벤조푸란-2-온 | |
| JP2003522201A (ja) | 安定剤としての電子吸引性置換基を有する新規3−アリールベンゾフラノン | |
| US5844024A (en) | Cyclic diphenylacetonitriles as stabilizers | |
| DE60112009T2 (de) | Verfahren zur Herstellung von 3-Arylbenzofuran-2-onen | |
| US5932642A (en) | Cyclic phosphinic acid derivatives as stabilizers | |
| JPH07285979A (ja) | 安定剤としてのモノマーおよびオリゴマービスフェニル−halsホスフィット |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20040901 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20041129 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20050928 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20051228 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20060315 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20060331 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100421 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110421 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120421 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130421 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140421 Year of fee payment: 8 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |