JPH07253666A - 感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性フィルム - Google Patents
感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性フィルムInfo
- Publication number
- JPH07253666A JPH07253666A JP4564294A JP4564294A JPH07253666A JP H07253666 A JPH07253666 A JP H07253666A JP 4564294 A JP4564294 A JP 4564294A JP 4564294 A JP4564294 A JP 4564294A JP H07253666 A JPH07253666 A JP H07253666A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- resin composition
- photosensitive resin
- photosensitive
- film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 title claims description 31
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 claims abstract description 10
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 claims abstract description 8
- 239000003999 initiator Substances 0.000 claims abstract description 7
- 229920001169 thermoplastic Polymers 0.000 claims abstract description 7
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 6
- 239000003513 alkali Substances 0.000 claims abstract description 5
- 125000005678 ethenylene group Chemical group [H]C([*:1])=C([H])[*:2] 0.000 claims abstract description 4
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 30
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 8
- 239000000243 solution Substances 0.000 claims description 8
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims description 5
- 125000006838 isophorone group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 4
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 3
- 125000001841 imino group Chemical group [H]N=* 0.000 claims description 3
- 125000001570 methylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])[*:2] 0.000 claims description 3
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 claims description 3
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 claims description 2
- 239000012670 alkaline solution Substances 0.000 claims 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 7
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 abstract description 7
- 238000005476 soldering Methods 0.000 abstract description 5
- 229920005989 resin Polymers 0.000 abstract description 3
- 239000011347 resin Substances 0.000 abstract description 3
- -1 neopentylene group Chemical group 0.000 description 27
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 20
- 229920006254 polymer film Polymers 0.000 description 10
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 10
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 9
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 9
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 9
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 6
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 6
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 6
- OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethyl prop-2-enoate Chemical compound OCCOC(=O)C=C OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 5
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 5
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 5
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 5
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L sodium carbonate Substances [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 5
- DVKJHBMWWAPEIU-UHFFFAOYSA-N toluene 2,4-diisocyanate Chemical compound CC1=CC=C(N=C=O)C=C1N=C=O DVKJHBMWWAPEIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229940095095 2-hydroxyethyl acrylate Drugs 0.000 description 4
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N Methyl acrylate Chemical compound COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 4
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 4
- 229920002818 (Hydroxyethyl)methacrylate Polymers 0.000 description 3
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N Hydroxyethyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCO WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 3
- HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-prop-2-enoyloxy-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical group C=CC(=O)OCC(CO)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000005856 abnormality Effects 0.000 description 3
- 125000000816 ethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 3
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 3
- 125000004836 hexamethylene group Chemical group [H]C([H])([*:2])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:1] 0.000 description 3
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 3
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 3
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 3
- 239000000047 product Substances 0.000 description 3
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 3
- MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 1,2-Divinylbenzene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1C=C MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BPXVHIRIPLPOPT-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-tris(2-hydroxyethyl)-1,3,5-triazinane-2,4,6-trione Chemical compound OCCN1C(=O)N(CCO)C(=O)N(CCO)C1=O BPXVHIRIPLPOPT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DPBJAVGHACCNRL-UHFFFAOYSA-N 2-(dimethylamino)ethyl prop-2-enoate Chemical compound CN(C)CCOC(=O)C=C DPBJAVGHACCNRL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WDQMWEYDKDCEHT-UHFFFAOYSA-N 2-ethylhexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C(C)=C WDQMWEYDKDCEHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IEVADDDOVGMCSI-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxybutyl 2-methylprop-2-enoate Chemical group CCC(O)COC(=O)C(C)=C IEVADDDOVGMCSI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N Acetophenone Chemical compound CC(=O)C1=CC=CC=C1 KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N Butylmethacrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C(C)=C SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 2
- VQTUBCCKSQIDNK-UHFFFAOYSA-N Isobutene Chemical group CC(C)=C VQTUBCCKSQIDNK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Malonic acid Chemical compound OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N N-Vinyl-2-pyrrolidone Chemical compound C=CN1CCCC1=O WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N Propane Chemical compound CCC ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane triacrylate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CC)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GCNKJQRMNYNDBI-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-2-(2-methylprop-2-enoyloxymethyl)butyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical group CC(=C)C(=O)OCC(CO)(CC)COC(=O)C(C)=C GCNKJQRMNYNDBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JUDXBRVLWDGRBC-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-(2-methylprop-2-enoyloxy)-2-(2-methylprop-2-enoyloxymethyl)propyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical group CC(=C)C(=O)OCC(CO)(COC(=O)C(C)=C)COC(=O)C(C)=C JUDXBRVLWDGRBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003647 acryloyl group Chemical group O=C([*])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 2
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 2
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 2
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 2
- ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N benzoin Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N butane-1,4-diol Chemical compound OCCCCO WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 2
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 2
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 2
- 239000011889 copper foil Substances 0.000 description 2
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 2
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 2
- 235000019441 ethanol Nutrition 0.000 description 2
- IIEWJVIFRVWJOD-UHFFFAOYSA-N ethylcyclohexane Chemical compound CCC1CCCCC1 IIEWJVIFRVWJOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 2
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 2
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NUKZAGXMHTUAFE-UHFFFAOYSA-N methyl hexanoate Chemical compound CCCCCC(=O)OC NUKZAGXMHTUAFE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UAEPNZWRGJTJPN-UHFFFAOYSA-N methylcyclohexane Chemical compound CC1CCCCC1 UAEPNZWRGJTJPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- 125000004817 pentamethylene group Chemical group [H]C([H])([*:2])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:1] 0.000 description 2
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 2
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Substances [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 2
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000000383 tetramethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 2
- LWIHDJKSTIGBAC-UHFFFAOYSA-K tripotassium phosphate Chemical compound [K+].[K+].[K+].[O-]P([O-])([O-])=O LWIHDJKSTIGBAC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 229920006163 vinyl copolymer Polymers 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 2
- COHYOLUPIYKLBI-UHFFFAOYSA-N (2,3,5,6-tetraethoxy-4-propylphenyl) 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCC1=C(OCC)C(OCC)=C(OC(=O)C(C)=C)C(OCC)=C1OCC COHYOLUPIYKLBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BSUKKOMNQGNSGP-QPJJXVBHSA-N (2e)-2-ethylidenehexanoic acid Chemical compound CCCC\C(=C/C)C(O)=O BSUKKOMNQGNSGP-QPJJXVBHSA-N 0.000 description 1
- LKWIHEWORSWTJM-UHFFFAOYSA-N (4,5,5,6,6-pentaethoxy-4-propylcyclohex-2-en-1-yl) 2-methylprop-2-enoate Chemical compound C(C(=C)C)(=O)OC1C(C(C(C=C1)(OCC)CCC)(OCC)OCC)(OCC)OCC LKWIHEWORSWTJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RXUVWJWQFPJWOV-OWOJBTEDSA-N (e)-1,2-diisocyanatoethene Chemical compound O=C=N\C=C\N=C=O RXUVWJWQFPJWOV-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 1
- XHXSXTIIDBZEKB-UHFFFAOYSA-N 1,2,3,4,5,6,7,8-octamethylanthracene-9,10-dione Chemical compound CC1=C(C)C(C)=C2C(=O)C3=C(C)C(C)=C(C)C(C)=C3C(=O)C2=C1C XHXSXTIIDBZEKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FKTHNVSLHLHISI-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(isocyanatomethyl)benzene Chemical class O=C=NCC1=CC=CC=C1CN=C=O FKTHNVSLHLHISI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZTNJGMFHJYGMDR-UHFFFAOYSA-N 1,2-diisocyanatoethane Chemical compound O=C=NCCN=C=O ZTNJGMFHJYGMDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZGDSDWSIFQBAJS-UHFFFAOYSA-N 1,2-diisocyanatopropane Chemical compound O=C=NC(C)CN=C=O ZGDSDWSIFQBAJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBJCUZQNHOLYMD-UHFFFAOYSA-N 1,5-Naphthalene diisocyanate Chemical compound C1=CC=C2C(N=C=O)=CC=CC2=C1N=C=O SBJCUZQNHOLYMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATOUXIOKEJWULN-UHFFFAOYSA-N 1,6-diisocyanato-2,2,4-trimethylhexane Chemical compound O=C=NCCC(C)CC(C)(C)CN=C=O ATOUXIOKEJWULN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VZXPHDGHQXLXJC-UHFFFAOYSA-N 1,6-diisocyanato-5,6-dimethylheptane Chemical compound O=C=NC(C)(C)C(C)CCCCN=C=O VZXPHDGHQXLXJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940008841 1,6-hexamethylene diisocyanate Drugs 0.000 description 1
- VXNZUUAINFGPBY-UHFFFAOYSA-N 1-Butene Chemical group CCC=C VXNZUUAINFGPBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YNSNJGRCQCDRDM-UHFFFAOYSA-N 1-chlorothioxanthen-9-one Chemical compound S1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=CC=C2Cl YNSNJGRCQCDRDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YAOJJEJGPZRYJF-UHFFFAOYSA-N 1-ethenoxyhexane Chemical compound CCCCCCOC=C YAOJJEJGPZRYJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OSSNTDFYBPYIEC-UHFFFAOYSA-N 1-ethenylimidazole Chemical compound C=CN1C=CN=C1 OSSNTDFYBPYIEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FCBZNZYQLJTCKR-UHFFFAOYSA-N 1-prop-2-enoxyethanol Chemical compound CC(O)OCC=C FCBZNZYQLJTCKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HGOUNPXIJSDIKV-UHFFFAOYSA-N 2,2-bis(hydroxymethyl)butyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCC(CO)(CO)COC(=O)C(C)=C HGOUNPXIJSDIKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SYENVBKSVVOOPS-UHFFFAOYSA-N 2,2-bis(hydroxymethyl)butyl prop-2-enoate Chemical compound CCC(CO)(CO)COC(=O)C=C SYENVBKSVVOOPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XKNLMAXAQYNOQZ-UHFFFAOYSA-N 2,2-bis(hydroxymethyl)propane-1,3-diol;2-methylprop-2-enoic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O.CC(=C)C(O)=O.CC(=C)C(O)=O.CC(=C)C(O)=O.OCC(CO)(CO)CO XKNLMAXAQYNOQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GZBSIABKXVPBFY-UHFFFAOYSA-N 2,2-bis(hydroxymethyl)propane-1,3-diol;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OCC(CO)(CO)CO GZBSIABKXVPBFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LZWVPGJPVCYAOC-UHFFFAOYSA-N 2,3-diphenylanthracene-9,10-dione Chemical compound C=1C=CC=CC=1C=1C=C2C(=O)C3=CC=CC=C3C(=O)C2=CC=1C1=CC=CC=C1 LZWVPGJPVCYAOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BTJPUDCSZVCXFQ-UHFFFAOYSA-N 2,4-diethylthioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(CC)=CC(CC)=C3SC2=C1 BTJPUDCSZVCXFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FTALTLPZDVFJSS-UHFFFAOYSA-N 2-(2-ethoxyethoxy)ethyl prop-2-enoate Chemical compound CCOCCOCCOC(=O)C=C FTALTLPZDVFJSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RWXMAAYKJDQVTF-UHFFFAOYSA-N 2-(2-hydroxyethoxy)ethyl prop-2-enoate Chemical group OCCOCCOC(=O)C=C RWXMAAYKJDQVTF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JKNCOURZONDCGV-UHFFFAOYSA-N 2-(dimethylamino)ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CN(C)CCOC(=O)C(C)=C JKNCOURZONDCGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RGADKZXRWFOTFV-UHFFFAOYSA-N 2-(hydroxymethyl)-2-methylpropane-1,3-diol;prop-2-enoic acid Chemical group OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OCC(C)(CO)CO RGADKZXRWFOTFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MZGMQAMKOBOIDR-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-hydroxyethoxy)ethoxy]ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical group CC(=C)C(=O)OCCOCCOCCO MZGMQAMKOBOIDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UEQXEQXNHPQBQO-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-[2-[2-(2-hydroxyethoxy)ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical group CC(=C)C(=O)OCCOCCOCCOCCOCCOCCO UEQXEQXNHPQBQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DJKKWVGWYCKUFC-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCOCCOC(=O)C(C)=C DJKKWVGWYCKUFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PTJDGKYFJYEAOK-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethyl prop-2-enoate Chemical compound CCCCOCCOC(=O)C=C PTJDGKYFJYEAOK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SFPNZPQIIAJXGL-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCOCCOC(=O)C(C)=C SFPNZPQIIAJXGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FWWXYLGCHHIKNY-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethyl prop-2-enoate Chemical compound CCOCCOC(=O)C=C FWWXYLGCHHIKNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJEBAWHUJDUKQK-UHFFFAOYSA-N 2-ethylanthraquinone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(CC)=CC=C3C(=O)C2=C1 SJEBAWHUJDUKQK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YJQMXVDKXSQCDI-UHFFFAOYSA-N 2-ethylthioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(CC)=CC=C3SC2=C1 YJQMXVDKXSQCDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CKKQLOUBFINSIB-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-1,2,2-triphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(C=1C=CC=CC=1)(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 CKKQLOUBFINSIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YXYJVFYWCLAXHO-UHFFFAOYSA-N 2-methoxyethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound COCCOC(=O)C(C)=C YXYJVFYWCLAXHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HFCUBKYHMMPGBY-UHFFFAOYSA-N 2-methoxyethyl prop-2-enoate Chemical compound COCCOC(=O)C=C HFCUBKYHMMPGBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IXPWKHNDQICVPZ-UHFFFAOYSA-N 2-methylhex-1-en-3-yne Chemical compound CCC#CC(C)=C IXPWKHNDQICVPZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LNAUNVIKVLITHB-UHFFFAOYSA-N 2-methylpropoxymethanamine Chemical compound CC(C)COCN LNAUNVIKVLITHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RUMACXVDVNRZJZ-UHFFFAOYSA-N 2-methylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(C)COC(=O)C(C)=C RUMACXVDVNRZJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CFVWNXQPGQOHRJ-UHFFFAOYSA-N 2-methylpropyl prop-2-enoate Chemical compound CC(C)COC(=O)C=C CFVWNXQPGQOHRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MYISVPVWAQRUTL-UHFFFAOYSA-N 2-methylthioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(C)=CC=C3SC2=C1 MYISVPVWAQRUTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KTALPKYXQZGAEG-UHFFFAOYSA-N 2-propan-2-ylthioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(C(C)C)=CC=C3SC2=C1 KTALPKYXQZGAEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical class [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- YTPSFXZMJKMUJE-UHFFFAOYSA-N 2-tert-butylanthracene-9,10-dione Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(C(C)(C)C)=CC=C3C(=O)C2=C1 YTPSFXZMJKMUJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QZWKEPYTBWZJJA-UHFFFAOYSA-N 3,3'-Dimethoxybenzidine-4,4'-diisocyanate Chemical compound C1=C(N=C=O)C(OC)=CC(C=2C=C(OC)C(N=C=O)=CC=2)=C1 QZWKEPYTBWZJJA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZVDJGOAHCVLUCZ-UHFFFAOYSA-N 3-(diethylamino)-2-methylprop-2-enoic acid Chemical compound CCN(CC)C=C(C)C(O)=O ZVDJGOAHCVLUCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TYCHBDHDMFEQMC-UHFFFAOYSA-N 3-(dimethylamino)-2-methylprop-2-enoic acid Chemical compound CN(C)C=C(C)C(O)=O TYCHBDHDMFEQMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LKJTVGPNIFDNOA-UHFFFAOYSA-N 3-[4-[2-[4-(3-prop-2-enoyloxypropoxy)phenyl]propan-2-yl]phenoxy]propyl prop-2-enoate Chemical compound C=1C=C(OCCCOC(=O)C=C)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(OCCCOC(=O)C=C)C=C1 LKJTVGPNIFDNOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BJOWTLCTYPKRRU-UHFFFAOYSA-N 3-ethenoxyoctane Chemical compound CCCCCC(CC)OC=C BJOWTLCTYPKRRU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XHULUQRDNLRXPF-UHFFFAOYSA-N 3-ethenyl-1,3-oxazolidin-2-id-4-one Chemical compound C(=C)N1[CH-]OCC1=O XHULUQRDNLRXPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GNSFRPWPOGYVLO-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxypropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCCO GNSFRPWPOGYVLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QZPSOSOOLFHYRR-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxypropyl prop-2-enoate Chemical compound OCCCOC(=O)C=C QZPSOSOOLFHYRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GFLJTEHFZZNCTR-UHFFFAOYSA-N 3-prop-2-enoyloxypropyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCCOC(=O)C=C GFLJTEHFZZNCTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UPMLOUAZCHDJJD-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Diphenylmethane Diisocyanate Chemical compound C1=CC(N=C=O)=CC=C1CC1=CC=C(N=C=O)C=C1 UPMLOUAZCHDJJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YKXAYLPDMSGWEV-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxybutyl 2-methylprop-2-enoate Chemical group CC(=C)C(=O)OCCCCO YKXAYLPDMSGWEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NDWUBGAGUCISDV-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxybutyl prop-2-enoate Chemical compound OCCCCOC(=O)C=C NDWUBGAGUCISDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JHWGFJBTMHEZME-UHFFFAOYSA-N 4-prop-2-enoyloxybutyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCCCOC(=O)C=C JHWGFJBTMHEZME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YGTVWCBFJAVSMS-UHFFFAOYSA-N 5-hydroxypentyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCCCCO YGTVWCBFJAVSMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SAPGBCWOQLHKKZ-UHFFFAOYSA-N 6-(2-methylprop-2-enoyloxy)hexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCCCCCOC(=O)C(C)=C SAPGBCWOQLHKKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NQAPOKMZNOFRII-UHFFFAOYSA-N 6-ethyl-1,8-diisocyanato-2,4-dimethyloctane Chemical compound O=C=NCCC(CC)CC(C)CC(C)CN=C=O NQAPOKMZNOFRII-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FIHBHSQYSYVZQE-UHFFFAOYSA-N 6-prop-2-enoyloxyhexyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCCCCCOC(=O)C=C FIHBHSQYSYVZQE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RSWGJHLUYNHPMX-UHFFFAOYSA-N Abietic-Saeure Natural products C12CCC(C(C)C)=CC2=CCC2C1(C)CCCC2(C)C(O)=O RSWGJHLUYNHPMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-M Bicarbonate Chemical class OC([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- QKBMDYGPNGLWIK-UHFFFAOYSA-N C(C=C)(=O)OC1C(C(C(C=C1)(OCC)CCC)(OCC)OCC)(OCC)OCC Chemical compound C(C=C)(=O)OC1C(C(C(C=C1)(OCC)CCC)(OCC)OCC)(OCC)OCC QKBMDYGPNGLWIK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RKGCQUCVYMUYKE-UHFFFAOYSA-N CC(=C)C(=O)OCC(C)(CO)COC(=O)C(C)=C Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(C)(CO)COC(=O)C(C)=C RKGCQUCVYMUYKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005058 Isophorone diisocyanate Substances 0.000 description 1
- 239000004640 Melamine resin Substances 0.000 description 1
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 1
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GYCMBHHDWRMZGG-UHFFFAOYSA-N Methylacrylonitrile Chemical compound CC(=C)C#N GYCMBHHDWRMZGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CNCOEDDPFOAUMB-UHFFFAOYSA-N N-Methylolacrylamide Chemical compound OCNC(=O)C=C CNCOEDDPFOAUMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 1
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical class [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- KHPCPRHQVVSZAH-HUOMCSJISA-N Rosin Natural products O(C/C=C/c1ccccc1)[C@H]1[C@H](O)[C@@H](O)[C@@H](O)[C@@H](CO)O1 KHPCPRHQVVSZAH-HUOMCSJISA-N 0.000 description 1
- 244000028419 Styrax benzoin Species 0.000 description 1
- 235000000126 Styrax benzoin Nutrition 0.000 description 1
- 235000008411 Sumatra benzointree Nutrition 0.000 description 1
- LCXXNKZQVOXMEH-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofurfuryl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1CCCO1 LCXXNKZQVOXMEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKKRPWIIYQTPQF-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane trimethacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(CC)(COC(=O)C(C)=C)COC(=O)C(C)=C OKKRPWIIYQTPQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CQHKDHVZYZUZMJ-UHFFFAOYSA-N [2,2-bis(hydroxymethyl)-3-prop-2-enoyloxypropyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CO)(CO)COC(=O)C=C CQHKDHVZYZUZMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ULQMPOIOSDXIGC-UHFFFAOYSA-N [2,2-dimethyl-3-(2-methylprop-2-enoyloxy)propyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(C)(C)COC(=O)C(C)=C ULQMPOIOSDXIGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TUOBEAZXHLTYLF-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-2-(prop-2-enoyloxymethyl)butyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CO)(CC)COC(=O)C=C TUOBEAZXHLTYLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- APZPSKFMSWZPKL-UHFFFAOYSA-N [3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(CO)(CO)CO APZPSKFMSWZPKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCZFEIZSYJAXKS-UHFFFAOYSA-N [3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound OCC(CO)(CO)COC(=O)C=C ZCZFEIZSYJAXKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJSXBTSSSQCODU-UHFFFAOYSA-N [4-[2-[2,3-diethoxy-4-(2-methylprop-2-enoyloxy)phenyl]propan-2-yl]-2,3-diethoxyphenyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCOC1=C(OC(=O)C(C)=C)C=CC(C(C)(C)C=2C(=C(OCC)C(OC(=O)C(C)=C)=CC=2)OCC)=C1OCC SJSXBTSSSQCODU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006061 abrasive grain Substances 0.000 description 1
- 125000005396 acrylic acid ester group Chemical group 0.000 description 1
- 238000007259 addition reaction Methods 0.000 description 1
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 1
- 239000005456 alcohol based solvent Substances 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 229910001854 alkali hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000008044 alkali metal hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N alpha-Methylstyrene Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC=C1 XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002518 antifoaming agent Substances 0.000 description 1
- 150000008365 aromatic ketones Chemical class 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical class 0.000 description 1
- 239000002585 base Substances 0.000 description 1
- 229960002130 benzoin Drugs 0.000 description 1
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 1
- AOJOEFVRHOZDFN-UHFFFAOYSA-N benzyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1=CC=CC=C1 AOJOEFVRHOZDFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GCTPMLUUWLLESL-UHFFFAOYSA-N benzyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC1=CC=CC=C1 GCTPMLUUWLLESL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PIPBVABVQJZSAB-UHFFFAOYSA-N bis(ethenyl) benzene-1,2-dicarboxylate Chemical compound C=COC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OC=C PIPBVABVQJZSAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AJCHRUXIDGEWDK-UHFFFAOYSA-N bis(ethenyl) butanedioate Chemical compound C=COC(=O)CCC(=O)OC=C AJCHRUXIDGEWDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 230000001680 brushing effect Effects 0.000 description 1
- CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N butyl acrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C=C CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 238000013329 compounding Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 238000002788 crimping Methods 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- OIWOHHBRDFKZNC-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1CCCCC1 OIWOHHBRDFKZNC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KBLWLMPSVYBVDK-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC1CCCCC1 KBLWLMPSVYBVDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 125000005442 diisocyanate group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002009 diols Chemical class 0.000 description 1
- 235000011180 diphosphates Nutrition 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- GMSCBRSQMRDRCD-UHFFFAOYSA-N dodecyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCOC(=O)C(C)=C GMSCBRSQMRDRCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 1
- YCUBDDIKWLELPD-UHFFFAOYSA-N ethenyl 2,2-dimethylpropanoate Chemical compound CC(C)(C)C(=O)OC=C YCUBDDIKWLELPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XJELOQYISYPGDX-UHFFFAOYSA-N ethenyl 2-chloroacetate Chemical compound ClCC(=O)OC=C XJELOQYISYPGDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MPOGZNTVZCEKSW-UHFFFAOYSA-N ethenyl 2-hydroxypropanoate Chemical compound CC(O)C(=O)OC=C MPOGZNTVZCEKSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MEGHWIAOTJPCHQ-UHFFFAOYSA-N ethenyl butanoate Chemical compound CCCC(=O)OC=C MEGHWIAOTJPCHQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LZWYWAIOTBEZFN-UHFFFAOYSA-N ethenyl hexanoate Chemical compound CCCCCC(=O)OC=C LZWYWAIOTBEZFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)=C SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IIQWTZQWBGDRQG-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-methylprop-2-enoate;isocyanic acid Chemical compound N=C=O.CCOC(=O)C(C)=C IIQWTZQWBGDRQG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 210000000416 exudates and transudate Anatomy 0.000 description 1
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 1
- VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N glycidyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1CO1 VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019382 gum benzoic Nutrition 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N hexamethylene diisocyanate Chemical compound O=C=NCCCCCCN=C=O RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diol Chemical compound OCCCCCCO XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIMLQBUJDJZYEJ-UHFFFAOYSA-N isophorone diisocyanate Chemical compound CC1(C)CC(N=C=O)CC(C)(CN=C=O)C1 NIMLQBUJDJZYEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N methacrylamide Chemical compound CC(=C)C(N)=O FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005397 methacrylic acid ester group Chemical group 0.000 description 1
- YDKNBNOOCSNPNS-UHFFFAOYSA-N methyl 1,3-benzoxazole-2-carboxylate Chemical compound C1=CC=C2OC(C(=O)OC)=NC2=C1 YDKNBNOOCSNPNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GYNNXHKOJHMOHS-UHFFFAOYSA-N methyl-cycloheptane Natural products CC1CCCCCC1 GYNNXHKOJHMOHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002816 methylsulfanyl group Chemical group [H]C([H])([H])S[*] 0.000 description 1
- WFKDPJRCBCBQNT-UHFFFAOYSA-N n,2-dimethylprop-2-enamide Chemical compound CNC(=O)C(C)=C WFKDPJRCBCBQNT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OMNKZBIFPJNNIO-UHFFFAOYSA-N n-(2-methyl-4-oxopentan-2-yl)prop-2-enamide Chemical compound CC(=O)CC(C)(C)NC(=O)C=C OMNKZBIFPJNNIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UTSYWKJYFPPRAP-UHFFFAOYSA-N n-(butoxymethyl)prop-2-enamide Chemical compound CCCCOCNC(=O)C=C UTSYWKJYFPPRAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZIWDVJPPVMGJGR-UHFFFAOYSA-N n-ethyl-2-methylprop-2-enamide Chemical compound CCNC(=O)C(C)=C ZIWDVJPPVMGJGR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- KKFHAJHLJHVUDM-UHFFFAOYSA-N n-vinylcarbazole Chemical compound C1=CC=C2N(C=C)C3=CC=CC=C3C2=C1 KKFHAJHLJHVUDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 1
- NZIDBRBFGPQCRY-UHFFFAOYSA-N octyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCCCCCOC(=O)C(C)=C NZIDBRBFGPQCRY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- RPQRDASANLAFCM-UHFFFAOYSA-N oxiran-2-ylmethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC1CO1 RPQRDASANLAFCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005702 oxyalkylene group Chemical group 0.000 description 1
- 125000006353 oxyethylene group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 235000021317 phosphate Nutrition 0.000 description 1
- 150000003013 phosphoric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- FSDNTQSJGHSJBG-UHFFFAOYSA-N piperidine-4-carbonitrile Chemical compound N#CC1CCNCC1 FSDNTQSJGHSJBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920006267 polyester film Polymers 0.000 description 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- 235000011181 potassium carbonates Nutrition 0.000 description 1
- 235000011118 potassium hydroxide Nutrition 0.000 description 1
- 229910000160 potassium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011009 potassium phosphates Nutrition 0.000 description 1
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 1
- KCTAWXVAICEBSD-UHFFFAOYSA-N prop-2-enoyloxy prop-2-eneperoxoate Chemical compound C=CC(=O)OOOC(=O)C=C KCTAWXVAICEBSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FBCQUCJYYPMKRO-UHFFFAOYSA-N prop-2-enyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC=C FBCQUCJYYPMKRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTECDUFMBMSHKR-UHFFFAOYSA-N prop-2-enyl prop-2-enoate Chemical compound C=CCOC(=O)C=C QTECDUFMBMSHKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HJWLCRVIBGQPNF-UHFFFAOYSA-N prop-2-enylbenzene Chemical compound C=CCC1=CC=CC=C1 HJWLCRVIBGQPNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BOQSSGDQNWEFSX-UHFFFAOYSA-N propan-2-yl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(C)OC(=O)C(C)=C BOQSSGDQNWEFSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LYBIZMNPXTXVMV-UHFFFAOYSA-N propan-2-yl prop-2-enoate Chemical compound CC(C)OC(=O)C=C LYBIZMNPXTXVMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001294 propane Substances 0.000 description 1
- NHARPDSAXCBDDR-UHFFFAOYSA-N propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCOC(=O)C(C)=C NHARPDSAXCBDDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNXMTCDJUBJHQJ-UHFFFAOYSA-N propyl prop-2-enoate Chemical compound CCCOC(=O)C=C PNXMTCDJUBJHQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004080 punching Methods 0.000 description 1
- 150000004053 quinones Chemical class 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 1
- 238000007790 scraping Methods 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 235000011182 sodium carbonates Nutrition 0.000 description 1
- FQENQNTWSFEDLI-UHFFFAOYSA-J sodium diphosphate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[Na+].[O-]P([O-])(=O)OP([O-])([O-])=O FQENQNTWSFEDLI-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 235000011121 sodium hydroxide Nutrition 0.000 description 1
- 239000001488 sodium phosphate Substances 0.000 description 1
- 229910000162 sodium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940048086 sodium pyrophosphate Drugs 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- 150000003440 styrenes Chemical class 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- MUTNCGKQJGXKEM-UHFFFAOYSA-N tamibarotene Chemical compound C=1C=C2C(C)(C)CCC(C)(C)C2=CC=1NC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 MUTNCGKQJGXKEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYCLIXPGLDDLTM-UHFFFAOYSA-J tetrapotassium;phosphonato phosphate Chemical compound [K+].[K+].[K+].[K+].[O-]P([O-])(=O)OP([O-])([O-])=O RYCLIXPGLDDLTM-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 235000019818 tetrasodium diphosphate Nutrition 0.000 description 1
- 239000001577 tetrasodium phosphonato phosphate Substances 0.000 description 1
- YWDBSCORAARPPF-VWUMJDOOSA-N tixocortol Chemical compound O=C1CC[C@]2(C)[C@H]3[C@@H](O)C[C@](C)([C@@](CC4)(O)C(=O)CS)[C@@H]4[C@@H]3CCC2=C1 YWDBSCORAARPPF-VWUMJDOOSA-N 0.000 description 1
- 229960004631 tixocortol Drugs 0.000 description 1
- RUELTTOHQODFPA-UHFFFAOYSA-N toluene 2,6-diisocyanate Chemical compound CC1=C(N=C=O)C=CC=C1N=C=O RUELTTOHQODFPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DQFBYFPFKXHELB-VAWYXSNFSA-N trans-chalcone Chemical group C=1C=CC=CC=1C(=O)\C=C\C1=CC=CC=C1 DQFBYFPFKXHELB-VAWYXSNFSA-N 0.000 description 1
- KHPCPRHQVVSZAH-UHFFFAOYSA-N trans-cinnamyl beta-D-glucopyranoside Natural products OC1C(O)C(O)C(CO)OC1OCC=CC1=CC=CC=C1 KHPCPRHQVVSZAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000013638 trimer Substances 0.000 description 1
- RYFMWSXOAZQYPI-UHFFFAOYSA-K trisodium phosphate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[O-]P([O-])([O-])=O RYFMWSXOAZQYPI-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- KOZCZZVUFDCZGG-UHFFFAOYSA-N vinyl benzoate Chemical compound C=COC(=O)C1=CC=CC=C1 KOZCZZVUFDCZGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Non-Metallic Protective Coatings For Printed Circuits (AREA)
Abstract
れた感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性フィルム
を提供する。 【構成】 (a)一般式(1) 〔式中、Aは炭素数2〜12のアルキレン基、ビニレン
基等を表し、R1は炭素数1〜3のアルキル基等を表
し、R2及びR3はそれぞれ独立してH、CH3等を表
し、w及びzは、それぞれ独立して0〜20の整数であ
り、R4は炭素数が2〜8のアルキレン基を表し、xは
2〜200、yは1〜100の整数である〕で示される
重合性化合物を含むエチレン性不飽和基含有重合性化合
物、(b)カルボキシル基を有する熱可塑性重合体及び
(c)活性光により遊離ラジカルを生成する光重合開始
剤を含有してなるアルカリ水溶液で現像可能な感光性樹
脂組成物及びこれを用いた感光性フィルム。
Description
し、さらに詳しくはフレキシブルプリント配線板等の製
造に使用し得る保護膜(カバーレイ)形成に好適な感光
性樹脂組成物及び感光性エレメントに関する。
はフィルム状の感光性樹脂組成物が用いられており、例
えば、銅張積層板の銅箔をエッチングするレジストとし
て、また配線の形成されたプリント配線板には、はんだ
付け位置の限定及び配線の保護の目的に用いられてい
る。
器に折り曲げて組み込めることが可能なフィルム状のも
のがあり、これはFPCと呼ばれている。このFPCに
もはんだ付け位置の限定及び配線の保護のためにレジス
トが必要であり、それはカバーレイまたはカバーコート
と呼ばれている。カバーレイは接着剤層を有するポリイ
ミドやポリエステルフィルムを所定の型に打ち抜いた後
FPC上に熱圧着などで形成される。カバーコートは熱
硬化や光硬化性のインクを印刷、硬化させて形成され
る。
保護の目的に用いられるこれらのレジストには可撓性が
特に重要な特性となる。そのため可撓性に優れるポリイ
ミドカバーレイが多く用いられている。しかし、このカ
バーレイは型抜きのために高価な金型が必要であり、ま
た型抜きしたフィルムの人手による張り合わせ、接着剤
のはみ出しなどのため歩留まりが低く、製造コストが高
くなりFPCの市場拡大の障害となっている。更に、近
年の高密度化に対応することが困難となっている。
現像により画像を形成する方法)で寸法精度、解像性に
優れた高精度、高信頼性のカバーレイを形成する感光性
樹脂組成物、特に感光性フィルムの出現が望まれてき
た。この目的のために、ソルダマスク形成用感光性樹脂
組成物を用いることが試みられた。例えば、アクリル系
ポリマー及び光重合性モノマーを主成分とする感光性樹
脂組成物(特開昭53−56018号公報、同54−1
018号公報等)、耐熱性の良好な感光性樹脂組成物と
して、主鎖にカルコン基を有する感光性エポキシ樹脂及
びエポキシ樹脂硬化剤を主成分とする組成物(特開昭5
4−82073号公報、同58−62636号公報
等)、エポキシ基を含有するノボラック型エポキシアク
リレート及び光重合開始剤を主成分とする組成物(特開
昭61−272号公報等)、安全性及び経済性に優れた
アルカリ水溶液で現像可能なソルダマスク形成用感光性
樹脂組成物としては、カルボキシル基含有ポリマー、単
量体、光重合開始剤及び熱硬化性樹脂を主成分とする組
成物(特開昭48−73148公報、同57−1782
37号公報、同58−42040号公報、同59−15
1152号公報等)等が挙げられるが、いずれも可撓性
が不十分であった。
来の技術の欠点を解消し、作業性が良好で可撓性、はん
だ耐熱性に優れた感光性樹脂組成物及びこれを用いた感
光性フィルムを提供するものである。
(1)
基、
イソホロン基を表し、R1は炭素数1〜3のアルキル
基、R6又はCH2R6を表し、R2及びR3はそれぞれ独
立してH、CH3又はCH2R6を表し、R6はO−CO−
CR7=CH2を表し、R7はH又はCH3を表し、w及び
zは、それぞれ独立して0〜20の整数であり、R6は
R1、R2及びR3の少なくとも1つに含まれ、R4は炭素
数が2〜8のアルキレン基を表し、xは2〜200の整
数であり、yは1〜100の整数である〕で示される重
合性化合物を含むエチレン性不飽和基含有重合性化合
物、(b)カルボキシル基を有する熱可塑性重合体及び
(c)活性光により遊離ラジカルを生成する光重合開始
剤を含有してなるアルカリ水溶液で現像可能な感光性樹
脂組成物並びに支持体フィルム上に前記感光性樹脂組成
物を塗布、乾燥してなる感光性フィルムに関する。
される各成分について詳述する。本発明の感光性樹脂組
成物は、必須成分(a)として一般式(1)で示される
重合性化合物を含むエチレン性不飽和基含有重合性化合
物を含有する。一般式(1)において、Aで表される炭
化水素数2〜12のアルキレン基としては、例えば、エ
チレン基、n−プロピレン基、イソプロピレン基、n−
ブチレン基、イソブチレン基、ペンチレン基、ネオペン
チレン基、ヘキシレン基、ヘプチレン基、n−オクチレ
ン基、2−エチルヘキシレン基、ノニレン基、デシレン
基、ウンデシレン基、ドデシレン基等が挙げられる。炭
素数が1のもの又は13以上のものは材料の入手が困難
となる。Aで表される炭化水素数2〜12のアルキレン
基、ビニレン基、
イソホロン基は、アルキル基、アルコキシ基若しくはハ
ロゲン原子で置換されるか又は水素添加されていてもよ
い。一般式(1)において、R1で表される炭素数1〜
3のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル
基、n−プロピル基、イソプロピル基等が挙げられる。
炭素数が4以上のものは材料の入手が困難となる。一般
式(1)において、R4で表される炭素数が2〜8のア
ルキレン基としては、例えば、エチレン基、n−プロピ
レン基、イソプロピレン基、n−ブチレン基、イソブチ
レン基、ペンチレン基、ネオペンチレン基、ヘキシレン
基、ヘプチレン基、n−オクチレン基、2−エチルヘキ
シレン基等が挙げられる。炭素数が1のもの又は9以上
のものは材料の入手が困難となる。一般式(1)におけ
るw及びzは、それぞれ独立して0〜20の整数とされ
る。w及びzが21以上の整数のものは材料の入手が困
難となる。一般式(1)におけるx及びyは、それぞれ
2〜200及び1〜100の整数とされる。xが1の場
合は、カバーレイとして十分な可撓性が得られず、xが
201以上である場合は、十分な光重合性が得られず感
度の低下をもたらす。また、yが0の場合は、カバーレ
イとして十分な可撓性が得られず、101以上である場
合は、十分な光重合性が得られず感度の低下をもたら
す。一般式(1)で示される重合性化合物の重量平均分
子量は、可撓性、光重合性等の点から、1,000〜5
0,000であることが好ましい。
例えば、ポリアルキルジオール(例えば、ポリ1,4−
ブタンジオール、ポリ1,6−ヘキサンジオール)と、
2個のイソシアナート基を含有する化合物(例えば、エ
チレンジイソシアネート、プロピレンジイソシアネー
ト、ブチレン−1,3−ジイソシアネート、1,6−ヘ
キサメチレンジイソシアネート、2,2,4−トリメチ
ル−1,6−ヘキサメチレンジイソシアネート、2,4
−ジメチル−6−エチルオクタメチレンジイソシアネー
ト、シクロヘキシレンジイソシアネート、シクロペンチ
レンジイソシアネート、1,4−ジイソシアネートメチ
ルシクロヘキサン、1,3−ジイソシアネートエチルシ
クロヘキサン、イソホロンジイソシアネート、2,4−
トリレンジイソシアネート、2,6−トリレンジイソシ
アネート、4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネー
ト、ジアニシジンジイソシアネート、トリレンジイソシ
アネート、メタキシリレンジイソシアネート、1,5−
ナフタレンジイソシアネート、トランスビニレンジイソ
シアネート、2,6−ジイソシアネートメチルカプロエ
ート、水素化トリレンジイソシアネート、水素化キシリ
レンジイソシアネート、トリレンジイソシアネートの二
量体、トリレンジイソシアネートの三量体等の1種)
と、分子中にヒドロキシル基とアクリロイル基を有する
化合物(例えば、2−ヒドロキシエチルアクリレート、
2−ヒドロキシエチルメタクリレート、n−ヒドロキシ
エチルメタクリレート、イソ−ヒドロキシエチルメタク
リレート、2−ヒドロキシブチルメタクリレート、4−
ヒドロキシブチルメタクリレート、トリメチロールエタ
ンジアクリレート、トリメチロールプロパンジメタクリ
レート、ペンタエリスリットトリアクリレート、ペンタ
エリスリットトリメタクリレート、ジエチレングリコー
ルモノアクリレート、トリエチレングリコールモノメタ
クリレート、ヘキサエチレングリコールモノメタクリレ
ート及び他のオキシエチレン単位約20までのポリエチ
レングリコールモノメタクリレート、同様に、約1〜1
5のオキシアルキレン単位を有するアルキレンオキシ
ド、特にエチレンオキシドと、例えばトリメチロールプ
ロパンジメタクリレート、ペンタエリスリットトリアク
リレート及びトリメチロールエタンジメタクリレレート
との公知の反応生成物(ドイツ特許公報第126754
7号明細書参照)等の1種)とを付加反応させることに
より得ることができる。また、これらの例えば、ポリア
ルキルジオールと2個のイソシアナート基を含有する化
合物及び分子中にヒドロキシル基とアクリロイル基を有
する化合物の反応に際して用いるそれぞれの化合物は単
独でまたは2種以上組み合わせて用いることができる。
市販品としては、例えばUF−7003、UF−800
3、U2−02(いずれも共栄社化学株式会社製、商品
名)等がある。一般式(1)で示される化合物は、単独
で又は2種以上組み合わせて用いられる。
チル基を表し、p及びqはp+qが4〜30となるよう
に選ばれる正の整数である〕で表される重合性化合物を
含有させることが好ましい。
ては、2,2′−ビス(4−メタクリロキシペンタエト
キシフェニル)プロパン、2,2′−ビス(4−アクロ
キシペンタエトキシフェニル)プロパン、2,2′−ビ
ス(4−メタクリロキシテトラエトキシフェニル)プロ
パン等があり、市販品としては、例えばNKエステルB
PE−500(新中村化学工業株式会社製、商品名)が
ある。
独で又は2種以上を組み合わせて用いてもよい。p+q
が4未満の場合は可撓性が低下し、30を超える場合は
系の親水性が増して現像時の密着性が低下する。(a)
成分としては一般式(1)で示される重合性化合物及び
一般式(2)で示される重合性化合物以外の重合性化合
物として、常圧で沸点が100℃以上であるものを含有
してもよい。このようなものとしては、例えば、アクリ
ル酸、メチルアクリレート、エチルアクリレート、n−
プロピルアクリレート、イソプロピルアクリレート、n
−ブチルアクリレート、イソブチルアクリレート、シク
ロヘキシルアクリレート、ベンジルアクリレート、カル
ビトールアクリレート、メトキシエチルアクリレート、
エトキシエチルアクリレート、ブトキシエチルアクリレ
ート、ヒドロキシエチルアクリレート、ヒドロキシプロ
ピルアクリレート、ブチレングリコールモノアクリレー
ト、N,N−ジメチルアミノエチルアクリレート、N,
N−ジエチルアミノエチルアクリレート、グリシジルア
クリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、ペ
ンタエリスリトールモノアクリレート、トリメチロール
プロパンモノアクリレート、アリルアクリレート、1,
3−プロピレングリコールジアクリレート、1,4−ブ
チレングリコールジアクリレート、1,6−ヘキシレン
グリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジ
アクリレート、ジプロピレングリコールジアクリレー
ト、2,2−ビス(4−アクリロキシジエトキシフェニ
ル)プロパン、2,2−ビス(4−アクリロキシプロピ
ルキシフェニル)プロパン、トリメチロールプロパンジ
アクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、
トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリ
スリトールトリアクリレート、トリアクリルホルマー
ル、テトラメチロールメタンテトラアクリレート、トリ
ス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌル酸のアクリル
酸エステル、
酸、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、プ
ロピルメタクリレート、イソプロピルメタクリレート、
ブチルメタクリレート、イソブチルメタクリレート、シ
クロヘキシルメタクリレート、ベンジルメタクリレー
ト、オクチルメタクリレート、エチルヘキシルメタクリ
レート、メトキシエチルメタクリレート、エトキシエチ
ルメタクリレート、ブトキシエチルメタクリレート、ヒ
ドロキシエチルメタクリレート、ヒドロキシプロピルメ
タクリレート、ヒドロキシブチルメタクリレート、ヒド
ロキシペンチルメタクリレート、N,N−ジメチルアミ
ノメタクリレート、N,N−ジエチルアミノメタクリレ
ート、グリシジルメタクリレート、テトラヒドロフルフ
リルメタクリレート、メタクリロキシプロピルトリメト
キシシラン、アリルメタクリレート、トリメチロールプ
ロパンモノメタクリレート、ペンタエリスリトールモノ
メタクリレート、1,3−ブチレングリコールジメタク
リレート、1,6−ヘキシレングリコールジメタクリレ
ート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、2,
2−ビス(4−メタクリロキシジエトキシフェニル)プ
ロパン、トリメチロールプロパントリメタクリレート、
ペンタエリスリトールトリメタクリレート、テトラメチ
ロールメタンテトラメタクリレート、トリス(2−ヒド
ロキシエチル)イソシアヌル酸のメタクリル酸エステ
ル、
ヘキサメチレンジイソシアナート/2−ヒドロキシエチ
ルアクリレート(1/2モル比)反応物、イソシアナー
トエチルメタアクリレート/水(2/1モル比)反応
物、クロトン酸ブチル、グリセリンモノクロネート、ビ
ニルブチレート、ビニルトリメチルアセテート、ビニル
カプロエート、ビニルクロルアセテート、ビニルラクテ
ート、安息香酸ビニル、ジビニルサクシネート、ジビニ
ルフタレート、メタクリルアミド、N−メチルメタクリ
ルアミド、N−エチルメタクリルアミド、N−アリール
メタクリルアミド、N−ヒドロキシエチル−N−メチル
メタクリルアミド、アクリルアミド、N−t−ブチルア
クリルアミド、N−メチロールアクリルアミド、N−イ
ソブトキシメチルアクリルアミド、N−ブトキシメチル
アクリルアミド、ダイアセトンアクリルアミド、ヘキシ
ルビニルエーテル、エチルヘキシルビニルエーテル、ビ
ニルトリエーテル、多価アルコールのポリビニルエーテ
ル、オルト又はパラ位にアルキル基、アルコキシ基、ハ
ロゲン、カルボキシル基、アリル基等の置換基を持った
スチレン誘導体、ジビニルベンゼン、アリルオキシエタ
ノール、ジカルボン酸のジアリルエステル、N−ビニル
オキサゾリドン、N−ビニルイミダゾール、N−ビニル
ピロリドン、N−ビニルカルバゾールなどを用いること
ができる。
むエチレン性不飽和基含有重合性化合物の配合量は、
(a)及び(b)成分の合計量の10〜70重量%とす
ることが好ましい。10重量%未満ではカバーレイとし
ての可撓性が劣る傾向があり、70重量%を超えると、
はんだ耐熱性が低下する傾向がある。一般式(1)で示
される重合性化合物の配合量は、可撓性の点から(a)
成分の25重量%以上とすることが好ましい。一般式
(2)で示される重合性化合物の配合量は、可撓性、は
んだ耐熱性等の点から、一般式(1)で示される重合性
化合物を必要量配合した上で(a)成分の5〜60重量
%とすることが好ましい。
(b)としてカルボキシル基を有する熱可塑性重合体を
含有する。このような熱可塑性重合体は、重量平均分子
量で20,000〜300,000であり、カルボキシ
ル基含有率が15〜50モル%のものが好ましく、2種
以上を併用してもよい。また、この熱可塑性重合体は、
アルカリ水溶液に可溶または膨潤可能であることが好ま
しいが、感光性樹脂組成物としてアルカリ水溶液に可溶
であればよい。
しては、ビニル共重合体が好ましく、ビニル共重合体に
用いられる共重合性単量体としては、アクリル酸、メタ
クリル酸等とメタクリル酸メチル、メタクリル酸ブチ
ル、メタクリル酸2−エチルヘキシル、メタクリル酸ラ
ウリル、アクリル酸エチル、アクリル酸メチル、スチレ
ン、α−メチルスチレン、ビニルトルエン、N−ビニル
ピロリドン、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、2
−ヒドロキシエチルアクリレート、アクリルアミド、ア
クリロニトリル、メタクリロニトリル、ジメチルアミノ
エチルメタクリレート、ジメチルアミノエチルアクリレ
ート等が用いられる。また、スチレン/マレイン酸共重
合体のハーフエステル等も用いられる。
成分の合計量の30〜70重量%が好ましい。30重量
%未満ではアルカリ現像性の低下や、感光性フィルムと
した場合、感光性樹脂組成物の層が柔らかくなりフィル
ム端面からのしみ出しなどの問題がある。また、70重
量%を超えると感度の低下やはんだ耐熱性の低下が起こ
る。
(c)として活性光により遊離ラジカルを生成する光重
合開始剤を含有する。使用しうる光重合開始剤として
は、例えば、2−エチルアントラキノン、2−t−ブチ
ルアントラキノン、オクタメチルアントラキノン、1,
2−ベンズアントラキノン、2,3−ジフェニルアント
ラキノン等の置換又は非置換の多核キノン類、ベンゾイ
ン、ピバロン等のα−ケタルドニルアルコール類及びエ
ーテル類、α−フェニル−ベンゾイン、α,α−ジエト
キシアセトフェノン等のα−炭化水素置換芳香族アシロ
イン類、ベンゾフェノン、4,4′−ビスジアルキルア
ミノベンゾフェノン等の芳香族ケトン類、2−メチルチ
オキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン、2−
クロルチオキサントン、2−イソプロピルチオキサント
ン、2−エチルチオキサントン等のチオキサントン類、
2−メチル−1−〔4−(メチルチオ)フェニル〕−2
−モノホリノ−プロパノン−1が挙げられ、これらは単
独で又は2種以上を組み合わせて用いられる。
(a)及び(b)成分の合計量の0.01〜20重量%
とすることが好ましい。
樹脂等の熱硬化成分、染料、顔料、可塑剤、安定剤など
を必要に応じで添加してもよい。
体フィルム上に塗布、乾燥し、感光性フィルムとして使
用することもできる。支持体としては、重合体フィル
ム、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリプロピ
レン、ポリエチレン等からなるフィルムが用いられ、ポ
リエチレンテレフタレートフィルムが好ましい。これら
に重合体フィルムは、後に感光層から除去可能でなくて
はならないため、除去不可能となるような表面処理が施
されたものであったり、材質であってはならない。これ
らの重合体フィルムの厚さは、通常5〜100μm、好
ましくは10〜30μmである。これらの重合体フィル
ムの一つは感光層の支持フィルムとして、他の一つは感
光層の保護フィルムとして感光層の両面に積層してもよ
い。
ず、(a)〜(d)成分を含む感光性樹脂組成物を溶剤
に均一に溶解する。溶剤は、感光性樹脂組成物を溶解す
る溶剤であればよく、例えば、アセトン、メチルエチル
ケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン系溶剤、メ
チルソロソルブ、エチルセロソルブ等のエーテル系溶
剤、ジクロルメタン、クロロホルム等の塩素化炭化水素
系溶剤、メチルアルコール、エチルアルコール等のアル
コール系溶剤などが用いられる。これらの溶剤は単独で
又は2種以上を組み合わせて用いられる。
支持フィルム層としての重合体フィルム上に均一に塗布
した後、加熱及び/又は熱風吹き付けにより溶剤を除去
し、乾燥皮膜とする。乾燥皮膜の厚さには特に制限はな
く、通常、10〜100μm、好ましくは20〜60μ
mとされる。
ィルムとの2層からなる本発明の感光性フィルムは、そ
のまま又は感光層の他の面に保護フィルムを更に積層し
てロール状に巻き取って貯蔵される。
ジスト画像を製造するに際しては、前記保護フィルムが
存在している場合には、保護フィルムを除去後、感光層
を加熱しながら基板に圧着させることにより積層する。
より好ましくは減圧下で積層する.積層される表面は、
通常、エッチング等により配線の形成されるFPCであ
るが、特に制限はない。感光層の加熱、圧着は通常90
〜130℃、圧着圧力2.94×105Pa(3kgf/c
m2)で4000Pa(30mmHg)以下の減圧下で行われ
るが、これらの条件には特に制限はない。本発明の感光
性フィルムを用いる場合には、感光層を前記のように加
熱すれば、予め基板を予熱処理することは必要でない。
積層性を更に向上させるために、基板の予熱処理を行う
こともできる。
ついでネガフィルム又はポジフィルムを用いて活性光に
画像的に露光される。この際感光層上に存在する重合体
フィルムが透明の場合には、そのまま露光してもよく、
また不透明の場合には、当然除去する必要がある。感光
層の保護という点からは、重合体フィルムは透明で、こ
の重合体フィルムを残存させたまま、それを通して露光
することが好ましい。活性光は公知の活性光源、例えば
カーボンアーク、水銀蒸気アーク、キセノンアーク、そ
の他から発生する光が用いられる。感光層に含まれる光
開始剤の感受性は、通常紫外線領域において最大である
ので、その場合は活性光源は紫外線を有効に放射するも
のにすべきである。
が存在している場合には、これを除去した後、アルカリ
水溶液を用いて、例えばスプレー、揺動浸漬、ブラッシ
ング、スクラッピング等の公知方法により未露光部を除
去して現像する。アルカリ性水溶液の塩基としては、リ
チウム、ナトリウムあるいはカリウムの水酸化物等の水
酸化アルカリ、リチウム、ナトリウムあるいはカリウム
の炭酸塩又は重炭酸塩等の炭酸アルカリ、リン酸カリウ
ム、リン酸ナトリウム等のアルカリ金属リン酸塩、ピロ
リン酸ナトリウム、ピロリン酸カリウム等のアルカリ金
属ピロリン酸塩などが用いられ、特に炭酸ナトリウムの
水溶液が好ましい。現像に用いるアルカリ水溶液のpH
は好ましくは9〜11の間であり、またその温度は感光
層の現像性に合わせて調整される。該アルカリ水溶液中
には、表面活性剤、消泡剤、現像を促進させるための少
量の有機溶剤などを混入させてもよい。
はんだ耐熱性、耐薬品性等を向上させる目的で、高圧水
銀ランプによる紫外線照射や加熱を行う。紫外線の照射
量は0.2〜10J/cm2程度が一般に用いられ、この照
射の際60〜150℃の熱を伴うことがより好ましい。
加熱は100〜170℃程度の範囲で15〜90分ほど
行われる。これら紫外線の照射と加熱の順はどちらが先
でもよい。このようにしてカバーレイの特性を付与され
た後、LSI等の部品の実装(はんだ付け)、カメラ等
の機器への装着がなされる。
する。下記例中の「%」は特に断わらない限り「重量
%」を意味する。
A)を、図1に示す装置を用いて25μmの厚さのポリ
エチレンテレフタレートフィルム上に均一に塗布して、
100℃の熱風循環式乾燥機7で約5分間乾燥して溶剤
を除去した。図1において、1はポリエチレンテレフタ
レートフィルム繰り出しロール、2、3、4、9及び1
0はロール、5はナイフ、6は感光性樹脂組成物の溶
液、8はポリエチレンフィルム繰り出しロール、11は
感光性フィルム巻き取りロールである。感光層の乾燥後
の厚さは約50μmであった。
を用いてポリエチレンフィルムを保護フィルムとして貼
り合わせ、本発明の感光性フィルムを得た。
積層したFPC用基板(ニッカン工業株式会社製、商品
名F30VC125RC11)の銅表面を砥粒ブラシで
研磨、水洗し乾燥した。この基板(23℃)に真空ラミ
ネータ(日立化成工業株式会社製、商品名VLM−1
型)を用いて、ヒートシュー温度110℃、気圧400
0Pa(30mmHg)以下、積層圧力2.94×105P
a(3kgf/cm2)で前記感光性フィルムを積層した。
1段ステップタブレットと150μm/150μmのラ
イン/スペースになった直線状のラインのネガフィルム
を使用して、株式会社オーク製作所製HMW−201B
型露光機で、200mJ/cm2露光した常温で30分間放置
した後、1%炭酸ナトリウム水溶液を用いて30℃で1
00秒間スプレー現像した。ここで残存ステップタブレ
ットの段数を示した。次いで、150℃で45分間の加
熱処理を行った。更に東芝電材株式会社製東芝紫外線照
射装置(定格電圧200V、定格消費電力7.2kW、
H5600L/2xランプ1本)を使用し、3J/cm2の
紫外線照射を行いネガフィルムに相当するカバーレイを
得た。
り曲げを行ったが、カバーレイにクラック等の異常は全
くなかった。次いで、ロジン系クラックMH−820V
(タムラ化研株式会社製、商品名)を用いて260℃で
10秒間はんだ付け処理し、はんだ耐熱性を観察した
が、ふくれ等の異常はなかった。さらに、ここで可撓性
評価のため180°の折り曲げを行ったが、カバーレイ
にクラック等の異常はなかった。以上の評価結果を表3
に示す。
え、その他の化合物を実施例1と同様に配合し、但し共
重合体と重合性化合物の量を合計で100になるように
共重合体量も調整しフィルム化した。また、実施例1と
同様にカバーレイとして加工し評価した。その結果を表
3にまとめて示す。
意味する。 ・UF−7003(共栄社化学株式会社製、商品名、重
量平均分子量13,000、一般式(1)において、R
1、R7は水素原子、R2はエチレン基、R3、R5はイソ
ホロン基、R4はテトラメチレン基とヘキサメチレン基
のモル比6/4の混合体、w、zが1、xが8、yが1
2の化合物、80%メチルエチルケトン溶液) ・A−TMPT(新中村化学工業株式会社製、商品名、
トリメチロールプロパントリアクリレート) ・TMCH(2,2,4−トリメチルヘキサメチレン−
1,6−ジイソシアナートと2−ヒドロキシエチルアク
リレートのモル比1:2付加物)
樹脂組成物を用いた場合には、はんだ耐熱性、折り曲げ
性(可撓性)ともに良好なカバーレイを得られることを
示す。
いた感光性フィルムによれば、はんだ耐熱性、折り曲げ
性(可撓性)に優れたFPC用のカバーレイを得ること
ができ、これによりこれまで手作業や接着剤のはみ出し
による低歩留まり、低生産性であったカバーレイの加工
が容易で高歩留まり、高生産性を達成でき且つ高密度化
に対応できる。
式図である。
ール 2、3、4、9、10:ロール 5 :ナイフ 6 :感光性樹脂組成物の溶液 7 :乾燥機 8 :ポリエチレンフィルム繰り出しロール 11:感光性フィルム巻き取りロール
Claims (3)
- 【請求項1】 (a)一般式(1) 【化1】 〔式中、Aは炭素数2〜12のアルキレン基、ビニレン
基、 【化2】 (ここで、R5はメチレン基又はイミノ基を表す)又は
イソホロン基を表し、R1は炭素数1〜3のアルキル
基、R6又はCH2R6を表し、R2及びR3はそれぞれ独
立してH、CH3又はCH2R6を表し、R6はO−CO−
CR7=CH2を表し、R7はH又はCH3を表し、w及び
zは、それぞれ独立して0〜20の整数であり、R6は
R1、R2及びR3の少なくとも1つに含まれ、R4は炭素
数が2〜8のアルキレン基を表し、xは2〜200の整
数であり、yは1〜100の整数である〕で示される重
合性化合物を含むエチレン性不飽和基含有重合性化合
物、(b)カルボキシル基を有する熱可塑性重合体及び
(c)活性光により遊離ラジカルを生成する光重合開始
剤を含有してなるアルカリ水溶液で現像可能な感光性樹
脂組成物。 - 【請求項2】 (a)エチレン性不飽和基含有重合性化
合物が、更に一般式(2) 【化3】 〔式中、R8及びR9はそれぞれ独立して水素原子又はメ
チル基を表し、p及びqはp+qが4〜30となるよう
に選ばれる正の整数である〕で示される重合性化合物を
含む請求項1記載のアルカリ水溶液で現像可能な感光性
樹脂組成物。 - 【請求項3】 支持体フィルム上に請求項1又は2記載
の感光性樹脂組成物を塗布、乾燥してなる感光性フィル
ム。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP04564294A JP3380616B2 (ja) | 1994-03-16 | 1994-03-16 | カバーレイ形成用感光性樹脂組成物、感光性フィルム、カバーレイの製造方法及びカバーレイ |
| EP95301656A EP0674225A1 (en) | 1994-03-16 | 1995-03-14 | Photosensitive resin composition and photosensitive film |
| KR1019950005384A KR950027483A (ko) | 1994-03-16 | 1995-03-15 | 감광성 수지 조성물 및 감광성 필름 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP04564294A JP3380616B2 (ja) | 1994-03-16 | 1994-03-16 | カバーレイ形成用感光性樹脂組成物、感光性フィルム、カバーレイの製造方法及びカバーレイ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07253666A true JPH07253666A (ja) | 1995-10-03 |
| JP3380616B2 JP3380616B2 (ja) | 2003-02-24 |
Family
ID=12725031
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP04564294A Expired - Lifetime JP3380616B2 (ja) | 1994-03-16 | 1994-03-16 | カバーレイ形成用感光性樹脂組成物、感光性フィルム、カバーレイの製造方法及びカバーレイ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3380616B2 (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20140097355A (ko) | 2011-12-05 | 2014-08-06 | 히타치가세이가부시끼가이샤 | 터치패널용 전극의 보호막 및 터치패널 |
| KR20140097352A (ko) | 2011-12-05 | 2014-08-06 | 히타치가세이가부시끼가이샤 | 터치패널용 전극의 보호막의 형성 방법, 감광성 수지 조성물 및 감광성 엘리먼트, 및, 터치패널의 제조 방법 |
| US9348223B2 (en) | 2011-12-05 | 2016-05-24 | Hitachi Chemical Company, Ltd. | Method for forming resin cured film pattern, photosensitive resin composition, photosensitive element, method for producing touch panel, and resin cured film |
| KR20160065980A (ko) | 2011-12-05 | 2016-06-09 | 히타치가세이가부시끼가이샤 | 터치패널용 전극의 보호막의 형성 방법, 감광성 수지 조성물, 감광성 엘리먼트, 터치패널의 제조 방법 및 터치패널용 전극의 보호막 |
| KR20190133008A (ko) | 2017-03-31 | 2019-11-29 | 히타치가세이가부시끼가이샤 | 감광성 엘리먼트 |
| KR20190133009A (ko) | 2017-03-31 | 2019-11-29 | 히타치가세이가부시끼가이샤 | 감광성 엘리먼트 및 감광성 엘리먼트 롤 |
-
1994
- 1994-03-16 JP JP04564294A patent/JP3380616B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9964849B2 (en) | 2011-12-05 | 2018-05-08 | Hitachi Chemical Company, Ltd. | Method for forming resin cured film pattern, photosensitive resin composition, photosensitive element, method for producing touch panel, and resin cured film |
| KR20180089549A (ko) | 2011-12-05 | 2018-08-08 | 히타치가세이가부시끼가이샤 | 터치패널용 전극의 보호막의 형성 방법, 감광성 수지 조성물 및 감광성 엘리먼트, 및, 터치패널의 제조 방법 |
| US9348223B2 (en) | 2011-12-05 | 2016-05-24 | Hitachi Chemical Company, Ltd. | Method for forming resin cured film pattern, photosensitive resin composition, photosensitive element, method for producing touch panel, and resin cured film |
| KR20160065980A (ko) | 2011-12-05 | 2016-06-09 | 히타치가세이가부시끼가이샤 | 터치패널용 전극의 보호막의 형성 방법, 감광성 수지 조성물, 감광성 엘리먼트, 터치패널의 제조 방법 및 터치패널용 전극의 보호막 |
| US9488912B2 (en) | 2011-12-05 | 2016-11-08 | Hitachi Chemical Company, Ltd. | Method of forming protective film for touch panel electrode, photosensitive resin composition and photosensitive element, and method of manufacturing touch panel |
| KR20170021909A (ko) | 2011-12-05 | 2017-02-28 | 히타치가세이가부시끼가이샤 | 터치패널용 전극의 보호막의 형성 방법, 감광성 수지 조성물 및 감광성 엘리먼트, 및, 터치패널의 제조 방법 |
| KR20140097352A (ko) | 2011-12-05 | 2014-08-06 | 히타치가세이가부시끼가이샤 | 터치패널용 전극의 보호막의 형성 방법, 감광성 수지 조성물 및 감광성 엘리먼트, 및, 터치패널의 제조 방법 |
| KR20180077336A (ko) | 2011-12-05 | 2018-07-06 | 히타치가세이가부시끼가이샤 | 수지 경화막 패턴의 형성 방법, 감광성 수지 조성물, 감광성 엘리먼트, 터치패널의 제조 방법 및 수지 경화막 |
| KR20140097355A (ko) | 2011-12-05 | 2014-08-06 | 히타치가세이가부시끼가이샤 | 터치패널용 전극의 보호막 및 터치패널 |
| US10042254B2 (en) | 2011-12-05 | 2018-08-07 | Hitachi Chemical Company, Ltd. | Method of forming protective film for touch panel electrode photosensitive resin composition and photosensitive element, and method of manufacturing touch panel |
| KR20180063374A (ko) | 2011-12-05 | 2018-06-11 | 히타치가세이가부시끼가이샤 | 터치패널용 전극의 보호막의 형성 방법, 감광성 수지 조성물 및 감광성 엘리먼트, 및, 터치패널의 제조 방법 |
| US10386719B2 (en) | 2011-12-05 | 2019-08-20 | Hitachi Chemical Company, Ltd. | Method for forming resin cured film pattern, photosensitive resin composition, photosensitive element, method for producing touch panel, and resin cured film |
| US10663861B2 (en) | 2011-12-05 | 2020-05-26 | Hitachi Chemical Company, Ltd. | Method for forming resin cured film pattern, photosensitive resin composition, photosensitive element, method for producing touch panel, and resin cured film |
| KR20190133009A (ko) | 2017-03-31 | 2019-11-29 | 히타치가세이가부시끼가이샤 | 감광성 엘리먼트 및 감광성 엘리먼트 롤 |
| KR20190133008A (ko) | 2017-03-31 | 2019-11-29 | 히타치가세이가부시끼가이샤 | 감광성 엘리먼트 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3380616B2 (ja) | 2003-02-24 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP2278396A1 (en) | Photosensitive resin composition, photosensitive element, method for forming resist pattern, and method for manufacturing printed wiring board | |
| KR101514900B1 (ko) | 감광성 수지 조성물, 및 이를 이용한 감광성 엘리먼트, 레지스트 패턴의 형성 방법 및 프린트 배선판의 제조 방법 | |
| JP7769468B2 (ja) | 感光性樹脂組成物、感光性樹脂組成物を用いた転写フィルム | |
| JP2019133143A (ja) | 感光性樹脂積層体及びレジストパターンの製造方法 | |
| JP3765272B2 (ja) | 感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法 | |
| WO2001071428A1 (en) | Photosensitive resin composition, photosensitive element comprising the same, method for producing resist pattern, and method for producing printed wiring board | |
| JP2010282001A (ja) | 感光性樹脂組成物及びそれを用いた感光性エレメント | |
| US8007983B2 (en) | Photosensitive resin composition, photosensitive element using same, method for forming resist pattern, and method for producing printed wiring board | |
| CN108375874B (zh) | 感光性树脂组合物、感光性树脂层叠体、形成有抗蚀图案的基板和电路基板的制造方法 | |
| US8101339B2 (en) | Photosensitive resin composition, photosensitive element comprising the same, method of forming resist pattern, and process for producing printed wiring board | |
| JP3380616B2 (ja) | カバーレイ形成用感光性樹脂組成物、感光性フィルム、カバーレイの製造方法及びカバーレイ | |
| KR101002832B1 (ko) | 감광성 수지 조성물 및 이것을 이용한 감광성 엘리먼트 | |
| EP0674225A1 (en) | Photosensitive resin composition and photosensitive film | |
| JP7216506B2 (ja) | めっきレジスト用感光性樹脂組成物、ドライフィルムおよびプリント配線板の製造方法 | |
| JP4488875B2 (ja) | 感光性樹脂組成物および感光性樹脂組成物層含有積層体 | |
| JPH07253665A (ja) | 感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性フィルム | |
| EP2063318A1 (en) | Photosensitive resin composition, photosensitive element, method for forming resist pattern, and method for producing printed wiring board | |
| JP3375194B2 (ja) | 感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性フィルム | |
| JP2004184547A (ja) | 感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法 | |
| JP2010282002A (ja) | 感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性フィルム | |
| WO2003077035A1 (en) | Photosensitive resin composition and use thereof | |
| JPH09265188A (ja) | 感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性エレメント | |
| JPH08292569A (ja) | 感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性フィルム | |
| JP2005258460A (ja) | 感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法 | |
| JPH06332171A (ja) | 感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性フィルム |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 5 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20071213 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081213 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091213 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101213 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 8 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101213 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 9 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111213 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111213 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121213 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121213 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131213 Year of fee payment: 11 |
|
| S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
| S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 11 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131213 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |