JPH07254135A

JPH07254135A - 被覆用光硬化型組成物および該組成物が硬化してなる保護膜を有する情報記録媒体

Info

Publication number: JPH07254135A
Application number: JP6042834A
Authority: JP
Inventors: Masayoshi Kurisu; 栖正吉栗
Original assignee: OPUTOROMU KK
Current assignee: OPUTOROMU KK
Priority date: 1994-03-14
Filing date: 1994-03-14
Publication date: 1995-10-03

Abstract

(57)【要約】【構成】光硬化材料、脂肪酸エステルおよびシリコー
ンオイルからなる被覆用光硬化型組成物。光硬化材料、
脂肪酸エステルおよびシリコーンオイルからなる光硬化
型組成物が硬化してなる保護膜を最外層に有する情報記
録媒体。【効果】被膜形成用光硬化型組成物は、摺動性に優れ
るとともに、耐久性優れた被膜を形成することができ
る。情報記録媒体は、磁気ヘッドとの摺動性に優れ、長
期間使用しても読み取りエラーが生じ難い。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の技術分野】本発明は、被覆用光硬化型組成物お
よび該組成物が硬化してなる保護膜を有する情報記録媒
体に関し、さらに詳しくは、摺動性に優れた被膜を形成
しうるような被覆用光硬化型組成物ならびに、この組成
物が硬化してなる摺動性に優れた保護膜を最外層に有す
る光磁気記録媒体、磁気記録媒体などの情報記録媒体に
関するものである。

【０００２】

【発明の技術的背景】従来から情報記録用の媒体として
磁気ディスク、光磁気ディスクなどの記録用ディスクが
用いられている。このような記録用ディスクは、一般に
回転するディスクとヘッドを接触させた状態で記録し、
僅かに浮上させた状態で読み取りが行われる。

【０００３】このように記録用ディスクは、記録時ある
いは読み取り初期または終了時にはディスクとヘッドと
が接触・摺動するため、ディスク表面は摺動性に優れる
ことが必要となる。このため通常記録用ディスク表面に
は、摺動性を向上させて、走行耐久性および安定性を向
上させるための潤滑剤層が形成されている。

【０００４】従来では、このような潤滑剤層は脂肪酸、
脂肪酸エステル、パラフィン、フッ素系化合物、シリコ
ン系化合物などをディスク表面に塗布することにより形
成されていた。

【０００５】しかしながらこのような潤滑剤を塗布して
なる潤滑剤層を有するディスクとヘッドとの摩擦力は充
分に小さいとはいえず、また潤滑剤が消耗することがあ
るため、さらにディスクとヘッドとの摩擦力を長期間に
わたって小さくして摺動性を向上させることが望まれて
いる。

【０００６】

【発明の目的】本発明はこのような状況に鑑みてなされ
たものであって、摺動性に優れた被膜を形成しうるよう
な被覆用光硬化型組成物および、摺動性に優れた保護膜
を最外層に有する情報記録媒体を提供することを目的と
している。

【０００７】

【発明の概要】本発明の被覆用光硬化型組成物は、（ａ）光硬化型材料（ｂ）脂肪酸エステル、および（ｃ）シリコーンオイルからなることを特徴としている。

【０００８】このような被覆用光硬化型組成物は、摩擦
係数が小さく、耐久性に優れた被膜を形成することがで
きる。本発明の情報記録媒体は、（ａ）光硬化型材料（ｂ）脂肪酸エステル、および（ｃ）シリコーンオイルからなる光硬化型組成物が硬化してなる保護膜を最外層
に有することを特徴としている。

【０００９】このような情報記録媒体としては、たとえ
ば光磁気記録媒体、磁気記録媒体などが挙げられる。本
発明の情報記録媒体は、記録時あるいは読み取り時にお
けるヘッドとの摩擦力が小さいため耐久性、走行安定性
に優れている。

【００１０】

【発明の具体的説明】以下、本発明の被覆用光硬化型組
成物および該組成物が硬化してなる保護膜を有する情報
記録媒体について具体的に説明する。

【００１１】まず、本発明の被覆用光硬化型組成物につ
いて説明する。本発明の被覆用光硬化型組成物は、（ａ）光硬化型材料（ｂ）脂肪酸エステル、および（ｃ）シリコーンオイルを含んでいる。

【００１２】被覆用光硬化型組成物を形成する（ａ）光
硬化型材料としては、光を照射することにより硬化する
樹脂が広く用いられ、たとえば紫外線硬化型樹脂が挙げ
られる。この光硬化型材料は、一般に（a-1）重合可能
な不飽和結合を有する化合物と、（a-2）重合開始剤と
を含んでいる。以下に、（a-1）重合可能な不飽和結合
を有する化合物および（a-2）重合開始剤の例を示す。

【００１３】（a-1）重合可能な不飽和結合を有する化
合物としては、ポリエステルアクリレート、ポリエーテ
ルアクリレート、アクリルオリゴマー系アクリレート、
ウレタンアクリレート、ポリブタジンアクリレート、ポ
リスチリルメタクリレート、ポリエーテルメタクリレー
ト、エポキシアクリレートなどのオリゴマー；長鎖脂肪
族アクリレート（CH₂＝CHCOOC_nH_2n+1、n＝12,13）、ア
リル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレ
ート、ブトキシエチル（メタ）アクリレート、ブタンジ
オールモノアクリレート、ブトキシトリエチレングリコ
ールアクリレート、ＥＣＨ変性ブチルアクリレート、t-
ブチルアミノエチルメタクリレート、カプロラクトンア
クリレート、3-クロロ-2-ヒドロキシプロピルメタクリ
レート、2-シアノエチルアクリレート、シクロヘキシル
（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）ア
クリレート、脂環式変性ネオペンチルグリコールアクリ
レート、2,3-ジブロモプロピル（メタ）アクリレート、
ジシクロペンテニルアクリレート、ジシクロペンテニル
オキシエチル（メタ）アクリレート、N,N-ジエチルアミ
ノエチル（メタ）アクリレート、N,N-ジメチルアミノエ
チル（メタ）アクリレート、2-エトキシエチル（メタ）
アクリレート、2-（2-エトキシエトキシ）エチルアクリ
レート、2-エチルヘキシル（メタ）アクリレート、グリ
セロールメタクリレート、グリシジル（メタ）アクリレ
ート、ヘプタデカフロロデシル（メタ）アクリレート、
2-ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、カプロラク
トン変性2-ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、2-
ヒドロキシ-3-メタクリロキシプロピルトリメチルアン
モニウムクロライド、2-ヒドロキシプロピル（メタ）ア
クリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、イソ
デシル（メタ）アクリレート、イソオクチルアクリレー
ト、ラウリル（メタ）アクリレート、γ-メタクリロキ
シプロピルトリメトキシシラン、2-メトキシエチルアク
リレート、メトキシジエチレングリコールメタクリレー
ト、メトキシトリエチレングリコール（メタ）アクリレ
ート、メトキシテトラエチレングリコールメタクリレー
ト、メトキシポリエチレングリコールメタクリレート、
メトキシジプロピレングリコールアクリレート、メトキ
シ化シクロデカトリエンアクリレート、モルホリンアク
リレート、ノニルフェノキシポリエチレングリコールア
クリレート、ノニルフェノキシポリプロピレングリコー
ルアクリレート、オクタフロロペンチル（メタ）アクリ
レート、オクチルアクリレート、フェノキシヒドロキシ
プロピルアクリレート、フェノキシエチル（メタ）アク
リレート、フェノキシジエチレングリコールアクリレー
ト、フェノキシテトラエチレングリコールアクリレー
ト、フェノキシヘキサエチレングリコールアクリレー
ト、ＥＯ変性フェノキシ化リン酸（メタ）アクリレー
ト、フェノキシメタクリレート、ＥＯ変性リン酸（メ
タ）アクリレート、ＥＯ変性ブトキシ化リン酸（メタ）
アクリレート、ＥＯ変性オクトキシ化リン酸（メタ）ア
クリレート、ＥＯ変性フタル酸（メタ）アクリレート、
ＥＯ，ＰＯ変性フタル酸メタクリレート、ポリエチレン
グリコールメタクリレート、ポリプロピレングリコール
メタクリレート、ポリエチレングリコール／ポリプロピ
レングリコールメタクリレート、ポリエチレングリコー
ル／ポリブチレングリコールメタクリレート、ステアリ
ル（メタ）アクリレート、ＥＯ変性コハク酸（メタ）ア
クリレート、スルホン酸ソーダエトキシ（メタ）アクリ
レート、テトラフロロプロピル（メタ）アクリレート、
テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、カプロ
ラクトン変性テトラヒドロフルフリルアクリレート、ト
リフロロエチル（メタ）アクリレート、ビニルアセテー
ト、N-ビニルカプロラクタム、N-ビニルピロリドン、酢
酸ビニルなどの単官能性化合物；アリル化シクロヘキシ
ルジアクリレート、アクリル化イソシアヌレート、ビス
（アクリロキシネオペンチルグリコール）アジペート、
ＥＯ変性ビスフェノールＡジアクリレート、ＥＯ変性ビ
スフェノールＳジアクリレート、ビスフェノールＡジメ
タクリレート、ＥＯ変性ビスフェノールＡジメタクリレ
ート、ＥＯ変性ビスフェノールＦジアクリレート、1,4-
ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、1,3-ブチレン
グリコールジ（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニ
ルジアクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）ア
クリレート、ＥＣＨ変性ジエチレングリコールジメタク
リレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレー
ト、ジペンタエリスリトールモノヒドロキシペンタアク
リレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールペンタ
アクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールテ
トラアクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトー
ルトリアクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリ
スリトールヘキサアクリレート、ジトリメチロールプロ
パンテトラアクリレート、ＥＣＨ変性エチレングリコー
ルジアクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アク
リレート、ＥＣＨ変性エチレングリコールジメタクリレ
ート、グリセロールアクリレート／メタクリレート、グ
リセロールジメタクリレート、ＥＣＨ変性グリセロール
トリアクリレート、1,6-ヘキサンジオールジアクリレー
ト、ＥＣＨ変性1,6-ヘキサンジオールジアクリレート、
1,6-ヘキサンジオールジメタクリレート、長鎖脂肪族ジ
（メタ）アクリレート、メトキシ化シクロヘキシルジア
クリレート、ネオペンチルグリコール（メタ）アクリレ
ート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ
アクリレート、カプロラクトン変性ヒドロキシピバリン
酸ネオペンチルグリコールジアクリレート、ペンタエリ
スリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテ
トラ（メタ）アクリレート、ステアリン酸変性ペンタエ
リスリトールジアクリレート、ＥＯ変性リン酸ジ（メ
タ）アクリレート、ＥＯ変性リン酸トリアクリレート、
カプロラクトン，ＥＯ変性リン酸ジメタクリレート、Ｅ
ＣＨ変性フタル酸ジアクリレート、ポリエチレングリコ
ールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコー
ルジ（メタ）アクリレート、ＥＣＨ変性プロピレングリ
コールジアクリレート、テトラエチレングリコールジ
（メタ）アクリレート、テトラブロモビスフェノールＡ
ジアクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）ア
クリレート、トリエチレングリコールジビニルエーテ
ル、トリグリセロールジアクリレート、ネオペンチルグ
リコール変性トリメチロールプロパンジアクリレート、
トリメチロールプロパントリアクリレート、ＥＯ変性ト
リメチロールプロパントリアクリレート、ＰＯ変性トリ
メチロールプロパントリアクリレート、トリメチロール
プロパントリメタクリレート、ＥＣＨ変性トリメチロー
ルプロパントリアクリレート、トリプロピレングリコー
ルジアクリレート、トリス（アクリロキシエチル）イソ
シアヌレート、カプロラクトン変性トリス（アクリロキ
シエチル）イソシアヌレート、トリス（メタクリロキシ
エチル）イソシアヌレート、亜鉛ジ（メタ）アクリレー
トなどの多官能性化合物を挙げることができる。

【００１４】これらの（a-1）重合可能な不飽和結合を
有する化合物は、単独で、または２種以上組み合わせて
用いることができる。（a-2）重合開始剤として具体的には、ベンゾイン、ベ
ンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、
ベンゾインi-プロピルエーテル、ベンゾインi-ブチルエ
ーテルなどのベンゾインエーテル類、ベンゾフェノン、
ミヒラーケトン、o-ベンゾイル-メチルベンゾエートな
どのベンゾフェノン類、キサンソン、チオキサンソン、
2-クロロチオキサンソン、2-アルキルチオキサンソン、
2,4-ジアルキルチオキサンソンなどのチオキサンソン
類、アセトフェノン、トリクロロアセトフェノン、2,2-
ジエトキシアセトフェノン、2,2-ジメトキシ-2-フェニ
ルアセトフェノン、4-フェノキシジクロロアセトフェノ
ン、4-t-ブチルジクロロアセトフェノン、4-t-ブチルト
リクロロアセトフェノン、2-ヒドロキシ-2-メチル-1-フ
ェニルプロパン-1-オン、1-（4-イソプロピルフェニ
ル）-2-ヒドロキシ-2-メチルプロパン-1-オン、1-（4-
ドデシルフェニル）-2-ヒドロキシ-2-メチルプロパン-1
-オン、4-（2-ヒドロキシエトキシ）−フェニル（2-ヒ
ドロキシ-2-プロピル）ケトン、1-ヒドロキシシクロヘ
キシルフェニルケトン、2-メチル-1-｛4-（メチルチ
オ）フェニル｝-2-モルホリノプロパン-1などのアセト
フェノン誘導体、および、α-アシロキシムエステル、
アシルホスフィンオキサイド、メチルフェニルグリオキ
シレート、ベンジル、9,10-フェナンスレンキノン、カ
ンファーキノン、ジベンゾスベロン、2-エチルアンスラ
キノン、4',4''-ジエチルイソフタロフェノン、3,3',4,
4'-テトラ（t-ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフ
ェノン、トリエタノールアミン、メチルジエタノールア
ミン、トリイソプロパノールアミン、4,4'-ジメチルア
ミノベンゾフェノン、4,4'-ジエチルアミノベンゾフェ
ノン、2-ジメチルアミノ安息香酸エチル、4-ジメチルア
ミノ安息香酸エチル、4-ジメチルアミノ安息香酸（n-ブ
トキシ）エチル、4-ジメチルアミノ安息香酸イソアミ
ル、4-ジメチルアミノ安息香酸2-エチルヘキシルなどが
挙げられる。

【００１５】これらの（a-2）重合開始剤は、単独で、
または２種以上組み合わせて用いることができる。（a-
2）重合開始剤は、（a-1）重合可能な不飽和結合を有す
る化合物に対して０．１〜３０重量％、好ましくは１〜
２０重量％の割合で配合されていることが好ましい。

【００１６】本発明で用いられる光硬化型材料の組成の
例としては、たとえば下記のような組成が挙げられる。脂環式単官能アクリレート化合物：１０〜５０重量％脂肪族ジアクリレート化合物：１０〜５０重量％多官能（３官能以上）アクリレート化合物：１〜５０重
量％重合開始剤：１〜２０重量％本発明の被覆用光硬化型組成物を形成する（ｂ）脂肪酸
エステルとしては全炭素数１１以上の脂肪酸エステルが
用いられ、具体的には、ウンデシル酸メチル、ウンデシ
ル酸エチル、ラウリル酸メチル、ラウリル酸エチル、ラ
ウリル酸ビニル、ラウリル酸n-ブチル、ラウリル酸i-ブ
チル、ラウリル酸n-アミル、ラウリル酸n-ベンジル、ラ
ウリル酸2-ナフチル、ラウリル酸コレステロール、トリ
デシル酸メチル、トリデシル酸エチル、ミリスチン酸メ
チル、ミリスチン酸エチル、ミリスチン酸ビニル、ミリ
スチン酸i-プロピル、ミリスチン酸n-ブチル、ミリスチ
ン酸i-ブチル、ミリスチン酸ヘプチル、ミリスチン酸2-
ナフチル、ミリスチン酸コレステロール、ペンタデシル
酸メチル、ペンタデシル酸エチル、パルミチン酸メチ
ル、パルミチン酸エチル、パルミチン酸ビニル、パルミ
チン酸i-プロピル、パルミチン酸n-ブチル、パルミチン
酸i-ブチル、パルミチン酸ヘプチル、パルミチン酸ドデ
シル、パルミチン酸n-ヘキサデシル、ヘプタデシル酸メ
チル、ヘプタデシル酸エチル、ヘプタデシル酸コレステ
ロール、ステアリン酸メチル、ステアリン酸エチル、ス
テアリン酸ビニル、ステアリン酸i-プロピル、ステアリ
ン酸n-ブチル、ステアリン酸フェニル、ステアリン酸オ
クチル、ステアリン酸ドデシル、ステアリン酸コレステ
ロールなどの飽和脂肪酸エステル；オレイン酸メチル、
オレイン酸エチル、オレイン酸n-ブチル、オレイン酸i-
ブチル、オレイン酸i-アミル、オレイン酸ヘプチル、オ
レイン酸オレイル、エライジン酸メチル、エルカ酸メチ
ル、エルカ酸エチル、ブラシジン酸エチレンなどの不飽
和脂肪酸エステルが挙げられる。

【００１７】これらのうち飽和脂肪酸エステルが好まし
く、全炭素数１３以上、好ましくは１５〜３０の飽和脂
肪酸エステルがより好ましく、ステアリン酸n-ブチルが
特に好ましい。また、融点は２０℃以上、好ましくは２
２〜６０℃の範囲にあることが望ましい。

【００１８】本発明の被覆用光硬化型組成物を形成する
（ｃ）シリコーンオイルとしては、ジメチルポリシロキ
サン、メチルフェニルポリシロキサン、メチルハイドロ
ジェンポリシロキサンおよび変性ポリシロキサンなどが
挙げられる。変性ポリシロキサンとしては、たとえばエ
ポキシ変性ポリシロキサン、アルキル変性ポリシロキサ
ン、アミノ変性ポリシロキサン、カルボキシル変性ポリ
シロキサン、アルコール変性ポリシロキサン、フッ素変
性ポリシロキサン、アルキルアラルキルポリエーテル変
性ポリシロキサン、エポキシポリエーテル変性ポリシロ
キサン、ポリエーテル変性ポリシロキサンなどが挙げら
れる。

【００１９】これらのなかでは、ポリエーテル変性ポリ
シロキサンが特に好ましい。このような（ｃ）シリコー
ンオイルの粘度は、２５℃において１００００ｃｐｓ以
下、好ましくは５０００ｃｐｓ以下であることが望まし
い。

【００２０】本発明において摺動性に優れた被膜を得る
ためには、本発明の被覆用光硬化型組成物は、前記
（ａ）光硬化型材料を８０〜９９．８重量％、好ましく
は８０〜９８重量％、より好ましくは９０〜９６重量
％、前記（ｂ）脂肪酸エステルを０．１〜１０重量％、
好ましくは１〜８重量％、より好ましくは０．２〜５重
量％、（ｃ）シリコーンオイルを０．１１〜１０重量
％、好ましくは０．１５〜８重量％、より好ましくは
０．２〜５重量％の割合で含んでいることが望ましい。

【００２１】特に、（ｂ）脂肪酸エステルおよび（ｃ）
シリコーンオイルの配合割合が上記の範囲にあるときは
摺動性に優れ、表面が平滑な膜を得ることができるとい
う利点がある。

【００２２】本発明では、（ａ）光硬化型材料と、全炭
素数１３以上、好ましくは１５〜３０の飽和脂肪酸エス
テルと、ポリエーテル変性ポリシロキサンとを組み合わ
せることが好ましい。

【００２３】本発明の被覆用光硬化型組成物は、上記各
成分を常法により混合して製造することができる。この
ようにして得られる被覆用光硬化型組成物の粘度は２５
℃において、通常１〜１５０ｃｐｓ、好ましくは２０〜
１００ｃｐｓであることが望ましい。

【００２４】本発明の被覆用光硬化型組成物は、光照
射、通常紫外線照射によって硬化される。この被覆用光
硬化型組成物が硬化してなる被膜は、摺動性に優れてい
る。これは上記潤滑剤そのものの特性によるものだけで
なく、被覆用光硬化型組成物が硬化してなる被膜表面に
微細な孔が多数形成され、接触物との接触面積が小さく
なるためと推測される。そして本発明によればこのよう
な表面に微細な孔が多数形成された被膜を揮発性溶媒を
用いることなく形成することができる。

【００２５】また本発明の被覆用光硬化型組成物から形
成される被膜は、耐摩耗性にも優れている。本発明の被
覆用光硬化型組成物は、各種形成体の被覆材として用い
られる。具体的には、情報記録媒体、たとえば磁気ディ
スク・光磁気ディスクなどの情報記録用ディスク；コー
ヒーメーカーのシャワードーム・コーヒー入れ・水タン
ク、照明器のカバー、プレーヤーなどステレオ装置のカ
バー、衣類乾燥器、電気洗濯機、ドライヤーなどの家電
製品；カーテン、スクリーン、テーブルクロス、食器、
椅子、鏡、醤油ビン・化粧ビンなどの各種容器などの家
庭用品；自動車のヘッドランプまたはテールランプのカ
バー、窓ガラス（フロントガラス、リアウインドウ、オ
ペラウインドウ、三角窓、サンルーフ）、フェンダー、
自動車のホイル、自動車の内装材、グローブボックスの
パネル板、バンパー、ブレーキ、オートバイ風防ガラス
・サイドカバー・泥よけなどの自動車用部品；床タイ
ル、床シート、ドア、テーブル板、壁タイル、カウンタ
ートップ化粧板、たな板、壁シート、壁紙、家具、壁
板、バスタブ、便器、冷蔵庫、壁パネル、給排水管、配
線管、ダクト、カーテンロール、雨樋、断熱材、幕、窓
枠、化粧台、フラワーボックス、パーティクルボード、
瓦、雨戸、シャッター、防水パン、パイプ、配線材料、
採光板、スカイドーム、太陽熱温水器のパネル板、温室
・家屋などの窓ガラス、水槽用のガラスなどの建築用材
料、ガラスの飛散防止用フィルム、離型フィルム、絶縁
フィルム、農業フィルム、防水防湿フィルム、防水シー
ト、絶縁フィルムなどのフィルム・シート；リレーケー
ス、ヒューズボックス、ギヤカム、つまみ、電磁弁枠、
ファン、油槽などの各種装置の覗き窓、各種メーターの
文字板やカバー、レベルセンサー、各種容器などの一般
工業材料；メガネ・カメラ・コンタクトレンズなどの各
種レンズ、光学プリズム、時計のガラスなどの光学用
品；血液バッグなどの医療用材料などが挙げられる。

【００２６】本発明の被覆用光硬化型組成物は、光磁気
記録媒体、磁気記録媒体などの記録用ディスクの表面保
護膜の材料として特に好適に用いられる。本発明の被覆
用光硬化型組成物を、記録用ディスクの表面保護膜の材
料として用いると、優れた摺動性を有する保護膜を形成
することができる。また、この保護膜は、耐摩耗性にも
優れているので、従来のように耐摩耗保護層と潤滑剤層
を形成する必要がなくなり、高い生産性で記録用ディス
クを製造するとことができる。

【００２７】次に、本発明の情報記録媒体について説明
する。本発明の情報記録媒体としては、たとえば光磁気
記録媒体、磁気記録媒体などが挙げられる。図１および
図２に本発明の光磁気記録媒体の一例に係る部分断面図
を示し、図３に本発明の磁気記録媒体の一例に係る部分
断面図を示す。

【００２８】本発明の光磁気記録媒体は、光の熱効果を
用いて磁性薄膜に情報を記憶させ、磁気光学効果を利用
してこれを読み出す記録用ディスクであって、たとえば
図１に示すように基板１と、光磁気記録膜２と、金属膜
３と、保護膜４とを有している。

【００２９】基板１の材料は特に限定されないが、ガラ
スやアルミニウムなどの無機材料の他に、アクリル樹
脂、ポリカーボネート、ポリカーボネートとポリスチレ
ンのポリマーアロイ、米国特許第4,614,778号明細書に
示されるような非晶質エチレン−環状オレフィン共重合
体、たとえば、エチレンと1,4,5,8-ジメタノ-1,2,3,4,4
a,5,8,8a-オクタヒドロナフタレン（テトラシクロドデ
セン）との共重合体、エチレンと2-メチル-1,4,5,8-ジ
メタノ-1,2,3,4,4a,5,8,8a-オクタヒドロナフタレン
（メチルテトラシクロドデセン）との共重合体、エチレ
ンと2-エチル-1,4,5,8-ジメタノ-1,2,3,4,4a,5,8,8a-オ
クタヒドロナフタレンとの共重合体など、またはポリ4-
メチル-1-ペンテン、エポキシ樹脂、ポリエーテルサル
フォン、ポリサルフォン、ポリエーテルイミドなどの有
機材料などが使用できる。なお基板方向から光が入射す
る場合は透明基板であることが好ましい。このような基
板の厚さは、特に限定されないが通常０．５〜５ｍｍ、
好ましくは１〜２ｍｍである。

【００３０】光磁気記録膜２としては、垂直磁気異方性
が大きな磁性薄膜が用いられる。このような磁性薄膜
は、たとえば鉄、コバルトなどの遷移金属元素と、テル
ビウム、ネオジウム、ジスプロシウム、ガドリニウムな
どの希土類元素との合金、または遷移金属元素と希土類
元素と白金、パラジウムなどの耐腐食性金属との合金か
ら形成されている。このような光磁気記録膜の厚さは、
特に限定されないが通常１００〜６００Åである。

【００３１】金属膜３としては、たとえば、アルミニウ
ム、Ａｌ−Ｈｆ，Ａｌ−Ｔｉ，Ａｌ−Ｈｆ−Ｔｉ，Ａｌ
−Ｃｒ−Ｔｉなどのアルミニウム系合金またはニッケル
系合金などが用いられる。この金属膜は、熱伝導膜また
は反射膜としての機能を有している。このような金属膜
の厚さは、特に限定されないが通常１００〜５０００
Å、好ましくは５００〜３０００Åである。

【００３２】保護膜４は、前記被覆用光硬化型組成物が
硬化してなる被膜である。このような保護膜は、前記被
覆用光硬化型組成物をたとえばロールコート法、スピン
コート法などによって金属膜上に塗布し、光、通常紫外
線を照射することにより形成することができる。保護膜
の膜厚は、特に限定されないが通常１〜２０μｍ、好ま
しくは５〜１５μｍである。

【００３３】なお、本発明の光磁気記録媒体は、たとえ
ば図２に示すように前記光磁気記録膜、最外層の保護膜
以外に、基板と光磁気記録膜との間および／または光磁
気記録膜と金属膜との間にＳｉ₃Ｎ₄，ＳｉＮ_x（０＜
ｘ＜４／３），Ｓｉ，ＺｎＳなどからなる誘電体膜を有
していてもよい。このような基板と光磁気記録膜との間
に設けられる誘電体膜５の膜厚は、特に限定されないが
通常３００〜２０００Å、好ましくは５００〜１５００
Åであり、光磁気記録膜と金属膜との間に設けられる誘
電体膜６の膜厚は、特に限定されないが通常５０〜２０
００Å、好ましくは５０〜１０００Åである。

【００３４】本発明の光磁気記録媒体は、最外層に前記
被覆用光硬化型組成物を塗布してなる保護膜を有してい
るので、磁気ヘッドとの摺動性に優れ、長期間使用して
も読み取りエラーが生じ難い。

【００３５】本発明の磁気記録媒体は、磁性材料を塗布
・蒸着した磁性膜に電気磁気変換を用いて記録・読み取
りを行う記録用ディスクであって、たとえば図３に示す
ように基板１１と、記録膜１２（磁性膜）と、保護膜４
とを有している。

【００３６】基板１１の材料は、特に限定されないが前
記光磁気記録媒体に用いられるものと同様の基板が用い
られる。記録膜１２は、たとえば、γ−Ｆｅ₂Ｏ₃、Ｃ
ｏ−Ｆｅ₂Ｏ₃などからなる磁性膜が用いられる。

【００３７】保護膜４は、前記被覆用光硬化型組成物が
硬化してなる被膜である。このような保護膜は、前記被
覆用光硬化型組成物をたとえばロールコート法、スピン
コート法などによって金属膜上に塗布し、光、通常紫外
線を照射することにより形成することができる。

【００３８】保護膜の膜厚は、好ましくは１〜２０μ
ｍ、特に好ましくは５〜１５μｍである。なお、本発明
の磁気記録媒体は、前記記録膜、最外層の保護膜以外
に、基板と記録膜との間の保護膜などを有していてもよ
い。

【００３９】本発明の磁気記録媒体は、最外層に前記被
覆用光硬化型組成物が硬化してなる保護膜を有している
いるので、磁気ヘッドとの摺動性に優れ、長期間使用し
ても読み取りエラーが生じ難い。

【００４０】

【発明の効果】本発明の被膜形成用光硬化型組成物は、
摺動性に優れるとともに、耐久性優れた被膜を形成する
ことができる。

【００４１】本発明に係る光磁気記録媒体、磁気記録媒
体などの情報記録媒体は、磁気ヘッドとの摺動性に優
れ、長期間使用しても読み取りエラーが生じ難い。

【００４２】

【実施例】以下、実施例に基づいて本発明をさらに具体
的に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるも
のではない。

【００４３】

【実施例１】紫外線硬化型樹脂〔日本化薬（株）製 KAY
ARAD MD-341 〕１００重量部、ステアリン酸n-ブチル３
重量部を混合攪拌し、さらにこれにポリエーテル変性シ
リコーンオイル〔東レ・ダウコーニング・シリコーン
（株）製 SH8400 〕２重量部を混合し、攪拌して被覆用
光硬化型組成物を調製した。

【００４４】ポリカーボネート樹脂からなる基板（厚
さ：１．２ｍｍ）と、Ｓｉ₃Ｎ₄からなる第１誘電体膜
（厚さ：１０００Å）と、Ｔｂ−Ｆｅ−Ｃｏからなる光
磁気記録膜（厚さ：２７０Å）と、Ｓｉ₃Ｎ₄からなる
第２誘電体膜（厚さ：１６０Å）と、Ａｌ₉₆Ｔｉ₂Ｈｆ
₂（原子比）からなる金属膜（厚さ：１５００Å）とが
この順序で積層されてなる直径６．４ｃｍの光磁気ディ
スクの表面に、前記被覆用光硬化型組成物をスピンコー
トにより塗布し、紫外線を照射して厚さ１０μｍの保護
膜を形成した。

【００４５】得られた光磁気ディスクの保護膜につい
て、室温および７０℃における摩擦力を測定した。結果
を表１に示す。摩擦力の測定は、光磁気ディスクを線速
１．４ｍ／秒で回転させ、光磁気ディスク上に荷重２ｇ
で載置したポリアリレート樹脂（ユニチカ製 AX1500 ）
製ヘッドチップにかかる力を測定することにより行っ
た。

【００４６】

【実施例２】被覆用光硬化型組成物の組成を、紫外線硬
化型樹脂〔日本化薬（株）製 KAYARAD MD-341 〕１００
重量部、ステアリン酸n-ブチル３重量部、ポリエーテル
変性シリコーンオイル〔東レ・ダウコーニング・シリコ
ーン（株）製 SH8700 〕２重量部とした以外は実施例１
と同様にして保護膜を形成し摩擦力を測定した。結果を
表１に示す。

【００４７】

【実施例３】被覆用光硬化型組成物の組成を、紫外線硬
化型樹脂〔日本化薬（株）製 KAYARAD MD-341 〕１００
重量部、ステアリン酸n-ブチル３重量部、ポリエーテル
変性シリコーンオイル〔東レ・ダウコーニング・シリコ
ーン（株）製 SF8410 〕２重量部とした以外は実施例１
と同様にして保護膜を形成し摩擦力を測定した。結果を
表１に示す。

【００４８】

【実施例４】被覆用光硬化型組成物の組成を、紫外線硬
化型樹脂〔日本化薬（株）製 KAYARAD MD-341 〕１００
重量部、ステアリン酸n-ブチル３重量部、ポリエーテル
変性シリコーンオイル〔東レ・ダウコーニング・シリコ
ーン（株）製 SF8400 〕０．５０重量部とした以外は実
施例１と同様にして保護膜を形成し摩擦力を測定した。
結果を表１に示す。

【００４９】

【実施例５】被覆用光硬化型組成物の組成を、紫外線硬
化型樹脂〔日本化薬（株）製 KAYARAD MD-341 〕１００
重量部、ステアリン酸n-ブチル３重量部、ポリエーテル
変性シリコーンオイル〔東レ・ダウコーニング・シリコ
ーン（株）製 SF8400 〕０．３０重量部とした以外は実
施例１と同様にして保護膜を形成し摩擦力を測定した。
結果を表１に示す。

【００５０】

【比較例１】被覆用光硬化型組成物の組成を、紫外線硬
化型樹脂〔日本化薬（株）製 KAYARAD MD-341 〕１００
重量部、ステアリン酸n-ブチル３重量部とした以外は実
施例１と同様にして保護膜を形成し摩擦力を測定した。
結果を表１に示す。

【００５１】

【比較例２】被覆用光硬化型組成物の組成を、紫外線硬
化型樹脂〔日本化薬（株）製 KAYARAD MD-341 〕１００
重量部、ポリエーテル変性シリコーンオイル〔東レ・ダ
ウコーニング・シリコーン（株）製 SH8400 〕２重量部
とした以外は実施例１と同様にして保護膜を形成し摩擦
力を測定した。結果を表１に示す。

【００５２】

【比較例３】被覆用光硬化型組成物の組成を、紫外線硬
化型樹脂〔日本化薬（株）製 KAYARAD MD-341 〕１００
重量部、ポリエーテル変性シリコーンオイル〔東レ・ダ
ウコーニング・シリコーン（株）製 SH8700 〕２重量部
とした以外は実施例１と同様にして保護膜を形成し摩擦
力を測定した。結果を表１に示す。

【００５３】

【比較例４】被覆用光硬化型組成物の組成を、紫外線硬
化型樹脂〔日本化薬（株）製 KAYARAD MD-341 〕１００
重量部、ポリエーテル変性シリコーンオイル〔東レ・ダ
ウコーニング・シリコーン（株）製 SF8410 〕２重量部
とした以外は実施例１と同様にして保護膜を形成し摩擦
力を測定した。結果を表１に示す。

【００５４】

【表１】

【００５５】表１により、ステアリン酸エステルおよび
シリコーンオイルを用いた実施例１は、室温では、実施
例１で用いたものと同一のステアリン酸エステルのみを
用いた比較例１に比べ摩擦力がほぼ１／２であり、実施
例１で用いたものと同一のシリコーンオイルのみを用い
た比較例２に比べ、走査回数が約５７０倍であるにもか
かわらず摩擦力はほぼ１／２である。７０℃では、走査
回数が比較例１の１．５倍、比較例２の３０倍であるに
もかかわらず摩擦力は比較例１のほぼ１／２．５、比較
例２のほぼ３／４であり本発明の光磁気記録媒体の保護
膜は摩擦力が低いことがわかる。

【００５６】実施例２と比較例３、実施例３と比較例４
を比較すると、ステアリン酸エステルおよびシリコーン
オイルを用いている実施例２および３は、実施例２、３
で用いたものと同一のシリコーンオイルのみを用いた比
較例３、４に比べ同一の走査回数での摩擦力が１／３〜
１／４であり本発明の光磁気記録媒体の保護膜は摩擦力
が低いことがわかる。

【００５７】また、実施例４、５と比較例２を比較する
と、室温ではステアリン酸エステルおよびシリコーンオ
イルを用いている実施例４，５は、走査回数が比較例２
の約５７０倍であるにもかかわらず、実施例４、５で用
いたものと同一のシリコーンオイルのみを用いた比較例
２に比べ摩擦力がほぼ１／２であり、７０℃では、走査
回数が比較例２の３０倍であるにもかかわらず摩擦力は
それぞれ比較例２のほぼ１／２、ほぼ５／６であり本発
明の光磁気記録媒体の保護膜は摩擦力が低いことがわか
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の光磁気記録媒体の一例を示す部分断
面図である。

【図２】本発明の光磁気記録媒体の他の例を示す部分
断面図である。

【図３】本発明の磁気記録媒体の一例を示す部分断面
図である。

【符号の説明】

１，11 … 基板２ … 光磁気記録膜３ … 金属膜４ … 保護膜５，６ … 誘電体膜 10 … 光磁気記録媒体 11 … 基板 12 … 記録膜 20 … 磁気記録媒体

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】（ａ）光硬化型材料（ｂ）脂肪酸エステル、および（ｃ）シリコーンオイルからなることを特徴とする被覆用光硬化型組成物。
【請求項２】（ａ）光硬化型材料（ｂ）脂肪酸エステル、および（ｃ）シリコーンオイルからなる光硬化型組成物が硬化してなる保護膜を最外層
に有することを特徴とする情報記録媒体。
【請求項３】（ａ）光硬化型材料（ｂ）脂肪酸エステル、および（ｃ）シリコーンオイルからなる光硬化型組成物が硬化してなる保護膜を最外層
に有することを特徴とする光磁気記録媒体。
【請求項４】（ａ）光硬化型材料（ｂ）脂肪酸エステル、および（ｃ）シリコーンオイルからなる光硬化型組成物が硬化してなる保護膜を最外層
に有することを特徴とする磁気記録媒体。