JPH07254125A - 磁気記録媒体及びその製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体及びその製造方法Info
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- JPH07254125A JPH07254125A JP6044271A JP4427194A JPH07254125A JP H07254125 A JPH07254125 A JP H07254125A JP 6044271 A JP6044271 A JP 6044271A JP 4427194 A JP4427194 A JP 4427194A JP H07254125 A JPH07254125 A JP H07254125A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic recording
- recording medium
- film
- magnetic
- hard carbon
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- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 磁気記録再生機器に使用される磁気記録媒体
において、強磁性金属薄膜を磁性層とする磁気記録媒体
の信頼性と電磁変換特性のアンバランスを解決し、ＣＳ
Ｓ特性と高出力化を著しく改善したものを提供する。 【構成】 非磁性基板上にフィルム、強磁性金属薄膜、
硬質炭素膜、潤滑剤層を積層して磁気記録媒体を構成す
ることで、ヘッドからの応力を高分子フィルムが吸収し
てダメージが入りにくくなって、ダイヤモンド状硬質炭
素膜を薄くしても耐久性の確保が可能になり、高出力化
と重要なＣＳＳ耐久性を高水準でバランスさせた磁気記
録媒体を実現する。
において、強磁性金属薄膜を磁性層とする磁気記録媒体
の信頼性と電磁変換特性のアンバランスを解決し、ＣＳ
Ｓ特性と高出力化を著しく改善したものを提供する。 【構成】 非磁性基板上にフィルム、強磁性金属薄膜、
硬質炭素膜、潤滑剤層を積層して磁気記録媒体を構成す
ることで、ヘッドからの応力を高分子フィルムが吸収し
てダメージが入りにくくなって、ダイヤモンド状硬質炭
素膜を薄くしても耐久性の確保が可能になり、高出力化
と重要なＣＳＳ耐久性を高水準でバランスさせた磁気記
録媒体を実現する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は高密度磁気記録に適する
強磁性金属薄膜を磁性層とする磁気記録媒体に関するも
のである。
強磁性金属薄膜を磁性層とする磁気記録媒体に関するも
のである。
【０００２】
【従来の技術】情報化社会の進展に伴い、記録すべき情
報量の増大は著しく、磁気記録についても可能な限り記
録密度を高める対応が要請され、短波長化、狭トラック
化に耐える高性能磁気記録媒体の開発が続けられ、磁気
ディスクでは１０年でほぼ２０倍の高密度化が図られて
いる。
報量の増大は著しく、磁気記録についても可能な限り記
録密度を高める対応が要請され、短波長化、狭トラック
化に耐える高性能磁気記録媒体の開発が続けられ、磁気
ディスクでは１０年でほぼ２０倍の高密度化が図られて
いる。
【０００３】特に最先端では、スパッタ磁性薄膜を大き
な保磁力で構成し、そのうえに硬質炭素膜、潤滑層を配
した磁気記録媒体が開発されている。以下に従来の磁気
記録媒体について説明する。
な保磁力で構成し、そのうえに硬質炭素膜、潤滑層を配
した磁気記録媒体が開発されている。以下に従来の磁気
記録媒体について説明する。
【０００４】図３は従来の磁気記録媒体の拡大断面を示
すものである。図３において、１はＡｌ−Ｍｇ合金をポ
リッシュしたものか、さらにアルマイトの被膜、Ｎｉ−
Ｐの被膜を配した非磁性基板で、２はＮｉ−Ｃｏ，Ｃｏ
−Ｃｒ−Ｔａなどの強磁性金属薄膜で、３はスパッタ炭
素膜や酸化ジルコニューム膜等の保護膜で、４はパーフ
ルオロポリエーテル等の潤滑剤である。
すものである。図３において、１はＡｌ−Ｍｇ合金をポ
リッシュしたものか、さらにアルマイトの被膜、Ｎｉ−
Ｐの被膜を配した非磁性基板で、２はＮｉ−Ｃｏ，Ｃｏ
−Ｃｒ−Ｔａなどの強磁性金属薄膜で、３はスパッタ炭
素膜や酸化ジルコニューム膜等の保護膜で、４はパーフ
ルオロポリエーテル等の潤滑剤である。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記従来
の構成では、高湿環境等でのＣＳＳ特性が十分なもの
は、保護膜が厚くなり、記録性能が高密度域で損なわれ
るといった問題点を有していた。
の構成では、高湿環境等でのＣＳＳ特性が十分なもの
は、保護膜が厚くなり、記録性能が高密度域で損なわれ
るといった問題点を有していた。
【０００６】本発明は上記従来の問題点を解決するもの
で、狭トラック高密度記録を可能にする、耐久性と高出
力特性を兼ね備えた磁気記録媒体を提供することを目的
とする。
で、狭トラック高密度記録を可能にする、耐久性と高出
力特性を兼ね備えた磁気記録媒体を提供することを目的
とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
に本発明の磁気記録媒体は、非磁性基板上にフィルム、
強磁性金属薄膜、硬質炭素膜、潤滑剤層を積層してなる
ものである。
に本発明の磁気記録媒体は、非磁性基板上にフィルム、
強磁性金属薄膜、硬質炭素膜、潤滑剤層を積層してなる
ものである。
【０００８】
【作用】この構成によって、磁気ヘッドから受ける、い
わゆるヘッドクラッシュでの応力が高分子フィルムで緩
和され、保護膜である硬質炭素膜を薄くしても耐久性の
確保が可能になり、Ｓ／Ｎと耐久性を高水準でバランス
させた磁気記録媒体を実現できることになる。
わゆるヘッドクラッシュでの応力が高分子フィルムで緩
和され、保護膜である硬質炭素膜を薄くしても耐久性の
確保が可能になり、Ｓ／Ｎと耐久性を高水準でバランス
させた磁気記録媒体を実現できることになる。
【０００９】
（実施例１）以下本発明の一実施例について、図面を参
照しながら説明する。
照しながら説明する。
【００１０】図１において、５は非磁性基板でアルミ合
金等で表面研磨は必要であるがテクスチャー加工等の必
要もないし、アルマイト処理なども必要ない。６はポリ
エステルフィルム、ポリサルフォンフィルムなどのフィ
ルムで、特に超微粒子を樹脂で分散固定した微粒子塗布
層を配したものや、２層押し出しによる複合構成のもの
などでもよく、厚みは１〜１０μｍの範囲で、表面粗さ
や機械強度は適宜最適化検討によって得られる値で構成
すればよい。７はＣｏ基合金からなる強磁性金属薄膜
で、強化容易軸の方向、構成層数、形成方法等について
は特に限定はないが構造が柱状微粒子の集合体で、それ
ぞれの柱状微粒子間の磁気分離が良好なものが好まし
い。製造方法も限定されるものではないが、フィルムに
巻き取り電子ビーム蒸着で製造したものが望ましい。
金等で表面研磨は必要であるがテクスチャー加工等の必
要もないし、アルマイト処理なども必要ない。６はポリ
エステルフィルム、ポリサルフォンフィルムなどのフィ
ルムで、特に超微粒子を樹脂で分散固定した微粒子塗布
層を配したものや、２層押し出しによる複合構成のもの
などでもよく、厚みは１〜１０μｍの範囲で、表面粗さ
や機械強度は適宜最適化検討によって得られる値で構成
すればよい。７はＣｏ基合金からなる強磁性金属薄膜
で、強化容易軸の方向、構成層数、形成方法等について
は特に限定はないが構造が柱状微粒子の集合体で、それ
ぞれの柱状微粒子間の磁気分離が良好なものが好まし
い。製造方法も限定されるものではないが、フィルムに
巻き取り電子ビーム蒸着で製造したものが望ましい。
【００１１】８は硬質炭素膜であり、高々１００Å以下
で優れた耐久性をもつように形成できる方法、条件で作
製することが必要である。硬質炭素膜の形成はグラファ
イトをターゲットにしてのスパッタリング、メタンガス
等のプラズマＣＶＤが適している。９は潤滑層で天然の
もの、合成したものを問わず、湿式塗布、真空蒸着いず
れの方法で形成してもよい。１０は接着剤である。
で優れた耐久性をもつように形成できる方法、条件で作
製することが必要である。硬質炭素膜の形成はグラファ
イトをターゲットにしてのスパッタリング、メタンガス
等のプラズマＣＶＤが適している。９は潤滑層で天然の
もの、合成したものを問わず、湿式塗布、真空蒸着いず
れの方法で形成してもよい。１０は接着剤である。
【００１２】以下、さらに具体例と従来例を比較して本
実施例の効果について明確にする。厚み１．８μｍで、
長手方向、幅方向それぞれ５００，５６０［Kg／mm2］
のヤング率で、高さ１２０Åの隆起を８〜１０［個／μ
2］持ったポリエチレンアフタレートフィルムを用い、
直径５０cmの回転キャン（温度１５０〜２８０℃）に沿
わせて移動し、その際酸素原子を最小入射角（３７度）
部分より照射しながら、Ｃｏを入射角６４度から３７度
で電子ビーム蒸着し、厚み０．２μｍの垂直磁化膜を形
成し、その上にメタンガスとアルゴンガスを用い１０Ｋ
Ｈｚの高周波プラズマＣＶＤ法でダイヤモンド状硬質炭
素膜を８ｎｍ配し、さらにその上にパーフルオロアラキ
ン酸を４ｎｍ塗布し、５インチ径の円盤に加工しエポキ
シ系の接着剤でポリッシュした２mm厚のアルミ合金基板
に接着し、磁気ディスクに仕上げた。
実施例の効果について明確にする。厚み１．８μｍで、
長手方向、幅方向それぞれ５００，５６０［Kg／mm2］
のヤング率で、高さ１２０Åの隆起を８〜１０［個／μ
2］持ったポリエチレンアフタレートフィルムを用い、
直径５０cmの回転キャン（温度１５０〜２８０℃）に沿
わせて移動し、その際酸素原子を最小入射角（３７度）
部分より照射しながら、Ｃｏを入射角６４度から３７度
で電子ビーム蒸着し、厚み０．２μｍの垂直磁化膜を形
成し、その上にメタンガスとアルゴンガスを用い１０Ｋ
Ｈｚの高周波プラズマＣＶＤ法でダイヤモンド状硬質炭
素膜を８ｎｍ配し、さらにその上にパーフルオロアラキ
ン酸を４ｎｍ塗布し、５インチ径の円盤に加工しエポキ
シ系の接着剤でポリッシュした２mm厚のアルミ合金基板
に接着し、磁気ディスクに仕上げた。
【００１３】比較例はポリッシュしたアルミ合金板の表
面にアルマイト被膜処理しテクスチャー加工後、高周波
スパッタリング法でＣｒ下地を０．１５μｍ形成し、さ
らにその上に実施例と同じ磁気特性Ｃｏ−Ｏ垂直磁化膜
を高周波マグネトロンスパッタリング法で０．２２μｍ
形成し、グラファイトをターゲットにして、２５ｎｍ
（比較例Ａ）と１０ｎｍ（比較例Ｂ）の硬質炭素膜を配
し、パーフルオロポリエーテルを４ｎｍ塗布した磁気デ
ィスクを用いた。記録線密度は１００ＫＦＲＰＩ、トラ
ック密度は３ＫＴＰＩでＭｎ−Ｚｎフェライトヘッドで
比較した特性を（表１）にまとめて示している。
面にアルマイト被膜処理しテクスチャー加工後、高周波
スパッタリング法でＣｒ下地を０．１５μｍ形成し、さ
らにその上に実施例と同じ磁気特性Ｃｏ−Ｏ垂直磁化膜
を高周波マグネトロンスパッタリング法で０．２２μｍ
形成し、グラファイトをターゲットにして、２５ｎｍ
（比較例Ａ）と１０ｎｍ（比較例Ｂ）の硬質炭素膜を配
し、パーフルオロポリエーテルを４ｎｍ塗布した磁気デ
ィスクを用いた。記録線密度は１００ＫＦＲＰＩ、トラ
ック密度は３ＫＴＰＩでＭｎ−Ｚｎフェライトヘッドで
比較した特性を（表１）にまとめて示している。
【００１４】
【表１】
【００１５】この（表１）から明らかなように、本実施
例による磁気記録媒体は、狭トラック記録での高密度記
録で耐久性と高い出力を実現できるといった優れた効果
が得られる。
例による磁気記録媒体は、狭トラック記録での高密度記
録で耐久性と高い出力を実現できるといった優れた効果
が得られる。
【００１６】以上のように本実施例によれば、非磁性基
板上にフィルム、強磁性金属薄膜、硬質炭素膜、潤滑剤
層を積層して磁気記録媒体を構成することで、ヘッドか
らの応力を高分子フィルムが吸収してダメージが入りに
くくなって、ダイヤモンド状硬質炭素膜を薄くしても耐
久性の確保が可能になり、高出力化と重要なＣＳＳ耐久
性を高水準でバランスさせた磁気記録媒体を実現でき
る。
板上にフィルム、強磁性金属薄膜、硬質炭素膜、潤滑剤
層を積層して磁気記録媒体を構成することで、ヘッドか
らの応力を高分子フィルムが吸収してダメージが入りに
くくなって、ダイヤモンド状硬質炭素膜を薄くしても耐
久性の確保が可能になり、高出力化と重要なＣＳＳ耐久
性を高水準でバランスさせた磁気記録媒体を実現でき
る。
【００１７】（実施例２）以下本発明の第２の実施例に
ついて図面を参照しながら説明する。
ついて図面を参照しながら説明する。
【００１８】図２は本発明の第２の実施例を示す磁気記
録媒体の拡大断面図である。図２において、図１と同じ
構成要素のものについては同一の番号を付して示してあ
る。１１は磁気ヘッド側から見た場合は突起部１２、反
対側から見たら微小凹部１３を有する強磁性金属薄膜
で、突起部１２は硬質炭素膜８、潤滑剤９を配しても強
磁性金属薄膜の持つ密度、個数ともに保たれるのはもち
ろんのことである。
録媒体の拡大断面図である。図２において、図１と同じ
構成要素のものについては同一の番号を付して示してあ
る。１１は磁気ヘッド側から見た場合は突起部１２、反
対側から見たら微小凹部１３を有する強磁性金属薄膜
で、突起部１２は硬質炭素膜８、潤滑剤９を配しても強
磁性金属薄膜の持つ密度、個数ともに保たれるのはもち
ろんのことである。
【００１９】本構成の磁気記録媒体を製造する方法は、
以下の如くである。厚み１０〜２０μｍの平滑（平均粗
さ：４ｎｍ）なポリエチレンテレフタレートフィルム等
にアラビアゴム等の水溶性高分子を接着剤として無機微
粒子、または有機微粒子（直径は１０〜３５ｎｍが望ま
しいが場合によっては球場でなくてもいい）を１ミクロ
ンメートル角に３〜３０個の密度で塗布固定し、その上
にＣｏ−Ｏ，Ｃｏ−Ｃｒ，Ｃｏ−Ｎｉ−Ｔａ等を０．０
３〜０．３μｍの厚みに電子ビーム蒸着法で薄膜形成
し、さらにスパッタリング法、イオンビーム蒸着法、プ
ラズマＣＶＤ法等により、ダイヤモンド状硬質炭素膜を
７〜２０ｎｍ配し、円盤状に切り出した後、温水または
アルコール等を含む水等で高分子フィルムから、強磁性
金属薄膜、ダイヤモンド状硬質炭素膜の積層体を研磨し
たアルミ合金などの基板に接着し、スピンコート法など
でパーフルオロカルボン酸、パーフルオロポリエーテル
などを塗布し磁気記録媒体とするものである。
以下の如くである。厚み１０〜２０μｍの平滑（平均粗
さ：４ｎｍ）なポリエチレンテレフタレートフィルム等
にアラビアゴム等の水溶性高分子を接着剤として無機微
粒子、または有機微粒子（直径は１０〜３５ｎｍが望ま
しいが場合によっては球場でなくてもいい）を１ミクロ
ンメートル角に３〜３０個の密度で塗布固定し、その上
にＣｏ−Ｏ，Ｃｏ−Ｃｒ，Ｃｏ−Ｎｉ−Ｔａ等を０．０
３〜０．３μｍの厚みに電子ビーム蒸着法で薄膜形成
し、さらにスパッタリング法、イオンビーム蒸着法、プ
ラズマＣＶＤ法等により、ダイヤモンド状硬質炭素膜を
７〜２０ｎｍ配し、円盤状に切り出した後、温水または
アルコール等を含む水等で高分子フィルムから、強磁性
金属薄膜、ダイヤモンド状硬質炭素膜の積層体を研磨し
たアルミ合金などの基板に接着し、スピンコート法など
でパーフルオロカルボン酸、パーフルオロポリエーテル
などを塗布し磁気記録媒体とするものである。
【００２０】上記した構成の製造方法による磁気記録媒
体について、さらに具体的な例を挙げて詳しく説明す
る。
体について、さらに具体的な例を挙げて詳しく説明す
る。
【００２１】厚み１６μｍで表面の平均粗さ３ｎｍのポ
リエチレンテレフタレートフィルム上に高さ１２０Åの
ＳｉＯ2微粒子を８〜１０［個／μ2］カゼインで固定
し、その上に直径５０cmの回転キャン（温度１５０〜２
８０℃）に沿わせて移動し、その際酸素原子を最小入射
角（２７度）部分より照射しながら、Ｃｏを入射角４４
度から２７度の範囲で電子ビーム蒸着して０．１２μｍ
の磁性層を形成し、表面酸化層６０〜８０Å、Ｃｏ3Ｏ4
を９４％の条件のものを得た。その上にメタンガスを用
いたプラズマＣＶＤ法（１５ＫＨｚ；１．２２ＫＷ）に
より、ダイヤモンド状硬質炭素膜を１３ｎｍ配し、熱処
理により平坦化して３インチに切り出した。その状態で
温水（５５℃）に浸してカゼインを溶かし磁性層とダイ
ヤモンド状硬質炭素膜の積層体を１．６mmのアルミ合金
基板にエポキシ樹脂で接着したのちにスピンコート法に
より平均４ｎｍパーフルオロポリエーテルを塗布し磁気
記録媒体を製造した。
リエチレンテレフタレートフィルム上に高さ１２０Åの
ＳｉＯ2微粒子を８〜１０［個／μ2］カゼインで固定
し、その上に直径５０cmの回転キャン（温度１５０〜２
８０℃）に沿わせて移動し、その際酸素原子を最小入射
角（２７度）部分より照射しながら、Ｃｏを入射角４４
度から２７度の範囲で電子ビーム蒸着して０．１２μｍ
の磁性層を形成し、表面酸化層６０〜８０Å、Ｃｏ3Ｏ4
を９４％の条件のものを得た。その上にメタンガスを用
いたプラズマＣＶＤ法（１５ＫＨｚ；１．２２ＫＷ）に
より、ダイヤモンド状硬質炭素膜を１３ｎｍ配し、熱処
理により平坦化して３インチに切り出した。その状態で
温水（５５℃）に浸してカゼインを溶かし磁性層とダイ
ヤモンド状硬質炭素膜の積層体を１．６mmのアルミ合金
基板にエポキシ樹脂で接着したのちにスピンコート法に
より平均４ｎｍパーフルオロポリエーテルを塗布し磁気
記録媒体を製造した。
【００２２】比較例は、ポリッシュしたアルミ合金板の
表面にアルマイト被膜処理しテクスチャー加工後、高周
波スパッタリング法でＣｒ下地を０．１５μｍ形成し、
さらにその上に実施例と同じ磁気特性のＣｏ−Ｏ垂直磁
化膜を高周波マグネトロンスパッタリング法で０．１２
μｍ形成し、グラファイトをターゲットにして、２５ｎ
ｍ（比較例Ａ）と１０ｎｍ（比較例Ｂ）の硬質炭素膜を
配し、パーフルオロポリエーテルを４ｎｍ塗布した磁気
ディスクを用いた。記録線密度は１４０ＫＦＲＰ、トラ
ック密度は４ＫＴＰＩでＭｎ−Ｚｎフェライトヘッドで
比較した特性を（表２）にまとめて示している。
表面にアルマイト被膜処理しテクスチャー加工後、高周
波スパッタリング法でＣｒ下地を０．１５μｍ形成し、
さらにその上に実施例と同じ磁気特性のＣｏ−Ｏ垂直磁
化膜を高周波マグネトロンスパッタリング法で０．１２
μｍ形成し、グラファイトをターゲットにして、２５ｎ
ｍ（比較例Ａ）と１０ｎｍ（比較例Ｂ）の硬質炭素膜を
配し、パーフルオロポリエーテルを４ｎｍ塗布した磁気
ディスクを用いた。記録線密度は１４０ＫＦＲＰ、トラ
ック密度は４ＫＴＰＩでＭｎ−Ｚｎフェライトヘッドで
比較した特性を（表２）にまとめて示している。
【００２３】
【表２】
【００２４】この（表２）から明らかなように、本実施
例による磁気記録媒体は、狭トラック記録での高密度記
録で耐久性と高い出力を実現できるといった優れた効果
が得られる。
例による磁気記録媒体は、狭トラック記録での高密度記
録で耐久性と高い出力を実現できるといった優れた効果
が得られる。
【００２５】以上のように本実施例によれば、高分子フ
ィルム上に突起を有する水溶性高分子を配し、その基板
に強磁性金属薄膜、硬質炭素膜の積層体を形成したの
ち、上記基板から強磁性金属薄膜、硬質炭素膜からなる
積層体を剥離して、非磁性基板に接着することで得られ
た磁気記録媒体は、突起部が樹脂で下支えされることに
なり、ヘッドからの応力を突起部で吸収してダメージが
入りにくくなって、ダイヤモンド状硬質炭素膜を薄くし
ても耐久性の確保が可能になり、高出力化と重要なＣＳ
Ｓ耐久性を高水準でバランスさせた磁気記録媒体を実現
できる。
ィルム上に突起を有する水溶性高分子を配し、その基板
に強磁性金属薄膜、硬質炭素膜の積層体を形成したの
ち、上記基板から強磁性金属薄膜、硬質炭素膜からなる
積層体を剥離して、非磁性基板に接着することで得られ
た磁気記録媒体は、突起部が樹脂で下支えされることに
なり、ヘッドからの応力を突起部で吸収してダメージが
入りにくくなって、ダイヤモンド状硬質炭素膜を薄くし
ても耐久性の確保が可能になり、高出力化と重要なＣＳ
Ｓ耐久性を高水準でバランスさせた磁気記録媒体を実現
できる。
【００２６】
【発明の効果】以上のように本実施例によれば、非磁性
基板上にフィルム、強磁性金属薄膜、硬質炭素膜、潤滑
剤層を積層して磁気記録媒体を構成することで、ヘッド
からの応力を高分子フィルムが吸収してダメージが入り
にくくなって、ダイヤモンド状硬質炭素膜を薄くしても
耐久性の確保が可能になり、高出力化と重要なＣＳＳ耐
久性を高水準でバランスさせた磁気記録媒体を実現でき
る。
基板上にフィルム、強磁性金属薄膜、硬質炭素膜、潤滑
剤層を積層して磁気記録媒体を構成することで、ヘッド
からの応力を高分子フィルムが吸収してダメージが入り
にくくなって、ダイヤモンド状硬質炭素膜を薄くしても
耐久性の確保が可能になり、高出力化と重要なＣＳＳ耐
久性を高水準でバランスさせた磁気記録媒体を実現でき
る。
【図１】本発明の第１の実施例における磁気記録媒体の
拡大断面図
拡大断面図
【図２】本発明の第２の実施例における磁気記録媒体の
拡大断面図
拡大断面図
【図３】従来の磁気記録媒体の拡大断面図
５ 非磁性基板 ６ フィルム ７ 強磁性金属薄膜 ８ 硬質炭素膜 １０ 接着剤 １２ 突起部 １３ 微小凹部
Claims (3)
- 【請求項１】 非磁性基板上にフィルム、強磁性金属薄
膜、硬質炭素膜、潤滑剤層を積層してなる磁気記録媒
体。 - 【請求項２】 非磁性基板上に突起を有する強磁性金属
薄膜、硬質炭素膜、潤滑剤層の積層体を接着してなる磁
気記録媒体。 - 【請求項３】 高分子フィルム上に突起を有する水溶性
高分子を配し、その基板に強磁性金属薄膜、硬質炭素膜
の積層体を形成したのち、上記基板から強磁性金属薄
膜、硬質炭素膜からなる積層体を剥離して、非磁性基板
に接着する磁気記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6044271A JPH07254125A (ja) | 1994-03-15 | 1994-03-15 | 磁気記録媒体及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6044271A JPH07254125A (ja) | 1994-03-15 | 1994-03-15 | 磁気記録媒体及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07254125A true JPH07254125A (ja) | 1995-10-03 |
Family
ID=12686855
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6044271A Pending JPH07254125A (ja) | 1994-03-15 | 1994-03-15 | 磁気記録媒体及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07254125A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100370759B1 (ko) * | 1995-10-20 | 2003-03-26 | 삼성전자 주식회사 | 하드디스크드라이브의디스크장치 |
| KR100842897B1 (ko) * | 2007-01-29 | 2008-07-03 | 삼성전자주식회사 | 강유전체 하드디스크드라이브용 강유전체 미디어 구조 및그 제조 방법 |
-
1994
- 1994-03-15 JP JP6044271A patent/JPH07254125A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100370759B1 (ko) * | 1995-10-20 | 2003-03-26 | 삼성전자 주식회사 | 하드디스크드라이브의디스크장치 |
| KR100842897B1 (ko) * | 2007-01-29 | 2008-07-03 | 삼성전자주식회사 | 강유전체 하드디스크드라이브용 강유전체 미디어 구조 및그 제조 방법 |
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