JPH07254674A - Plating equipment for lead frame and electrode stripping apparatus therefor - Google Patents
Plating equipment for lead frame and electrode stripping apparatus thereforInfo
- Publication number
- JPH07254674A JPH07254674A JP4432094A JP4432094A JPH07254674A JP H07254674 A JPH07254674 A JP H07254674A JP 4432094 A JP4432094 A JP 4432094A JP 4432094 A JP4432094 A JP 4432094A JP H07254674 A JPH07254674 A JP H07254674A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- plating
- lead frame
- electrode
- anode plate
- stripping
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
- 238000007747 plating Methods 0.000 title claims abstract description 144
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims abstract description 32
- 239000007921 spray Substances 0.000 claims 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 abstract 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 15
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 4
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 3
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 3
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 3
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000008602 contraction Effects 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 2
- 241001206158 Blepsias cirrhosus Species 0.000 description 1
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001259 photo etching Methods 0.000 description 1
- 238000004064 recycling Methods 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、ICリードフレームの
ようなリードフレームのめっき装置およびそれに用いる
電極の剥離装置に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a plating device for a lead frame such as an IC lead frame and a peeling device for electrodes used therein.
【0002】[0002]
【従来の技術】一般に、ICリードフレームのようなリ
ードフレームは、薄い帯板状金属をフォトエッチングも
しくはプレス加工により多数のリードを有する形状に形
成されてなるものである。このようなリードフレームの
表面に各種の表面処理(めっき等)を行うには、多連
(例えば3連乃至10連)に繋がったリードフレームを
処理液中に浸した状態で連続的に搬送しながら処理する
のが最も一般的な方法である。この場合、搬送法として
は、ローラコンベアを用いるローラ搬送法や、ラック引
掛け法や、スプリング等によるホールド・リリース法な
どが用いられている。2. Description of the Related Art In general, a lead frame such as an IC lead frame is formed by photo-etching or pressing a thin strip-shaped metal into a shape having a large number of leads. In order to perform various surface treatments (plating, etc.) on the surface of such a lead frame, the lead frames connected in multiples (for example, 3 to 10) are continuously conveyed while being immersed in the treatment liquid. The most common method is to do so. In this case, as the transportation method, a roller transportation method using a roller conveyor, a rack hooking method, a hold / release method using a spring or the like is used.
【0003】ここで、前記リードフレームの表面に施さ
れるめっきとしては、銀などのスポットめっき、こ
のスポットめっきの前処理用のめっき(例えば銅のスト
ライクめっきやニッケルめっき)、外装半田めっき等
の種類がある。Here, as the plating applied to the surface of the lead frame, spot plating of silver or the like, plating for pretreatment of this spot plating (for example, copper strike plating or nickel plating), exterior solder plating, etc. There are types.
【0004】[0004]
【発明が解決しようとする課題】ところで、前述のよう
にリードフレーム表面へのめっきに際して、特に外装半
田めっきにおいてはリードフレームが樹脂モールド済み
であるために搬送中にそのリードフレームに歪みが生じ
易いという不具合があった。このため、従来は、リード
フレームを引掛けて搬送する方式が採られているが、こ
の方式の場合めっき厚にばらつきが発生し易く、要求さ
れる平均膜厚のめっきが行えないという問題点がある。
また、この引掛け方式では、めっき液のめっき槽外への
持ち出しの問題点もある。By the way, as described above, when the lead frame surface is plated, especially in exterior solder plating, since the lead frame is already resin-molded, the lead frame is likely to be distorted during transportation. There was a problem. For this reason, conventionally, a method of hooking and transporting the lead frame has been adopted, but in the case of this method, there is a problem that the plating thickness tends to vary, and the required average film thickness cannot be plated. is there.
Further, this hooking method has a problem that the plating solution is taken out of the plating tank.
【0005】一方、めっきに際して用いられる陰極接点
子については、この陰極接点子に付着するめっきを剥離
してその陰極接点子を再生使用することが好ましいが、
従来用いられている化学剥離方式によるものでは剥離速
度が遅く、また装置が大型化するという問題点があっ
た。また、電解剥離方式によるものでは、めっき処理と
電極の剥離処理とを効率的に行う装置について十分に満
足の得られるものが開発されていないというのが実情で
ある。On the other hand, regarding the cathode contactor used for plating, it is preferable to remove the plating adhering to the cathode contactor and recycle the cathode contactor.
The conventional chemical peeling method has a problem that the peeling speed is slow and the apparatus becomes large. Further, in the fact that the electrolytic stripping method has not been developed yet, a sufficiently satisfactory apparatus for efficiently performing the plating process and the electrode stripping process has not been developed.
【0006】本発明は、このような問題点を解消するた
めになされたもので、めっき厚のばらつきやめっき液の
持ち出しを生ずることのないリードフレームのめっき装
置を提供することを目的とするものである。さらに、本
発明は、めっきに用いる電極の剥離処理を自動的かつ効
率的に行ってその電極を再生使用することのできるリー
ドフレームのめっき装置に用いる電極の剥離装置を提供
することを目的とするものである。The present invention has been made to solve the above problems, and an object of the present invention is to provide a lead frame plating apparatus which does not cause variations in plating thickness and carry-out of plating solution. Is. It is another object of the present invention to provide an electrode peeling device used in a lead frame plating device capable of automatically and efficiently performing a peeling process of an electrode used for plating and reusing the electrode. It is a thing.
【0007】[0007]
【課題を解決するための手段】前述の目的を達成するた
めに、本発明によるリードフレームのめっき装置は、リ
ードフレームをめっき液に浸した状態で搬送しながらそ
のリードフレームの表面にめっきを施すリードフレーム
のめっき装置において、前記リードフレームへ向かう前
記めっき液の液流を形成する液流形成手段を設けること
を特徴とするものである。In order to achieve the above-mentioned object, a lead frame plating apparatus according to the present invention performs plating on the surface of a lead frame while conveying the lead frame while being immersed in a plating solution. In the lead frame plating apparatus, a liquid flow forming means for forming a liquid flow of the plating liquid toward the lead frame is provided.
【0008】ここで、前記液流形成手段としては、リー
ドフレームの下面に対してめっき液を噴き上げるポンプ
とすることができ、またリードフレームの上面に対して
めっき液を自然落下させる貯液タンクおよびその貯液タ
ンクにめっき液を液上げするポンプとすることもでき
る。この場合、めっき用アノード板をめっき液の液流の
外側面に沿うように配置するのが好ましい。Here, the liquid flow forming means may be a pump for spraying the plating solution onto the lower surface of the lead frame, and a storage tank for allowing the plating solution to naturally drop onto the upper surface of the lead frame. It is also possible to use a pump that raises the plating solution to the storage tank. In this case, it is preferable to arrange the anode plate for plating along the outer surface of the liquid flow of the plating solution.
【0009】また、本発明による電極の剥離装置は、リ
ードフレームをめっき液に浸した状態で搬送しながらそ
のリードフレームの表面にめっきを施すリードフレーム
のめっき装置に用いる電極の剥離装置であって、めっき
槽と剥離槽とをそれぞれ貫通して循環駆動される無端状
の電極ワイヤを設け、この電極ワイヤを、前記めっき槽
内ではめっき用アノード板に対向配置するとともに前記
剥離槽内では剥離用アノード板に対向配置することを特
徴とするものである。The electrode stripping apparatus according to the present invention is an electrode stripping apparatus used in a lead frame plating apparatus for plating the surface of a lead frame while transporting the lead frame while being immersed in a plating solution. An endless electrode wire that is circulated through each of the plating tank and the peeling tank is driven, and the electrode wire is arranged to face the plating anode plate in the plating tank and is peeled in the peeling tank. It is characterized in that it is arranged so as to face the anode plate.
【0010】ここで、前記電極ワイヤを接地するととも
に、前記めっき用アノード板を正端子に、前記剥離用ア
ノード板を負端子にそれぞれ接続すると好適である。ま
た、前記電極ワイヤは、めっき槽内においてリードフレ
ームおよびそのリードフレームを搬送する複数の搬送ロ
ーラの双方に接触するように配設するのが好ましい。こ
の場合、互いに隣接する搬送ローラ間に、電極ワイヤを
リードフレームから離隔する位置に退避させる逃がし棒
を設けるのが好ましい。Here, it is preferable that the electrode wire is grounded, and the plating anode plate is connected to a positive terminal and the stripping anode plate is connected to a negative terminal. Further, it is preferable that the electrode wire is arranged so as to come into contact with both the lead frame and a plurality of transport rollers that transport the lead frame in the plating tank. In this case, it is preferable to provide an escape rod for retracting the electrode wire to a position separated from the lead frame between the adjacent transport rollers.
【0011】[0011]
【作用】本発明によるリードフレームのめっき装置にお
いては、リードフレームに対して例えば下方から噴き上
げられるめっき液の液流や、上方から自然落下されるめ
っき液の液流によって、めっき液に浸した状態で搬送さ
れるリードフレームの表面にはめっき液が確実に供給さ
れる。このため、めっき厚のばらつきが防がれてリード
フレームに対して平均した膜厚のめっきが確実になさ
れ、まためっき液のめっき槽外への持ち出しの発生も防
がれる。In the lead frame plating apparatus according to the present invention, the lead frame is immersed in the plating solution by, for example, a flow of the plating solution sprayed from below or a flow of the plating solution spontaneously dropped from above. The plating solution is surely supplied to the surface of the lead frame transported by. Therefore, the variation in the plating thickness is prevented, the plating having the average film thickness is reliably performed on the lead frame, and the plating solution is prevented from being taken out of the plating tank.
【0012】この場合、めっき用アノード板をめっき液
の液流の外側面に沿うように配置すると、めっき液の液
流がリードフレーム側へ確実に向けられ、リードフレー
ム表面へのめっき液の供給がより確実となる。In this case, if the plating anode plate is arranged along the outer surface of the plating solution flow, the plating solution flow is reliably directed to the lead frame side, and the plating solution is supplied to the lead frame surface. Will be more certain.
【0013】また、本発明による電極の剥離装置におい
ては、めっき槽と剥離槽とをそれぞれ貫通して循環駆動
される無端状の電極ワイヤにより、この電極ワイヤがめ
っき槽内にあるときには、この電極ワイヤとめっき用ア
ノード板とによりリードフレーム表面へのめっきがなさ
れ、また電極ワイヤが剥離槽内にあるときには、この電
極ワイヤと剥離用アノード板とによりその電極ワイヤに
付着しためっきが剥離される。こうして、電極ワイヤの
付着めっきの剥離が自動的かつ効率的に行われ、電極の
再生使用に資することができる。In the electrode stripping apparatus according to the present invention, when the electrode wire is in the plating bath, the electrode wire is driven by an endless electrode wire which is circulated through the plating bath and the stripping bath. The surface of the lead frame is plated by the wire and the anode plate for plating, and when the electrode wire is in the peeling tank, the plating adhered to the electrode wire is peeled by the electrode wire and the anode plate for peeling. In this way, the adhered plating of the electrode wire is automatically and efficiently peeled off, which can contribute to the reuse of the electrode.
【0014】この場合、互いに隣接する搬送ローラ間
に、電極ワイヤをリードフレームから離隔する位置に退
避させる逃がし棒を設けると、この電極ワイヤに接触す
るリードフレーム部分にめっきの付着しない跡形が付く
のが防がれ、リードフレームの全面にわたってめっきを
確実に付着させることが可能となる。In this case, if a relief rod for retracting the electrode wire to a position separated from the lead frame is provided between the transport rollers adjacent to each other, the lead frame portion in contact with the electrode wire will have a trace without plating. Is prevented, and the plating can be surely adhered to the entire surface of the lead frame.
【0015】[0015]
【実施例】次に、本発明によるリードフレームのめっき
装置およびそれに用いる電極の剥離装置の具体的実施例
について、図面を参照しつつ説明する。EXAMPLES Next, specific examples of the lead frame plating apparatus and the electrode peeling apparatus used therefor according to the present invention will be described with reference to the drawings.
【0016】図1に本発明の一実施例に係るリードフレ
ームのめっき装置に用いられる搬送装置の斜視図が示さ
れており、図2に同めっき装置の要部構成図(図1のA
矢視図)が示されている。本実施例のめっき装置は、多
連に繋がった状態の樹脂モールド1a済みのリードフレ
ーム1に外装半田めっきを施すめっき工程に適用される
ものである。本実施例に用いられる搬送装置において
は、2本の主支持バー2,2が図示されない支持フレー
ムに支持されて搬送方向に向けて互いに平行配置されて
いる。これら各主支持バー2には、中央部を境にして左
右逆方向にねじが切られてなる拡縮ねじバー3が螺合さ
れ、この拡縮ねじバー3が図示されないモータにて回転
されることにより相互間の間隔が調整可能とされてい
る。また、各主支持バー2には、所定間隔毎にかつ互い
に対向するように支持板4が取り付けられ、各支持板4
には、下部に駆動ギヤ5が、上部に押さえローラとして
のアッパローラ6がそれぞれ枢支されている。FIG. 1 is a perspective view of a carrier device used in a lead frame plating apparatus according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a schematic view of a main part of the plating apparatus (A in FIG. 1).
Arrow view) is shown. The plating apparatus according to the present embodiment is applied to a plating process for performing exterior solder plating on the lead frame 1 that has been resin-molded 1a and is connected in multiple lines. In the transfer device used in this embodiment, two main support bars 2 and 2 are supported by a support frame (not shown) and are arranged in parallel to each other in the transfer direction. An expansion / contraction screw bar 3 formed by threading in the right and left opposite directions with respect to the central portion is screwed into each of the main support bars 2, and the expansion / contraction screw bar 3 is rotated by a motor (not shown). The distance between them is adjustable. A support plate 4 is attached to each main support bar 2 so as to face each other at predetermined intervals.
In the lower part, a drive gear 5 is pivotally supported, and in the upper part, an upper roller 6 as a pressing roller is pivotally supported.
【0017】前記駆動ギヤ5には鍔付きローラ7が一体
に取り付けられている。この鍔付きローラ7は、リード
フレーム1の側縁部の下面を支持するローラ本体7a
と、このローラ本体7aの駆動ギヤ5側に一体に設けら
れる鍔部7bとを有している。ここで、鍔部7bは、鍔
付きローラ7によりリードフレーム1を搬送する際、そ
のリードフレーム1の側縁に当接してそのリードフレー
ム1の幅方向への移動を規制する役目をする。A roller 7 with a collar is integrally attached to the drive gear 5. The flanged roller 7 is a roller main body 7 a that supports the lower surface of the side edge portion of the lead frame 1.
And a flange portion 7b integrally provided on the drive gear 5 side of the roller body 7a. Here, when the lead frame 1 is conveyed by the roller 7 with the collar, the flange portion 7b comes into contact with the side edge of the lead frame 1 and restricts the movement of the lead frame 1 in the width direction.
【0018】図3に示されているように、搬送方向基端
側の互いに対をなす二つの駆動ギヤ5,5には共通の伝
動ギヤ8が噛合されるとともに、互いに隣接する各駆動
ギヤ5,5間には中間ギヤ9が介在されている。ここ
で、中間ギヤ9は主支持バー2に取り付けられている図
示されない支持板に支持され、伝動ギヤ8も図示されな
い支持板に支持されている。こうして、モータ10の回
転により伝動ギヤ8が回転されると各対の駆動ギヤ5が
全て同方向に同期して回転され、これによって各鍔付き
ローラ7が矢印Bで示されるように駆動ギヤ5と同方向
に回転される。As shown in FIG. 3, a common transmission gear 8 is meshed with the two drive gears 5 and 5 forming a pair on the base end side in the carrying direction, and the drive gears 5 adjacent to each other are also engaged. , 5, an intermediate gear 9 is interposed. Here, the intermediate gear 9 is supported by a support plate (not shown) attached to the main support bar 2, and the transmission gear 8 is also supported by a support plate (not shown). In this way, when the transmission gear 8 is rotated by the rotation of the motor 10, all the drive gears 5 of each pair are synchronously rotated in the same direction, whereby the collared rollers 7 are driven by the drive gears 5 as indicated by arrows B. Is rotated in the same direction as.
【0019】前記アッパローラ6は、鍔付きローラ7の
ローラ本体7a上に支持されているリードフレーム1を
上方から押さえるためのものであって、各鍔付きローラ
7のローラ本体7aよりやや内側位置に配設され、図示
されないモータによって鍔付きローラ7と同期して回転
駆動されるようになっている。なお、このアッパローラ
6はフリーローラとすることも可能である。The upper roller 6 presses the lead frame 1 supported on the roller main body 7a of the flanged roller 7 from above, and is located slightly inside the roller main body 7a of each flanged roller 7. It is arranged so as to be rotationally driven in synchronization with the collared roller 7 by a motor (not shown). The upper roller 6 may be a free roller.
【0020】こうして、図2に示されているように、搬
送すべきリードフレーム1はめっき槽11内のめっき液
11aの液面Lより下方に位置するように配置され、そ
のリードフレーム1の足部1bの下面が、同期駆動され
る左右一対の鍔付きローラ7のローラ本体7a上に支持
されるとともに、そのリードフレーム1の足部1bの上
面がアッパローラ6にて押さえられ、これらローラ本体
7aおよびアッパローラ6間に挟まれた状態で前方へ向
けて搬送される。この際、リードフレーム1の両側縁に
はローラ本体7aに一体に設けられている鍔部7bが当
接されることによりリードフレーム1の幅方向への移動
が規制されている。Thus, as shown in FIG. 2, the lead frame 1 to be transported is arranged so as to be positioned below the liquid level L of the plating solution 11a in the plating tank 11, and the legs of the lead frame 1 are placed. The lower surface of the portion 1b is supported on the roller main bodies 7a of the pair of left and right flanged rollers 7 that are synchronously driven, and the upper surface of the foot portion 1b of the lead frame 1 is pressed by the upper roller 6 so that these roller main bodies 7a It is conveyed forward while being sandwiched between the upper rollers 6. At this time, the flange portions 7b provided integrally with the roller body 7a are in contact with both side edges of the lead frame 1 to restrict the movement of the lead frame 1 in the width direction.
【0021】前述のようにして搬送されるリードフレー
ム1の上方および下方には、このリードフレーム1側へ
向けて先窄まり状に配置されるめっき用アノード板(陽
極板)12がそれぞれ設けられている。また、鍔付きロ
ーラ7のローラ本体7aには周方向に溝13が形成され
ており、この溝13内に嵌まり込む形でかつリードフレ
ーム1の足部1bに接触するように円形断面のカソード
ワイヤ(陰極接点帯)14が設けられている。Anode plates (anode plates) 12 for plating, which are arranged in a tapered shape toward the lead frame 1 side, are provided above and below the lead frame 1 conveyed as described above. ing. Further, a groove 13 is formed in the roller body 7a of the flanged roller 7 in the circumferential direction, and the cathode 13 has a circular cross section so as to fit in the groove 13 and to contact the foot portion 1b of the lead frame 1. A wire (cathode contact band) 14 is provided.
【0022】めっき槽11内のめっき液11aは、この
めっき槽11の中央下部に設けられる第1ポンプ15に
よって循環せしめられてリードフレーム1の下面に向か
う噴き上げ液流(図2で矢印Cで示す)が形成されると
ともに、第2ポンプ16によって液上げされて一旦貯液
タンク17に貯められた後供給管18を介してリードフ
レーム1の上面に向かう自然落下的液流(図2で矢印D
で示す)が形成される。これら各液流は、それら液流の
外側面に沿うようにリードフレーム1側へ向けて先窄ま
り状に配置されているめっき用アノード板12によって
そのリードフレーム1の上下面に向けられ、これによっ
てめっき液11aがリードフレーム1表面へ確実に供給
される。The plating solution 11a in the plating tank 11 is circulated by the first pump 15 provided at the lower center of the plating tank 11 and flows toward the lower surface of the lead frame 1 (see arrow C in FIG. 2). ) Is formed, and the liquid is pumped up by the second pump 16 and once stored in the liquid storage tank 17, the free-falling liquid flow toward the upper surface of the lead frame 1 via the supply pipe 18 (arrow D in FIG. 2).
) Is formed. These respective liquid streams are directed to the upper and lower surfaces of the lead frame 1 by the plating anode plate 12 which is arranged in a tapered shape toward the lead frame 1 side along the outer surfaces of the liquid streams. As a result, the plating solution 11a is reliably supplied to the surface of the lead frame 1.
【0023】図4の模式図に示されているように、カソ
ードワイヤ14は、めっき槽11とそのめっき槽11と
は別に設けられる剥離槽19とをそれぞれ貫通するよう
に無端状に配置され、駆動ローラ20によってリードフ
レーム1の搬送方向に鍔付きローラ7と同期して循環駆
動されるようになっている。そして、剥離槽19内には
カソードワイヤ14に対向するように剥離用アノード板
21が設けられている。ここで、カソードワイヤ14
は、めっき用整流器22および剥離用整流器23の各接
地端子に接続され、めっき用アノード板12はめっき用
整流器22の正端子(例えば+5V)に、剥離用アノー
ド板21は剥離用整流器23の負端子(例えば−5V)
にそれぞれ接続されている。こうして、めっき槽11内
では金属イオンがリードフレーム1およびカソードワイ
ヤ14に析出し、剥離槽19内ではカソードワイヤ14
に付着した金属イオンが溶解する。なお、剥離槽19に
おいては槽内の液が図示されない液循環ポンプによって
循環されている。As shown in the schematic view of FIG. 4, the cathode wire 14 is arranged endlessly so as to penetrate through the plating bath 11 and a stripping bath 19 provided separately from the plating bath 11. The drive roller 20 is driven to circulate in synchronization with the flanged roller 7 in the transport direction of the lead frame 1. A stripping anode plate 21 is provided in the stripping tank 19 so as to face the cathode wire 14. Here, the cathode wire 14
Is connected to each ground terminal of the plating rectifier 22 and the stripping rectifier 23, the plating anode plate 12 is a positive terminal (for example, +5 V) of the plating rectifier 22, and the stripping anode plate 21 is a negative electrode of the stripping rectifier 23. Terminal (eg -5V)
Respectively connected to. Thus, metal ions are deposited on the lead frame 1 and the cathode wire 14 in the plating tank 11, and the cathode wire 14 is separated in the peeling tank 19.
The metal ions attached to are dissolved. In the peeling tank 19, the liquid in the tank is circulated by a liquid circulation pump (not shown).
【0024】前記カソードワイヤ14は、また、図5に
示されているように、互いに隣接する鍔付きローラ7,
7間に設けられる逃がし棒24によってそれら鍔付きロ
ーラ7,7間においてリードフレーム1から離隔する位
置に退避されるようになっている。このような逃がし棒
24を設けると、カソードワイヤ14に接触するリード
フレーム部分にめっきの付着しない跡形が付くのを防ぐ
ことができ、リードフレーム1の全面にわたってめっき
を確実に付着させることができる。The cathode wire 14 also includes, as shown in FIG. 5, adjacent flanged rollers 7,
A relief rod 24 provided between the flanged rollers 7 is used to retract the flanged rollers 7, 7 to a position separated from the lead frame 1. By providing such escape rods 24, it is possible to prevent the traces on the lead frame contacting the cathode wires 14 from being left without plating, and it is possible to reliably deposit plating on the entire surface of the lead frame 1.
【0025】本実施例におけるリードフレーム1の搬送
装置において、そのリードフレーム1の搬送時における
変形を防止するため、図6に示されているように、搬送
されるリードフレーム1の樹脂モールド1aの下方位置
に無端状のベルト25を配設し(なお、図6においては
ベルト25の上部のみの断面が示されている。)、この
ベルト25に所定間隔毎にリフトスポンジ26を取り付
けてそれらリフトスポンジ26によりリードフレーム1
の樹脂モールド1aを支持するようにするのが好適であ
る。こうすることで、特にリードフレーム1に向かうめ
っき液の液流を形成した場合におけるリードフレーム1
の変形等を確実に防止することができる。なお、このよ
うな無端状のベルト25は、樹脂モールド1aの下方だ
けでなく上方にも配置することができる。また、めっき
処理を支障なく行うために、ベルト25を穴あきもしく
はメッシュ状のプラスチック製ベルト、好ましくはウレ
タン成形ベルトとするのが良い。In order to prevent the lead frame 1 from being deformed at the time of carrying it in the lead frame 1 carrying device in this embodiment, as shown in FIG. 6, the resin mold 1a of the lead frame 1 being carried is formed. An endless belt 25 is arranged at a lower position (in FIG. 6, only a cross section of the upper portion of the belt 25 is shown), and lift sponges 26 are attached to the belt 25 at predetermined intervals to lift them. Lead frame 1 with sponge 26
It is preferable to support the resin mold 1a. By doing so, the lead frame 1 in the case of forming a liquid flow of the plating solution toward the lead frame 1 in particular
It is possible to reliably prevent the deformation and the like. Note that such an endless belt 25 can be arranged not only below the resin mold 1a but also above it. Further, in order to perform the plating treatment without any trouble, it is preferable that the belt 25 is a perforated or mesh-shaped plastic belt, preferably a urethane molded belt.
【0026】なお、前述の説明では、リードフレーム1
を1列のみで搬送する場合について説明したが、実際の
処理装置においては図示のような搬送装置が横方向(搬
送方向に直交する方向)に複数列並ぶように配置される
とともに、各列の駆動ギヤ5が同期駆動せしめられ、複
数列のリードフレーム1が同時に処理できるようにされ
ている。In the above description, the lead frame 1
Although the description has been made on the case where the sheets are conveyed in only one row, in the actual processing apparatus, the conveying apparatuses as shown in the drawing are arranged side by side in a plurality of rows in the lateral direction (direction orthogonal to the conveying direction) and The drive gear 5 is driven synchronously so that a plurality of rows of lead frames 1 can be processed simultaneously.
【0027】本実施例の搬送装置において、幅の異なる
リードフレーム1を搬送処理する場合には、拡縮ねじバ
ー3をモータにて回転せしめることにより主支持バー
2,2の相互間の間隔をリードフレーム1の幅に合わせ
て調整することができる。したがって、リードフレーム
1の幅が変わってもそのリードフレーム1の搬送時に生
ずる蛇行や搬送つまづき等を防止することができ、それ
ら蛇行等に起因するリードフレーム1の変形等を確実に
防ぐことができる。In the carrying apparatus of the present embodiment, when carrying the lead frames 1 having different widths, the expansion / reduction screw bar 3 is rotated by a motor so that the interval between the main support bars 2 and 2 is leaded. It can be adjusted according to the width of the frame 1. Therefore, even if the width of the lead frame 1 is changed, it is possible to prevent the meandering, the jamming, and the like that occur when the lead frame 1 is conveyed, and it is possible to reliably prevent the lead frame 1 from being deformed due to the meandering and the like. it can.
【0028】本実施例では樹脂モールド済みのリードフ
レームの外装半田めっき工程に適用したものについて説
明したが、めっき液の液流を形成させてめっきを確実に
行うようにする前述の手法は、リードフレーム(ベアー
メタル)に対する銀のスポットめっきや、このスポット
めっきに至る銅のストライクめっきおよびニッケルめっ
き等の前処理めっきに対しても適用することができる。In the present embodiment, the one applied to the exterior solder plating step of the resin-molded lead frame has been described. However, the above-described method for forming the liquid flow of the plating solution to surely perform the plating is It can also be applied to silver spot plating on a frame (bare metal) and pretreatment plating such as copper strike plating and nickel plating leading to this spot plating.
【0029】また、本実施例においては、カソードワイ
ヤ14を鍔付きローラ7のローラ本体7aの溝13内に
嵌まり込むように配置したものについて説明したが、こ
のカソードワイヤは偏平断面形状に形成して、ローラ本
体7aとリードフレーム1との間もしくはアッパローラ
6とリードフレーム1との間に挟み付けるようにしても
良い。In this embodiment, the cathode wire 14 is arranged so as to fit in the groove 13 of the roller body 7a of the flanged roller 7, but the cathode wire is formed to have a flat cross section. Then, it may be sandwiched between the roller body 7a and the lead frame 1 or between the upper roller 6 and the lead frame 1.
【0030】[0030]
【発明の効果】以上に説明したように、本発明のリード
フレームのめっき装置によれば、液流形成手段によりリ
ードフレームの表面にめっき液が確実に供給されるの
で、めっき厚のばらつきを防ぐことができて平均した膜
厚のめっきを確実に行うことができ、めっき液のめっき
槽外への持ち出しの発生も防ぐことができる。この場
合、めっき用アノード板をめっき液の液流の外側面に沿
うように配置すると、めっき液の液流をリードフレーム
側へ確実に向けることができてリードフレーム表面への
めっき液の供給をより確実に行うことができる。As described above, according to the lead frame plating apparatus of the present invention, since the plating solution is reliably supplied to the surface of the lead frame by the liquid flow forming means, variations in plating thickness are prevented. As a result, it is possible to reliably perform plating with an average film thickness, and it is possible to prevent the plating solution from being taken out of the plating tank. In this case, by arranging the plating anode plate along the outer surface of the plating solution flow, the plating solution flow can be reliably directed to the lead frame side, and the plating solution can be supplied to the lead frame surface. It can be performed more reliably.
【0031】また、本発明の電極の剥離装置によれば、
めっき槽と剥離槽とをそれぞれ貫通して循環駆動される
無端状の電極ワイヤが設けられていることによって、電
極ワイヤに付着しためっきの剥離を自動的かつ効率的に
行うことができ、電極の再生使用に資することができ
る。この場合、互いに隣接する搬送ローラ間に、電極ワ
イヤをリードフレームから離隔する位置に退避させる逃
がし棒を設けると、この電極ワイヤに接触するリードフ
レーム部分にめっきの付着しない跡形が付くのが防が
れ、リードフレームの全面にわたってめっきを確実に付
着させることができる。According to the electrode peeling apparatus of the present invention,
Since the endless electrode wire that is circulated and driven through the plating tank and the stripping tank is provided, the plating adhered to the electrode wire can be stripped automatically and efficiently. Can be used for recycling. In this case, if a relief rod for retracting the electrode wire away from the lead frame is provided between the transport rollers adjacent to each other, it is possible to prevent the lead frame portion in contact with the electrode wire from being left with a trace without plating. Therefore, the plating can be surely adhered to the entire surface of the lead frame.
【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]
【図1】図1は、本発明の一実施例に係るリードフレー
ムのめっき装置に用いられる搬送装置の斜視図である。FIG. 1 is a perspective view of a transfer device used in a lead frame plating apparatus according to an embodiment of the present invention.
【図2】図2は、本実施例のめっき装置の要部構成図
(図1のA矢視図)である。FIG. 2 is a configuration diagram (a view from an arrow A in FIG. 1) of a main part of the plating apparatus of the present embodiment.
【図3】図3は、リードフレームの搬送装置における駆
動機構説明図である。FIG. 3 is an explanatory diagram of a drive mechanism in a lead frame transport device.
【図4】図4は、本実施例のめっき装置の給電系統説明
図である。FIG. 4 is an explanatory diagram of a power supply system of the plating apparatus of this embodiment.
【図5】図5は、本実施例のめっき装置の部分側面図で
ある。FIG. 5 is a partial side view of the plating apparatus of this embodiment.
【図6】図6は、本実施例の変形例を示す要部構成図で
ある。FIG. 6 is a main part configuration diagram showing a modified example of the present embodiment.
1 リードフレーム 7 鍔付きローラ(搬送ローラ) 11 めっき槽 11a めっき液 12 めっき用アノード板 14 カソードワイヤ(電極ワイヤ) 15 第1ポンプ 16 第2ポンプ 17 貯液タンク 18 供給管 19 剥離槽 21 剥離用アノード板 22 めっき用整流器 23 剥離用整流器 1 Lead Frame 7 Roller with Collar (Conveying Roller) 11 Plating Tank 11a Plating Solution 12 Anode Plate for Plating 14 Cathode Wire (Electrode Wire) 15 First Pump 16 Second Pump 17 Liquid Storage Tank 18 Supply Pipe 19 Stripping Tank 21 Stripping Anode plate 22 Rectifier for plating 23 Rectifier for peeling
Claims (8)
で搬送しながらそのリードフレームの表面にめっきを施
すリードフレームのめっき装置において、前記リードフ
レームへ向かう前記めっき液の液流を形成する液流形成
手段を設けることを特徴とするリードフレームのめっき
装置。1. A liquid flow for forming a liquid flow of the plating solution toward the lead frame in a plating apparatus for a lead frame for plating the surface of the lead frame while being transported while being immersed in the plating solution. An apparatus for plating a lead frame, characterized by comprising forming means.
ムの下面に対して前記めっき液を噴き上げるポンプであ
る請求項1に記載のリードフレームのめっき装置。2. The lead frame plating apparatus according to claim 1, wherein the liquid flow forming means is a pump that sprays the plating solution onto the lower surface of the lead frame.
ムの上面に対して前記めっき液を自然落下させる貯液タ
ンクおよびその貯液タンクに前記めっき液を液上げする
ポンプである請求項1または2に記載のリードフレーム
のめっき装置。3. The liquid flow forming means is a liquid storage tank that naturally drops the plating liquid onto the upper surface of the lead frame, and a pump that raises the plating liquid to the liquid storage tank. 2. The lead frame plating apparatus described in 2.
流の外側面に沿うように配置される請求項1乃至3のう
ちのいずれかに記載のリードフレームのめっき装置。4. The lead frame plating apparatus according to claim 1, wherein the plating anode plate is arranged along an outer surface of the liquid flow of the plating solution.
で搬送しながらそのリードフレームの表面にめっきを施
すリードフレームのめっき装置に用いる電極の剥離装置
であって、めっき槽と剥離槽とをそれぞれ貫通して循環
駆動される無端状の電極ワイヤを設け、この電極ワイヤ
を、前記めっき槽内ではめっき用アノード板に対向配置
するとともに前記剥離槽内では剥離用アノード板に対向
配置することを特徴とする電極の剥離装置。5. An electrode stripping device for use in a lead frame plating device for plating the surface of a lead frame while transporting the lead frame while being immersed in a plating solution, wherein a plating bath and a stripping bath are respectively provided. An endless electrode wire that penetrates and is driven to circulate is provided, and the electrode wire is arranged to face the plating anode plate in the plating tank and to face the peeling anode plate in the peeling tank. An electrode peeling device.
前記めっき用アノード板が正端子に、前記剥離用アノー
ド板が負端子にそれぞれ接続される請求項5に記載の電
極の剥離装置。6. The electrode wire is grounded, and
The electrode stripping device according to claim 5, wherein the plating anode plate is connected to a positive terminal and the stripping anode plate is connected to a negative terminal.
いて前記リードフレームおよびそのリードフレームを搬
送する複数の搬送ローラの双方に接触するように配設さ
れる請求項5または6に記載の電極の剥離装置。7. The electrode according to claim 5, wherein the electrode wire is arranged so as to be in contact with both the lead frame and a plurality of transport rollers that transport the lead frame in the plating bath. Peeling device.
電極ワイヤを前記リードフレームから離隔する位置に退
避させる逃がし棒が設けられる請求項7に記載の電極の
剥離装置。8. The electrode peeling device according to claim 7, wherein a relief rod for retracting the electrode wire to a position separated from the lead frame is provided between the transport rollers adjacent to each other.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4432094A JPH07254674A (en) | 1994-03-15 | 1994-03-15 | Plating equipment for lead frame and electrode stripping apparatus therefor |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4432094A JPH07254674A (en) | 1994-03-15 | 1994-03-15 | Plating equipment for lead frame and electrode stripping apparatus therefor |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07254674A true JPH07254674A (en) | 1995-10-03 |
Family
ID=12688203
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4432094A Withdrawn JPH07254674A (en) | 1994-03-15 | 1994-03-15 | Plating equipment for lead frame and electrode stripping apparatus therefor |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07254674A (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007238995A (en) * | 2006-03-07 | 2007-09-20 | Nec Tokin Corp | Electroplating equipment |
-
1994
- 1994-03-15 JP JP4432094A patent/JPH07254674A/en not_active Withdrawn
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007238995A (en) * | 2006-03-07 | 2007-09-20 | Nec Tokin Corp | Electroplating equipment |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4401522A (en) | Plating method and apparatus | |
| US4371422A (en) | Continuous processing of printed circuit boards | |
| US4534843A (en) | Apparatus for electroplating and chemically treating contact elements of encapsulated electronic components and their like | |
| US4155815A (en) | Method of continuous electroplating and continuous electroplating machine for printed circuit board terminals | |
| CN1849415A (en) | Device and method for electrolytically treating electrically insulated structures | |
| US4427019A (en) | Chemical process apparatus | |
| US4132617A (en) | Apparatus for continuous application of strip-, ribbon- or patch-shaped coatings to a metal tape | |
| US5378307A (en) | Fluid treatment apparatus | |
| US4508611A (en) | Apparatus for electroplating and chemically treating the contact elements of encapsulated electronic components and like devices | |
| KR970073249A (en) | MANUFACTURING LINE FOR MULTI-LAYERED PRINTED CIRCUIT BOARD | |
| CN111247272A (en) | Surface treatment device | |
| JPH07254674A (en) | Plating equipment for lead frame and electrode stripping apparatus therefor | |
| CN1969065A (en) | Device and method for electrolytically treating flat work pieces | |
| JPS5845399A (en) | Plating device | |
| JP2003218497A (en) | Substrate processing equipment | |
| JP2000129486A (en) | Electrodeposition resist forming method and electrodeposition resist forming apparatus | |
| JP2944963B2 (en) | Unnecessary plating electrolytic stripping method and apparatus for short lead frame | |
| JP6662231B2 (en) | Power supply jig, work holding jig, chemical processing equipment | |
| ATE42972T1 (en) | DEVICE AND METHOD FOR ELECTRICAL METAL PLATING. | |
| JPH08172271A (en) | Printed circuit board plating method | |
| JPH06108297A (en) | Chemical treatment device | |
| KR100270067B1 (en) | Method and device for coating different double-faced of pcb | |
| JP2009074126A (en) | Plating method and device therefor | |
| JPH0941152A (en) | Electroless plating method and device therefor | |
| JPH08225986A (en) | Electrodeposition method and device therefor |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20010605 |