JPH07249218A - 磁気記録媒体用ポリエステルフィルム - Google Patents
磁気記録媒体用ポリエステルフィルムInfo
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- JPH07249218A JPH07249218A JP4146194A JP4146194A JPH07249218A JP H07249218 A JPH07249218 A JP H07249218A JP 4146194 A JP4146194 A JP 4146194A JP 4146194 A JP4146194 A JP 4146194A JP H07249218 A JPH07249218 A JP H07249218A
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- polyester film
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Abstract
(57)【要約】
【目的】耐スクラッチ性、繰り返し使用による走行耐久
性、スリット性に優れ、かつ高画質化の要求にも合致し
た磁気記録媒体用ベースフィルムとして有用なポリエス
テルフィルムを提供することにある。 【構成】ポリエステル中に体積平均粒子径が0.1〜
2.0μmであり、かつ相対標準偏差が0.1〜1.
0、かつ空隙率が20〜50%の不活性粒子を0.01
〜5.0重量%含有することを特徴とする磁気記録媒体
用ポリエステルフィルム。
性、スリット性に優れ、かつ高画質化の要求にも合致し
た磁気記録媒体用ベースフィルムとして有用なポリエス
テルフィルムを提供することにある。 【構成】ポリエステル中に体積平均粒子径が0.1〜
2.0μmであり、かつ相対標準偏差が0.1〜1.
0、かつ空隙率が20〜50%の不活性粒子を0.01
〜5.0重量%含有することを特徴とする磁気記録媒体
用ポリエステルフィルム。
Description
【0001】
本発明は磁気記録媒体用ポリエステルフィルムならびに
磁気記録媒体用積層ポリエステルフィルム、特に1/2
インチビデオ用テープ、8mmビデオ用テープ、オーデ
ィオカセット用テープ、デジタルコンパクトカセット
(DCC)用テープ、デジタルオーディオテープデッキ
(DAT)用テープ、QIC等のデータカートリッジ用
テープ、ハイビジョン対応ビデオ用テープ、ダブルトラ
ックビデオ(W−VHS)用テープ等に好適な磁気記録
媒体用ポリエステルフィルムならびに磁気記録媒体用積
層ポリエステルフィルムに関するものである。
磁気記録媒体用積層ポリエステルフィルム、特に1/2
インチビデオ用テープ、8mmビデオ用テープ、オーデ
ィオカセット用テープ、デジタルコンパクトカセット
(DCC)用テープ、デジタルオーディオテープデッキ
(DAT)用テープ、QIC等のデータカートリッジ用
テープ、ハイビジョン対応ビデオ用テープ、ダブルトラ
ックビデオ(W−VHS)用テープ等に好適な磁気記録
媒体用ポリエステルフィルムならびに磁気記録媒体用積
層ポリエステルフィルムに関するものである。
【0002】
【従来の技術】ポリエステルフィルムを用いた磁気記録
媒体は、磁気媒体製造工程での磁性体塗布・カレンダー
工程などで工程速度の増大にともない、接触するロール
などによってポリエステルフィルム表面に傷がつくとい
う欠点が最近問題となっている。さらに、ビデオテープ
においては、一般家庭での利用頻度の増大や録画済みの
市販テープの普及により、ビデオレコーダー(VTR)
内での繰り返し再生や録画を繰り返すことが多くなり、
テープカセット内のガイドピンなどとの接触摩擦により
フィルム表面に傷が付いたり、あるいは接触摩擦に伴っ
てフィルムより発生した粉状物の脱落などにより映像を
悪化させるなどの問題が発生している。また、磁気記録
媒体、特にはビデオテープなどの磁気テープ製造工程の
最終工程となるスリット時に、フィルムの切り口断面よ
り切り粉が発生し磁気記録時のドロップアウト増大をも
たらしている。これらの問題の解決のためには、フィル
ム表面に傷がつきにくくするとともに、フィルム表面を
粗くして摩擦係数を小さくすることでフィルムの走行性
を良くすることが必要であるが、一方で高画質化の要求
からフィルム表面を平滑にして電磁変換特性を向上させ
ることも必要である。さらには、上記スリット時の切れ
味をフィルム特性に付与することも必要になっている。
これらの相反するフィルム表面特性のジレンマに対して
従来より多くの検討がなされており、たとえば、特開昭
59−171623号公報や特開昭63−234038
号公報では球状シリカ粒子を含有せしめることが、特開
昭61−5431号公報には、コロイダルシリカ等の不
活性無機粒子を含有せしめることが、特開昭61−17
4254号公報には、特定の粒子径分布を有する架橋有
機粒子を含有せしめることなどが提案されている。しか
しながら、このような公知の方法をもってしても上記問
題点のすべてを満足させることは難しいというのが実情
である。
媒体は、磁気媒体製造工程での磁性体塗布・カレンダー
工程などで工程速度の増大にともない、接触するロール
などによってポリエステルフィルム表面に傷がつくとい
う欠点が最近問題となっている。さらに、ビデオテープ
においては、一般家庭での利用頻度の増大や録画済みの
市販テープの普及により、ビデオレコーダー(VTR)
内での繰り返し再生や録画を繰り返すことが多くなり、
テープカセット内のガイドピンなどとの接触摩擦により
フィルム表面に傷が付いたり、あるいは接触摩擦に伴っ
てフィルムより発生した粉状物の脱落などにより映像を
悪化させるなどの問題が発生している。また、磁気記録
媒体、特にはビデオテープなどの磁気テープ製造工程の
最終工程となるスリット時に、フィルムの切り口断面よ
り切り粉が発生し磁気記録時のドロップアウト増大をも
たらしている。これらの問題の解決のためには、フィル
ム表面に傷がつきにくくするとともに、フィルム表面を
粗くして摩擦係数を小さくすることでフィルムの走行性
を良くすることが必要であるが、一方で高画質化の要求
からフィルム表面を平滑にして電磁変換特性を向上させ
ることも必要である。さらには、上記スリット時の切れ
味をフィルム特性に付与することも必要になっている。
これらの相反するフィルム表面特性のジレンマに対して
従来より多くの検討がなされており、たとえば、特開昭
59−171623号公報や特開昭63−234038
号公報では球状シリカ粒子を含有せしめることが、特開
昭61−5431号公報には、コロイダルシリカ等の不
活性無機粒子を含有せしめることが、特開昭61−17
4254号公報には、特定の粒子径分布を有する架橋有
機粒子を含有せしめることなどが提案されている。しか
しながら、このような公知の方法をもってしても上記問
題点のすべてを満足させることは難しいというのが実情
である。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、かかる問題
点を改善し、繰り返し使用による走行耐久性ならびにド
ロップアウト特性に優れ、かつ磁気記録媒体製造工程に
おけるスリット特性の改良さらには高画質化の要求にも
合致した磁気記録媒体用ポリエステルフィルムならびに
磁気記録媒体用積層ポリエステルフィルムを提供するこ
とを目的とする。
点を改善し、繰り返し使用による走行耐久性ならびにド
ロップアウト特性に優れ、かつ磁気記録媒体製造工程に
おけるスリット特性の改良さらには高画質化の要求にも
合致した磁気記録媒体用ポリエステルフィルムならびに
磁気記録媒体用積層ポリエステルフィルムを提供するこ
とを目的とする。
【0004】
【課題を解決するための手段】前記本発明の目的は、体
積平均粒子径が0.1〜2.0μmであり、かつ下記
(1)式で定義される相対標準偏差が0.1〜1.0、
かつ空隙率が20〜50%の不活性粒子を0.01〜
5.0重量%含有することを特徴とする磁気記録媒体用
ポリエステルフィルムによって達成される。 相対標準偏差=((Σi=1 →n Di −DN)2 /n)0.5 /DV‥‥(1) ここで、Di :粒子個々の投影面積から求めた面積円相
当径(μm) DN:上記面積円相当径の数平均値 [DN=(Σi=1 →n Di )/n](μm) DV:上記面積円相当径の体積平均値 [DV=(Σi=1 →n Di 3 /n)1/3 ](μm) n:粒子の測定個数
積平均粒子径が0.1〜2.0μmであり、かつ下記
(1)式で定義される相対標準偏差が0.1〜1.0、
かつ空隙率が20〜50%の不活性粒子を0.01〜
5.0重量%含有することを特徴とする磁気記録媒体用
ポリエステルフィルムによって達成される。 相対標準偏差=((Σi=1 →n Di −DN)2 /n)0.5 /DV‥‥(1) ここで、Di :粒子個々の投影面積から求めた面積円相
当径(μm) DN:上記面積円相当径の数平均値 [DN=(Σi=1 →n Di )/n](μm) DV:上記面積円相当径の体積平均値 [DV=(Σi=1 →n Di 3 /n)1/3 ](μm) n:粒子の測定個数
【0005】本発明において適用されるポリエステルは
芳香族ジカルボン酸あるいはそのアルキルエステル等の
二官能性成分とグリコール成分として重縮合反応によっ
て製造されるものである。特にこの中でポリエチレンテ
レフタレートを主成分とするものが好ましい。かかるポ
リエステルは、本発明の積層ポリエステルフィルムの基
本特性を阻害しない程度であれば少量の第3成分を共重
合させたものでもよく、また、これらのポリエステルを
混合したものであってもよい。該共重合成分の例として
は2,6−ナフタレンジカルボン酸、イソフタル酸等の
ジカルボン酸成分、P−オキシエトキシ安息香酸等のオ
キシカルボン酸成分、およびテトラメチレングリコー
ル、プロピレングリコール、ネオペンチルグリコール、
ポリオキシアルキレングリコール、P−キシリレングリ
コール、1、4−シクロヘキサンジメタノール、ポリエ
チレングリコール、5−ナトリウムスルホレゾルジン等
のジオール成分が挙げられる。特にこのなかでポリエチ
レングリコール等のジオール成分を共重合したコポリエ
ステルがフィルムの磁気バインダーとの接着性を向上さ
せたり、静電気等による帯電性を低く保つために好まし
い。
芳香族ジカルボン酸あるいはそのアルキルエステル等の
二官能性成分とグリコール成分として重縮合反応によっ
て製造されるものである。特にこの中でポリエチレンテ
レフタレートを主成分とするものが好ましい。かかるポ
リエステルは、本発明の積層ポリエステルフィルムの基
本特性を阻害しない程度であれば少量の第3成分を共重
合させたものでもよく、また、これらのポリエステルを
混合したものであってもよい。該共重合成分の例として
は2,6−ナフタレンジカルボン酸、イソフタル酸等の
ジカルボン酸成分、P−オキシエトキシ安息香酸等のオ
キシカルボン酸成分、およびテトラメチレングリコー
ル、プロピレングリコール、ネオペンチルグリコール、
ポリオキシアルキレングリコール、P−キシリレングリ
コール、1、4−シクロヘキサンジメタノール、ポリエ
チレングリコール、5−ナトリウムスルホレゾルジン等
のジオール成分が挙げられる。特にこのなかでポリエチ
レングリコール等のジオール成分を共重合したコポリエ
ステルがフィルムの磁気バインダーとの接着性を向上さ
せたり、静電気等による帯電性を低く保つために好まし
い。
【0006】また、本発明のポリエステルフィルムなど
の生産段階で発生する非製品部分などを主体とする回収
ポリエステルを含んでいても良い。さらに、これらのポ
リエステルは、固有粘度が0.5以上であることが好ま
しく、さらには0.55以上であることが好ましい。本
発明における不活性粒子とは、ポリエステルに不溶な無
機または有機の粒子であり、酸化チタン粒子、シリカ粒
子などの無機粒子や架橋ポリスチレン粒子などの有機高
分子粒子、内部析出粒子などが挙げられるが走行耐久
性、ドロップアウト特性、ならびに耐削れ性のすべて満
足せしめる点で有機高分子粒子が望ましい。この場合、
酸化防止剤、熱安定剤、紫外線吸収剤などの添加剤が通
常添加される程度に含有されていてもよい。
の生産段階で発生する非製品部分などを主体とする回収
ポリエステルを含んでいても良い。さらに、これらのポ
リエステルは、固有粘度が0.5以上であることが好ま
しく、さらには0.55以上であることが好ましい。本
発明における不活性粒子とは、ポリエステルに不溶な無
機または有機の粒子であり、酸化チタン粒子、シリカ粒
子などの無機粒子や架橋ポリスチレン粒子などの有機高
分子粒子、内部析出粒子などが挙げられるが走行耐久
性、ドロップアウト特性、ならびに耐削れ性のすべて満
足せしめる点で有機高分子粒子が望ましい。この場合、
酸化防止剤、熱安定剤、紫外線吸収剤などの添加剤が通
常添加される程度に含有されていてもよい。
【0007】該有機高分子粒子としては、例えばポリス
テレンもしくは架橋ポリスチレン粒子、スチレン・アク
リル系及びメタクリル系架橋粒子などのビニル系粒子、
ベンゾグアナミン・ホルムアルデヒド樹脂粒子、シリコ
ーン樹脂粒子、ポリテトラフルオロエチレン粒子、ポリ
フェニルエステル粒子、フェノール樹脂粒子などが挙げ
られるが、これらに限定されるのではなく、粒子を構成
する部分のうち少なくとも一部がポリエステルに対し不
溶の有機高分子粒子であれば如何なる粒子でも良い。好
ましくは、一般に分子中に唯一個の脂肪族の不飽和結合
を有するモノビニル化合物(A)と、架橋剤として分子
中に2個以上の脂肪族の不飽和結合を有する化合物
(B)との共重合体が挙げられる。
テレンもしくは架橋ポリスチレン粒子、スチレン・アク
リル系及びメタクリル系架橋粒子などのビニル系粒子、
ベンゾグアナミン・ホルムアルデヒド樹脂粒子、シリコ
ーン樹脂粒子、ポリテトラフルオロエチレン粒子、ポリ
フェニルエステル粒子、フェノール樹脂粒子などが挙げ
られるが、これらに限定されるのではなく、粒子を構成
する部分のうち少なくとも一部がポリエステルに対し不
溶の有機高分子粒子であれば如何なる粒子でも良い。好
ましくは、一般に分子中に唯一個の脂肪族の不飽和結合
を有するモノビニル化合物(A)と、架橋剤として分子
中に2個以上の脂肪族の不飽和結合を有する化合物
(B)との共重合体が挙げられる。
【0008】上記共重合体における化合物(A)の具体
例としては、スチレン、p−メチルスチレン、m−メチ
ルスチレン、p−エチルスチレン、m−エチルスチレン
などの芳香族モノビニル化合物、アクリロニトリル、メ
タクリロニトリルなどのシアン化ビニル化合物、メチル
アクリレート、エチルアクリレート、プロピルアクリレ
ート、ブチルアクリレート、グリシジルアクリレートな
どのアクリル酸エステルモノマー、メチルメタクリレー
ト、エチルメタクリレート、プロピルメタクレレート、
ブチルメタクレレートグリシジルメタクレレートなどの
メタクリル酸エステルモノマー、アクリル酸、メタクリ
ル酸、マレイン酸、イタコン酸などのモノまたはジカル
ボン酸およびジカルボン酸の酸無水物、アクリルアミ
ド、メタクリルアミドなどのアミド系モノマーが挙げら
れる。この中で特に耐熱性などの点からスチレンならび
にp−エチルスチレンおよびm−エチルスチレンが好ま
しい。また、化合物(B)の具体例としては、ジビニル
ベンゼン、トリメチロールプロパントリアクリレート、
エチレングリコールジアクリレート、エチレングリコー
ルジメタクリレートなどが挙げられる。この中で特に架
橋反応性の点からジビニルベンゼンが好ましい。これら
の化合物(A)、化合物(B)はそれぞれ2種以上を混
合して用いることもできる。また、本発明の目的の1つ
である走行耐久性を良好とするためには、有機高分子粒
子中の化合物(B)の割合がモノマー換算で10〜95
重量%、好ましくは60〜95重量%、より好ましくは
75〜95重量%であることが望ましい。前記有機高分
子粒子の組成として好ましいものを例示すると「スチレ
ン・ジビニルベンゼン共重合体」、「ジビニルベンゼン
・p−およびm−エチルスチレン共重合体」、「スチレ
ン・ジビニルベンゼン・p−およびm−エチルスチレン
共重合体」が挙げられる。
例としては、スチレン、p−メチルスチレン、m−メチ
ルスチレン、p−エチルスチレン、m−エチルスチレン
などの芳香族モノビニル化合物、アクリロニトリル、メ
タクリロニトリルなどのシアン化ビニル化合物、メチル
アクリレート、エチルアクリレート、プロピルアクリレ
ート、ブチルアクリレート、グリシジルアクリレートな
どのアクリル酸エステルモノマー、メチルメタクリレー
ト、エチルメタクリレート、プロピルメタクレレート、
ブチルメタクレレートグリシジルメタクレレートなどの
メタクリル酸エステルモノマー、アクリル酸、メタクリ
ル酸、マレイン酸、イタコン酸などのモノまたはジカル
ボン酸およびジカルボン酸の酸無水物、アクリルアミ
ド、メタクリルアミドなどのアミド系モノマーが挙げら
れる。この中で特に耐熱性などの点からスチレンならび
にp−エチルスチレンおよびm−エチルスチレンが好ま
しい。また、化合物(B)の具体例としては、ジビニル
ベンゼン、トリメチロールプロパントリアクリレート、
エチレングリコールジアクリレート、エチレングリコー
ルジメタクリレートなどが挙げられる。この中で特に架
橋反応性の点からジビニルベンゼンが好ましい。これら
の化合物(A)、化合物(B)はそれぞれ2種以上を混
合して用いることもできる。また、本発明の目的の1つ
である走行耐久性を良好とするためには、有機高分子粒
子中の化合物(B)の割合がモノマー換算で10〜95
重量%、好ましくは60〜95重量%、より好ましくは
75〜95重量%であることが望ましい。前記有機高分
子粒子の組成として好ましいものを例示すると「スチレ
ン・ジビニルベンゼン共重合体」、「ジビニルベンゼン
・p−およびm−エチルスチレン共重合体」、「スチレ
ン・ジビニルベンゼン・p−およびm−エチルスチレン
共重合体」が挙げられる。
【0009】本発明の不活性粒子の体積平均粒径は、
0.1〜2.0μmであることが必要であり、好ましく
は0.15〜1.0μmが望ましい。該粒子の体積平均
粒径が0.1μmより小さいと摩擦が大きくなり、ビデ
オテープとした場合の走行特性が悪くなる。逆に、2.
0μmよりも大きいとビデオテープに代表される磁気記
録媒体の電磁変換特性が不良となる。また、上記有機高
分子粒子の含有量は、ポリエステルフィルムまたは積層
部を構成するポリエステルフィルム(B)に対して0.
01〜5.0重量%とすることが必要であり、好ましく
は0.05〜2.0重量%、さらには0.1〜1.0重
量%であることが好ましい。該粒子の含有量が0.01
重量%より小さいと摩擦が大きくなり、ビデオテープと
した場合の走行特性が悪くなる。逆に、5.0重量%よ
りも大きいとビデオテープに代表される磁気記録媒体の
電磁変換特性が不良となる。
0.1〜2.0μmであることが必要であり、好ましく
は0.15〜1.0μmが望ましい。該粒子の体積平均
粒径が0.1μmより小さいと摩擦が大きくなり、ビデ
オテープとした場合の走行特性が悪くなる。逆に、2.
0μmよりも大きいとビデオテープに代表される磁気記
録媒体の電磁変換特性が不良となる。また、上記有機高
分子粒子の含有量は、ポリエステルフィルムまたは積層
部を構成するポリエステルフィルム(B)に対して0.
01〜5.0重量%とすることが必要であり、好ましく
は0.05〜2.0重量%、さらには0.1〜1.0重
量%であることが好ましい。該粒子の含有量が0.01
重量%より小さいと摩擦が大きくなり、ビデオテープと
した場合の走行特性が悪くなる。逆に、5.0重量%よ
りも大きいとビデオテープに代表される磁気記録媒体の
電磁変換特性が不良となる。
【0010】本発明の不活性粒子の空隙率は、20〜5
0%であることが必要であり、好ましくは30〜40%
が望ましい。該粒子の空隙率が20%より小さいと繰り
返し走行時に粒子の脱落が増大し、ビデオテープとした
場合に繰り返し使用時のドロップアウト特性が悪くな
る。逆に、該空隙率が50%よりも大きいと粒子自体が
脆くなるためフィルム延伸時に粒子の破壊によりフィル
ム中にボイド発生し易くなりフィルムの削れ性が悪化す
る。また、ビデオテープでは繰り返し使用時に該粒子に
起因する突起部分が偏平に変形し易くなり、フィルム面
の摩擦係数の増大に伴うテープ鳴きや走行停止が発生し
易くなる。
0%であることが必要であり、好ましくは30〜40%
が望ましい。該粒子の空隙率が20%より小さいと繰り
返し走行時に粒子の脱落が増大し、ビデオテープとした
場合に繰り返し使用時のドロップアウト特性が悪くな
る。逆に、該空隙率が50%よりも大きいと粒子自体が
脆くなるためフィルム延伸時に粒子の破壊によりフィル
ム中にボイド発生し易くなりフィルムの削れ性が悪化す
る。また、ビデオテープでは繰り返し使用時に該粒子に
起因する突起部分が偏平に変形し易くなり、フィルム面
の摩擦係数の増大に伴うテープ鳴きや走行停止が発生し
易くなる。
【0011】ここで、前記空隙率は、水銀−ヘリウム法
によって求めた細孔容積(Vp)とJIS−K0061
に従いピクノメータ法にて測定した粒子の比重(ρ)か
ら下記式により算出したものである。 空隙率(%)=(Vp/(1/ρ+Vp))×100 また、空隙率が20〜30%の不活性粒子Aと空隙率が
31〜45%の不活性粒子Bを重量比率(不活性粒子B
の重量/不活性粒子Aの重量)が0.05〜10、好ま
しくは0.1〜2となるように含有せしめ、かつ空隙率
が31〜45%の不活性粒子Bの体積平均粒子径を空隙
率が20〜30%の不活性粒子Aの体積平均粒子径より
も0.1μm以上とすると走行耐久性が良好でかつドロ
ップアウト増加率が極めて良好となるのでより好まし
い。
によって求めた細孔容積(Vp)とJIS−K0061
に従いピクノメータ法にて測定した粒子の比重(ρ)か
ら下記式により算出したものである。 空隙率(%)=(Vp/(1/ρ+Vp))×100 また、空隙率が20〜30%の不活性粒子Aと空隙率が
31〜45%の不活性粒子Bを重量比率(不活性粒子B
の重量/不活性粒子Aの重量)が0.05〜10、好ま
しくは0.1〜2となるように含有せしめ、かつ空隙率
が31〜45%の不活性粒子Bの体積平均粒子径を空隙
率が20〜30%の不活性粒子Aの体積平均粒子径より
も0.1μm以上とすると走行耐久性が良好でかつドロ
ップアウト増加率が極めて良好となるのでより好まし
い。
【0012】次に、前記有機高分子粒子の製造方法を、
架橋高分子粒子の製造方法を例として説明すると、例え
ば前記化合物(A)、化合物(B)を所定量混合し、以
下のような乳化重合により製造する方法がある。 (a)ソープフリー重合法:乳化剤を使用しないか、あ
るいは極めて少量の乳化剤を用いて重合する方法。 (b)乳化重合に先だって重合系内に微細な重合体粒子
を添加しておいて乳化重合させるシード重合法。 (c)単量体(モノマー)の一部を乳化重合させ、その
重合系内で残りの単量体を重合させるコアーシェル重合
法。 その製造方法は特に限定はしないが、本発明の相対標準
偏差の範囲を満足する有機高分子粒子を得るためには、
上記(b)のシード重合法が好ましい。
架橋高分子粒子の製造方法を例として説明すると、例え
ば前記化合物(A)、化合物(B)を所定量混合し、以
下のような乳化重合により製造する方法がある。 (a)ソープフリー重合法:乳化剤を使用しないか、あ
るいは極めて少量の乳化剤を用いて重合する方法。 (b)乳化重合に先だって重合系内に微細な重合体粒子
を添加しておいて乳化重合させるシード重合法。 (c)単量体(モノマー)の一部を乳化重合させ、その
重合系内で残りの単量体を重合させるコアーシェル重合
法。 その製造方法は特に限定はしないが、本発明の相対標準
偏差の範囲を満足する有機高分子粒子を得るためには、
上記(b)のシード重合法が好ましい。
【0013】特に、前記の有機高分子粒子は、球状のも
のが好ましく、さらには粒子の投影面における最大径と
最小径の粒径比(最大径/最小径)が1.0〜1.3で
あるものがさらに好ましい。ここで、該粒径比が1.0
の場合は真球であることを示している。該粒径の範囲を
外れると金属ガイド/フィルム間における摩擦が大きく
なり、該ビデオテープをVTR中で繰り返し使用した場
合に走行性が悪化し易くなり、テープ鳴きを起こした
り、VTR中で走行が止まったりすることがある。従っ
て、特に、走行時の耐久性を要求されるようなビデオテ
ープ用途、たとえば映画等の録画済みソフト用ベースフ
ィルムとしては前記範囲の粒子であることが好ましい。
のが好ましく、さらには粒子の投影面における最大径と
最小径の粒径比(最大径/最小径)が1.0〜1.3で
あるものがさらに好ましい。ここで、該粒径比が1.0
の場合は真球であることを示している。該粒径の範囲を
外れると金属ガイド/フィルム間における摩擦が大きく
なり、該ビデオテープをVTR中で繰り返し使用した場
合に走行性が悪化し易くなり、テープ鳴きを起こした
り、VTR中で走行が止まったりすることがある。従っ
て、特に、走行時の耐久性を要求されるようなビデオテ
ープ用途、たとえば映画等の録画済みソフト用ベースフ
ィルムとしては前記範囲の粒子であることが好ましい。
【0014】また、本発明の不活性粒子の粒子径分布の
広がりの尺度となる相対標準偏差は、0.1〜1.0の
範囲内にあることが必要であり、好ましくは0.2〜
0.6、さらに好ましくは、0.2〜0.4であること
が望ましい。ここにいう相対標準偏差は、粒子の面積円
相当径から個数単位で求めた標準偏差と体積平均径の比
で次式(1)で表わされ、該不活性粒子の相対標準偏差
が前記の好ましい範囲より小さいとビデオテープとした
場合の磁性層面の摩擦が大きくなり、ビデオテープデッ
キ中での走行特性が悪くなり、場合によってはビデオテ
ープ再生時に映像信号の変動(ジッター)が発生し易く
なるため好ましくない。逆に、前記の好ましい範囲より
も大きいと削れ性、ドロップアウト特性が悪化する。 相対標準偏差=((Σi=1 →n Di −DN)2 /n)0.5 /DV‥‥(1) ここで、Di :粒子個々の投影面積から求めた面積円相
当径(μm) DN:上記面積円相当径の数平均値 [DN=(Σi=1 →n Di )/n](μm) DV:上記面積円相当径の体積平均値 [DV=(Σi=1 →n Di 3 /n)1/3 ](μm) n:粒子の測定個数
広がりの尺度となる相対標準偏差は、0.1〜1.0の
範囲内にあることが必要であり、好ましくは0.2〜
0.6、さらに好ましくは、0.2〜0.4であること
が望ましい。ここにいう相対標準偏差は、粒子の面積円
相当径から個数単位で求めた標準偏差と体積平均径の比
で次式(1)で表わされ、該不活性粒子の相対標準偏差
が前記の好ましい範囲より小さいとビデオテープとした
場合の磁性層面の摩擦が大きくなり、ビデオテープデッ
キ中での走行特性が悪くなり、場合によってはビデオテ
ープ再生時に映像信号の変動(ジッター)が発生し易く
なるため好ましくない。逆に、前記の好ましい範囲より
も大きいと削れ性、ドロップアウト特性が悪化する。 相対標準偏差=((Σi=1 →n Di −DN)2 /n)0.5 /DV‥‥(1) ここで、Di :粒子個々の投影面積から求めた面積円相
当径(μm) DN:上記面積円相当径の数平均値 [DN=(Σi=1 →n Di )/n](μm) DV:上記面積円相当径の体積平均値 [DV=(Σi=1 →n Di 3 /n)1/3 ](μm) n:粒子の測定個数
【0015】本発明において、前記不活性粒子をポリエ
ステルに含有せしめる方法は特に限定されないが、例え
ば、ポリエステル製造時に不活性粒子のスラリーを添加
する方法が好ましく。添加方法、添加時期は、従来公知
の方法、時期が用いられるが、添加方法においては、特
に該ポリエステルの合成原料であるグリコールのスラリ
ーとして添加する方法が好ましい。この際のスラリー濃
度としては0.5〜25重量%、さらには1〜15重量
%の範囲とするのがポリエステル中での粒子分散性が良
くなり好ましい。さらに添加時のスラリーのグリコール
中の含有水分量は、1重量%以下、さらには0.5重量
%以下とする方がポリエステル中での粒子分散性が向上
するので好ましい。添加時期は任意でよく、モノマー仕
込み時、エステル交換反応時あるいはその前後に添加し
てもよい。また、該粒子のスラリーをポリマー製造後一
軸または二軸のベント式押出し機などを用いて添加混練
により分散させる方法も好ましい。
ステルに含有せしめる方法は特に限定されないが、例え
ば、ポリエステル製造時に不活性粒子のスラリーを添加
する方法が好ましく。添加方法、添加時期は、従来公知
の方法、時期が用いられるが、添加方法においては、特
に該ポリエステルの合成原料であるグリコールのスラリ
ーとして添加する方法が好ましい。この際のスラリー濃
度としては0.5〜25重量%、さらには1〜15重量
%の範囲とするのがポリエステル中での粒子分散性が良
くなり好ましい。さらに添加時のスラリーのグリコール
中の含有水分量は、1重量%以下、さらには0.5重量
%以下とする方がポリエステル中での粒子分散性が向上
するので好ましい。添加時期は任意でよく、モノマー仕
込み時、エステル交換反応時あるいはその前後に添加し
てもよい。また、該粒子のスラリーをポリマー製造後一
軸または二軸のベント式押出し機などを用いて添加混練
により分散させる方法も好ましい。
【0016】また、本発明の不活性粒子以外にフィルム
表面のキズ付き難さ、すなわち耐スクラッチ特性を付与
する目的で酸化アルミニウム粒子および/または酸化ジ
ルコニウム粒子を単独あるいは併用して含有せしめるこ
とができる。前記酸化アルミニウム粒子は、結晶構造を
有するものとして、従来より知られているα型酸化アル
ミニウム粒子、γ型、δ型、η型、θ型、κ型、χ型な
どの活性酸化アルミニウム粒子、および非晶質の酸化ア
ルミニウム粒子が挙げられる。合成方法に関しては、種
々の方法が公知であり、例えば、塩化アルミニウムに水
素、酸素を吹き込んで気相中で加水分解するとδ型酸化
アルミニウムが、同じく塩化アルミニウムに水蒸気を吹
き込んで気相中で加水分解すると非晶質酸化アルミニウ
ムが、ミョウバンを炭酸塩で中和後加水分解するとγ
型、θ型酸化アルミニウムが、アルミニウムアルコキシ
ドを加水分解して得られた水酸化アルミニウムを焼成す
ることによりγ型、δ型、θ型の酸化アルミニウムが、
金属アルミニウムを水中火花放電して得られた水酸化ア
ルミニムを焼成することによってη型やθ型酸化アルミ
ニウムができる。また、通常のバイヤー法と呼ばれる方
法では、α型酸化アルミニウムが生成し、主としてこの
ような結晶構造の決定には、これらの合成方法の選択と
焼成温度ならびに焼成時間で左右される。この際、焼成
温度、焼成時間の選択によっては、焼成が完了した時点
で二種以上の結晶構造が混在する場合もあるが本発明に
おいてはこのような粒子もしくは単独の結晶構造、ある
いは混合されたものであっても構わない。このような、
酸化アルミニウム粒子群のなかでγ型、δ型、η型、θ
型、κ型、χ型などの活性酸化アルミニウム粒子が好ま
しい。なお、このような、各種の酸化アルミニウムの結
晶構造は、通常のX線回折によって同定することが可能
である。粒子を構成する一次粒子径としては比表面積で
代表させるならば10m2/g以上、が好ましく、さら
には30〜600m2 /gの範囲にあるものが好まし
い。
表面のキズ付き難さ、すなわち耐スクラッチ特性を付与
する目的で酸化アルミニウム粒子および/または酸化ジ
ルコニウム粒子を単独あるいは併用して含有せしめるこ
とができる。前記酸化アルミニウム粒子は、結晶構造を
有するものとして、従来より知られているα型酸化アル
ミニウム粒子、γ型、δ型、η型、θ型、κ型、χ型な
どの活性酸化アルミニウム粒子、および非晶質の酸化ア
ルミニウム粒子が挙げられる。合成方法に関しては、種
々の方法が公知であり、例えば、塩化アルミニウムに水
素、酸素を吹き込んで気相中で加水分解するとδ型酸化
アルミニウムが、同じく塩化アルミニウムに水蒸気を吹
き込んで気相中で加水分解すると非晶質酸化アルミニウ
ムが、ミョウバンを炭酸塩で中和後加水分解するとγ
型、θ型酸化アルミニウムが、アルミニウムアルコキシ
ドを加水分解して得られた水酸化アルミニウムを焼成す
ることによりγ型、δ型、θ型の酸化アルミニウムが、
金属アルミニウムを水中火花放電して得られた水酸化ア
ルミニムを焼成することによってη型やθ型酸化アルミ
ニウムができる。また、通常のバイヤー法と呼ばれる方
法では、α型酸化アルミニウムが生成し、主としてこの
ような結晶構造の決定には、これらの合成方法の選択と
焼成温度ならびに焼成時間で左右される。この際、焼成
温度、焼成時間の選択によっては、焼成が完了した時点
で二種以上の結晶構造が混在する場合もあるが本発明に
おいてはこのような粒子もしくは単独の結晶構造、ある
いは混合されたものであっても構わない。このような、
酸化アルミニウム粒子群のなかでγ型、δ型、η型、θ
型、κ型、χ型などの活性酸化アルミニウム粒子が好ま
しい。なお、このような、各種の酸化アルミニウムの結
晶構造は、通常のX線回折によって同定することが可能
である。粒子を構成する一次粒子径としては比表面積で
代表させるならば10m2/g以上、が好ましく、さら
には30〜600m2 /gの範囲にあるものが好まし
い。
【0017】また、前記酸化アルミニウム粒子は、ポリ
エステルの主原料および共重合成分などのグリコール成
分、具体的にはエチレングリコール、テトラメチレング
リコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコー
ル、1,4−シクロヘキサンジメタノール、5−ナトリ
ウムスルホレゾルシンなどの溶媒の存在下分散処理さ
れ、その二次粒子径は1.0μm以下が好ましく、さら
には0.05〜0.5μmの範囲にあるものが好まし
い。
エステルの主原料および共重合成分などのグリコール成
分、具体的にはエチレングリコール、テトラメチレング
リコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコー
ル、1,4−シクロヘキサンジメタノール、5−ナトリ
ウムスルホレゾルシンなどの溶媒の存在下分散処理さ
れ、その二次粒子径は1.0μm以下が好ましく、さら
には0.05〜0.5μmの範囲にあるものが好まし
い。
【0018】また前記酸化ジルコニウム粒子は、通常、
天然に産するジルコニウム鉱石、すなわちジリコン砂や
バッデリ石などから得ることができる。その製法として
は、例えば、上述のジルコン砂を溶融し、オキシ塩化ジ
ルコニウムを経て水酸化ジルコニウムの焼成により得る
方法や塩化ジルコニウムに水素、酸素を吹き込んで気相
中で加水分解して得る方法が挙げられる。このようにし
て得られる酸化ジルコニウム粒子は、製造条件により、
種々の形態をとり、単斜晶、正方晶、立方晶、菱面体結
晶、斜方晶およびこれらの結晶相が混在するものが知ら
れている。また、一般には、安定化剤として、酸化カル
シウム、酸化マグネシウム、酸化イットリウムなどを含
むものがある。本発明においては、このような粒子もし
くは単独の結晶構造あるいは混合されたものであっても
良いが、好ましくは、単斜晶または正方晶のものであ
る。なお、このような各種の酸化ジルコニウム粒子の結
晶構造は、通常のX線回折によって同定することが可能
である。
天然に産するジルコニウム鉱石、すなわちジリコン砂や
バッデリ石などから得ることができる。その製法として
は、例えば、上述のジルコン砂を溶融し、オキシ塩化ジ
ルコニウムを経て水酸化ジルコニウムの焼成により得る
方法や塩化ジルコニウムに水素、酸素を吹き込んで気相
中で加水分解して得る方法が挙げられる。このようにし
て得られる酸化ジルコニウム粒子は、製造条件により、
種々の形態をとり、単斜晶、正方晶、立方晶、菱面体結
晶、斜方晶およびこれらの結晶相が混在するものが知ら
れている。また、一般には、安定化剤として、酸化カル
シウム、酸化マグネシウム、酸化イットリウムなどを含
むものがある。本発明においては、このような粒子もし
くは単独の結晶構造あるいは混合されたものであっても
良いが、好ましくは、単斜晶または正方晶のものであ
る。なお、このような各種の酸化ジルコニウム粒子の結
晶構造は、通常のX線回折によって同定することが可能
である。
【0019】該酸化ジルコニウム粒子の二次粒子径は
1.0μm以下が好ましく、さらには0.05〜0.5
μmの範囲にあるものが好ましい。
1.0μm以下が好ましく、さらには0.05〜0.5
μmの範囲にあるものが好ましい。
【0020】前記酸化アルミニウム粒子および/または
酸化ジルコニウム粒子の含有量は、前記ポリエステルに
対して0.05〜1重量%が好ましく、さらには、0.
1〜0.3重量%が好ましい。
酸化ジルコニウム粒子の含有量は、前記ポリエステルに
対して0.05〜1重量%が好ましく、さらには、0.
1〜0.3重量%が好ましい。
【0021】本発明においては、本発明で規定した不活
性粒子と前述の酸化アルミニウム粒子および/または酸
化ジルコニウム粒子とを組み合わせることにより耐スク
ラッチ性、繰り返し使用による走行耐久性がより一層良
好となるのみならず、ビデオテープ化後のVTRカセッ
ト中での白粉の発生も極めて少なくなる。また、本発明
の効果を阻害しない範囲内であれば、酸化防止剤、熱安
定剤、紫外線吸収剤などの添加剤が通常添加される程度
に含有されていてもよい。
性粒子と前述の酸化アルミニウム粒子および/または酸
化ジルコニウム粒子とを組み合わせることにより耐スク
ラッチ性、繰り返し使用による走行耐久性がより一層良
好となるのみならず、ビデオテープ化後のVTRカセッ
ト中での白粉の発生も極めて少なくなる。また、本発明
の効果を阻害しない範囲内であれば、酸化防止剤、熱安
定剤、紫外線吸収剤などの添加剤が通常添加される程度
に含有されていてもよい。
【0022】本発明における削れ指数Kとは、厚み10
〜15μmのフィルムをシェアカッター方式のスリッタ
ーにて50m/分のスリット速度で1/2インチにスリ
ットし、次いで1/2インチにスリット後のフィルム1
mを50ccの純水を入れた容器中に片側の切断面のみ
が浸積するように設置、超音波処理を行なった後、該フ
ィルムサンプルを取り除き浸積液をパーティクルカウン
ターで測定した時の3〜20μmの大きさの粒径を有す
る粒子の個数として定義される。本発明においては、上
記の削れ指数Kが60以下、好ましくは40以下である
ことがビデオテープ再生時のオーディオ特性が特に良好
となるので好ましい。
〜15μmのフィルムをシェアカッター方式のスリッタ
ーにて50m/分のスリット速度で1/2インチにスリ
ットし、次いで1/2インチにスリット後のフィルム1
mを50ccの純水を入れた容器中に片側の切断面のみ
が浸積するように設置、超音波処理を行なった後、該フ
ィルムサンプルを取り除き浸積液をパーティクルカウン
ターで測定した時の3〜20μmの大きさの粒径を有す
る粒子の個数として定義される。本発明においては、上
記の削れ指数Kが60以下、好ましくは40以下である
ことがビデオテープ再生時のオーディオ特性が特に良好
となるので好ましい。
【0023】また本発明の磁気記録媒体用ポリエステル
フィルムおよび磁気記録媒体用積層ポリエステルフィル
ムにおいて前記面配向指数FならびにΔNが下記(2)
〜(4)式を同時に満足する範囲内にあると繰り返し走
行時の摩耗特性が良好となるのみならず、スリット時に
フィルム端面にヒゲ状物が発生しにくくなり、また、ビ
デオテープ加工時に行われるカレンダー工程においての
摩耗粉の発生を少なくする上で好ましい。 ΔN ≦ 1413−8327×F‥‥‥‥‥‥‥(2) ΔN ≧ 1340−8627×F‥‥‥‥‥‥‥(3) −60≦ΔN≦−20 ‥‥‥‥‥‥‥(4) [ここで、ΔNは、ΔN=(NMD−NTD)×1000、F=
(NMD+NTD)/2−nzで定義され、NMDは、フィル
ム長手方向の屈折率、NTDは、フィルム巾方向の屈折率
を示す。]
フィルムおよび磁気記録媒体用積層ポリエステルフィル
ムにおいて前記面配向指数FならびにΔNが下記(2)
〜(4)式を同時に満足する範囲内にあると繰り返し走
行時の摩耗特性が良好となるのみならず、スリット時に
フィルム端面にヒゲ状物が発生しにくくなり、また、ビ
デオテープ加工時に行われるカレンダー工程においての
摩耗粉の発生を少なくする上で好ましい。 ΔN ≦ 1413−8327×F‥‥‥‥‥‥‥(2) ΔN ≧ 1340−8627×F‥‥‥‥‥‥‥(3) −60≦ΔN≦−20 ‥‥‥‥‥‥‥(4) [ここで、ΔNは、ΔN=(NMD−NTD)×1000、F=
(NMD+NTD)/2−nzで定義され、NMDは、フィル
ム長手方向の屈折率、NTDは、フィルム巾方向の屈折率
を示す。]
【0024】ここで、前記ΔNは、NMDを下げることに
よって上昇させることができ、上げることによって下降
させることができる。NMDは、長手方向の延伸倍率を上
げることによって上げることができ、逆に下げることに
より下げることができる。NTDは巾方向の延伸倍率を上
げることによって上げることができ、逆に下げることに
より下げることができる。また、NMDは、長手方向の延
伸温度を下げることにより上げることができ、逆に上げ
ることによって下げることができる。NTDは、巾方向の
延伸温度を下げることにより上げることができ、逆に上
げることによって下げることができる。
よって上昇させることができ、上げることによって下降
させることができる。NMDは、長手方向の延伸倍率を上
げることによって上げることができ、逆に下げることに
より下げることができる。NTDは巾方向の延伸倍率を上
げることによって上げることができ、逆に下げることに
より下げることができる。また、NMDは、長手方向の延
伸温度を下げることにより上げることができ、逆に上げ
ることによって下げることができる。NTDは、巾方向の
延伸温度を下げることにより上げることができ、逆に上
げることによって下げることができる。
【0025】また、前記面配向度Fは、延伸時の面積倍
率(長手方向の延伸倍率×巾方向の延伸倍率)を上げる
ことによって上昇させることができ、逆に、下げること
によって下降させることができる。また、前記面積倍率
が同一の場合は、長手方向あるいは巾方向の延伸温度を
下げることによって上げることができ、逆に、該温度を
上げることによって下げることができる。
率(長手方向の延伸倍率×巾方向の延伸倍率)を上げる
ことによって上昇させることができ、逆に、下げること
によって下降させることができる。また、前記面積倍率
が同一の場合は、長手方向あるいは巾方向の延伸温度を
下げることによって上げることができ、逆に、該温度を
上げることによって下げることができる。
【0026】また、前記厚み方向の屈折率nzは、延伸
時の面積倍率(長手方向の延伸倍率×巾方向の延伸倍
率)を上げることによって大きくすることができ、逆
に、下げることによって小さくすることができる。ま
た、前記面積倍率が同一の場合は、長手方向あるいは巾
方向の延伸温度を下げることによって大きくすることが
でき、逆に、該温度を上げることによって小さくするこ
とができる。さらに、熱処理温度を高くすることによっ
て大きくすることができ、また、逆に、低くすることに
よって小さくすることができる。
時の面積倍率(長手方向の延伸倍率×巾方向の延伸倍
率)を上げることによって大きくすることができ、逆
に、下げることによって小さくすることができる。ま
た、前記面積倍率が同一の場合は、長手方向あるいは巾
方向の延伸温度を下げることによって大きくすることが
でき、逆に、該温度を上げることによって小さくするこ
とができる。さらに、熱処理温度を高くすることによっ
て大きくすることができ、また、逆に、低くすることに
よって小さくすることができる。
【0027】本発明の磁気記録媒体用ポリエステルフィ
ルムおよび磁気記録媒体用積層ポリエステルフィルム
は、常法により二軸配向されたものであり、厚みは3〜
50μmであることが好ましく、さらには5〜25μm
の範囲であることが好ましい。
ルムおよび磁気記録媒体用積層ポリエステルフィルム
は、常法により二軸配向されたものであり、厚みは3〜
50μmであることが好ましく、さらには5〜25μm
の範囲であることが好ましい。
【0028】本発明の磁気記録媒体用ポリエステルフィ
ルムおよび磁気記録媒体用積層ポリエステルフィルムの
少なくとも片面が、中心線平均表面粗さ(Ra)が8〜
30nm、かつ三次元平均表面粗さ(SRa)が13〜
50nmであることが好ましく、さらにはRaが12〜
25nmで、SRaは17〜40nmであるとが好まし
い。表面粗さが上記範囲内にあると摩擦係数が小さく耐
削れ性が良好で、かつ画質特性も良好がであるため好ま
しい。さらに高さが200〜400nmの突起の数が
0.1mm2 あたり1200個以上、さらには1350
個以上、特には1500個以上で、かつ高さが400n
m〜800nmの突起の数が0.1mm2あたり400
個以下、さらには300個以下、特には200個以下で
あることが好ましい。高さが200〜400nmの突起
の数ならびに高さが400nm〜800nmの突起の数
が上記範囲内であると使用耐久性が特に良好でかつ画質
特性が良好となる。
ルムおよび磁気記録媒体用積層ポリエステルフィルムの
少なくとも片面が、中心線平均表面粗さ(Ra)が8〜
30nm、かつ三次元平均表面粗さ(SRa)が13〜
50nmであることが好ましく、さらにはRaが12〜
25nmで、SRaは17〜40nmであるとが好まし
い。表面粗さが上記範囲内にあると摩擦係数が小さく耐
削れ性が良好で、かつ画質特性も良好がであるため好ま
しい。さらに高さが200〜400nmの突起の数が
0.1mm2 あたり1200個以上、さらには1350
個以上、特には1500個以上で、かつ高さが400n
m〜800nmの突起の数が0.1mm2あたり400
個以下、さらには300個以下、特には200個以下で
あることが好ましい。高さが200〜400nmの突起
の数ならびに高さが400nm〜800nmの突起の数
が上記範囲内であると使用耐久性が特に良好でかつ画質
特性が良好となる。
【0029】本発明の積層ポリエステルフィルムの具体
的な構成としては次の組み合わせが望ましい。 ・B/A/B ・B/A/C ・B/A ここで、A;基層部ポリエステルフィルム B、C;積層部ポリエステルフィルム B/Aは基層部のポリエステルフィルムAの片面に、B
/A/Bは、基層部のポリエステルフィルムAの両面に
ポリエステルBが積層されていることを示す。
的な構成としては次の組み合わせが望ましい。 ・B/A/B ・B/A/C ・B/A ここで、A;基層部ポリエステルフィルム B、C;積層部ポリエステルフィルム B/Aは基層部のポリエステルフィルムAの片面に、B
/A/Bは、基層部のポリエステルフィルムAの両面に
ポリエステルBが積層されていることを示す。
【0030】また、A〜Cは、上記で述べたポリエステ
ルおよび不活性粒子ならびに酸化アルミニウム粒子およ
び/または酸化ジルコニウム粒子を含んでいてもよい
が、少なくともA層に前述の回収ポリエステルを利用す
ることが可能であり、また該回収ポリエステルとして
は、末端カルボニル基が30〜50当量/トン、さらに
は、30〜40当量/トンであることが好ましい。
ルおよび不活性粒子ならびに酸化アルミニウム粒子およ
び/または酸化ジルコニウム粒子を含んでいてもよい
が、少なくともA層に前述の回収ポリエステルを利用す
ることが可能であり、また該回収ポリエステルとして
は、末端カルボニル基が30〜50当量/トン、さらに
は、30〜40当量/トンであることが好ましい。
【0031】ここで、基層部のポリエステルフィルムA
は実質的に粒子を含まないポリエステルフィルムであっ
てもよいし、粒子を含んでいても良い。粒子種としては
特に制限されるものでなく、例えば、無機粒子として炭
酸カルシウム、シリカ、カオリン、アルミナ、硫酸バリ
ウム、酸化チタンなどポリエステルに不溶な微細粒子で
も良いし、また、架橋ポリスチレンなどの有機高分子粒
子が含まれていても良い。また、積層部のポリエステル
フィルムBおよびCは、表面を形成するものであり、本
発明の効果を実現するためには、少なくとも片面の積層
部ポリエステルフィルムについて本発明の粒子を含有し
たポリエステルフィルムを積層することが好ましい。両
面について積層する場合には、反対面については、本発
明の粒子を含有したポリエステルフィルムに限定される
ものではなく、実質的に粒子を含まないものであっても
良いし、本発明外の粒子を含有するものであっても良
い。さらに、磁性剤との接着性の改良、帯電防止などの
ために、帯電防止剤などの塗布層を設けても良い。
は実質的に粒子を含まないポリエステルフィルムであっ
てもよいし、粒子を含んでいても良い。粒子種としては
特に制限されるものでなく、例えば、無機粒子として炭
酸カルシウム、シリカ、カオリン、アルミナ、硫酸バリ
ウム、酸化チタンなどポリエステルに不溶な微細粒子で
も良いし、また、架橋ポリスチレンなどの有機高分子粒
子が含まれていても良い。また、積層部のポリエステル
フィルムBおよびCは、表面を形成するものであり、本
発明の効果を実現するためには、少なくとも片面の積層
部ポリエステルフィルムについて本発明の粒子を含有し
たポリエステルフィルムを積層することが好ましい。両
面について積層する場合には、反対面については、本発
明の粒子を含有したポリエステルフィルムに限定される
ものではなく、実質的に粒子を含まないものであっても
良いし、本発明外の粒子を含有するものであっても良
い。さらに、磁性剤との接着性の改良、帯電防止などの
ために、帯電防止剤などの塗布層を設けても良い。
【0032】また、基層部のポリエステルフィルムAに
対する本発明の不活性粒子を含有する積層部のポリエス
テルフィルムの厚さ比率は40%以下であることが望ま
しく、また、該不活性粒子の体積平均径に対し0.2倍
から5倍の積層厚みとする場合により効果的である。
対する本発明の不活性粒子を含有する積層部のポリエス
テルフィルムの厚さ比率は40%以下であることが望ま
しく、また、該不活性粒子の体積平均径に対し0.2倍
から5倍の積層厚みとする場合により効果的である。
【0033】次に本発明のポリエステルフィルムならび
に積層ポリエステルフィルムの製造方法について説明す
る。まず、本発明の不活性粒子を所定のポリエステルに
含有せしめる方法としては、重合前、重合中、重合後の
いずれに添加してもよいが、ポリエステルのジオール成
分であるエチレングリコールに、スラリーとして混合、
分散せしめて添加する方法が好ましい。また、該粒子の
含有量を調節する方法としては、高濃度、好ましくは粒
子含有量が1.0〜5.0重量%のマスターペレットを
製膜時に稀釈する方法が好ましい。特に、有機高分子粒
子を所定のポリエステルに含有せしめる方法としては、
該粒子を粉末状、もしくはスラリー状態で、2軸のベン
ト式押出し機等を用いて溶融状態にあるポリエステル中
に練り込む方法が好ましく用いられる。
に積層ポリエステルフィルムの製造方法について説明す
る。まず、本発明の不活性粒子を所定のポリエステルに
含有せしめる方法としては、重合前、重合中、重合後の
いずれに添加してもよいが、ポリエステルのジオール成
分であるエチレングリコールに、スラリーとして混合、
分散せしめて添加する方法が好ましい。また、該粒子の
含有量を調節する方法としては、高濃度、好ましくは粒
子含有量が1.0〜5.0重量%のマスターペレットを
製膜時に稀釈する方法が好ましい。特に、有機高分子粒
子を所定のポリエステルに含有せしめる方法としては、
該粒子を粉末状、もしくはスラリー状態で、2軸のベン
ト式押出し機等を用いて溶融状態にあるポリエステル中
に練り込む方法が好ましく用いられる。
【0034】次に、本発明の酸化アルミニウム粒子およ
び/または酸化ジルコニウム粒子を所定のポリエステル
に含有せしめる方法としては、例えば、酸化アルミニウ
ム粒子および/または酸化ジルコニウム粒子をグリコー
ル等の溶媒の存在下で湿式分散処理したスラリーをポリ
エステルの重合反応系に添加する方法が挙げられる。な
お、この際の処理方法としては、撹拌の他に、超音波等
を併用しても構わなく、また、サンドグラインダなどの
媒体型ミルを用いても構わない。添加時期としては、重
合反応が完了するまでの間の任意の間でよいが、エステ
ル交換反応前から重合反応の減圧開始前までの間が好ま
しい。なお、これ以外の方法、例えば、粉末状、もしく
はスラリー状態で、溶融押出し機等を用いて溶融状態に
あるポリエステル中に練り込んでもよい。
び/または酸化ジルコニウム粒子を所定のポリエステル
に含有せしめる方法としては、例えば、酸化アルミニウ
ム粒子および/または酸化ジルコニウム粒子をグリコー
ル等の溶媒の存在下で湿式分散処理したスラリーをポリ
エステルの重合反応系に添加する方法が挙げられる。な
お、この際の処理方法としては、撹拌の他に、超音波等
を併用しても構わなく、また、サンドグラインダなどの
媒体型ミルを用いても構わない。添加時期としては、重
合反応が完了するまでの間の任意の間でよいが、エステ
ル交換反応前から重合反応の減圧開始前までの間が好ま
しい。なお、これ以外の方法、例えば、粉末状、もしく
はスラリー状態で、溶融押出し機等を用いて溶融状態に
あるポリエステル中に練り込んでもよい。
【0035】かくして、所定量の不活性粒子、酸化アル
ミニウム粒子および/または酸化ジルコニウム粒子を含
有するペレットを十分乾燥したのち、公知の1軸型溶融
押出機あるいは2軸型の副押出機を備えた2あるいは3
層複合押出機に供給し、270〜330℃でスリット状
のダイからシート状に押出し、キャスティングロール上
で冷却固化せしめて未延伸フィルムを作る。この時、高
精度2段瀘過フイルターをポリマ流路に設置すること
が、フィルムにしたときの粗大突起を減少させるうえで
有効である。ここでいう高精度2段瀘過フイルターと
は、1段目を95%カットオフ粒径が4〜10μm、2
段目を95%カットオフ粒径が1.5〜5μmのフイル
ターを直列にならべたものであり、95%カットオフ粒
径が1段目>2段目としたものである。ここで、前記積
層ポリエステルフィルムにおいては、上記基層部のポリ
エステルAの少なくとも片面に積層部のポリエステル
B、Cの少なくとも一種を共押出により積層せしめて未
延伸フィルムを作るのが好ましい。
ミニウム粒子および/または酸化ジルコニウム粒子を含
有するペレットを十分乾燥したのち、公知の1軸型溶融
押出機あるいは2軸型の副押出機を備えた2あるいは3
層複合押出機に供給し、270〜330℃でスリット状
のダイからシート状に押出し、キャスティングロール上
で冷却固化せしめて未延伸フィルムを作る。この時、高
精度2段瀘過フイルターをポリマ流路に設置すること
が、フィルムにしたときの粗大突起を減少させるうえで
有効である。ここでいう高精度2段瀘過フイルターと
は、1段目を95%カットオフ粒径が4〜10μm、2
段目を95%カットオフ粒径が1.5〜5μmのフイル
ターを直列にならべたものであり、95%カットオフ粒
径が1段目>2段目としたものである。ここで、前記積
層ポリエステルフィルムにおいては、上記基層部のポリ
エステルAの少なくとも片面に積層部のポリエステル
B、Cの少なくとも一種を共押出により積層せしめて未
延伸フィルムを作るのが好ましい。
【0036】本発明における積層フィルムとは、該ポリ
エステルA、BおよびCをそれぞれ異なる押出装置で押
出し、口金から積層シートを吐出する前にこれらを共押
し出しにて積層することにより得ることができる。この
積層は、シート状に成形、吐出するための口金内(例え
ばマニホールド)で行っても良いが、前述のごとく積層
厚みが薄いことから、口金に導入する前のポリマー配管
内で行うことが好ましい。特に、ポリマ−管内の積層部
を、矩形に形成しておくと、幅方向に均一に積層できる
のでとくに好ましい。ポリマー管内矩形積層部で積層さ
れた溶融ポリマーは、口金内マニホルドでシート幅方向
に所定幅まで拡幅され、口金からシート状の未延伸フィ
ルムが得られる。
エステルA、BおよびCをそれぞれ異なる押出装置で押
出し、口金から積層シートを吐出する前にこれらを共押
し出しにて積層することにより得ることができる。この
積層は、シート状に成形、吐出するための口金内(例え
ばマニホールド)で行っても良いが、前述のごとく積層
厚みが薄いことから、口金に導入する前のポリマー配管
内で行うことが好ましい。特に、ポリマ−管内の積層部
を、矩形に形成しておくと、幅方向に均一に積層できる
のでとくに好ましい。ポリマー管内矩形積層部で積層さ
れた溶融ポリマーは、口金内マニホルドでシート幅方向
に所定幅まで拡幅され、口金からシート状の未延伸フィ
ルムが得られる。
【0037】したがって、たとえ二軸配向後の積層ポリ
エステルフィルムが極薄であっても、ポリマー管内矩形
積層部では、積層部ポリマーをかなりの厚さで積層する
ことになるので、容易にかつ精度良く積層できる。2ま
たは3台の溶融押出機、2または3または5層用の合流
ブロックあるいは口金を用いることにより、B/A/
B、B/A/C、B/A、B/A/B/A/B、B/A
/C/A/Bの積層シートを得ることができる。合流ブ
ロックを用いる場合は積層部分を前述のごとく矩形のも
のしておくことが本発明の積層ポリエステルフィルムを
安定して、幅方向に斑なく工業的に生産するのに有効で
ある。
エステルフィルムが極薄であっても、ポリマー管内矩形
積層部では、積層部ポリマーをかなりの厚さで積層する
ことになるので、容易にかつ精度良く積層できる。2ま
たは3台の溶融押出機、2または3または5層用の合流
ブロックあるいは口金を用いることにより、B/A/
B、B/A/C、B/A、B/A/B/A/B、B/A
/C/A/Bの積層シートを得ることができる。合流ブ
ロックを用いる場合は積層部分を前述のごとく矩形のも
のしておくことが本発明の積層ポリエステルフィルムを
安定して、幅方向に斑なく工業的に生産するのに有効で
ある。
【0038】また、上記ポリエステルB、Cの製造にお
いては二軸式押出機を用いて本発明の粒子のスラリーと
無粒子のポリエステルとを混練しながら溶融させ、該押
出機に配したベント孔より真空下でスラリー中の溶媒を
留去せしめながら分散させて本発明の粒子を含有するポ
リエステルを製造せしめてもよい。
いては二軸式押出機を用いて本発明の粒子のスラリーと
無粒子のポリエステルとを混練しながら溶融させ、該押
出機に配したベント孔より真空下でスラリー中の溶媒を
留去せしめながら分散させて本発明の粒子を含有するポ
リエステルを製造せしめてもよい。
【0039】次にこの未延伸フィルムを二軸延伸し、二
軸配向せしめる。延伸方法としては、逐次二軸延伸法ま
たは同時二軸延伸法を用いることができる。ただし、最
初に長手方向、次に幅方向の延伸を行なう逐次二軸延伸
法を用い、長手方向の延伸を、2段階、特に3段階以上
に分けて、(ポリマーのガラス転移点+20℃)〜(ポ
リマーのガラス転移点+60℃)の範囲で、3〜4.5
倍に延伸後、幅方向に延伸温度100〜160℃、延伸
倍率3〜5倍に延伸する。次にこの延伸フィルムを熱処
理する。この場合の熱処理条件としては、150〜23
0℃、好ましくは180〜210℃の範囲で0.5〜6
0秒間が好適である。この熱処理工程において走行方
向、幅方向ともに、弛緩、微延伸、定長下のいずれかの
状態で行うことができる。
軸配向せしめる。延伸方法としては、逐次二軸延伸法ま
たは同時二軸延伸法を用いることができる。ただし、最
初に長手方向、次に幅方向の延伸を行なう逐次二軸延伸
法を用い、長手方向の延伸を、2段階、特に3段階以上
に分けて、(ポリマーのガラス転移点+20℃)〜(ポ
リマーのガラス転移点+60℃)の範囲で、3〜4.5
倍に延伸後、幅方向に延伸温度100〜160℃、延伸
倍率3〜5倍に延伸する。次にこの延伸フィルムを熱処
理する。この場合の熱処理条件としては、150〜23
0℃、好ましくは180〜210℃の範囲で0.5〜6
0秒間が好適である。この熱処理工程において走行方
向、幅方向ともに、弛緩、微延伸、定長下のいずれかの
状態で行うことができる。
【0040】本発明における特性値は、次の測定方法、
評価基準による。 (1)粒子含有量 試料をメタノールで十分洗浄し、表面付着物を取り除
き、水洗して乾燥した300gのサンプルにο−クロロ
フェノール2.7Kgを加えて撹拌しつつ100℃まで昇
温させ、昇温後さらに1時間そのまま放置してポリエス
テル部分を溶解させる。ただし、高度に、結晶化してい
る場合などでポリエステル部分が溶解しない場合は、一
度溶解させて急冷した後に前記の溶解操作を行なう。つ
いで、ポリエステル中に含有されているゴミなどの粗大
不溶物をG−1ガラスフィルターでろ別し、除去し、こ
のロ上物の重量を試料重量から差し引く。日立製作所分
離用超遠心機40p型にローターRP30を装備し、セ
ル1個当りに前記ガラスフィルターろ別後の溶液30c
cを注入後、ローターを4500rpmにて回転させ、
回転異常のないことを確認後、ローター中を真空にし、
30000rpmに回転数を上げ、この回転数にて粒子
の遠心分離を行なう。分離の完了はほぼ40分後である
が、この確認は必要あれば分離後の液の375mμにお
ける光線透過率が分離前のそれに比し、高い値の一定値
になることで行なう。分離粒子には分離が不十分なこと
に起因するポリエステル分の混入があり得るので、採取
した該粒子に常温のο−クロロフェノールを加え、ほぼ
均一懸濁後、再び超遠心分離機処理を行なう。この操作
は後述の粒子を乾燥後該粒子を走差型差動熱量分析を行
なって、ポリマに相当する融解ピークが検出できなくな
るまで繰返す必要がある。最後に、このようにして得た
分離粒子Aを120℃、16時間真空乾燥して秤量す
る。なお、前記操作で得られた分離粒子Aは酸化アルミ
ニウム粒子および/または酸化ジルコニウム粒子の両者
を含んでいる場合がある。このため有機高分子粒子量と
酸化アルミニウム粒子および/または酸化ジルコニウム
粒子量を別個に求める必要があり、まず、前記分離粒子
について金属分の定量分析を行ない、Si、Zn、Al
の含有量およびSi、Zn、Al以外の金属含有量を求
めておく。次いで、該分離粒子を窒素下700℃で6時
間以上加熱すると有機高分子粒子だけが焼失する。残っ
た粒子Bを20%硝酸にて常温で6時間処理した後、水
洗、乾燥秤量し、酸化アルミニウム粒子および/または
酸化ジルコニウム粒子の含有量とする。また、最初の分
離粒子Aの重量から上記酸化アルミニウム粒子および/
または酸化ジルコニウム粒子の重量を引いて不活性粒子
の含有量とする。この際、分離粒子の金属分を定量し上
記の操作を繰り返すことによって精度を上げることがで
きる。
評価基準による。 (1)粒子含有量 試料をメタノールで十分洗浄し、表面付着物を取り除
き、水洗して乾燥した300gのサンプルにο−クロロ
フェノール2.7Kgを加えて撹拌しつつ100℃まで昇
温させ、昇温後さらに1時間そのまま放置してポリエス
テル部分を溶解させる。ただし、高度に、結晶化してい
る場合などでポリエステル部分が溶解しない場合は、一
度溶解させて急冷した後に前記の溶解操作を行なう。つ
いで、ポリエステル中に含有されているゴミなどの粗大
不溶物をG−1ガラスフィルターでろ別し、除去し、こ
のロ上物の重量を試料重量から差し引く。日立製作所分
離用超遠心機40p型にローターRP30を装備し、セ
ル1個当りに前記ガラスフィルターろ別後の溶液30c
cを注入後、ローターを4500rpmにて回転させ、
回転異常のないことを確認後、ローター中を真空にし、
30000rpmに回転数を上げ、この回転数にて粒子
の遠心分離を行なう。分離の完了はほぼ40分後である
が、この確認は必要あれば分離後の液の375mμにお
ける光線透過率が分離前のそれに比し、高い値の一定値
になることで行なう。分離粒子には分離が不十分なこと
に起因するポリエステル分の混入があり得るので、採取
した該粒子に常温のο−クロロフェノールを加え、ほぼ
均一懸濁後、再び超遠心分離機処理を行なう。この操作
は後述の粒子を乾燥後該粒子を走差型差動熱量分析を行
なって、ポリマに相当する融解ピークが検出できなくな
るまで繰返す必要がある。最後に、このようにして得た
分離粒子Aを120℃、16時間真空乾燥して秤量す
る。なお、前記操作で得られた分離粒子Aは酸化アルミ
ニウム粒子および/または酸化ジルコニウム粒子の両者
を含んでいる場合がある。このため有機高分子粒子量と
酸化アルミニウム粒子および/または酸化ジルコニウム
粒子量を別個に求める必要があり、まず、前記分離粒子
について金属分の定量分析を行ない、Si、Zn、Al
の含有量およびSi、Zn、Al以外の金属含有量を求
めておく。次いで、該分離粒子を窒素下700℃で6時
間以上加熱すると有機高分子粒子だけが焼失する。残っ
た粒子Bを20%硝酸にて常温で6時間処理した後、水
洗、乾燥秤量し、酸化アルミニウム粒子および/または
酸化ジルコニウム粒子の含有量とする。また、最初の分
離粒子Aの重量から上記酸化アルミニウム粒子および/
または酸化ジルコニウム粒子の重量を引いて不活性粒子
の含有量とする。この際、分離粒子の金属分を定量し上
記の操作を繰り返すことによって精度を上げることがで
きる。
【0041】(2)不活性粒子の粒径比 フィルムからポリエステルをプラズマ低温灰化処理法で
除去し粒子を露出させる。処理条件はポリエステルは灰
化されるが粒子はダメージを受けない条件を選択する。
これを走査型電子顕微鏡(エリオニクス社製ESM32
00)で観察し、粒子の画像をイメージアナライザー
(カールツァイス社製IBAS2000)で処理する。
この測定において下式に示した個々の粒子の長・短径比
を求め、これらの値から粒径比「長径/短径の平均値」
を算出した。 個々の粒子の長・短径比=D1 /D2 ここでD1 は、長径(最大直径)、D2 は、短径(最短
直径)を示す。◎ 粒径比=Σi=1 →n (D1i/D2i)/n D1i、D2iは個々の粒子それぞれの長径(最大直径)、
短径(最短直径)、nはカウントされた粒子数である。
除去し粒子を露出させる。処理条件はポリエステルは灰
化されるが粒子はダメージを受けない条件を選択する。
これを走査型電子顕微鏡(エリオニクス社製ESM32
00)で観察し、粒子の画像をイメージアナライザー
(カールツァイス社製IBAS2000)で処理する。
この測定において下式に示した個々の粒子の長・短径比
を求め、これらの値から粒径比「長径/短径の平均値」
を算出した。 個々の粒子の長・短径比=D1 /D2 ここでD1 は、長径(最大直径)、D2 は、短径(最短
直径)を示す。◎ 粒径比=Σi=1 →n (D1i/D2i)/n D1i、D2iは個々の粒子それぞれの長径(最大直径)、
短径(最短直径)、nはカウントされた粒子数である。
【0042】(3)不活性粒子の相対標準偏差 上記(2)の測定においてカウントされた粒子について
それぞれの面積円相当径を求め、観察箇所を変えて粒子
数5000個以上で次の数値処理を行なうことによって数平
均径DNならびに体積平均径を下式にて求める。 DN=Σi=1 →n Di /n DV=(Σi=1 →n Di 3 /n)1/3 ここで、Di は粒子個々の投影面積から求めた面積円相
当径(μm)、nはカウントした粒子数である。次い
で、Di 、数平均径DN、粒子数nから計算される標準
偏差σ(={ Σi= 1 →n ( Di −DN) 2 /n} 0.5 )
を体積平均径DVで割った値(σ/DV)を相対標準偏
差とした。
それぞれの面積円相当径を求め、観察箇所を変えて粒子
数5000個以上で次の数値処理を行なうことによって数平
均径DNならびに体積平均径を下式にて求める。 DN=Σi=1 →n Di /n DV=(Σi=1 →n Di 3 /n)1/3 ここで、Di は粒子個々の投影面積から求めた面積円相
当径(μm)、nはカウントした粒子数である。次い
で、Di 、数平均径DN、粒子数nから計算される標準
偏差σ(={ Σi= 1 →n ( Di −DN) 2 /n} 0.5 )
を体積平均径DVで割った値(σ/DV)を相対標準偏
差とした。
【0043】(4)不活性粒子の体積平均径 上記(3)の測定においてカウントされた粒子について
下式より体積平均径DVを求める。 DV=(Σi=1 →n Di 3 /n)1/3 ここで、Di は粒子粒子個々の投影面積から求めた面積
円相当径、nはカウントした粒子数である。
下式より体積平均径DVを求める。 DV=(Σi=1 →n Di 3 /n)1/3 ここで、Di は粒子粒子個々の投影面積から求めた面積
円相当径、nはカウントした粒子数である。
【0044】(5)酸化アルミニウム粒子および/また
は酸化ジルコニウム粒子の体積平均径 上記(1)にておいて分離した酸化アルミニウム粒子お
よび/または酸化ジルコニウム粒子をメタノールに分散
させ、遠心沈降式粒度分布測定機(堀場製作所製CAP
A500)で測定して求めたストークス径の累積分布曲
線における中央累積値(50体積%)を体積平均径とし
た。
は酸化ジルコニウム粒子の体積平均径 上記(1)にておいて分離した酸化アルミニウム粒子お
よび/または酸化ジルコニウム粒子をメタノールに分散
させ、遠心沈降式粒度分布測定機(堀場製作所製CAP
A500)で測定して求めたストークス径の累積分布曲
線における中央累積値(50体積%)を体積平均径とし
た。
【0045】(6)不活性粒子の空隙率 不活性粒子を100℃で10torr以下の減圧下にて
24時間乾燥後、水銀ポロシメーターを用いて、約1.
1atm、25℃にて、比容積(Vm)を求め、次い
で、気体吸着装置(ヘリウム使用)にて、定圧容積法の
死容積測定で比容積(Vn)を求め、このVmからVn
を引くことによって細孔容積(Vp)を算出した。次い
で、ゲーリュサック型ピクノメータを用い、JIS−K
0061に従い不活性粒子の比重(ρ)を求めた。この
比重(ρ)と前記細孔容積(Vp)から下記式より不活
性粒子の空隙率を求めた。 空隙率(%)=(Vp/(1/ρ+Vp))×100
24時間乾燥後、水銀ポロシメーターを用いて、約1.
1atm、25℃にて、比容積(Vm)を求め、次い
で、気体吸着装置(ヘリウム使用)にて、定圧容積法の
死容積測定で比容積(Vn)を求め、このVmからVn
を引くことによって細孔容積(Vp)を算出した。次い
で、ゲーリュサック型ピクノメータを用い、JIS−K
0061に従い不活性粒子の比重(ρ)を求めた。この
比重(ρ)と前記細孔容積(Vp)から下記式より不活
性粒子の空隙率を求めた。 空隙率(%)=(Vp/(1/ρ+Vp))×100
【0046】(7)厚さ方向の屈折率nz ナトリウムD線(波長589nm)を光源としてアッベ
屈折率計を用いて、二軸配向フイルムの厚さ方向の屈折
率nzとする。マウント液にはヨウ化メチレンを用い、
25℃、65%RHにて測定した。
屈折率計を用いて、二軸配向フイルムの厚さ方向の屈折
率nzとする。マウント液にはヨウ化メチレンを用い、
25℃、65%RHにて測定した。
【0047】(8)面配向指数FおよびΔN ナトリウムD線(波長589nm)を光源としてアツベ
屈折率計を用いて、二軸配向フィルムの厚さ方向の屈折
率nzおよびフィルム長手方向の屈折率NMD、フィルム
巾方向の屈折率NTDからΔN=(NMD−NTD)×1000、
F=(NMD+NTD)/2−nzより求めた。マウント液
にはヨウ化メチレンを用い、25℃、65%RHにて測
定した。
屈折率計を用いて、二軸配向フィルムの厚さ方向の屈折
率nzおよびフィルム長手方向の屈折率NMD、フィルム
巾方向の屈折率NTDからΔN=(NMD−NTD)×1000、
F=(NMD+NTD)/2−nzより求めた。マウント液
にはヨウ化メチレンを用い、25℃、65%RHにて測
定した。
【0048】(9)フィルム表面の突起数および三次元
表面粗さ(SRa) フィルムの測定面をアルミニウムで厚み0.10±0.
05μmに蒸着したうえで小坂研究所の非接触表面粗さ
計HIPOSS(型式ET−30HK)および三次元粗
さ解析装置(型式SPA−11)を用いて三次元粗さを
測定した。条件は下記の通りであり、5回の測定の平均
値をもって値とした。 ・検出器 :光学非接触式 ・縦倍率 :2万倍 ・横倍率 :500倍 ・カットオフ :0.08mm ・送りピッチ :0.5μm ・測定長 :500μm ・測定面積 :0.0199mm2 ・測定速度 :100μm/秒 ・HYST :±6.25nm ・COUNT MODE:SIMPLE ・Z基準 :UPPER 突起高さは、切断面による切り口の面積率が70%にな
る切断面を基準とし高さを算出した。上記条件で測定し
た高さ200〜400nmおよび400〜800nmの
突起の数を、それぞれの個/0.1mm2 に換算した。
SRaは三次元平均表面粗さ(中心面平均粗さ)であ
る。
表面粗さ(SRa) フィルムの測定面をアルミニウムで厚み0.10±0.
05μmに蒸着したうえで小坂研究所の非接触表面粗さ
計HIPOSS(型式ET−30HK)および三次元粗
さ解析装置(型式SPA−11)を用いて三次元粗さを
測定した。条件は下記の通りであり、5回の測定の平均
値をもって値とした。 ・検出器 :光学非接触式 ・縦倍率 :2万倍 ・横倍率 :500倍 ・カットオフ :0.08mm ・送りピッチ :0.5μm ・測定長 :500μm ・測定面積 :0.0199mm2 ・測定速度 :100μm/秒 ・HYST :±6.25nm ・COUNT MODE:SIMPLE ・Z基準 :UPPER 突起高さは、切断面による切り口の面積率が70%にな
る切断面を基準とし高さを算出した。上記条件で測定し
た高さ200〜400nmおよび400〜800nmの
突起の数を、それぞれの個/0.1mm2 に換算した。
SRaは三次元平均表面粗さ(中心面平均粗さ)であ
る。
【0049】(10)中心線平均表面粗さ(Ra) JIS−B−0601に従い小坂研究所製触針型表面粗
さ計SE−3FAを用いて、中心線平均表面粗さ(R
a)を測定した。条件は、下記の通りであり、20回の
測定値の平均値をもって値とした。 ・検出器 :PUDA5 ・縦倍率 :50000倍 ・カットオフ :0.25mm ・測定長 :4mm ・測定速度 :500μm/秒
さ計SE−3FAを用いて、中心線平均表面粗さ(R
a)を測定した。条件は、下記の通りであり、20回の
測定値の平均値をもって値とした。 ・検出器 :PUDA5 ・縦倍率 :50000倍 ・カットオフ :0.25mm ・測定長 :4mm ・測定速度 :500μm/秒
【0050】(11)画質、耐スクラッチ性、使用耐久
性 厚さ15μのフィルムに下記組成の磁性塗料をグラビア
ロールにより乾燥後の塗布厚みが3μとなるように塗布
した後、磁気配向させ乾燥させる。さらに、小型カレン
ダー装置(スチロール・ナイロンロール、5段)で温度
70℃、線圧200kg/cmでカレンダー処理後、6
0℃で48時間キュアリングして原反シートを作製し
た。この原反シートを1/2インチにスリットし、パン
ケーキを作成した。このパンケーキをローダーにてVT
Rカセットに組み込み、VTRカセットテープとした。 (磁性塗料の組成) ・Co含有酸化鉄(BET値50m2 /g):100重
量部 ・エスレックA(積水化学性塩化ビニル/酢酸ビニル共
重合体):10重量部 ・ノッポラン2304(日本ウレタン性ポリウレタンエ
ラストマ):10重量部 ・コロネートL(日本ウレタン性ポリイソシアネー
ト):5重量部 ・レシチン :1重量部 ・メチルエチルケトン :75重量部 ・メチルイソブチルケトン :75重量部 ・トルエン :75重量部 ・カーボンブラック :2重量部 ・ラウリン酸 :1.5重量部 このテープを家庭用VTR(パナソニックNV−FS8
00)を用いてシバソク製のテレビ試験波形発生器(T
G7/U706)により100%クロマ信号を記録し、
その再生信号からシバソク製カラーノイズ測定機(92
5D/1)でクロマS/Nを測定し画質を判定した。さ
らに、このテープを家庭用VTR(パナソニックNV−
FS800)を用いてシバソク製のテレビ試験波形発生
器(TG7/U703によりカラーバー信号を記録し、
その再生信号からシバソク製ドロップアウトカウンター
(VH01CZ)で5μsec−16dBより大きいも
のをドロップアウトとして数えた。
性 厚さ15μのフィルムに下記組成の磁性塗料をグラビア
ロールにより乾燥後の塗布厚みが3μとなるように塗布
した後、磁気配向させ乾燥させる。さらに、小型カレン
ダー装置(スチロール・ナイロンロール、5段)で温度
70℃、線圧200kg/cmでカレンダー処理後、6
0℃で48時間キュアリングして原反シートを作製し
た。この原反シートを1/2インチにスリットし、パン
ケーキを作成した。このパンケーキをローダーにてVT
Rカセットに組み込み、VTRカセットテープとした。 (磁性塗料の組成) ・Co含有酸化鉄(BET値50m2 /g):100重
量部 ・エスレックA(積水化学性塩化ビニル/酢酸ビニル共
重合体):10重量部 ・ノッポラン2304(日本ウレタン性ポリウレタンエ
ラストマ):10重量部 ・コロネートL(日本ウレタン性ポリイソシアネー
ト):5重量部 ・レシチン :1重量部 ・メチルエチルケトン :75重量部 ・メチルイソブチルケトン :75重量部 ・トルエン :75重量部 ・カーボンブラック :2重量部 ・ラウリン酸 :1.5重量部 このテープを家庭用VTR(パナソニックNV−FS8
00)を用いてシバソク製のテレビ試験波形発生器(T
G7/U706)により100%クロマ信号を記録し、
その再生信号からシバソク製カラーノイズ測定機(92
5D/1)でクロマS/Nを測定し画質を判定した。さ
らに、このテープを家庭用VTR(パナソニックNV−
FS800)を用いてシバソク製のテレビ試験波形発生
器(TG7/U703によりカラーバー信号を記録し、
その再生信号からシバソク製ドロップアウトカウンター
(VH01CZ)で5μsec−16dBより大きいも
のをドロップアウトとして数えた。
【0051】次に、このVTRカセットを家庭用VTR
(パナソニックNV−FS800)に組み込み、繰り返
し走行(再生/高速巻き戻し)を100回繰り返し、同
様にその再生信号からシバソク製カラーノイズ測定機
(925D/1)でクロマS/Nを測定し画質を判定
し、また、シバソク製ドロップアウトカウンター(VH
01CZ)で5μsec−16dBより大きいものをド
ロップアウトとして数えた。さらに繰り返し走行実施後
のVTRカセットガイドピンへの白粉削れ、フィルム削
れ量により耐スクラッチ性を判定した。ここで、ドロッ
プアウト増加率は下記式で定義される値である。 ドロップアウト増加率=(繰り返し走行後のドロップア
ウト数−繰り返し走行前のドロップアウト数)/(繰り
返し走行前のドロップアウト数)×100(%)
(パナソニックNV−FS800)に組み込み、繰り返
し走行(再生/高速巻き戻し)を100回繰り返し、同
様にその再生信号からシバソク製カラーノイズ測定機
(925D/1)でクロマS/Nを測定し画質を判定
し、また、シバソク製ドロップアウトカウンター(VH
01CZ)で5μsec−16dBより大きいものをド
ロップアウトとして数えた。さらに繰り返し走行実施後
のVTRカセットガイドピンへの白粉削れ、フィルム削
れ量により耐スクラッチ性を判定した。ここで、ドロッ
プアウト増加率は下記式で定義される値である。 ドロップアウト増加率=(繰り返し走行後のドロップア
ウト数−繰り返し走行前のドロップアウト数)/(繰り
返し走行前のドロップアウト数)×100(%)
【0052】これらの判定基準は下記の通りであり、画
質、耐スクラッチ性、ドロップアウト増加率のいずれも
ランク3以上であれば、実用上問題のないレベルであ
る。判定ランク S/N(画質) フィルム削れ(耐スクラッチ) 5 優良、画質極めて良好 ガイドピンの汚れほとんどなし 4 良好、ほとんど問題なし 僅かに白粉汚れがあり 3 画質の乱れがあり 削れ物汚れあり 2 画質の乱れが大きい 削れ物汚れ多い 1 画質不良 削れ物汚れ、白粉付着大
質、耐スクラッチ性、ドロップアウト増加率のいずれも
ランク3以上であれば、実用上問題のないレベルであ
る。判定ランク S/N(画質) フィルム削れ(耐スクラッチ) 5 優良、画質極めて良好 ガイドピンの汚れほとんどなし 4 良好、ほとんど問題なし 僅かに白粉汚れがあり 3 画質の乱れがあり 削れ物汚れあり 2 画質の乱れが大きい 削れ物汚れ多い 1 画質不良 削れ物汚れ、白粉付着大
【0053】
【0054】(12)スリット性の評価 上記(11)で得られたシートをシェアーカッターで1
/2インチ幅にスリットしてビデオテープとする。この
シェアーカッターによるスリット箇所を目視観察して、
ヒゲや粉の発生具合の程度を次の5等級に分けて評価す
る。 スリット性A:ヒゲや粉の発生が非常に少ない 〃 B: 〃 少ない 〃 C: 〃 普通レベル 〃 D: 〃 やや多い 〃 E: 〃 多い (注)なお、現在市販されているビデオテープ用二軸配
向ポリエステルフィルムのスリット性のレベルは、ほと
んどがCまたはDである。
/2インチ幅にスリットしてビデオテープとする。この
シェアーカッターによるスリット箇所を目視観察して、
ヒゲや粉の発生具合の程度を次の5等級に分けて評価す
る。 スリット性A:ヒゲや粉の発生が非常に少ない 〃 B: 〃 少ない 〃 C: 〃 普通レベル 〃 D: 〃 やや多い 〃 E: 〃 多い (注)なお、現在市販されているビデオテープ用二軸配
向ポリエステルフィルムのスリット性のレベルは、ほと
んどがCまたはDである。
【0055】(13)積層ポリエステルフィルムの積層
部および基層部の厚み (a)積層部の厚み 2次イオン質量分析装置(SIMS:ATOMIKA社
製A−DIDA3000)を用いて下記条件にて、積層
中の粒子の内、最も高濃度の粒子に起因する元素とポリ
エステルの炭素元素の濃度比(M+ /C+ )を粒子濃度
とし、積層ポリエステルフィルムの表面から深さ(厚
さ)方向の分析を行う。表層では表面という界面のため
に粒子濃度は低く表面から遠ざかるにつれて粒子濃度は
高くなる。本発明の積層フィルムの場合は深さ[I]で
いったん極大値[MAX]となった粒子濃度がまた減少
し一定値[M]に収束する。ここで、粒子濃度が([M
AX]+[M])/2となる深さ[J](ここでJ>
I)を積層部の厚みとした。 1次イオン種:O2 + 1次イオン加速電圧:12KV 1次イオン電流:120nA テスター領域:400μm 分析領域:ゲート30% 測定真空度:1.0×10-8torr E−GUN:0.4KV−3.0A
部および基層部の厚み (a)積層部の厚み 2次イオン質量分析装置(SIMS:ATOMIKA社
製A−DIDA3000)を用いて下記条件にて、積層
中の粒子の内、最も高濃度の粒子に起因する元素とポリ
エステルの炭素元素の濃度比(M+ /C+ )を粒子濃度
とし、積層ポリエステルフィルムの表面から深さ(厚
さ)方向の分析を行う。表層では表面という界面のため
に粒子濃度は低く表面から遠ざかるにつれて粒子濃度は
高くなる。本発明の積層フィルムの場合は深さ[I]で
いったん極大値[MAX]となった粒子濃度がまた減少
し一定値[M]に収束する。ここで、粒子濃度が([M
AX]+[M])/2となる深さ[J](ここでJ>
I)を積層部の厚みとした。 1次イオン種:O2 + 1次イオン加速電圧:12KV 1次イオン電流:120nA テスター領域:400μm 分析領域:ゲート30% 測定真空度:1.0×10-8torr E−GUN:0.4KV−3.0A
【0056】(b)基層部の厚み フィルムの全厚みを公知の方法、例えばダイアルゲージ
法、光干渉法、重量法によって求める。このフィルムの
全厚みから、積層部厚みを引くことによって基層部厚み
とした。
法、光干渉法、重量法によって求める。このフィルムの
全厚みから、積層部厚みを引くことによって基層部厚み
とした。
【0057】(14)削れ指数K 厚み15μmのフィルムを西村製作所製シェアカッター
にてにて50m/分のスリット速度で1/2インチにス
リットし、次いで1/2インチにスリット後のフィルム
試料1mを50ccの純水を入れた容器中にフィルム試
料の片側の切断面のみが浸積するように設置、超音波処
理を行なった後、該フィルム試料を取り除き浸積液をパ
ーティクルカウンター(HIAC/ROYCO;CL−
5)で測定した時の3〜20μmの大きさの粒子個数を
削れ指数Kとした。
にてにて50m/分のスリット速度で1/2インチにス
リットし、次いで1/2インチにスリット後のフィルム
試料1mを50ccの純水を入れた容器中にフィルム試
料の片側の切断面のみが浸積するように設置、超音波処
理を行なった後、該フィルム試料を取り除き浸積液をパ
ーティクルカウンター(HIAC/ROYCO;CL−
5)で測定した時の3〜20μmの大きさの粒子個数を
削れ指数Kとした。
【0058】(15)磁性層面へのキズ付け性の評価 前記(11)で得られたパンケーキをスプリンター(ソ
ニーマグネスケール社製HSP−5000A)を用いて
約480m/分の速度で巻き戻し、早送りを50回繰り
返し磁性層面側をアルミ蒸着後、目視観察して、キズの
発生具合の程度を次の3等級に分けて評価する。B以上
であれば実用上問題のないレベルである。磁性層面へのキズ付け易さ A :キズの発生が非常に少ない B : 〃 普通レベル C : 〃 多い (注)なお、現在市販されているビデオテープ用二軸配
向ポリエステルフイルムのレベルは、大部分Bである。
ニーマグネスケール社製HSP−5000A)を用いて
約480m/分の速度で巻き戻し、早送りを50回繰り
返し磁性層面側をアルミ蒸着後、目視観察して、キズの
発生具合の程度を次の3等級に分けて評価する。B以上
であれば実用上問題のないレベルである。磁性層面へのキズ付け易さ A :キズの発生が非常に少ない B : 〃 普通レベル C : 〃 多い (注)なお、現在市販されているビデオテープ用二軸配
向ポリエステルフイルムのレベルは、大部分Bである。
【0059】(16)ビデオテープのジッター特性の評
価 上記(11)で得られたビデオテープを市販のビデオテ
ープデッキにて録画、再生、巻き戻しを50回繰り返し
た後の再生画像の輪郭部分の揺らぎの程度を目視観察し
て次の3等級に分けて評価する。B以上であれば実用上
問題のないレベルである。 ジッター特性 A :映像輪郭の揺らぎならびに色彩部分チラツキの発生が非常に少ない B : 〃 〃 が普通レベル C : 〃 〃 が多い
価 上記(11)で得られたビデオテープを市販のビデオテ
ープデッキにて録画、再生、巻き戻しを50回繰り返し
た後の再生画像の輪郭部分の揺らぎの程度を目視観察し
て次の3等級に分けて評価する。B以上であれば実用上
問題のないレベルである。 ジッター特性 A :映像輪郭の揺らぎならびに色彩部分チラツキの発生が非常に少ない B : 〃 〃 が普通レベル C : 〃 〃 が多い
【0060】
【実施例】本発明を実施例に基づいて説明する。 参考例 ポリエステルの調製 テレフタル酸100重量部とエチレングリコール43重
量部を混練しスラリーを調製した。反応器に245℃で
貯留したテレフタル酸50重量部とエチレングリコール
21.5重量部の反応物中に該スラリーを一定速度で連
続的に添加し、常圧下245℃でエステル交換反応を行
い生成する水を精留塔から連続的に系外に留出させた。
該スラリーの供給時間は3時間30分で終了しエステル
交換反応は4時間で終了した。得られた反応物からテレ
フタル酸100重量部に相当するエステル化反応物を重
合装置に移しリン酸0.045重量部、三酸化アンチモ
ン0.023重量部添加し常法にしたがって重縮合反応
し固有粘度0.653のポリエチレンテレフタレートを
得た(ポリエステルA)。
量部を混練しスラリーを調製した。反応器に245℃で
貯留したテレフタル酸50重量部とエチレングリコール
21.5重量部の反応物中に該スラリーを一定速度で連
続的に添加し、常圧下245℃でエステル交換反応を行
い生成する水を精留塔から連続的に系外に留出させた。
該スラリーの供給時間は3時間30分で終了しエステル
交換反応は4時間で終了した。得られた反応物からテレ
フタル酸100重量部に相当するエステル化反応物を重
合装置に移しリン酸0.045重量部、三酸化アンチモ
ン0.023重量部添加し常法にしたがって重縮合反応
し固有粘度0.653のポリエチレンテレフタレートを
得た(ポリエステルA)。
【0061】次に、ベント式2軸押出し機を用いて体積
平均粒径0.36μm、相対標準偏差0.37、粒径比
1.1、空隙率33%のジビニルベンゼン・p−エチル
スチレン共重合体粒子(ジビニルベンゼン55重量%、
p−エチルスチレン45重量%の組成比にて乳化重合し
たもの)の20重量%水スラリーを所定量、上記ポリエ
チレンテレフタレート中に混合・分散しジビニルベンゼ
ン・p−エチルスチレン共重合体粒子を3重量%含有す
るポリエステルBを得た。この時、該押出し機の減圧ベ
ント部の真空度を10torr以下とし、かつ該ポリエ
チレンテレフタレートの溶融温度を約290℃に保っ
た。得られたポリマーの固有粘度は0.632であった
(ポリエステルB)。
平均粒径0.36μm、相対標準偏差0.37、粒径比
1.1、空隙率33%のジビニルベンゼン・p−エチル
スチレン共重合体粒子(ジビニルベンゼン55重量%、
p−エチルスチレン45重量%の組成比にて乳化重合し
たもの)の20重量%水スラリーを所定量、上記ポリエ
チレンテレフタレート中に混合・分散しジビニルベンゼ
ン・p−エチルスチレン共重合体粒子を3重量%含有す
るポリエステルBを得た。この時、該押出し機の減圧ベ
ント部の真空度を10torr以下とし、かつ該ポリエ
チレンテレフタレートの溶融温度を約290℃に保っ
た。得られたポリマーの固有粘度は0.632であった
(ポリエステルB)。
【0062】次にテレフタル酸100重量部とエチレン
グリコール43重量部を混練しスラリーを調整した。反
応器に245℃で貯留したテレフタル酸50重量部とエ
チレングリコール21.5重量部の反応物中に該スラリ
ーを一定速度で連続的に添加し、常圧下245℃でエス
テル交換反応を行い生成する水を精留塔から連続的に系
外に留出させた。該スラリーの供給時間は3時間30分
で終了しエステル交換反応は4時間で終了した。得られ
た反応物からテレフタル酸100重量部に相当するエス
テル化反応物を重合装置に移しリン酸0.045重量
部、三酸化アンチモン0.023重量部、および1次粒
子径0.02μmでかつ体積平均粒径0.25μmのθ
型酸化アルミニウム粒子2.4重量部をエチレングリコ
ールスラリーとして添加し、常法に従って重縮合反応し
た。この際、該エチレングリコールスラリーを超音波に
て20分間処理した。こうして得られたポリマーは固有
粘度0.610を有し、該酸化アルミニウム粒子2重量
%を含有していた(ポリエステルC)。
グリコール43重量部を混練しスラリーを調整した。反
応器に245℃で貯留したテレフタル酸50重量部とエ
チレングリコール21.5重量部の反応物中に該スラリ
ーを一定速度で連続的に添加し、常圧下245℃でエス
テル交換反応を行い生成する水を精留塔から連続的に系
外に留出させた。該スラリーの供給時間は3時間30分
で終了しエステル交換反応は4時間で終了した。得られ
た反応物からテレフタル酸100重量部に相当するエス
テル化反応物を重合装置に移しリン酸0.045重量
部、三酸化アンチモン0.023重量部、および1次粒
子径0.02μmでかつ体積平均粒径0.25μmのθ
型酸化アルミニウム粒子2.4重量部をエチレングリコ
ールスラリーとして添加し、常法に従って重縮合反応し
た。この際、該エチレングリコールスラリーを超音波に
て20分間処理した。こうして得られたポリマーは固有
粘度0.610を有し、該酸化アルミニウム粒子2重量
%を含有していた(ポリエステルC)。
【0063】また、上記ポリエステルCと同様の方法で
酸化アルミニウム粒子のかわりに1次粒子径0.03μ
m体積平均径0.30μmの酸化ジルコニウム粒子を添
加して酸化ジルコニウム粒子2重量%含有するポリエス
テルDを得た。得られたポリマーの固有粘度は0.61
3であった(ポリエステルD)。
酸化アルミニウム粒子のかわりに1次粒子径0.03μ
m体積平均径0.30μmの酸化ジルコニウム粒子を添
加して酸化ジルコニウム粒子2重量%含有するポリエス
テルDを得た。得られたポリマーの固有粘度は0.61
3であった(ポリエステルD)。
【0064】また、上記ポリエステルBと同様の方法で
体積平均粒径0.32μm、相対標準偏差0.30、粒
径比1.2、空隙率44%の一酸化チタン粒子を2重量
%含有するポリエステルEを得た。得られたポリマーの
固有粘度は0.627であった(ポリエステルE)。
体積平均粒径0.32μm、相対標準偏差0.30、粒
径比1.2、空隙率44%の一酸化チタン粒子を2重量
%含有するポリエステルEを得た。得られたポリマーの
固有粘度は0.627であった(ポリエステルE)。
【0065】実施例1 このようにして得られたポリエステルA、ポリエステル
B、ポリエステルCを最終的な積層部ポリエステルフィ
ルム中のジビニルベンゼン・p−エチルスチレン共重合
体粒子含有量が0.50重量%、θ型酸化アルミニウム
粒子含有量が0.20重量%となるように所定量混合し
たペレットFを180℃で3時間減圧乾燥(3Torr)
し、積層部原料Bとした。さらに、別に基層部原料Aと
して固有粘度0.63のポリエチレンテレフタレート原
料を準備し、積層部原料Bと同様に180℃で3時間減
圧(3Torr)乾燥した。基層部原料Aを主押出機1に供
給し310℃、さらに積層部原料Bを2軸式の副押出機
2に供給し280℃で溶融した。これらのポリマーを矩
形積層部を備えた合流ブロックで口金に入る前に合流積
層し静電印加キャスト法を用いて表面温度45℃のキャ
スティング・ドラムに巻き付けて冷却固化し、基層部原
料Aからなるフィルム層の両面に積層部原料Bからなる
フィルム層を積層した3層構造の未延伸フィルムを作っ
た。この時、それぞれの押出機の吐出量を調節し、最終
的な二軸配向フィルムにおける積層部の厚みがそれぞれ
0.90〜0.95μmとなるようにした。
B、ポリエステルCを最終的な積層部ポリエステルフィ
ルム中のジビニルベンゼン・p−エチルスチレン共重合
体粒子含有量が0.50重量%、θ型酸化アルミニウム
粒子含有量が0.20重量%となるように所定量混合し
たペレットFを180℃で3時間減圧乾燥(3Torr)
し、積層部原料Bとした。さらに、別に基層部原料Aと
して固有粘度0.63のポリエチレンテレフタレート原
料を準備し、積層部原料Bと同様に180℃で3時間減
圧(3Torr)乾燥した。基層部原料Aを主押出機1に供
給し310℃、さらに積層部原料Bを2軸式の副押出機
2に供給し280℃で溶融した。これらのポリマーを矩
形積層部を備えた合流ブロックで口金に入る前に合流積
層し静電印加キャスト法を用いて表面温度45℃のキャ
スティング・ドラムに巻き付けて冷却固化し、基層部原
料Aからなるフィルム層の両面に積層部原料Bからなる
フィルム層を積層した3層構造の未延伸フィルムを作っ
た。この時、それぞれの押出機の吐出量を調節し、最終
的な二軸配向フィルムにおける積層部の厚みがそれぞれ
0.90〜0.95μmとなるようにした。
【0066】この未延伸フィルムを図1のロール温度を
ロール1およびロール2を75℃、ロール3およびロー
ル4を115℃、ロール5を126℃、ロール6を12
6℃、ロール7を118℃とし、ロール5/ロール6間
で1.6倍、ロール6/ロール7間で1.3倍、ロール
7/ロール8間で2.1倍となるように各ロールの周速
差を調整しタテ方向に延伸した。この一軸フィルムをス
テンタ内で120℃の熱風下にヨコ方向に4.6倍延伸
し、さらに1.03倍の微延伸下で、205℃の熱風に
て5秒間熱処理し、厚さ15μmの二軸配向フィルムを
得た。この時の二軸配向フィルムの最終の走行速度は2
00m/分であった。
ロール1およびロール2を75℃、ロール3およびロー
ル4を115℃、ロール5を126℃、ロール6を12
6℃、ロール7を118℃とし、ロール5/ロール6間
で1.6倍、ロール6/ロール7間で1.3倍、ロール
7/ロール8間で2.1倍となるように各ロールの周速
差を調整しタテ方向に延伸した。この一軸フィルムをス
テンタ内で120℃の熱風下にヨコ方向に4.6倍延伸
し、さらに1.03倍の微延伸下で、205℃の熱風に
て5秒間熱処理し、厚さ15μmの二軸配向フィルムを
得た。この時の二軸配向フィルムの最終の走行速度は2
00m/分であった。
【0067】得られた二軸配向フィルムの特性の測定・
評価結果を表1、表3、表4に示した。表1、表3、表
4においてΔNは−40、面配向指数Fは0.168
6、厚み方向の屈折率nzは1.491、TD方向(フ
ィルムの走行方向に垂直な方向)のF−5値は14.2
kg/mm2 であり、また削れ指数Kは22、平均表面
粗さRaは、15nmであり、いずれも本発明の範囲内
にあった。また、表1、表3、表4の結果から明らかな
ようにS/N比(画質)特性、フィルム削れ、ドロップ
アウト増加率、磁性層面へのキズ付け易さ、ジッター特
性、スリット性のいずれにも優れていることがわかる。
評価結果を表1、表3、表4に示した。表1、表3、表
4においてΔNは−40、面配向指数Fは0.168
6、厚み方向の屈折率nzは1.491、TD方向(フ
ィルムの走行方向に垂直な方向)のF−5値は14.2
kg/mm2 であり、また削れ指数Kは22、平均表面
粗さRaは、15nmであり、いずれも本発明の範囲内
にあった。また、表1、表3、表4の結果から明らかな
ようにS/N比(画質)特性、フィルム削れ、ドロップ
アウト増加率、磁性層面へのキズ付け易さ、ジッター特
性、スリット性のいずれにも優れていることがわかる。
【0068】実施例2〜3 ジビニルベンゼン・p−エチルスチレン共重合体粒子の
積層部のポリエステルフィルム中の含有量を0.70重
量%(実施例2)、1.30重量%(実施例3)、酸化
アルミニウム粒子を酸化ジルコニウム粒子とした以外
は、実施例1と同様の方法にて二軸配向ポリエステルフ
ィルムを得た。得られた二軸配向フィルムの特性の測定
・評価結果を表1、表3、表4に示した。表1、表3、
表4の結果から明らかなように実施例2〜3の各フィル
ムは、S/N比(画質)特性、フィルム削れ、ドロップ
アウト増加率、磁性層面へのキズ付け易さ、ジッター特
性、スリット性のいずれにも優れていることがわかる。
積層部のポリエステルフィルム中の含有量を0.70重
量%(実施例2)、1.30重量%(実施例3)、酸化
アルミニウム粒子を酸化ジルコニウム粒子とした以外
は、実施例1と同様の方法にて二軸配向ポリエステルフ
ィルムを得た。得られた二軸配向フィルムの特性の測定
・評価結果を表1、表3、表4に示した。表1、表3、
表4の結果から明らかなように実施例2〜3の各フィル
ムは、S/N比(画質)特性、フィルム削れ、ドロップ
アウト増加率、磁性層面へのキズ付け易さ、ジッター特
性、スリット性のいずれにも優れていることがわかる。
【0069】実施例4 体積平均粒径0.89μm、粒径比1.15、相対標準
偏差0.26、空隙率36%のジビニルベンゼン・p−
エチルスチレン共重合体粒子(ジビニルベンゼン80重
量%、p−エチルスチレン20重量%の組成比にて乳化
重合したもの)を用い、積層部のポリエステルフィルム
中の含有量を0.30重量%とした以外は、実施例1と
同様の方法にて二軸配向ポリエステルフィルムを得た。
得られた二軸配向フィルムの特性の測定・評価結果を表
1、表3、表4に示した。表1、表3、表4の結果から
明らかなように実施例4のフィルムは、S/N比(画
質)特性、フィルム削れ、ドロップアウト増加率、磁性
層面へのキズ付け易さ、ジッター特性、スリット性のい
ずれにも優れていることがわかる。
偏差0.26、空隙率36%のジビニルベンゼン・p−
エチルスチレン共重合体粒子(ジビニルベンゼン80重
量%、p−エチルスチレン20重量%の組成比にて乳化
重合したもの)を用い、積層部のポリエステルフィルム
中の含有量を0.30重量%とした以外は、実施例1と
同様の方法にて二軸配向ポリエステルフィルムを得た。
得られた二軸配向フィルムの特性の測定・評価結果を表
1、表3、表4に示した。表1、表3、表4の結果から
明らかなように実施例4のフィルムは、S/N比(画
質)特性、フィルム削れ、ドロップアウト増加率、磁性
層面へのキズ付け易さ、ジッター特性、スリット性のい
ずれにも優れていることがわかる。
【0070】実施例5 酸化アルミニウム粒子を添加しない以外は、実施例1と
同様の方法にて二軸配向ポリエステルフィルムを得た。
得られた二軸配向フィルムの特性の測定・評価結果を表
1、表3、表4に示した。表1、表3、表4の結果から
明らかなように実施例5のフィルムは、S/N比(画
質)特性、ドロップアウト増加率、磁性層面へのキズ付
け易さ、ジッター特性、スリット性のいずれにも優れて
いることがわかる。
同様の方法にて二軸配向ポリエステルフィルムを得た。
得られた二軸配向フィルムの特性の測定・評価結果を表
1、表3、表4に示した。表1、表3、表4の結果から
明らかなように実施例5のフィルムは、S/N比(画
質)特性、ドロップアウト増加率、磁性層面へのキズ付
け易さ、ジッター特性、スリット性のいずれにも優れて
いることがわかる。
【0071】実施例6 体積平均粒径0.19μm、粒径比1.1、相対標準偏
差0.24、空隙率24%のジビニルベンゼン・p−エ
チルスチレン共重合体粒子(ジビニルベンゼン55重量
%、p−エチルスチレン45重量%の組成比にて乳化重
合したもの)を用い、積層部のポリエステルフィルム中
の含有量を0.70重量%とした以外は、実施例1と同
様の方法にて二軸配向ポリエステルフィルムを得た。得
られた二軸配向フィルムの特性の測定・評価結果を表
2、表3、表4に示した。表2、表3、表4の結果から
明らかなように実施例6のフィルムは、S/N比(画
質)特性、フィルム削れ、ドロップアウト増加率、磁性
層面へのキズ付け易さ、ジッター特性、スリット性のい
ずれにも優れていることがわかる。
差0.24、空隙率24%のジビニルベンゼン・p−エ
チルスチレン共重合体粒子(ジビニルベンゼン55重量
%、p−エチルスチレン45重量%の組成比にて乳化重
合したもの)を用い、積層部のポリエステルフィルム中
の含有量を0.70重量%とした以外は、実施例1と同
様の方法にて二軸配向ポリエステルフィルムを得た。得
られた二軸配向フィルムの特性の測定・評価結果を表
2、表3、表4に示した。表2、表3、表4の結果から
明らかなように実施例6のフィルムは、S/N比(画
質)特性、フィルム削れ、ドロップアウト増加率、磁性
層面へのキズ付け易さ、ジッター特性、スリット性のい
ずれにも優れていることがわかる。
【0072】実施例7 積層部のポリエステルフィルム中の含有量を1.5重量
%とした以外は、実施例1と同様の方法にて二軸配向ポ
リエステルフィルムを得た。得られた二軸配向フィルム
の特性の測定・評価結果を表2、表3、表4に示した。
表2、表3、表4の結果から明らかなように実施例7の
フィルムは、S/N比(画質)特性、フィルム削れ、磁
性層面へのキズ付け易さ、ジッター特性、スリット性の
いずれにも優れていることがわかる。
%とした以外は、実施例1と同様の方法にて二軸配向ポ
リエステルフィルムを得た。得られた二軸配向フィルム
の特性の測定・評価結果を表2、表3、表4に示した。
表2、表3、表4の結果から明らかなように実施例7の
フィルムは、S/N比(画質)特性、フィルム削れ、磁
性層面へのキズ付け易さ、ジッター特性、スリット性の
いずれにも優れていることがわかる。
【0073】実施例8 体積平均粒径0.49μm、相対標準偏差0.31、粒
径比1.1、空隙率38%のジビニルベンゼン・p−エ
チルスチレン共重合体粒子(ジビニルベンゼン81重量
%、p−エチルスチレン19重量%の組成比にて乳化重
合したもの)を用い、積層部のポリエステルフィルム中
の含有量を0.35重量%とした以外は、実施例1と同
様の方法にて二軸配向ポリエステルフィルムを得た。得
られた二軸配向フィルムの特性の測定・評価結果を表
2、表3、表4に示した。表2、表3、表4の結果から
明らかなように実施例8のフィルムは、S/N比(画
質)特性、フィルム削れ、ドロップアウト増加率、磁性
層面へのキズ付け易さ、ジッター特性、スリット性のい
ずれにも優れていることがわかる。
径比1.1、空隙率38%のジビニルベンゼン・p−エ
チルスチレン共重合体粒子(ジビニルベンゼン81重量
%、p−エチルスチレン19重量%の組成比にて乳化重
合したもの)を用い、積層部のポリエステルフィルム中
の含有量を0.35重量%とした以外は、実施例1と同
様の方法にて二軸配向ポリエステルフィルムを得た。得
られた二軸配向フィルムの特性の測定・評価結果を表
2、表3、表4に示した。表2、表3、表4の結果から
明らかなように実施例8のフィルムは、S/N比(画
質)特性、フィルム削れ、ドロップアウト増加率、磁性
層面へのキズ付け易さ、ジッター特性、スリット性のい
ずれにも優れていることがわかる。
【0074】実施例9 体積平均粒径0.19μm、相対標準偏差0.39、粒
径比1.25、空隙率48%のバテライト型炭酸カルシ
ウム粒子を用い、積層部のポリエステルフィルム中の含
有量を0.70重量%とした以外は、実施例1と同様の
方法にて二軸配向ポリエステルフィルムを得た。得られ
た二軸配向フィルムの特性の測定・評価結果を表2、表
3、表4に示した。表2、表3、表4の結果から明らか
なように実施例9のフィルムは、S/N比(画質)特
性、フィルム削れ、ジッター特性、スリット性のいずれ
にも優れていることがわかる。
径比1.25、空隙率48%のバテライト型炭酸カルシ
ウム粒子を用い、積層部のポリエステルフィルム中の含
有量を0.70重量%とした以外は、実施例1と同様の
方法にて二軸配向ポリエステルフィルムを得た。得られ
た二軸配向フィルムの特性の測定・評価結果を表2、表
3、表4に示した。表2、表3、表4の結果から明らか
なように実施例9のフィルムは、S/N比(画質)特
性、フィルム削れ、ジッター特性、スリット性のいずれ
にも優れていることがわかる。
【0075】実施例10 体積平均粒径0.49μm、相対標準偏差0.31、粒
径比1.1、空隙率38%のジビニルベンゼン・p−エ
チルスチレン共重合体粒子(ジビニルベンゼン81重量
%、p−エチルスチレン19重量%の組成比にて乳化重
合したもの)ならびに体積平均粒径0.19μm、粒径
比1.1、相対標準偏差0.24、空隙率27%のジビ
ニルベンゼン・p−エチルスチレン共重合体粒子(ジビ
ニルベンゼン55重量%、p−エチルスチレン45重量
%の組成比にて乳化重合したもの)を用い、積層部のポ
リエステルフィルム中の含有量をそれぞれ0.15重量
%、0.25重量%とした以外は、実施例1と同様の方
法にて二軸配向ポリエステルフィルムを得た。得られた
二軸配向フィルムの特性の測定・評価結果を表2、表
3、表4に示した。表2、表3、表4の結果から明らか
なように実施例10のフィルムは、S/N比(画質)特
性、フィルム削れ、ドロップアウト増加率、磁性層面へ
のキズ付け易さ、ジッター特性、スリット性のいずれに
も優れていることがわかる。
径比1.1、空隙率38%のジビニルベンゼン・p−エ
チルスチレン共重合体粒子(ジビニルベンゼン81重量
%、p−エチルスチレン19重量%の組成比にて乳化重
合したもの)ならびに体積平均粒径0.19μm、粒径
比1.1、相対標準偏差0.24、空隙率27%のジビ
ニルベンゼン・p−エチルスチレン共重合体粒子(ジビ
ニルベンゼン55重量%、p−エチルスチレン45重量
%の組成比にて乳化重合したもの)を用い、積層部のポ
リエステルフィルム中の含有量をそれぞれ0.15重量
%、0.25重量%とした以外は、実施例1と同様の方
法にて二軸配向ポリエステルフィルムを得た。得られた
二軸配向フィルムの特性の測定・評価結果を表2、表
3、表4に示した。表2、表3、表4の結果から明らか
なように実施例10のフィルムは、S/N比(画質)特
性、フィルム削れ、ドロップアウト増加率、磁性層面へ
のキズ付け易さ、ジッター特性、スリット性のいずれに
も優れていることがわかる。
【0076】比較例1 体積平均粒径0.30μm、相対標準偏差0.65、空
隙率84%の湿式法シリカ粒子(サイロイド)を用いる
以外は、実施例1と同様の方法にて二軸配向ポリエステ
ルフィルムを得た。得られた二軸配向フィルムの特性の
測定・評価結果を表5、表6、表7に示した。表5、表
6、表7の結果から明らかなように比較例1のフィルム
は、磁性層面へのキズ付け易さ、スリット性のいずれも
劣っていることがわかる。
隙率84%の湿式法シリカ粒子(サイロイド)を用いる
以外は、実施例1と同様の方法にて二軸配向ポリエステ
ルフィルムを得た。得られた二軸配向フィルムの特性の
測定・評価結果を表5、表6、表7に示した。表5、表
6、表7の結果から明らかなように比較例1のフィルム
は、磁性層面へのキズ付け易さ、スリット性のいずれも
劣っていることがわかる。
【0077】比較例2 体積平均粒径0.32μm、相対標準偏差0.08、空
隙率26%のジビニルベンゼン・p−エチルスチレン共
重合体粒子(ジビニルベンゼン55重量%、p−エチル
スチレン45重量%の組成比にて乳化重合したもの)を
用いる以外は、実施例1と同様の方法にて二軸配向ポリ
エステルフィルムを得た。得られた二軸配向フィルムの
特性の測定・評価結果を表5、表6、表7に示した。表
5、表6、表7の結果から明らかなように比較例2のフ
ィルムは、ジッター特性に劣っていることがわかる。
隙率26%のジビニルベンゼン・p−エチルスチレン共
重合体粒子(ジビニルベンゼン55重量%、p−エチル
スチレン45重量%の組成比にて乳化重合したもの)を
用いる以外は、実施例1と同様の方法にて二軸配向ポリ
エステルフィルムを得た。得られた二軸配向フィルムの
特性の測定・評価結果を表5、表6、表7に示した。表
5、表6、表7の結果から明らかなように比較例2のフ
ィルムは、ジッター特性に劣っていることがわかる。
【0078】比較例3 体積平均粒径2.4μm、粒径比1.25、相対標準偏
差0.30のジビニルベンゼン・p−エチルスチレン共
重合体粒子(ジビニルベンゼン60重量%、p−エチル
スチレン40重量%の組成比にて乳化重合したもの)を
用いる以外は、実施例1と同様の方法にて二軸配向ポリ
エステルフィルムを得た。得られた二軸配向フィルムの
特性の測定・評価結果を表5、表6、表7に示した。表
5、表6、表7の結果から明らかなように比較例3のフ
ィルムは、電磁変換特性(S/N比)、フィルム削れ
(耐スクラッチ)のいずれも劣っていることがわかる。
差0.30のジビニルベンゼン・p−エチルスチレン共
重合体粒子(ジビニルベンゼン60重量%、p−エチル
スチレン40重量%の組成比にて乳化重合したもの)を
用いる以外は、実施例1と同様の方法にて二軸配向ポリ
エステルフィルムを得た。得られた二軸配向フィルムの
特性の測定・評価結果を表5、表6、表7に示した。表
5、表6、表7の結果から明らかなように比較例3のフ
ィルムは、電磁変換特性(S/N比)、フィルム削れ
(耐スクラッチ)のいずれも劣っていることがわかる。
【0079】比較例4 体積平均粒径0.07μm、相対標準偏差0.23、空
隙率24%のジビニルベンゼン・p−エチルスチレン共
重合体粒子(ジビニルベンゼン55重量%、p−エチル
スチレン45重量%の組成比にて乳化重合したもの)を
用い、ポリエステルフィルム中の含有量を0.70重量
%とする以外は、実施例1と同様の方法にて二軸配向ポ
リエステルフィルムを得た。得られた二軸配向フィルム
の特性の測定・評価結果を表5、表6、表7に示した。
表5、表6、表7の結果から明らかなように比較例4の
フィルムは、ドロップアウト増加率、フィルム削れ(耐
スクラッチ)に劣っていることがわかる。
隙率24%のジビニルベンゼン・p−エチルスチレン共
重合体粒子(ジビニルベンゼン55重量%、p−エチル
スチレン45重量%の組成比にて乳化重合したもの)を
用い、ポリエステルフィルム中の含有量を0.70重量
%とする以外は、実施例1と同様の方法にて二軸配向ポ
リエステルフィルムを得た。得られた二軸配向フィルム
の特性の測定・評価結果を表5、表6、表7に示した。
表5、表6、表7の結果から明らかなように比較例4の
フィルムは、ドロップアウト増加率、フィルム削れ(耐
スクラッチ)に劣っていることがわかる。
【0080】比較例5 ジビニルベンゼン・p−エチルスチレン共重合体粒子の
ポリエステルフィルム中の含有量を0.008重量%と
する以外は、実施例1と同様の方法にて二軸配向ポリエ
ステルフィルムを得た。得られた二軸配向フィルムの特
性の測定・評価結果を表5、表6、表7に示した。表
5、表6、表7の結果から明らかなように比較例5のフ
ィルムは、フィルム削れ(耐スクラッチ)に劣っている
ことがわかる。
ポリエステルフィルム中の含有量を0.008重量%と
する以外は、実施例1と同様の方法にて二軸配向ポリエ
ステルフィルムを得た。得られた二軸配向フィルムの特
性の測定・評価結果を表5、表6、表7に示した。表
5、表6、表7の結果から明らかなように比較例5のフ
ィルムは、フィルム削れ(耐スクラッチ)に劣っている
ことがわかる。
【0081】比較例6 ジビニルベンゼン・p−エチルスチレン共重合体粒子の
ポリエステルフィルム中の含有量を5.2重量%とする
以外は、実施例1と同様の方法にて二軸配向ポリエステ
ルフィルムを得た。ただし、参考例における、ジビニル
ベンゼン・p−エチルスチレン共重合体粒子添加量を
7.0重量部とした。得られた二軸配向フィルムの特性
の測定・評価結果を表5、表6、表7に示した。表5、
表6、表7の結果から明らかなように比較例6のフィル
ムは、電磁変換特性(S/N比)、フィルム削れ(耐ス
クラッチ)、ドロップアウト増加率のいずれも劣ってい
ることがわかる。
ポリエステルフィルム中の含有量を5.2重量%とする
以外は、実施例1と同様の方法にて二軸配向ポリエステ
ルフィルムを得た。ただし、参考例における、ジビニル
ベンゼン・p−エチルスチレン共重合体粒子添加量を
7.0重量部とした。得られた二軸配向フィルムの特性
の測定・評価結果を表5、表6、表7に示した。表5、
表6、表7の結果から明らかなように比較例6のフィル
ムは、電磁変換特性(S/N比)、フィルム削れ(耐ス
クラッチ)、ドロップアウト増加率のいずれも劣ってい
ることがわかる。
【0082】比較例7 体積平均粒径0.21μm、相対標準偏差0.08、空
隙率16%のジビニルベンゼン・p−エチルスチレン・
スチレン共重合体粒子(ジビニルベンゼン40重量%、
p−エチルスチレン40重量%、スチレン20重量%の
組成比にて乳化重合したもの)を用い、ポリエステルフ
ィルム中の含有量を0.70重量%とする以外は、実施
例1と同様の方法にて二軸配向ポリエステルフィルムを
得た。得られた二軸配向フィルムの特性の測定・評価結
果を表5、表6、表7に示した。表5、表6、表7の結
果から明らかなように比較例7のフィルムは、ドロップ
アウト増加率に劣っていることがわかる。
隙率16%のジビニルベンゼン・p−エチルスチレン・
スチレン共重合体粒子(ジビニルベンゼン40重量%、
p−エチルスチレン40重量%、スチレン20重量%の
組成比にて乳化重合したもの)を用い、ポリエステルフ
ィルム中の含有量を0.70重量%とする以外は、実施
例1と同様の方法にて二軸配向ポリエステルフィルムを
得た。得られた二軸配向フィルムの特性の測定・評価結
果を表5、表6、表7に示した。表5、表6、表7の結
果から明らかなように比較例7のフィルムは、ドロップ
アウト増加率に劣っていることがわかる。
【0083】
【表1】
【表2】
【表3】
【表4】
【表5】
【表6】
【表7】
【0084】
【発明の効果】本発明のポリエステルフィルムは、スク
ラッチ性に優れたものであり、高速で走行してもフイル
ムに傷がつきにくいため、各用途でのフイルム加工速度
の増大に対応できるものである。また、ビデオテープと
した時、繰り返し使用してもS/N、すなわち、画質が
低下しにくく、かつジッター特性が良好なフイルムが得
られたものである。本発明の磁気記録媒体用ポリエステ
ルフイルムの用途は特に限定されないが、加工工程での
フィルム表面の傷が製品性能上特に問題となるバックコ
ートのないハイグレードタイプのビデオテープ用ベース
フィルム、さらにビデオソフトの普及にともなうパンケ
ーキ用ベースフィルムとして特に有用である。
ラッチ性に優れたものであり、高速で走行してもフイル
ムに傷がつきにくいため、各用途でのフイルム加工速度
の増大に対応できるものである。また、ビデオテープと
した時、繰り返し使用してもS/N、すなわち、画質が
低下しにくく、かつジッター特性が良好なフイルムが得
られたものである。本発明の磁気記録媒体用ポリエステ
ルフイルムの用途は特に限定されないが、加工工程での
フィルム表面の傷が製品性能上特に問題となるバックコ
ートのないハイグレードタイプのビデオテープ用ベース
フィルム、さらにビデオソフトの普及にともなうパンケ
ーキ用ベースフィルムとして特に有用である。
【図1】タテ延伸装置の概略を示す断面図である。
1:硬質クロムメッキ金属ロール、 2〜6:シリコーンゴム被覆の金属ロール、 7:鏡面仕上げのセラミックロール、 8および9:硬質クロムメッキ金属ロール、 11および14:ゴムロール、 12および13:シリコーンゴム被覆の金属ロール、 10:フィルム。フィルムはロール1からロール9に向
かって走行し延伸される。
かって走行し延伸される。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C08L 67/02 KKF
Claims (8)
- 【請求項1】体積平均粒子径が0.1〜2.0μmであ
り、かつ下記(1)式で定義される相対標準偏差が0.
1〜1.0、かつ空隙率が20〜50%の不活性粒子を
0.01〜5.0重量%含有することを特徴とする磁気
記録媒体用ポリエステルフィルム。 相対標準偏差=((Σi=1 →n Di −DN)2 /n)0.5 /DV‥‥(1) ここで、Di :粒子個々の投影面積から求めた面積円相
当径(μm) DN:上記面積円相当径の数平均値 [DN=(Σi=1 →n Di )/n](μm) DV:上記面積円相当径の体積平均値 [DV=(Σi=1 →n Di 3 /n)1/3 ](μm) n:粒子の測定個数 - 【請求項2】酸化アルミニウム粒子および/または酸化
ジルコニウム粒子を含有することを特徴とする請求項1
記載の磁気記録媒体用ポリエステルフィルム。 - 【請求項3】削れ指数Kが60以下であることを特徴と
する請求項1または2記載の磁気記録媒体用ポリエステ
ルフィルム。 - 【請求項4】体積平均粒子径が0.1〜2.0μmであ
り、かつ下記(1)式で定義される相対標準偏差が0.
2〜1.5、かつ空隙率が20〜50%の不活性粒子を
0.01〜5.0重量%含有するポリエステルフィルム
(B)が厚さ3μm以上のポリエステルフィルム(A)
の少なくとも片面に積層されていることを特徴とする磁
気記録媒体用積層ポリエステルフィルム。 相対標準偏差=((Σi=1 →n Di −DN)2 /n)0.5 /DV‥‥(1) ここで、Di :粒子個々の投影面積から求めた面積円相
当径(μm) DN:上記面積円相当径の数平均値 [DN=(Σi=1 →n Di )/n](μm) DV:上記面積円相当径の体積平均値 [DV=(Σi=1 →n Di 3 /n)1/3 ](μm) n:粒子の測定個数 - 【請求項5】不活性粒子が有機高分子粒子であることを
特徴とする請求項1または4記載の磁気記録媒体用ポリ
エステルフィルム。 - 【請求項6】ポリエステルフィルム(B)が酸化アルミ
ニウム粒子および/または酸化ジルコニウム粒子を含有
することを特徴とする請求項4または5記載の磁気記録
媒体用積層ポリエステルフィルム。 - 【請求項7】ポリエステルフィルム(B)の削れ指数K
が60以下であることを特徴とする請求項4〜6のいず
か1項に記載の磁気記録媒体用積層ポリエステルフィル
ム。 - 【請求項8】面配向指数FならびにΔNが下記(2)〜
(4)式を同時に満足することを特徴とする請求項1〜
7のいずれか1項に記載の磁気記録媒体用ポリエステル
フィルム。 ΔN ≦ 1413−8327×F ‥‥‥‥‥‥‥(2) ΔN ≧ 1340−8627×F ‥‥‥‥‥‥‥(3) −60≦ΔN≦−20 ‥‥‥‥‥‥‥(4) [ここで、ΔN=(NMD−NTD)×1000、F=(NMD+
NTD)/2−nz、ただしNMDは、フィルム長手方向の
屈折率、NTDは、フィルム巾方向の屈折率、nzは、フ
ィルム厚み方向の屈折率を示す。]
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4146194A JPH07249218A (ja) | 1994-03-11 | 1994-03-11 | 磁気記録媒体用ポリエステルフィルム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4146194A JPH07249218A (ja) | 1994-03-11 | 1994-03-11 | 磁気記録媒体用ポリエステルフィルム |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07249218A true JPH07249218A (ja) | 1995-09-26 |
Family
ID=12609017
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4146194A Pending JPH07249218A (ja) | 1994-03-11 | 1994-03-11 | 磁気記録媒体用ポリエステルフィルム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07249218A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH09302112A (ja) * | 1996-05-16 | 1997-11-25 | Teijin Ltd | 磁気記録媒体用二軸配向ポリエステルフィルム |
| JPH09302110A (ja) * | 1996-05-15 | 1997-11-25 | Teijin Ltd | 磁気記録媒体用二軸配向ポリエステルフィルム |
| WO2013021910A1 (ja) | 2011-08-05 | 2013-02-14 | 国立大学法人大阪大学 | 空隙率測定装置および空隙率測定方法 |
| JP2018070691A (ja) * | 2016-10-25 | 2018-05-10 | 三菱ケミカル株式会社 | ポリエステルフィルムロール |
-
1994
- 1994-03-11 JP JP4146194A patent/JPH07249218A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH09302110A (ja) * | 1996-05-15 | 1997-11-25 | Teijin Ltd | 磁気記録媒体用二軸配向ポリエステルフィルム |
| JPH09302112A (ja) * | 1996-05-16 | 1997-11-25 | Teijin Ltd | 磁気記録媒体用二軸配向ポリエステルフィルム |
| WO2013021910A1 (ja) | 2011-08-05 | 2013-02-14 | 国立大学法人大阪大学 | 空隙率測定装置および空隙率測定方法 |
| JPWO2013021910A1 (ja) * | 2011-08-05 | 2015-03-05 | 国立大学法人大阪大学 | 空隙率測定装置および空隙率測定方法 |
| US9366614B2 (en) | 2011-08-05 | 2016-06-14 | Osaka University | Porosity measuring device and porosity measuring method |
| JP2018070691A (ja) * | 2016-10-25 | 2018-05-10 | 三菱ケミカル株式会社 | ポリエステルフィルムロール |
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