JPH07258582A - 被覆用組成物、それを用いた表面被覆成形物、及びその製造方法 - Google Patents
被覆用組成物、それを用いた表面被覆成形物、及びその製造方法Info
- Publication number
- JPH07258582A JPH07258582A JP1545695A JP1545695A JPH07258582A JP H07258582 A JPH07258582 A JP H07258582A JP 1545695 A JP1545695 A JP 1545695A JP 1545695 A JP1545695 A JP 1545695A JP H07258582 A JPH07258582 A JP H07258582A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- meth
- acrylate
- coating composition
- acid
- weight
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 title claims description 138
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 11
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 227
- -1 acryloyloxy groups Chemical group 0.000 claims abstract description 196
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 claims abstract description 95
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims abstract description 85
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 claims abstract description 81
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 67
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 50
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 claims abstract description 15
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 claims description 43
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 37
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 27
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 22
- 239000002612 dispersion medium Substances 0.000 claims description 17
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 15
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 claims description 11
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 6
- YZCKVEUIGOORGS-IGMARMGPSA-N Protium Chemical compound [1H] YZCKVEUIGOORGS-IGMARMGPSA-N 0.000 claims description 4
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 claims 5
- 238000000576 coating method Methods 0.000 abstract description 79
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 abstract description 75
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 28
- 239000002904 solvent Substances 0.000 abstract description 26
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 152
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 71
- 239000000047 product Substances 0.000 description 57
- 239000008119 colloidal silica Substances 0.000 description 40
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 38
- 238000000034 method Methods 0.000 description 36
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 35
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 33
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 30
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 30
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N Succinic acid Natural products OC(=O)CCC(O)=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 26
- QXJQHYBHAIHNGG-UHFFFAOYSA-N trimethylolethane Chemical compound OCC(C)(CO)CO QXJQHYBHAIHNGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 23
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 22
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 22
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 20
- WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N adipic acid Chemical compound OC(=O)CCCCC(O)=O WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 20
- CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-N sebacic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCCCC(O)=O CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 18
- XITRBUPOXXBIJN-UHFFFAOYSA-N bis(2,2,6,6-tetramethylpiperidin-4-yl) decanedioate Chemical compound C1C(C)(C)NC(C)(C)CC1OC(=O)CCCCCCCCC(=O)OC1CC(C)(C)NC(C)(C)C1 XITRBUPOXXBIJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 18
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 18
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 18
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 17
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N Fumaric acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 16
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 16
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 16
- 229920006267 polyester film Polymers 0.000 description 16
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 16
- 239000004611 light stabiliser Substances 0.000 description 15
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 14
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 13
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 12
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 12
- 239000001384 succinic acid Substances 0.000 description 12
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 12
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 description 11
- TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- LTPSRQRIPCVMKQ-UHFFFAOYSA-N 2-amino-5-methylbenzenesulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(N)C(S(O)(=O)=O)=C1 LTPSRQRIPCVMKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 102100027370 Parathymosin Human genes 0.000 description 10
- NJSVDVPGINTNGX-UHFFFAOYSA-N [dimethoxy(propyl)silyl]oxymethanamine Chemical compound CCC[Si](OC)(OC)OCN NJSVDVPGINTNGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000001361 adipic acid Substances 0.000 description 10
- 235000011037 adipic acid Nutrition 0.000 description 10
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 10
- WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N butane-1,4-diol Chemical compound OCCCCO WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 10
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 10
- 238000001879 gelation Methods 0.000 description 10
- ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N isobutanol Chemical compound CC(C)CO ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- YLHXLHGIAMFFBU-UHFFFAOYSA-N methyl phenylglyoxalate Chemical compound COC(=O)C(=O)C1=CC=CC=C1 YLHXLHGIAMFFBU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 9
- 229940116351 sebacate Drugs 0.000 description 9
- CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-L sebacate(2-) Chemical compound [O-]C(=O)CCCCCCCCC([O-])=O CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 9
- RTBFRGCFXZNCOE-UHFFFAOYSA-N 1-methylsulfonylpiperidin-4-one Chemical compound CS(=O)(=O)N1CCC(=O)CC1 RTBFRGCFXZNCOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- PTJWCLYPVFJWMP-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO PTJWCLYPVFJWMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropan-1-amine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCN SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 229920000297 Rayon Polymers 0.000 description 8
- JFCQEDHGNNZCLN-UHFFFAOYSA-N anhydrous glutaric acid Natural products OC(=O)CCCC(O)=O JFCQEDHGNNZCLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 8
- 239000001530 fumaric acid Substances 0.000 description 8
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 8
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 8
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 8
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 8
- OWYWGLHRNBIFJP-UHFFFAOYSA-N Ipazine Chemical compound CCN(CC)C1=NC(Cl)=NC(NC(C)C)=N1 OWYWGLHRNBIFJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 7
- VFHVQBAGLAREND-UHFFFAOYSA-N diphenylphosphoryl-(2,4,6-trimethylphenyl)methanone Chemical compound CC1=CC(C)=CC(C)=C1C(=O)P(=O)(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 VFHVQBAGLAREND-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 7
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 7
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 7
- YEYCMBWKTZNPDH-UHFFFAOYSA-N (2,2,6,6-tetramethylpiperidin-4-yl) benzoate Chemical compound C1C(C)(C)NC(C)(C)CC1OC(=O)C1=CC=CC=C1 YEYCMBWKTZNPDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- LTQBNYCMVZQRSD-UHFFFAOYSA-N (4-ethenylphenyl)-trimethoxysilane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C1=CC=C(C=C)C=C1 LTQBNYCMVZQRSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- ALVZNPYWJMLXKV-UHFFFAOYSA-N 1,9-Nonanediol Chemical compound OCCCCCCCCCO ALVZNPYWJMLXKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- UWHCKJMYHZGTIT-UHFFFAOYSA-N Tetraethylene glycol, Natural products OCCOCCOCCOCCO UWHCKJMYHZGTIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N benzotriazole Chemical compound C1=CC=C2N[N][N]C2=C1 QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000012964 benzotriazole Substances 0.000 description 6
- RSOILICUEWXSLA-UHFFFAOYSA-N bis(1,2,2,6,6-pentamethylpiperidin-4-yl) decanedioate Chemical compound C1C(C)(C)N(C)C(C)(C)CC1OC(=O)CCCCCCCCC(=O)OC1CC(C)(C)N(C)C(C)(C)C1 RSOILICUEWXSLA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 6
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 6
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 6
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 6
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 6
- XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diol Chemical compound OCCCCCCO XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 6
- ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(phenyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C1=CC=CC=C1 ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000006097 ultraviolet radiation absorber Substances 0.000 description 6
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 5
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 5
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 5
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 5
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 5
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229920000193 polymethacrylate Polymers 0.000 description 5
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 5
- DTGKSKDOIYIVQL-WEDXCCLWSA-N (+)-borneol Chemical group C1C[C@@]2(C)[C@@H](O)C[C@@H]1C2(C)C DTGKSKDOIYIVQL-WEDXCCLWSA-N 0.000 description 4
- PUPZLCDOIYMWBV-UHFFFAOYSA-N (+/-)-1,3-Butanediol Chemical compound CC(O)CCO PUPZLCDOIYMWBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N (3-aminopropyl)triethoxysilane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCN WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ARXKVVRQIIOZGF-UHFFFAOYSA-N 1,2,4-butanetriol Chemical compound OCCC(O)CO ARXKVVRQIIOZGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- RKMGAJGJIURJSJ-UHFFFAOYSA-N 2,2,6,6-Tetramethylpiperidine Substances CC1(C)CCCC(C)(C)N1 RKMGAJGJIURJSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IYAZLDLPUNDVAG-UHFFFAOYSA-N 2-(benzotriazol-2-yl)-4-(2,4,4-trimethylpentan-2-yl)phenol Chemical compound CC(C)(C)CC(C)(C)C1=CC=C(O)C(N2N=C3C=CC=CC3=N2)=C1 IYAZLDLPUNDVAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WXHVQMGINBSVAY-UHFFFAOYSA-N 2-(benzotriazol-2-yl)-4-tert-butylphenol Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=C(O)C(N2N=C3C=CC=CC3=N2)=C1 WXHVQMGINBSVAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XMLYCEVDHLAQEL-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one Chemical compound CC(C)(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 XMLYCEVDHLAQEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000000954 2-hydroxyethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])O[H] 0.000 description 4
- FIHBHSQYSYVZQE-UHFFFAOYSA-N 6-prop-2-enoyloxyhexyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCCCCCOC(=O)C=C FIHBHSQYSYVZQE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ROWKJAVDOGWPAT-UHFFFAOYSA-N Acetoin Chemical compound CC(O)C(C)=O ROWKJAVDOGWPAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 4
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N Terephthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N [3-prop-2-enoyloxy-2-[[3-prop-2-enoyloxy-2,2-bis(prop-2-enoyloxymethyl)propoxy]methyl]-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 4
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 4
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 4
- ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N benzoin Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 4
- OSIVCXJNIBEGCL-UHFFFAOYSA-N bis(2,2,6,6-tetramethyl-1-octoxypiperidin-4-yl) decanedioate Chemical compound C1C(C)(C)N(OCCCCCCCC)C(C)(C)CC1OC(=O)CCCCCCCCC(=O)OC1CC(C)(C)N(OCCCCCCCC)C(C)(C)C1 OSIVCXJNIBEGCL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000008859 change Effects 0.000 description 4
- 238000013329 compounding Methods 0.000 description 4
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 4
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 4
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 description 4
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000011161 development Methods 0.000 description 4
- JJQZDUKDJDQPMQ-UHFFFAOYSA-N dimethoxy(dimethyl)silane Chemical compound CO[Si](C)(C)OC JJQZDUKDJDQPMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 4
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 4
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 4
- 229940035429 isobutyl alcohol Drugs 0.000 description 4
- QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N isophthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(C(O)=O)=C1 QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 4
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 4
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 4
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 4
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N methanoic acid Natural products OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- POPACFLNWGUDSR-UHFFFAOYSA-N methoxy(trimethyl)silane Chemical compound CO[Si](C)(C)C POPACFLNWGUDSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N methyltrimethoxysilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)OC BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 4
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 4
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 4
- KBJFYLLAMSZSOG-UHFFFAOYSA-N n-(3-trimethoxysilylpropyl)aniline Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCNC1=CC=CC=C1 KBJFYLLAMSZSOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N neopentyl glycol Chemical compound OCC(C)(C)CO SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 4
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 4
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 4
- 125000000547 substituted alkyl group Chemical group 0.000 description 4
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 4
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 4
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 4
- LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N tetramethyl orthosilicate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)OC LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCO ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 210000002268 wool Anatomy 0.000 description 4
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 4
- XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UDFGCAKEVMRBJU-UHFFFAOYSA-N CC(C[PH2]=O)CC(C)(C)C Chemical compound CC(C[PH2]=O)CC(C)(C)C UDFGCAKEVMRBJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 3
- LFOXEOLGJPJZAA-UHFFFAOYSA-N [(2,6-dimethoxybenzoyl)-(2,4,4-trimethylpentyl)phosphoryl]-(2,6-dimethoxyphenyl)methanone Chemical compound COC1=CC=CC(OC)=C1C(=O)P(=O)(CC(C)CC(C)(C)C)C(=O)C1=C(OC)C=CC=C1OC LFOXEOLGJPJZAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 3
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 3
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 3
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 3
- MCPKSFINULVDNX-UHFFFAOYSA-N drometrizole Chemical compound CC1=CC=C(O)C(N2N=C3C=CC=CC3=N2)=C1 MCPKSFINULVDNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- SBRXLTRZCJVAPH-UHFFFAOYSA-N ethyl(trimethoxy)silane Chemical compound CC[Si](OC)(OC)OC SBRXLTRZCJVAPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N isocyanuric acid Chemical compound OC1=NC(O)=NC(O)=N1 ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 3
- 238000002715 modification method Methods 0.000 description 3
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 3
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- AJOJTMNIQSTBAP-UHFFFAOYSA-N (1,2,2,6,6-pentamethylpiperidin-3-yl) prop-2-enoate Chemical compound CN1C(C)(C)CCC(OC(=O)C=C)C1(C)C AJOJTMNIQSTBAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BZBPKKCQTLWTGD-UHFFFAOYSA-N (2-ethenylphenyl)-trimethoxysilane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C1=CC=CC=C1C=C BZBPKKCQTLWTGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LCXCLBUJRIUARF-UHFFFAOYSA-N (3,5-dimethyl-1-adamantyl) prop-2-enoate Chemical compound C1C(C2)CC3(C)CC1(C)CC2(OC(=O)C=C)C3 LCXCLBUJRIUARF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WXUIXCLQMXECCL-UHFFFAOYSA-N (3-ethenylphenyl)-trimethoxysilane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C1=CC=CC(C=C)=C1 WXUIXCLQMXECCL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PSGCQDPCAWOCSH-UHFFFAOYSA-N (4,7,7-trimethyl-3-bicyclo[2.2.1]heptanyl) prop-2-enoate Chemical compound C1CC2(C)C(OC(=O)C=C)CC1C2(C)C PSGCQDPCAWOCSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYPXPXLQPKBHKU-UHFFFAOYSA-N (4-ethenylphenyl)-diethoxy-methylsilane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)C1=CC=C(C=C)C=C1 VYPXPXLQPKBHKU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZQNCDMFVZBTBAJ-UHFFFAOYSA-N (4-ethenylphenyl)-dimethoxy-phenylsilane Chemical compound C=1C=C(C=C)C=CC=1[Si](OC)(OC)C1=CC=CC=C1 ZQNCDMFVZBTBAJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PNBJNKCBTJHXEO-UHFFFAOYSA-N (4-ethenylphenyl)-methoxy-dimethylsilane Chemical compound CO[Si](C)(C)C1=CC=C(C=C)C=C1 PNBJNKCBTJHXEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LTZVOIIBZJCWMJ-UHFFFAOYSA-N (4-ethenylphenyl)-tri(propan-2-yloxy)silane Chemical compound CC(C)O[Si](OC(C)C)(OC(C)C)C1=CC=C(C=C)C=C1 LTZVOIIBZJCWMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ORFPMGWJDWEAAQ-UHFFFAOYSA-N (4-ethenylphenyl)-triethoxysilane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C1=CC=C(C=C)C=C1 ORFPMGWJDWEAAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SWFHGTMLYIBPPA-UHFFFAOYSA-N (4-methoxyphenyl)-phenylmethanone Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 SWFHGTMLYIBPPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-triazine Chemical compound C1=CN=NN=C1 JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UYEDESPZQLZMCL-UHFFFAOYSA-N 1,2-dimethylthioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=C(C)C(C)=CC=C3SC2=C1 UYEDESPZQLZMCL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MSAHTMIQULFMRG-UHFFFAOYSA-N 1,2-diphenyl-2-propan-2-yloxyethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC(C)C)C(=O)C1=CC=CC=C1 MSAHTMIQULFMRG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BPXVHIRIPLPOPT-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-tris(2-hydroxyethyl)-1,3,5-triazinane-2,4,6-trione Chemical compound OCCN1C(=O)N(CCO)C(=O)N(CCO)C1=O BPXVHIRIPLPOPT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940043375 1,5-pentanediol Drugs 0.000 description 2
- VZXPHDGHQXLXJC-UHFFFAOYSA-N 1,6-diisocyanato-5,6-dimethylheptane Chemical compound O=C=NC(C)(C)C(C)CCCCN=C=O VZXPHDGHQXLXJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DKEGCUDAFWNSSO-UHFFFAOYSA-N 1,8-dibromooctane Chemical compound BrCCCCCCCCBr DKEGCUDAFWNSSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MLKIVXXYTZKNMI-UHFFFAOYSA-N 1-(4-dodecylphenyl)-2-hydroxy-2-methylpropan-1-one Chemical compound CCCCCCCCCCCCC1=CC=C(C(=O)C(C)(C)O)C=C1 MLKIVXXYTZKNMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PHPRWKJDGHSJMI-UHFFFAOYSA-N 1-adamantyl prop-2-enoate Chemical compound C1C(C2)CC3CC2CC1(OC(=O)C=C)C3 PHPRWKJDGHSJMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WQHNZXURJISVCT-UHFFFAOYSA-N 1-butoxyethane-1,2-diol Chemical compound CCCCOC(O)CO WQHNZXURJISVCT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012956 1-hydroxycyclohexylphenyl-ketone Substances 0.000 description 2
- 125000004206 2,2,2-trifluoroethyl group Chemical group [H]C([H])(*)C(F)(F)F 0.000 description 2
- PIZHFBODNLEQBL-UHFFFAOYSA-N 2,2-diethoxy-1-phenylethanone Chemical compound CCOC(OCC)C(=O)C1=CC=CC=C1 PIZHFBODNLEQBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BRKORVYTKKLNKX-UHFFFAOYSA-N 2,4-di(propan-2-yl)thioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(C(C)C)=CC(C(C)C)=C3SC2=C1 BRKORVYTKKLNKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UXCIJKOCUAQMKD-UHFFFAOYSA-N 2,4-dichlorothioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(Cl)=CC(Cl)=C3SC2=C1 UXCIJKOCUAQMKD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BTJPUDCSZVCXFQ-UHFFFAOYSA-N 2,4-diethylthioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(CC)=CC(CC)=C3SC2=C1 BTJPUDCSZVCXFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NDWDBJJUEAHSHF-UHFFFAOYSA-N 2,6-dihydroxy-3,5-bis[4-(2-hydroxyethoxy)phenyl]-2,6-dimethylheptan-4-one Chemical compound C=1C=C(OCCO)C=CC=1C(C(C)(O)C)C(=O)C(C(C)(C)O)C1=CC=C(OCCO)C=C1 NDWDBJJUEAHSHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YHYCMHWTYHPIQS-UHFFFAOYSA-N 2-(2-hydroxyethoxy)-1-methoxyethanol Chemical compound COC(O)COCCO YHYCMHWTYHPIQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RKYJPYDJNQXILT-UHFFFAOYSA-N 2-(2-prop-2-enoyloxyethoxycarbonyl)benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCOC(=O)C=C RKYJPYDJNQXILT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZMWRRFHBXARRRT-UHFFFAOYSA-N 2-(benzotriazol-2-yl)-4,6-bis(2-methylbutan-2-yl)phenol Chemical compound CCC(C)(C)C1=CC(C(C)(C)CC)=CC(N2N=C3C=CC=CC3=N2)=C1O ZMWRRFHBXARRRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LHPPDQUVECZQSW-UHFFFAOYSA-N 2-(benzotriazol-2-yl)-4,6-ditert-butylphenol Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(C(C)(C)C)=CC(N2N=C3C=CC=CC3=N2)=C1O LHPPDQUVECZQSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PQJZHMCWDKOPQG-UHFFFAOYSA-N 2-anilino-2-oxoacetic acid Chemical compound OC(=O)C(=O)NC1=CC=CC=C1 PQJZHMCWDKOPQG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZCDADJXRUCOCJE-UHFFFAOYSA-N 2-chlorothioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(Cl)=CC=C3SC2=C1 ZCDADJXRUCOCJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OCC)C(=O)C1=CC=CC=C1 KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QPXVRLXJHPTCPW-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-2-methyl-1-(4-propan-2-ylphenyl)propan-1-one Chemical compound CC(C)C1=CC=C(C(=O)C(C)(C)O)C=C1 QPXVRLXJHPTCPW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BQZJOQXSCSZQPS-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC)C(=O)C1=CC=CC=C1 BQZJOQXSCSZQPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MYISVPVWAQRUTL-UHFFFAOYSA-N 2-methylthioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(C)=CC=C3SC2=C1 MYISVPVWAQRUTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KTALPKYXQZGAEG-UHFFFAOYSA-N 2-propan-2-ylthioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(C(C)C)=CC=C3SC2=C1 KTALPKYXQZGAEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QTCSRYZHMKBAPX-UHFFFAOYSA-N 3-(4-ethenylphenyl)propyl-dimethoxysilane Chemical compound CO[SiH](CCCc1ccc(C=C)cc1)OC QTCSRYZHMKBAPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TZVMHTHUWCFVQH-UHFFFAOYSA-N 3-[ethyl(dimethoxy)silyl]propan-1-amine Chemical compound CC[Si](OC)(OC)CCCN TZVMHTHUWCFVQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MCLXOMWIZZCOCA-UHFFFAOYSA-N 3-[methoxy(dimethyl)silyl]propan-1-amine Chemical compound CO[Si](C)(C)CCCN MCLXOMWIZZCOCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BMYNFMYTOJXKLE-UHFFFAOYSA-N 3-azaniumyl-2-hydroxypropanoate Chemical compound NCC(O)C(O)=O BMYNFMYTOJXKLE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BUZICZZQJDLXJN-UHFFFAOYSA-N 3-azaniumyl-4-hydroxybutanoate Chemical compound OCC(N)CC(O)=O BUZICZZQJDLXJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methoxyphenyl)aniline Chemical compound COC1=CC=CC(C=2C=CC(N)=CC=2)=C1 OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UZDMJPAQQFSMMV-UHFFFAOYSA-N 4-oxo-4-(2-prop-2-enoyloxyethoxy)butanoic acid Chemical compound OC(=O)CCC(=O)OCCOC(=O)C=C UZDMJPAQQFSMMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ACAYZXFEFNEADF-UHFFFAOYSA-N 5-(4-carboxybutylsulfanyl)pentanoic acid Chemical compound OC(=O)CCCCSCCCCC(O)=O ACAYZXFEFNEADF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UWSMKYBKUPAEJQ-UHFFFAOYSA-N 5-Chloro-2-(3,5-di-tert-butyl-2-hydroxyphenyl)-2H-benzotriazole Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(C(C)(C)C)=CC(N2N=C3C=C(Cl)C=CC3=N2)=C1O UWSMKYBKUPAEJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BVEYJWQCMOVMAR-UHFFFAOYSA-N 5-Hydroxy-4-octanone Chemical compound CCCC(O)C(=O)CCC BVEYJWQCMOVMAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RAZWNFJQEZAVOT-UHFFFAOYSA-N 8-acetyl-3-dodecyl-7,7,9,9-tetramethyl-1,3,8-triazaspiro[4.5]decane-2,4-dione Chemical compound O=C1N(CCCCCCCCCCCC)C(=O)NC11CC(C)(C)N(C(C)=O)C(C)(C)C1 RAZWNFJQEZAVOT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YJIDJZMBGGBFMU-UHFFFAOYSA-N 8-ethyldodecane-4,6-diol Chemical compound CCCCC(CC)CC(O)CC(O)CCC YJIDJZMBGGBFMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PGDIJTMOHORACQ-UHFFFAOYSA-N 9-prop-2-enoyloxynonyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCCCCCCCCOC(=O)C=C PGDIJTMOHORACQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004342 Benzoyl peroxide Substances 0.000 description 2
- OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N Benzoylperoxide Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)OOC(=O)C1=CC=CC=C1 OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NLFFJDRFHUSMFC-UHFFFAOYSA-N CO[SiH](Cc1cccc(c1)C(C)=C)OC Chemical compound CO[SiH](Cc1cccc(c1)C(C)=C)OC NLFFJDRFHUSMFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JUUAHNKNHPYGSB-UHFFFAOYSA-N CO[SiH](Cc1ccccc1C=C)OC Chemical compound CO[SiH](Cc1ccccc1C=C)OC JUUAHNKNHPYGSB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AJTVQQFMXNOEIE-UHFFFAOYSA-N CO[SiH](OC)CC1=CC=C(C=C)C=C1 Chemical compound CO[SiH](OC)CC1=CC=C(C=C)C=C1 AJTVQQFMXNOEIE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PMTLKZZHPSQZHV-UHFFFAOYSA-N CO[SiH](OC)CCC1=CC=C(C=C)C=C1 Chemical compound CO[SiH](OC)CCC1=CC=C(C=C)C=C1 PMTLKZZHPSQZHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 2
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 229920000298 Cellophane Polymers 0.000 description 2
- 229920001651 Cyanoacrylate Polymers 0.000 description 2
- QEVGZEDELICMKH-UHFFFAOYSA-N Diglycolic acid Chemical compound OC(=O)COCC(O)=O QEVGZEDELICMKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N Dodecane Natural products CCCCCCCCCCCC SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 2
- 239000005057 Hexamethylene diisocyanate Substances 0.000 description 2
- 239000005058 Isophorone diisocyanate Substances 0.000 description 2
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- MWCLLHOVUTZFKS-UHFFFAOYSA-N Methyl cyanoacrylate Chemical compound COC(=O)C(=C)C#N MWCLLHOVUTZFKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical class CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ADYVCZCQSVYNPQ-UHFFFAOYSA-N N=C=O.N=C=O.C=1C=CC=CC=1C(C)C1=CC=CC=C1 Chemical compound N=C=O.N=C=O.C=1C=CC=CC=1C(C)C1=CC=CC=C1 ADYVCZCQSVYNPQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ALQSHHUCVQOPAS-UHFFFAOYSA-N Pentane-1,5-diol Chemical compound OCCCCCO ALQSHHUCVQOPAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000000126 Styrax benzoin Nutrition 0.000 description 2
- 244000028419 Styrax benzoin Species 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000008411 Sumatra benzointree Nutrition 0.000 description 2
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 2
- XOWNOZSXMUQUBX-UHFFFAOYSA-N [3-hydroxy-3-(isocyanatomethyl)-5-prop-2-enoyloxypentyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCC(O)(CCOC(=O)C=C)CN=C=O XOWNOZSXMUQUBX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YIMQCDZDWXUDCA-UHFFFAOYSA-N [4-(hydroxymethyl)cyclohexyl]methanol Chemical compound OCC1CCC(CO)CC1 YIMQCDZDWXUDCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000011054 acetic acid Nutrition 0.000 description 2
- 125000003647 acryloyl group Chemical group O=C([*])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 2
- 238000007754 air knife coating Methods 0.000 description 2
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 2
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 2
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 description 2
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 238000007611 bar coating method Methods 0.000 description 2
- 229960002130 benzoin Drugs 0.000 description 2
- 235000019400 benzoyl peroxide Nutrition 0.000 description 2
- 230000005250 beta ray Effects 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- MQDJYUACMFCOFT-UHFFFAOYSA-N bis[2-(1-hydroxycyclohexyl)phenyl]methanone Chemical compound C=1C=CC=C(C(=O)C=2C(=CC=CC=2)C2(O)CCCCC2)C=1C1(O)CCCCC1 MQDJYUACMFCOFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OCWYEMOEOGEQAN-UHFFFAOYSA-N bumetrizole Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(C)=CC(N2N=C3C=C(Cl)C=CC3=N2)=C1O OCWYEMOEOGEQAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CDQSJQSWAWPGKG-UHFFFAOYSA-N butane-1,1-diol Chemical compound CCCC(O)O CDQSJQSWAWPGKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OWBTYPJTUOEWEK-UHFFFAOYSA-N butane-2,3-diol Chemical compound CC(O)C(C)O OWBTYPJTUOEWEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N butanedioic acid Chemical compound O[14C](=O)CC[14C](O)=O KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N 0.000 description 2
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 239000011203 carbon fibre reinforced carbon Substances 0.000 description 2
- 150000001728 carbonyl compounds Chemical class 0.000 description 2
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 2
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 2
- 229920006217 cellulose acetate butyrate Polymers 0.000 description 2
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 description 2
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- IFDVQVHZEKPUSC-UHFFFAOYSA-N cyclohex-3-ene-1,2-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1CCC=CC1C(O)=O IFDVQVHZEKPUSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KBLWLMPSVYBVDK-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC1CCCCC1 KBLWLMPSVYBVDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GGPVNYCGLUEERR-UHFFFAOYSA-N cyclopenten-1-yl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC1=CCCC1 GGPVNYCGLUEERR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BTQLDZMOTPTCGG-UHFFFAOYSA-N cyclopentyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC1CCCC1 BTQLDZMOTPTCGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LSXWFXONGKSEMY-UHFFFAOYSA-N di-tert-butyl peroxide Chemical compound CC(C)(C)OOC(C)(C)C LSXWFXONGKSEMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004386 diacrylate group Chemical group 0.000 description 2
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 2
- KORSJDCBLAPZEQ-UHFFFAOYSA-N dicyclohexylmethane-4,4'-diisocyanate Chemical compound C1CC(N=C=O)CCC1CC1CCC(N=C=O)CC1 KORSJDCBLAPZEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TZAMQIAPGYOUKF-UHFFFAOYSA-N diethoxyphosphoryl(phenyl)methanone Chemical compound CCOP(=O)(OCC)C(=O)C1=CC=CC=C1 TZAMQIAPGYOUKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol monoethyl ether Chemical compound CCOCCOCCO XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GPLRAVKSCUXZTP-UHFFFAOYSA-N diglycerol Chemical compound OCC(O)COCC(O)CO GPLRAVKSCUXZTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AHUXYBVKTIBBJW-UHFFFAOYSA-N dimethoxy(diphenyl)silane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](OC)(OC)C1=CC=CC=C1 AHUXYBVKTIBBJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- POZWAXQAQMZDBH-UHFFFAOYSA-N dimethoxy-[(4-prop-1-en-2-ylphenyl)methyl]silane Chemical compound CO[SiH](Cc1ccc(cc1)C(C)=C)OC POZWAXQAQMZDBH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CVQVSVBUMVSJES-UHFFFAOYSA-N dimethoxy-methyl-phenylsilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)C1=CC=CC=C1 CVQVSVBUMVSJES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XHLHJWWQGRARSA-UHFFFAOYSA-N dimethoxy-methyl-prop-1-en-2-ylsilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)C(C)=C XHLHJWWQGRARSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 2
- SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N dipropylene glycol Chemical compound OCCCOCCCO SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 2
- FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C=C FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C=C NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WPEOPABGEAWGEK-UHFFFAOYSA-N ethenyl(trimethoxy)silane methoxysilane Chemical compound CO[SiH3].CO[Si](OC)(OC)C=C WPEOPABGEAWGEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MBGQQKKTDDNCSG-UHFFFAOYSA-N ethenyl-diethoxy-methylsilane Chemical compound CCO[Si](C)(C=C)OCC MBGQQKKTDDNCSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZLNAFSPCNATQPQ-UHFFFAOYSA-N ethenyl-dimethoxy-methylsilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)C=C ZLNAFSPCNATQPQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NUFVQEIPPHHQCK-UHFFFAOYSA-N ethenyl-methoxy-dimethylsilane Chemical compound CO[Si](C)(C)C=C NUFVQEIPPHHQCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RSIHJDGMBDPTIM-UHFFFAOYSA-N ethoxy(trimethyl)silane Chemical compound CCO[Si](C)(C)C RSIHJDGMBDPTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000005448 ethoxyethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])OC([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- TUKWPCXMNZAXLO-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-nonylsulfanyl-4-oxo-1h-pyrimidine-6-carboxylate Chemical compound CCCCCCCCCSC1=NC(=O)C=C(C(=O)OCC)N1 TUKWPCXMNZAXLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- HTSRFYSEWIPFNI-UHFFFAOYSA-N ethyl-dimethoxy-methylsilane Chemical compound CC[Si](C)(OC)OC HTSRFYSEWIPFNI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 description 2
- 238000007429 general method Methods 0.000 description 2
- 125000003055 glycidyl group Chemical group C(C1CO1)* 0.000 description 2
- 238000009499 grossing Methods 0.000 description 2
- 235000019382 gum benzoic Nutrition 0.000 description 2
- RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N hexamethylene diisocyanate Chemical compound O=C=NCCCCCCN=C=O RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 2
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 2
- GFAZHVHNLUBROE-UHFFFAOYSA-N hydroxymethyl propionaldehyde Natural products CCC(=O)CO GFAZHVHNLUBROE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 2
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- LRDFRRGEGBBSRN-UHFFFAOYSA-N isobutyronitrile Chemical compound CC(C)C#N LRDFRRGEGBBSRN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NIMLQBUJDJZYEJ-UHFFFAOYSA-N isophorone diisocyanate Chemical compound CC1(C)CC(N=C=O)CC(C)(CN=C=O)C1 NIMLQBUJDJZYEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 2
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 2
- 125000005641 methacryl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000002816 methylsulfanyl group Chemical group [H]C([H])([H])S[*] 0.000 description 2
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 2
- ZLDHYRXZZNDOKU-UHFFFAOYSA-N n,n-diethyl-3-trimethoxysilylpropan-1-amine Chemical compound CCN(CC)CCC[Si](OC)(OC)OC ZLDHYRXZZNDOKU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LIBWSLLLJZULCP-UHFFFAOYSA-N n-(3-triethoxysilylpropyl)aniline Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCNC1=CC=CC=C1 LIBWSLLLJZULCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NQKOSCFDFJKWOX-UHFFFAOYSA-N n-[3-[diethoxy(methyl)silyl]propyl]aniline Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)CCCNC1=CC=CC=C1 NQKOSCFDFJKWOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YZPARGTXKUIJLJ-UHFFFAOYSA-N n-[3-[dimethoxy(methyl)silyl]propyl]aniline Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCNC1=CC=CC=C1 YZPARGTXKUIJLJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FYZBRYMWONGDHC-UHFFFAOYSA-N n-ethyl-3-trimethoxysilylpropan-1-amine Chemical compound CCNCCC[Si](OC)(OC)OC FYZBRYMWONGDHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DVYVMJLSUSGYMH-UHFFFAOYSA-N n-methyl-3-trimethoxysilylpropan-1-amine Chemical compound CNCCC[Si](OC)(OC)OC DVYVMJLSUSGYMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 2
- XQAABEDPVQWFPN-UHFFFAOYSA-N octyl 3-[3-(benzotriazol-2-yl)-5-tert-butyl-4-hydroxyphenyl]propanoate Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(CCC(=O)OCCCCCCCC)=CC(N2N=C3C=CC=CC3=N2)=C1O XQAABEDPVQWFPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 2
- MPQXHAGKBWFSNV-UHFFFAOYSA-N oxidophosphanium Chemical class [PH3]=O MPQXHAGKBWFSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 2
- 229920002285 poly(styrene-co-acrylonitrile) Polymers 0.000 description 2
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 2
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 2
- 239000005056 polyisocyanate Substances 0.000 description 2
- 229920001228 polyisocyanate Polymers 0.000 description 2
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 2
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 2
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 2
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 2
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZNUBSYHFZUZVJK-UHFFFAOYSA-N propane-1,2,3-triol prop-2-enoic acid Chemical compound C(C=C)(=O)O.OCC(O)CO.OCC(O)CO.OCC(O)CO.OCC(O)CO.OCC(O)CO ZNUBSYHFZUZVJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 2
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 2
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 2
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 2
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 2
- 125000005504 styryl group Chemical group 0.000 description 2
- 150000003464 sulfur compounds Chemical class 0.000 description 2
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 2
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 2
- MUTNCGKQJGXKEM-UHFFFAOYSA-N tamibarotene Chemical compound C=1C=C2C(C)(C)CCC(C)(C)C2=CC=1NC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 MUTNCGKQJGXKEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ISXSCDLOGDJUNJ-UHFFFAOYSA-N tert-butyl prop-2-enoate Chemical compound CC(C)(C)OC(=O)C=C ISXSCDLOGDJUNJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 2
- UQMOLLPKNHFRAC-UHFFFAOYSA-N tetrabutyl silicate Chemical compound CCCCO[Si](OCCCC)(OCCCC)OCCCC UQMOLLPKNHFRAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BSYVTEYKTMYBMK-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofurfuryl alcohol Chemical compound OCC1CCCO1 BSYVTEYKTMYBMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UFDHBDMSHIXOKF-UHFFFAOYSA-N tetrahydrophthalic acid Natural products OC(=O)C1=C(C(O)=O)CCCC1 UFDHBDMSHIXOKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YODZTKMDCQEPHD-UHFFFAOYSA-N thiodiglycol Chemical compound OCCSCCO YODZTKMDCQEPHD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N thioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3SC2=C1 YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KUAZQDVKQLNFPE-UHFFFAOYSA-N thiram Chemical compound CN(C)C(=S)SSC(=S)N(C)C KUAZQDVKQLNFPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229960002447 thiram Drugs 0.000 description 2
- DVKJHBMWWAPEIU-UHFFFAOYSA-N toluene 2,4-diisocyanate Chemical compound CC1=CC=C(N=C=O)C=C1N=C=O DVKJHBMWWAPEIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 2
- SGCFZHOZKKQIBU-UHFFFAOYSA-N tributoxy(ethenyl)silane Chemical compound CCCCO[Si](OCCCC)(OCCCC)C=C SGCFZHOZKKQIBU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N triethoxy(methyl)silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)OCC CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JCVQKRGIASEUKR-UHFFFAOYSA-N triethoxy(phenyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C1=CC=CC=C1 JCVQKRGIASEUKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HUZZQXYTKNNCOU-UHFFFAOYSA-N triethyl(methoxy)silane Chemical compound CC[Si](CC)(CC)OC HUZZQXYTKNNCOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VRSBZTSRTUAWOY-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(prop-1-en-2-yl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C(C)=C VRSBZTSRTUAWOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NDOXWVPHPJYNJN-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-(3-prop-1-en-2-ylphenyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C1=CC=CC(C(C)=C)=C1 NDOXWVPHPJYNJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YQIZKGWCIRJWKB-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-(4-prop-1-en-2-ylphenyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C1=CC=C(C(C)=C)C=C1 YQIZKGWCIRJWKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920006305 unsaturated polyester Polymers 0.000 description 2
- 230000002087 whitening effect Effects 0.000 description 2
- GIIUJJXXMYYQQD-UHFFFAOYSA-N (2,2,6,6-tetramethylpiperidin-1-yl) prop-2-enoate Chemical compound CC1(C)CCCC(C)(C)N1OC(=O)C=C GIIUJJXXMYYQQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZWVMLYRJXORSEP-UHFFFAOYSA-N 1,2,6-Hexanetriol Chemical compound OCCCCC(O)CO ZWVMLYRJXORSEP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SKMNWICOBCDSSQ-UHFFFAOYSA-N 2-[4-[3-(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)propanoyloxy]-2,2,6,6-tetramethylpiperidin-1-yl]ethyl 3-(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)propanoate Chemical compound CC(C)(C)C1=C(O)C(C(C)(C)C)=CC(CCC(=O)OCCN2C(CC(CC2(C)C)OC(=O)CCC=2C=C(C(O)=C(C=2)C(C)(C)C)C(C)(C)C)(C)C)=C1 SKMNWICOBCDSSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HOLOIDMYVKIMCS-UHFFFAOYSA-N 2-[dimethoxy(methyl)silyl]ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCOC(=O)C(C)=C HOLOIDMYVKIMCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CUGQQXKZSRAAEC-UHFFFAOYSA-N 2-[dimethoxy(methyl)silyl]ethyl prop-2-enoate Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCOC(=O)C=C CUGQQXKZSRAAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RDCTZTAAYLXPDJ-UHFFFAOYSA-N 2-trimethoxysilylethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCOC(=O)C(C)=C RDCTZTAAYLXPDJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BUJVPKZRXOTBGA-UHFFFAOYSA-N 2-trimethoxysilylethyl prop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCOC(=O)C=C BUJVPKZRXOTBGA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HXLAEGYMDGUSBD-UHFFFAOYSA-N 3-[diethoxy(methyl)silyl]propan-1-amine Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)CCCN HXLAEGYMDGUSBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DOYKFSOCSXVQAN-UHFFFAOYSA-N 3-[diethoxy(methyl)silyl]propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)CCCOC(=O)C(C)=C DOYKFSOCSXVQAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UDWIZRDPCQAYRF-UHFFFAOYSA-N 3-[diethoxy(methyl)silyl]propyl prop-2-enoate Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)CCCOC(=O)C=C UDWIZRDPCQAYRF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZYAASQNKCWTPKI-UHFFFAOYSA-N 3-[dimethoxy(methyl)silyl]propan-1-amine Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCN ZYAASQNKCWTPKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LZMNXXQIQIHFGC-UHFFFAOYSA-N 3-[dimethoxy(methyl)silyl]propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C LZMNXXQIQIHFGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MCDBEBOBROAQSH-UHFFFAOYSA-N 3-[dimethoxy(methyl)silyl]propyl prop-2-enoate Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCOC(=O)C=C MCDBEBOBROAQSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PRWUMCUQZMKBHZ-UHFFFAOYSA-N 3-[ethyl(dimethoxy)silyl]propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C PRWUMCUQZMKBHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YDSKIYLJGKSHFX-UHFFFAOYSA-N 3-[ethyl(dimethoxy)silyl]propyl prop-2-enoate Chemical compound CC[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C=C YDSKIYLJGKSHFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JBDMKOVTOUIKFI-UHFFFAOYSA-N 3-[methoxy(dimethyl)silyl]propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](C)(C)CCCOC(=O)C(C)=C JBDMKOVTOUIKFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JSGVZVOGOQILFM-UHFFFAOYSA-N 3-methoxy-1-butanol Chemical compound COC(C)CCO JSGVZVOGOQILFM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POZWNWYYFQVPGC-UHFFFAOYSA-N 3-methoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[SiH2]CCCOC(=O)C(C)=C POZWNWYYFQVPGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- URDOJQUSEUXVRP-UHFFFAOYSA-N 3-triethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCOC(=O)C(C)=C URDOJQUSEUXVRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDQWJFXZTAWJST-UHFFFAOYSA-N 3-triethoxysilylpropyl prop-2-enoate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCOC(=O)C=C XDQWJFXZTAWJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KBQVDAIIQCXKPI-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl prop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C=C KBQVDAIIQCXKPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ASUUJFUXBYWYBG-UHFFFAOYSA-N 4-oxo-4-(3-prop-2-enoyloxypropoxy)butanoic acid Chemical compound OC(=O)CCC(=O)OCCCOC(=O)C=C ASUUJFUXBYWYBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LEKOHHAUQXTHTA-UHFFFAOYSA-N 5-butyl-4-phenyl-2h-benzotriazole Chemical compound CCCCC=1C=CC2=NNN=C2C=1C1=CC=CC=C1 LEKOHHAUQXTHTA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000519695 Ilex integra Species 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- FNNYJATZZFNKNT-UHFFFAOYSA-N but-3-enyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCC=C FNNYJATZZFNKNT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001246 colloidal dispersion Methods 0.000 description 1
- 230000008602 contraction Effects 0.000 description 1
- 238000002788 crimping Methods 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- ZXPDYFSTVHQQOI-UHFFFAOYSA-N diethoxysilane Chemical compound CCO[SiH2]OCC ZXPDYFSTVHQQOI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GKHRLTCUMXVTAV-UHFFFAOYSA-N dimoracin Chemical compound C1=C(O)C=C2OC(C3=CC(O)=C(C(=C3)O)C3C4C(C5=C(O)C=C(C=C5O3)C=3OC5=CC(O)=CC=C5C=3)C=C(CC4(C)C)C)=CC2=C1 GKHRLTCUMXVTAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000499 gel Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- GFMIDCCZJUXASS-UHFFFAOYSA-N hexane-1,1,6-triol Chemical compound OCCCCCC(O)O GFMIDCCZJUXASS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 description 1
- 125000004464 hydroxyphenyl group Chemical group 0.000 description 1
- QIOYHIUHPGORLS-UHFFFAOYSA-N n,n-dimethyl-3-trimethoxysilylpropan-1-amine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCN(C)C QIOYHIUHPGORLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 125000000951 phenoxy group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(O*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- ULWHHBHJGPPBCO-UHFFFAOYSA-N propane-1,1-diol Chemical compound CCC(O)O ULWHHBHJGPPBCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-L succinate(2-) Chemical compound [O-]C(=O)CCC([O-])=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 125000005628 tolylene group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
Landscapes
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Polymerisation Methods In General (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
Abstract
成することができ、かつ無溶剤型で塗装可能な被覆材組
成物を得る。 【構成】(a)分子中に少なくとも2個の(メタ)アク
リロイルオキシ基を有する架橋重合性化合物(a−
1)、またはこの化合物(a−1)とその共重合性化合
物との混合物、(b)(a)成分と結合を生起できるシ
ラン化合物(b−1)と(a)成分と結合を生起できな
いシラン化合物(b−2)との混合物の加水分解物で表
面が修飾されたシリカ微粒子、及び(c)活性エネルギ
ー線重合開始剤とを含有する被覆材組成物。
Description
射することにより、耐摩耗性並びに耐候性の優れた硬化
被膜を形成しうる被覆用組成物、及び該被覆用組成物の
硬化物で表面が被覆された成形物として、特にヘッドラ
ンプカバー、風防ガラス、車両用窓ガラス、車両用屋根
材、建造物用窓ガラス、建造物用屋根材、道路用防音
壁、銘板及びディスプレー用面板など、耐磨耗性並びに
耐候性に優れた表面被覆成形物に関するものである。
砕性の大きい透明プラスチック材料が広く使用されてい
る。
ガラスに比べて表面が柔らかく、引っかき傷を生じ易く
耐摩耗性不足という重大な難点を有している。そこで、
従来から透明プラスチック材料の耐摩耗性を改良するた
めに多くの試みがなされてきた。
53−102936号公報、同53−104638号公
報、同54−97633号公報等に記載されているよう
に、分子中に複数のアクリロイルオキシ基あるいはメタ
クリロイルオキシ基を有する化合物を主成分とする硬化
液を成形品表面に塗布し、熱あるいは紫外線などの活性
エネルギー線照射により硬化させて、耐擦傷性の優れた
被覆を有する成形品を得る方法がある。この方法に用い
る該硬化液は、比較的安価で手軽に入手できるが、得ら
れる硬化被膜は有機物であることから、この被覆を有す
る成形品の耐摩耗性には限界があるのが現状である。
して、例えば特開昭48−26822号公報、同59−
64671号公報等に記載されているように、アルコキ
シシラン化合物をプラスチック成形品表面に塗布し、熱
により硬化させて被覆を有する成形品を得る方法、ある
いは、特開昭56−106969号公報、特開平2−2
72041号公報に記載された如く、コロイダルシリカ
と硬化液とからなる被覆用組成物をプラスチック成形品
表面に塗布し熱により硬化させた被覆を有する成形品を
得る方法などが知られている。
用組成物には、その塗装性を良好にするため有機溶剤が
用いられているので、乾燥工程で被塗物となるプラスチ
ックにクラックが発生したり、塗りむらなどの塗膜欠陥
が生じやすく、得られる被覆成形品の外観にも問題が生
じやすい。またその塗装工程で空気中への有機溶剤の放
出が避けられず、近年注目されている地球環境保護の観
点からも好ましくない。
より硬化させるためエネルギー消費量が大きく、またそ
の硬化に長時間を要するため、工業的に不利である。
公平1−55307号公報、同3−2168号公報、同
3−6190号公報、特開昭59−204669号公
報、同62−256874号公報、特開平2−6413
8号公報、同4−18423号公報、同4−21474
3号公報、同4−220411号公報、同5−9818
9号公報、同5−306374号公報、同6−2536
3号公報、同6−41468号公報、及び同6−151
694号公報には、コロイダルシリカと、アクリル基又
はメタクリル基を有するアルコキシシランと、多官能ア
クリレートとからなる被覆用組成物が開示されている。
としても用いることが可能であり、この被覆材からはか
なり優れた表面硬度を有するプラスチック成形品を得る
ことができるが、硬化被膜中のコロイダルシリカとアル
コキシシランとの界面が加水分解を受け、硬化被膜に、
クラックや白化現象を生じ、その耐候性が十分ではない
という難点があった。
は、特開平6−100798号に示したようにスチリル
基を有するアルコキシシランの加水分解物で表面が修飾
されたシリカ微粒子、多官能アクリレート、及び活性エ
ネルギー線重合開始剤からなる被覆用組成物が良好な特
性を有することを見いだした。しかし、この被覆用組成
物も従来のものよりは優れた性能を有するものの、まだ
十分とはいえず、表面硬度が高く、かつ耐候性に優れた
硬化被膜を形成でき、無溶剤でも用いることが可能な活
性エネルギー硬化型被覆用組成物は未だ得られていない
のが現状である。
解決するために鋭意検討をした結果得られたものであ
り、その目的は、溶剤を用いなくても塗装可能であり、
かつ表面硬度が高く外観及び耐候性が良好で、耐磨耗
性、耐擦傷性に優れた硬化被膜を形成できる活性エネル
ギー線硬化型被覆用組成物及びその製造方法を提供する
ことにある。本発明の他の目的は、この被覆用組成物の
硬化物で表面が被覆された成形物を提供することにあ
る。
(a)成分として、分子中に少なくとも2個のアクリロ
イルオキシ基及び/又はメタクリロイルオキシ基を有す
る架橋重合性化合物(a−1)、または該架橋重合性化
合物(a−1)50重量%以上とこれと共重合可能な化
合物(a−2)50重量%以下とからなる混合物、
(b)成分として、下記一般式(I)〜(IV)
〜10の炭化水素基、R3は水素原子または炭素数1〜
10の炭化水素基、R4は炭素数1〜10の二価の炭化
水素基、R5およびR6は、同一又は異種の水素原子また
は炭素数1〜10の炭化水素基、mは0〜2の整数を表
す。)で表されるシラン化合物から選ばれる少なくとも
1種以上のシラン化合物(b−1)5〜95モル部と、
下記一般式(V)
0の炭化水素基、R9は水素原子または炭素数1〜10
の炭化水素基、nおよびpは0〜3の整数であり、かつ
n+pは0〜3である。)で表されるシラン化合物(b
−2)95〜5モル部との混合物の加水分解物で表面を
修飾したシリカ微粒子、及び(c)成分として活性エネ
ルギー線重合開始剤、とを含有することを特徴とする被
覆用組成物にある。
(a)成分、(b)成分および(c)成分を混合して前
記被覆用組成物を製造する方法において、シリカ微粒子
の分散液中にシラン化合物(b−2)を添加してその加
水分解物によりシリカ微粒子の表面を修飾し、次いで
(a)成分を添加してからシリカ微粒子の分散媒および
水を留去し、その後にシラン化合物(b−1)を添加し
てその加水分解物による更なるシリカ微粒子の表面を修
飾する工程を有することを特徴とする被覆用組成物の製
造方法である。更に、前記被覆用組成物の硬化物で表面
が被覆された成形物も本発明の対象である。
分解物で修飾したシリカ微粒子と多官能アクリレート及
び/またはメタクリレート(以下、(メタ)アクリレー
トと略す)を主成分とする従来開発されてきた被覆用組
成物から得られる硬化被膜耐候性を改良するために、こ
の硬化被膜の表面硬度発現機構ならびにその耐候性に影
響する要因について鋭意検討を行った。
シリカ微粒子の表面修飾の程度に影響され、表面修飾が
適切でなければ耐候性の低下につながること、(2)硬
化被膜の表面硬度を高度に発現させるためには、シリカ
微粒子と多官能(メタ)アクリレートの重合硬化物との
間との間に何らかの結合が形成されていなければなら
ず、シラン化合物(b−1)はその役割を果たすもので
あること、(3)シリカ微粒子と多官能(メタ)アクリ
レートの重合硬化物の結合点が多すぎると、硬化被膜の
可撓性を阻害する要因となり、また、その耐候性評価に
おける高温/低温の熱サイクルテスト及び吸水/乾燥の
吸水サイクルテスト時に硬化被膜が成形物の膨張、収縮
挙動についてゆけず、硬化被膜にクラック等の欠陥が現
れることが判明した。
硬度と耐候性とが両立して発現する被覆用組成物を得る
ためにさらに検討を重ねた結果、シリカ微粒子表面を修
飾するために用いるシラン化合物として、シリカ微粒子
と多官能(メタ)アクリレートの重合硬化物との間に結
合を生起させるシラン化合物(b−1)と、両者間に結
合を生起させないシラン化合物(b−2)とを併用する
ことにより、上記の性能が発現され得ることが明らかに
なった。
塗膜の表面硬度の向上に働き、またシラン化合物(b−
2)はシリカ微粒子の表面修飾に働いて、硬化被膜に可
撓性を付与するので、両者で修飾したシリカ微粒子を含
む被覆用組成物を用いることにより、高い表面硬度及び
良好な耐候性を発現できる硬化被膜が得られることを見
いだした。
発明の被覆用組成物における(a)成分は、分子中に少
なくとも2個のアクリロイルオキシ基および/またはメ
タクリロイルオキシ基(以下、(メタ)アクリロイルオ
キシ基と略す)を有する架橋重合性化合物(a−1)で
ある。本発明で用いる架橋重合性化合物(a−1)は、
(メタ)アクリロイルオキシ基以外の部分である残基が
炭化水素またはその誘導体であり、その分子内にはエー
テル結合、チオエーテル結合、エステル結合、アミド結
合、ウレタン結合等を含んでいてもよい。
は、例えば、多価アルコールと(メタ)アクリル酸また
はそれらの誘導体とから得られるエステル化合物、ある
いは多価アルコールと多価カルボン酸と(メタ)アクリ
ル酸またはそれらの誘導体とから得られるエステル化合
物等が挙げられる。
レングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレン
グリコール、テトラエチレングリコール、数平均分子量
が約300〜約1000のポリエチレングリコール、プ
ロピレングリコール、ジプロピレングリコール、1,3
−プロパンジオール、1,3−ブタンジオール、2,3
−ブタンジオール、1,4−ブタンジオール、1,5−
ペンタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、1,9
−ノナンジオール、ネオペンチルグリコール(即ち2,
2−ジメチル−1,3−プロパンジオール)、2−エチ
ルヘキシル−1,3−ヘキサンジオール、2,2’−チ
オジエタノール、1,4−シクロヘキサンジメタノール
等の2価のアルコール;トリメチロールプロパン(即ち
1,1,1−トリメチロールプロパン)、ペンタグリセ
ロール(即ち、1,1,1−トリメチロールエタン)、
グリセロール、1,2,4−ブタントリオール、1,
2,6−ヘキサントリオール等の3価のアルコール;そ
の他、ペンタエリスリトール(即ち2,2−ビス(ヒド
ロキシメチル)−1,3−プロパンジオール)、ジグリ
セロール、ジペンタエリスリトール等が挙げられる。
トとして得られる架橋重合性化合物(a−1)の具体例
としては、下記一般式(VI)
るX1はそのうちの2個以上が(メタ)アクリロイルオ
キシ基を、その残りのX1は各々独立に水素原子、水酸
基、アミノ基、アルキル基または置換アルキル基を示
す。)で表される化合物が挙げられる。
は、具体的には、トリメチロールプロパントリ(メタ)
アクリレート、トリメチロールエタントリ(メタ)アク
リレート、ペンタグリセロールトリ(メタ)アクリレー
ト、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、
ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジ
ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペ
ンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペ
ンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペ
ンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、トリ
ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ト
リペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、
トリペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレー
ト、トリペンタエリスリトールヘプタ(メタ)アクリレ
ート等が挙げられる。
価アルコールのポリ(メタ)アクリレートとしては、例
えば、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、
トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、テト
ラエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,4
−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘ
キサンジオールジ(メタ)アクリレート、1,9−ノナ
ンジオールジ(メタ)アクリレート、グリセリントリ
(メタ)アクリレート等が挙げられる。
ルコールと(メタ)アクリル酸又はその誘導体とから得
られるエステル化合物を用いる場合、特に好ましいエス
テル化合物は、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリ
レート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレー
ト、テトラエチレングリコールジ(メタ)アクリレー
ト、1,4−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、
1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、
1,9−ノナンジオールジ(メタ)アクリレート、トリ
メチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタ
グリセロールアクリレート、ジペンタグリセロールペン
タアクリレート等である。
用い得る多価アルコールと多価カルボン酸と(メタ)ア
クリル酸またはそれらの誘導体とから得られるエステル
化合物は、一般的には、多価アルコールのヒドロキシル
基と、多価カルボン酸および(メタ)アクリル酸又はそ
の誘導体の両者のカルボキシル基とが最終的には等量と
なるような混合物を反応させることによって得られる。
しては、多価アルコールとして、2価のアルコール、3
価のアルコール、または2価のアルコールと3価のアル
コールとの混合物を用い、多価カルボン酸として、2価
カルボン酸を用いて得られたエステル化物が挙げられ
る。3価のアルコールと2価のアルコールとの混合物を
用いる場合は、3価のアルコールと2価のアルコールと
のモル比は任意に選べる。
酸又はその誘導体とを併用する場合のモル比は、(メ
タ)アクリル酸又はその誘導体のカルボキシル基1モル
に対して2価カルボン酸のカルボキシル基が2モル以下
の範囲内とすることが好ましい。2価カルボン酸が上記
範囲より過剰にある場合には、生成するエステル化合物
の粘度が高くなり過ぎて塗膜の形成が困難になる場合が
ある。
カルボン酸またはその誘導体としては、例えばコハク
酸、アジピン酸、セバシン酸などの脂肪族ジカルボン
酸;テトラヒドロフタル酸、3,6−エンドメチレンテ
トラヒドロフタル酸などの脂環族ジカルボン酸;フタル
酸、イソフタル酸、テレフタル酸などの芳香族ジカルボ
ン酸;その他チオグリコール類、チオジバレリン酸、ジ
グリコール酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、お
よびこれらの塩化物、無水物、エステル等を挙げること
ができる。
上述のエステル化合物の具体例としては、マロン酸/ト
リメチロールエタン/(メタ)アクリル酸、マロン酸/
トリメチロールプロパン/(メタ)アクリル酸、マロン
酸/グリセリン/(メタ)アクリル酸、マロン酸/ペン
タエリスリトール/(メタ)アクリル酸、コハク酸/ト
リメチロールエタン/(メタ)アクリル酸、コハク酸/
トリメチロールプロパン/(メタ)アクリル酸、コハク
酸/グリセリン/(メタ)アクリル酸、コハク酸/ペン
タエリスリトール/(メタ)アクリル酸、アジピン酸/
トリメチロールエタン/(メタ)アクリル酸、アジピン
酸/トリメチロールプロパン/(メタ)アクリル酸、ア
ジピン酸/ペンタエリスリトール/(メタ)アクリル
酸、アジピン酸/グリセリン/(メタ)アクリル酸、グ
ルタル酸/トリメチロールエタン/(メタ)アクリル
酸、グルタル酸/トリメチロールプロパン/(メタ)ア
クリル酸、グルタル酸/グリセリン/(メタ)アクリル
酸、グルタル酸/ペンタエリスリトール/(メタ)アク
リル酸、セバシン酸/トリメチロールエタン/(メタ)
アクリル酸、セバシン酸/トリメチロールプロパン/
(メタ)アクリル酸、セバシン酸/グリセリン/(メ
タ)アクリル酸、セバシン酸/ペンタエリスリトール/
(メタ)アクリル酸、フマル酸/トリメチロールエタン
/(メタ)アクリル酸、フマル酸/トリメチロールプロ
パン/(メタ)アクリル酸、フタル酸/グリセリン/
(メタ)アクリル酸、フマル酸/ペンタエリスリトール
/(メタ)アクリル酸、イタコン酸/トリメチロールエ
タン/(メタ)アクリル酸、イタコン酸/トリメチロー
ルプロパン/(メタ)アクリル酸、イタコン酸/ペンタ
エリスリトール/(メタ)アクリル酸、無水マレイン酸
/トリメチロールエタン/(メタ)アクリル酸、または
無水マレイン酸/グリセリン/(メタ)アクリル酸の組
み合わせによる飽和または不飽和ポリエステルポリ(メ
タ)アクリレートが挙げられる。
て、例えば下記一般式(VII)で示されるトリレントリ
イソシアネート
す。)、ヘキサメチレンジイソシアネート、トリレンジ
イソシアネート、ジフェニルエタンジイソシアネート、
キシレンジイソシアネート、4,4’−メチレンビス
(シクロヘキシルイソシアネート)、イソホロンジイソ
シアネート、またはトリメチルヘキサメチレンジイソシ
アネート等のポリイソシアネートと、活性水素を有する
アクリル系単量体、例えば2−ヒドロキシエチル(メ
タ)アクリレート、2−ヒドロキシ−3−メトキシプロ
ピル(メタ)アクリレート、N−メチロール(メタ)ア
クリルアミド、N−ヒドロキシ(メタ)アクリルアミド
等とを、イソシアネート基1モル当たりアクリル系単量
体1モル以上を常法により反応させて得られるウレタン
(メタ)アクリレート;トリス(2−ヒドロキシエチ
ル)イソシアヌル酸のトリ(メタ)アクリレート等のポ
リ[(メタ)アクリロイルオキシエチル]イソシアヌレ
ートが挙げられる。
は、上記のような架橋重合性化合物(a−1)を主成分
(50重量%以上)とするものであり、これとともに共
重合可能な化合物(a−2)を配合した混合物であって
もよい。
は、例えば分子中に1個の(メタ)アクリロイル基を有
する化合物等が用いられる。
ート、エチル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)ア
クリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、t−ブ
チル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メ
タ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、ド
デシル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)
アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレ
ート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、
グリシジル(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフ
リル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレ
ート、イソボルニル(メタ)アクリレート、1−アダマ
ンチル(メタ)アクリレート、3,5−ジメチル−1−
アダマンチル(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニ
ル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニル(メタ)
アクリレート、1,4−ブチレングリコールモノ(メ
タ)アクリレート、エトキシエチル(メタ)アクリレー
ト、エチルカルビトール(メタ)アクリレート、2−ヒ
ドロキシ−3−クロロプロピル(メタ)アクリレート、
(メタ)アクリルアミド、N−ヒドロキシエチル(メ
タ)アクリルアミド、N−ヒドロキシメチル(メタ)ア
クリルアミド、N−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリ
ルアミド、2,2,2−トリフルオロエチル(メタ)ア
クリレート、2,2,3,3−テトラフルオロプロピル
(メタ)アクリレート、1H,1H,5H−オクタフル
オロペンチル(メタ)アクリレート、N−ヒドロキシブ
チル(メタ)アクリルアミド、ヒドロキシメチルジアセ
トン(メタ)アクリルアミド、N−ヒドロキシエチル−
N−メチル(メタ)アクリルアミド等が挙げられる。
イルオキシ基を示し、R1 1はアルキル基、置換アルキル
基、フェニル基、置換フェニル基、ベンジル基または置
換ベンジル基を示す。)で表されるモノ(メタ)アクリ
レート等も挙げられる。
されるモノ(メタ)アクリレートとしては、例えばメト
キシジエチレングリコール(メタ)アクリレート、メト
キシポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、フ
ェノキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレー
ト、ブトキシエチレングリコール(メタ)アクリレート
等が挙げられる。
て、例えばβ−(メタ)アクリロイルオキシエチルハイ
ドロゲンフタレート、β−(メタ)アクリロイルオキシ
エチルハイドロゲンサクシネート、β−(メタ)アクリ
ロイルオキシプロピルハイドロゲンサクシネート、およ
び公知の各種エポキシ(メタ)アクリレート、ウレタン
(メタ)アクリレート等も挙げられる。
化被膜の用途に応じて選ばれるが、表面硬度の高い被膜
を望む場合は、化合物(a−2)の単独重合体としての
ガラス転移温度の高いものが好適に用いられる。具体的
には、t−ブチル(メタ)アクリレート、シクロヘキシ
ル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリ
レート、1−アダマンチル(メタ)アクリレート、3,
5−ジメチル−1−アダマンチル(メタ)アクリレー
ト、ジシクロペンタニル(メタ)アクリレート、ジシク
ロペンテニル(メタ)アクリレートなどが挙げられる。
は、(a)成分中に50重量%以下の割合で含有される
ことが必要であり、30重量%以下であることが好まし
い。この範囲以外の割合で(a)成分中に化合物(a−
2)を含有させると、本発明で得られる硬化被膜の表面
硬度が低下してしまう。
は、一般式(I)〜(IV)で表されるシラン化合物から
選ばれる少なくとも1種以上のシラン化合物(b−1)
と、一般式(V)で表されるシラン化合物から選ばれる
少なくとも1種以上のシラン化合物(b−2)との混合
物の加水分解物で表面が修飾されたシリカ微粒子であ
る。
た」とは、シリカ微粒子の表面の一部または全部にシラ
ン化合物の加水分解物が保持された状態にあり、シリカ
微粒子の表面特性が改質されていることを意味する。な
お、シラン化合物の加水分解物の縮合反応が進んだもの
が同時に保持されているシリカ微粒子もこれに含まれ
る。
は、シリカ微粒子存在下にシラン化合物の加水分解、ま
たは加水分解と縮合反応を生じせしめることにより容易
に行うことができる。
ではないが、シリカ微粒子の平均粒径が1nm〜1μm
であることが好ましく、さらに好ましくは該平均粒径が
5〜200nmの範囲である。シリカ微粒子を含む被覆
材より形成した被膜に透明性が要求される場合には、平
均粒径が5〜100nmのシリカ微粒子を用いることが
好ましい。
シリカが使用できる。コロイダルシリカを用いる場合、
その分散媒は特に限定されないが、通常、水;メタノー
ル、エタノール、イソプロピルアルコール、n−ブタノ
ールのようなアルコール類;セロソルブ類;ジメチルア
セトアミド、トルエン、キシレン等が使用される。特に
好ましい分散媒は、アルコール類、セロソルブ類、トル
エン、及び水である。
されるシラン化合物(b−1)は、シリカ微粒子と
(a)成分との間に活性エネルギー線の照射により結合
を生起させ、シリカ微粒子による硬化被膜の表面硬度の
発現に寄与する成分である。
−1)としては、例えば、p−ビニルフェニルトリメト
キシシラン、(すなわちp−トリメトキシシリルスチレ
ン)、p−ビニルフェニルトリエトキシシラン、p−ビ
ニルフェニルトリイソプロポキシシラン、p−ビニルフ
ェニルメチルジメトキシシラン、p−ビニルフェニルメ
チルジエトキシシラン、p−ビニルフェニルエチルジメ
トキシシラン、p−ビニルフェニルプロピルジメトキシ
シラン、p−ビニルフェニルフェニルジメトキシシラ
ン、p−ビニルフェニルジメチルメトキシシラン、o−
ビニルフェニルトリメトキシシラン、o−ビニルフェニ
ルメチルジメトキシシラン、m−ビニルフェニルトリメ
トキシシラン、p−イソプロペニルフェニルトリメトキ
シシラン、p−イソプロペニルフェニルメチルジメトキ
シシラン、m−イソプロペニルフェニルトリメトキシシ
ラン、m−イソプロペニルフェニルメチルジメトキシシ
ラン等が挙げられる。
−1)としては、例えばγ−アクリロイルオキシプロピ
ルトリメトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピ
ルトリエトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピ
ルメチルジメトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプ
ロピルメチルジエトキシシラン、γ−アクリロイルオキ
シプロピルメチルジエトキシシラン、γ−アクリロイル
オキシプロピルエチルジメトキシシラン、β−アクリロ
イルオキシエチルトリメトキシシラン、β−アクリロイ
ルオキシエチルメチルジメトキシシラン、γ−メタクリ
ロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタク
リロイルオキシプロピルトリエトキシシラン、γ−メタ
クリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ
−メタクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラ
ン、γ−メタクリロイルオキシプロピルエチルジメトキ
シシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルジメチル
メトキシシラン、β−メタクリロイルオキシエチルトリ
メトキシシラン、β−メタクリロイルオキシエチルメチ
ルジメトキシシランが挙げられる。
(b−1)としては、例えばビニルトリメトキシシラ
ン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリn−ブトキ
シシラン、ビニルメチルジメトキシシラン、ビニルメチ
ルジエトキシシラン、ビニルエチルトリメトキシシラ
ン、ビニルジメチルメトキシシラン、イソプロペニルト
リメトキシシラン、イソプロペニルメチルジメトキシシ
ランが挙げられる。
−1)としては、例えばγ−アミノプロピルトリメトキ
シシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ
−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アミノ
プロピルメチルジエトキシシラン、γ−アミノプロピル
エチルジメトキシシラン、γ−アミノプロピルジメチル
メトキシシラン、N−メチル−γ−アミノプロピルトリ
メトキシシラン、N−エチル−γ−アミノプロピルトリ
メトキシシラン、N−フェニル−γ−アミノプロピルト
リメトキシシラン、N−フェニル−γ−アミノプロピル
トリエトキシシラン、N−フェニル−γ−アミノプロピ
ルメチルジメトキシシラン、N−フェニル−γ−アミノ
プロピルメチルジエトキシシラン、N,N−ジメチル−
γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、N,N−ジエ
チル−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン等が挙げ
られる。
1)としてなお、一般式(IV)で示されるシラン化合
物、例えばγ−アミノプロピルトリメトキシシランやγ
−アミノプロピルトリエトキシシラン等を用いた被覆用
組成物が硬化被膜の耐候性を向上させる点で特に好まし
い。これら一般式(I)〜(IV)で示されるシラン化合
物(b−1)は、単独で、あるいは2種以上を組み合わ
せて用いられる。
−2)は、シリカ微粒子の表面修飾に寄与するが、シリ
カ微粒子と(a)成分との重合硬化物との間の結合能を
有さないため、硬化被膜の可撓性を向上させるととも
に、良好な耐候性を発現する成分となっている。
−2)の具体例としては、テトラメトキシシラン、テト
ラエトキシシラン、テトラn−ブトキシシラン、メチル
トリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチ
ルトリメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、
フェニルトリエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラ
ン、ジフェニルジメトキシシラン、メチルエチルジメト
キシシラン、メチルフェニルジメトキシシラン、トリメ
チルメトキシシラン、トリメチルエトキシシラン、トリ
エチルメトキシシラン等、及びこれらの混合物が挙げら
れる。
シラン化合物(b−2)との使用モル比は、5:95〜
95:5の範囲にあり、10:90〜90:10の範囲
であることが好ましく、10:90〜60:40の範囲
であることが特に好ましい。
(b−2)の使用モル比が、前記の範囲外にて修飾した
シリカ微粒子を含む被覆用組成物を用いた場合には、硬
度被膜の表面硬度低下や、耐候性の悪化を生じてしま
う。
いる場合は、シラン化合物をコロイダルシリカの分散液
中に混合して、この系中の水または新たに加える水によ
り加水分解すれば、この加水分解物で表面が修飾された
シリカ微粒子(b)を得ることができる。
には、触媒として無機酸または有機酸等が使用できる。
無機酸としては、例えば塩酸、弗化水素酸、臭化水素酸
等のハロゲン化水素酸や、硫酸、硝酸、リン酸等が用い
られる。有機酸としては、蟻酸、酢酸、シュウ酸、アク
リル酸、メタクリル酸等が挙げられる。
に溶媒を用いることが好ましい。この溶媒としては、反
応物であるシランアルコキシドと水、触媒を相容させ得
るものが好ましい。
ル、イソプロピルアルコール等のアルコール類;アセト
ン、メチルイソブチルケトン類のケトン類、テトラヒド
ロフラン、ジオキサン等のエーテル類を挙げることがで
きる。
イダルシリカの分散媒をそのまま用いてもよいし、新た
に必要量加えてもよい。新たに加える場合には、前述し
た溶媒が使用できる。
る量であれば特に制限はないが、反応物の濃度が希薄に
なりすぎると、反応速度が著しく遅くなる場合がある。
シラン化合物の加水分解と縮合反応は、室温〜120℃
程度の温度で30分〜24時間程度の条件下で行うこと
が好ましく、さらに好ましくは室温〜溶媒の沸点程度の
温度で1〜10時間程度の条件下で行うのがよい。
との配合比は、特に制限されないが、シリカ微粒子(コ
ロイダルシリカの場合にはその固形分)100重量部に
対し、シラン化合物(b−1)とシラン化合物(b−
2)の混合物を好ましくは5〜200重量部、さらに好
ましくは10〜100重量部用いる。また、(a)成分
と(b)成分との配合比も制限されないが、(a)成分
100重量部に対し、(b)成分を好ましくは1〜20
0重量部、特に好ましくは5〜60重量部用いる。
に使用される活性エネルギー線としては、例えばβ線、
γ線、X線、加速電子線等の放射線及び紫外線等が挙げ
られ、本発明の被覆用組成物中に重合反応を生起させ得
るため、活性エネルギー線重合開始剤(c)を添加する
必要がある。
ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエ
チルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベン
ゾインイソブチルエーテル、アセトイン、ブチロイン、
トルオイン、ベンジル、ベンゾフェノン、p−メトキシ
ベンゾフェノン、ジエトキシアセトフェノン、2−ヒド
ロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オ
ン、1−(4−イソプロピルフェニル)−2−ヒドロキ
シ−2−メチルプロパン−1−オン、1−(4−ドデシ
ルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−
1−オン、4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル−
(2−ヒドロキシ−2−メチルプロピル)ケトン、1−
ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−メチル
−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルホリ
ノプロパノン−1、ベンジルジメチルケタール、チオキ
サントン、2−クロロチオキサントン、2,4−ジクロ
ロチオキサントン、2−メチルチオキサントン、2,4
−ジメチルチオキサントン、2−イソプロピルチオキサ
ントン、2,4−ジエチルチオキサントン、2,4−ジ
イソプロピルチオキサントン、メチルフェニルグリオキ
シレート等のカルボニル化合物;テトラメチルチウラム
モノスルフィド、テトラメチルチウラムジスルフィド等
の硫黄化合物;アゾビスイソブチロニトリル、アゾビス
−2,4−ジメチルバレロニトリル等のアゾ化合物;ベ
ンゾイルパーオキサイド、ジターシャリーブチルパーオ
キサイド等のパーオキサイド化合物;2,4,6−トリ
メチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、ベ
ンゾイルジエトキシホスフィンオキサイド、ビス(2,
6−ジメトキシベンゾイル)2,4,4−トリメチルペ
ンチルホスフィンオキサイド等のホスフィンオキサイド
化合物等が挙げられる。
ルジフェニルホスフィンオキサイド、ビス(2,6−ジ
メトキシベンゾイル)−2,4,4−トリメチルペンチ
ルホスフィンオキシド及びメチルフェニルグリオキシレ
ートが好ましい。これらの活性エネルギー線重合開始剤
は、単独で使用してもよく、2種以上組み合わせて用い
てもよい。活性エネルギー線重合開始剤(c)の配合量
は、(a)成分100重量部に対し、0.01〜10重
量部が好ましい。
溶剤を含有しないものが使用されるが、所望により有機
溶剤を添加して使用することができる。この有機溶剤と
しては、(a)成分及び(c)成分と均一に混合するも
のが使用可能であり、かつ(b)成分を均一分散可能な
ものを使用できる。
以下であり、かつ常温(25℃)での粘度が10センチ
ボイズ以下のものが適当である。有機溶媒の沸点が上記
範囲外の場合、塗布液が乾固してしまったり、塗布後の
乾燥ができなくなるなどの不都合が生じる場合があり、
また、粘度が上記範囲外である場合には塗装性が低下し
やすくなる傾向にある。
イソプロピルアルコール、ノルマルプロピルアルコー
ル、ノルマルブチルアルコール、イソブチルアルコール
等のアルコール類、ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化
水素類;アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類;
ジオキサン等のエーテル類;酢酸エチル、酢酸ブチル等
のエステル類:N,N−ジメチルホルムアミド類等が挙
げられる。これらの有機溶剤は、単独でまたは2種以上
を混合して使用することができる。
は、硬化被膜の劣化防止及び基材の保護の目的で、紫外
線吸収剤(d)を含むことが好ましい。紫外線吸収剤
(d)としては、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾー
ル系、シュウ酸アニリド系、シアノアクリレート系、及
びトリアジン系のもの等が用いられるが、本発明の被覆
用組成物においては、ベンゾトリアゾール系のものが好
ましく用いられる。
ドロキシ−5’−メチルフェニル)ベンゾトリアゾー
ル、2−(2’−ヒドロキシ−5’−t−ブチルフェニ
ル)ベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−
5’−t−オクチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2
−[2’−ヒドロキシ−3’,5’−ビス(α,α−ジ
メチルベンジル)フェニル]−2H−ベンゾトリアゾー
ル、2−(2’−ヒドロキシ−3’,5’−ジ−t−ブ
チルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒド
ロキシ−3’−t−ブチル−5’−メチルフェニル)−
5−クロロベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキ
シ−3’,5’−ジ−t−ブチルフェニル)−5−クロ
ロベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−
3’,5’−ジ−t−アミルフェニル)ベンゾトリアゾ
ール、2−(2’−ヒドロキシ−3’−t−ブチル−
5’−オクトキシカルボニルエチルフェニル)ベンゾト
リアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−3’−t−ブチ
ル−5’−ポリエチレングリコキシカルボニルエチルフ
ェニル)ベンゾトリアゾールなどが挙げられる。これら
紫外線吸収剤(d)は、単独で使用してもよく、2種以
上を組み合わせて用いてもよい。
さらに光安定剤(e)を含有することができ、中でもヒ
ンダードアミン系光安定剤が好適に用いられる。
6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)セバケート、
ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリ
ジル)セバケート、4−ベンゾイルオキシ−2,2,
6,6−テトラメチルピペリジン、ビス(1−オクトキ
シ−2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)
セバケート、1−[2−{3−(3,5−ジ−t−ブチ
ル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオニルオキシ}エ
チル]−4−{3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒ
ドロキシフェニル)プロピオニルオキシ}−2,2,
6,6−テトラメチルピペリジン、8−アセチル−3−
ドデシル−7,7,9,9−テトラメチル−1,3,8
−トリアザスピロ[4,5]デカン−2,4−ジオン、
4−(メタ)アクリロイルオキシ−2,2,6,6−テ
トラメチルピペリジン、4−(メタ)アクリロイルオキ
シ−1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジンなど
が挙げられる。
ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジ
ル)セバケート、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメ
チル−4−ピペリジル)セバケート、4−ベンゾイルオ
キシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、ビス
(1−オクトキシ−2,2,6,6−テトラメチル−4
−ピペリジル)セバケートである。
は、一般に知られているように、被覆用組成物中で沈殿
を生じたり、系のゲル化を生じさせ、塗布することが不
可能となるので注意が必要であるが、これは成分
(a)、成分(b−1)、成分(b−2)の組成の選択
や溶剤の添加により回避することができる。
ち、無溶剤型のものにおいては、成分(b−1)として
前述した一般式(I)〜(III)で表されるシラン化合
物を用いた場合、ビス(2,2,6,6−テトラメチル
−4−ピペリジル)セバケートやビス(1,2,2,
6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)セバケートな
ど、一般式(X)
化水素基、R13は炭素数1〜4の炭化水素基、R14は炭
素数4〜12の二価の炭化水素基を表す。)で表される
ヒンダードアミン系光安定剤を用いると被覆用組成物の
ゲル化が生じるので、4−ベンゾイルオキシ−2,2,
6,6−テトラメチルピペリジンやビス(1−オクトキ
シ−2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)
セバケート等、下記一般式(XI)又は(XII)
化水素基、R16は炭素数1〜4の炭化水素基、R17は炭
素−炭素二重結合を含んでいても良い炭素数1〜12の
炭化水素基、R18は炭素数1〜12の炭化水素基、R19
は炭素数4〜12の二価の炭化水素基を表す。)で表さ
れるヒンダードアミン系光安定剤を用いることによっ
て、系のゲル化を回避することができる。
成物において、成分(b−1)として前述した一般式
(IV)で表されるシラン化合物を用いた場合には、系の
ゲル化を生じることなく上述したすべてのヒンダードア
ミン系光安定剤を使用できる。そして、これらヒンダー
ドアミン系光安定剤は、本発明の被覆用組成物の硬化被
膜の耐候性を向上させることも見いだした。
ては、必要に応じて、表面平滑剤、界面活性剤、貯蔵安
定剤などの各種添加剤を適宜添加して使用してもよい。
特に限定されるものではないが、例えばコロイダルシリ
カの分散液にシラン化合物よりなる(b)成分及び必要
により水や触媒を混合し、前述した反応条件で反応さ
せ、この反応後の液中に(a)成分を混合する。次いで
コロイダルシリカの分散媒及びシラン化合物の加水分解
反応で生成した揮発分を除去し、その後(c)成分およ
び必要により他の添加剤を加える方法が特に好ましい。
に一般式(IV)で示されるシラン化合物を用いる場合に
は、(a)成分と(b)成分の混合は以下の方法による
のが好ましい。
ず一般式(V)で示されるシラン化合物(b−2)を添
加して加水分解反応させてその加水分解物による表面修
飾を行い、シリカ微粒子の表面状態を変化させる。次い
で、この反応系に(a)成分を添加してから、シリカ微
粒子の分散媒および水等の揮発分の大部分を留去してシ
リカ微粒子の分散媒を(a)成分へ置換する。その後
に、一般式(IV)で示されるシラン化合物(b−1)を
添加して加水分解反応させてその加水分解物による更な
るシリカ微粒子の表面修飾を行う。
合物(b−1)をアルコール等の揮発性分散媒を用いた
シリカ微粒子のコロイド状分散液中に添加すると、シリ
カ微粒子の分散状態が変化し、シリカ微粒子が凝集して
析出する、あるいは3次元構造をとりゲル化を起こした
りする。このようなシリカ微粒子の状態となる場合、被
覆用組成物として物品への塗布ができなくなる。そこ
で、このような二段階表面修飾法を採用することによ
り、一般式(IV)のシラン化合物を用いた本発明の被覆
用組成物をゲル化が全くない状態で製造することが可能
となる。
に塗布する方法としては、刷毛塗り法、流延法、ローラ
ー法、バーコート法、噴霧コート法、エアーナイフコー
ト法、ディッピング法等が挙げられる。
に対する塗布量としては、硬化被膜の膜厚が1〜30μ
mになるように塗布するのが適当である。膜厚が1μm
未満の場合は耐摩耗性に劣り、該膜厚が30μmを越え
る場合には硬化被膜にクラックが入りやすい傾向にあ
る。
しては、表面の耐摩耗性等の向上が求められる公知の各
種成形物でよい。
ばポリメチルメタクリレート、メチルメタクリレートを
主構成成分とする共重合体、ポリスチレン、スチレン−
メチルメタクリレート共重合体、スチレン−アクリロニ
トリル共重合体、ポリカーボネート、セルロースアセテ
ートブチレート樹脂、ポリアクリルジグリコールカーボ
ネート樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリエステル樹脂等
が挙げられる。
膜は、耐候性に非常に優れるため、例えば車輛、飛行機
など運送機用の窓ガラス、ヘッドランプカバー、風防ガ
ラス、屋根材;建造物用の窓ガラス、屋根材;道路の防
音壁;銘板、ディスプレー用面板等各種面板のように屋
外にて使用される用途に特に有用である。
明する。ただし、本発明は実施例に限定されるものでは
ない。なお、実施例中の部は重量部を示す。
価は、以下に示す方法で行った。 1)耐擦傷性 000番スチールウールを25φ円形パッドに装着し、
往復式摩耗試験台上に保持された試料表面に該パッドを
置いて、荷重1000g下で100回往復擦傷した。そ
の後、擦傷させた試料を洗浄し、ヘーズメーターで曇価
を測定した。耐スチールウール擦傷性(%)は、(擦傷
後曇価)−(擦傷前曇価)で示した。 2)耐摩耗性 テーバー摩耗試験法により、CS−10F摩耗輪と50
0gの重量のおもりを組み合わせ、100回転させたと
きの曇価をヘーズメーターで測定した。なお、曇価の測
定は摩耗サイクルの軌道の回り4か所で行い、平均値を
算出した。テーバー摩耗性(%)は、(テーバー試験後
曇価)−(テーバー試験前曇価)で示した。 3)硬化被膜の密着性 サンプルをカミソリの刃で1mm間隔に、縦・横11本
ずつ切り目を入れて、100個のゴバン目をつくり、市
販セロハンテープをよく密着させた後、90℃手前方向
に急激にはがした時、硬化被膜が成形物から剥離せずに
残存したます目数(X)をX/100で表示した。 4)外観 硬化被膜を形成した成形物の外観について、帯色、ブ
ツ、クラック、くもりなどの欠陥を目視にて判定し、次
のように評価した。 ○:特に目だった欠陥なし。 ×:△YI値として4.0以上の黄帯色またはクラッ
ク、くもりなどの発生が見られる。 5)耐候性 サンシャインウエザーメーター(スガ試験機(株)製、
WEL−SUN−DC型)を用いてブラックパネル温度
63℃で降雨12分−乾燥48分のサイクルで1000
および2000時間暴露後、硬化被膜を形成した成形物
の外観及び密着性を評価した。 ◎:特に目だった欠陥なし。 ○:若干の汚れの付着が見られるが、ほとんど問題な
し。 △:密着性が低下。 ×:△YI値として4.0以上の黄帯色またはクラッ
ク、くもりなどの発生が見られる。 (耐候性の良好な順は、◎>○>△>×で表す。)
コロイダルシリカ(シリカ含量30重量%、日産化学工
業(株)製、商品名:IPA−ST)35重量部に、p
−ビニルフェニルトリメトキシシラン(以下、VPTM
Sと略す)2.0重量部、フェニルトリメトキシシラン
(以下、PTMSと略す)1.7重量部、0.01規定
の塩酸水溶液1重量部を加え、40℃で1時間攪拌し
た。その後、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート
(以下、C6DAと略す)30重量部、及びトリメチロ
ールエタン/アクリル酸/コハク酸(モル比2/4/
1)の縮合物(以下、TASと略す)20重量部を加
え、減圧下で揮発分をすべて留去した。次いで、これに
活性エネルギー線重合開始剤として、2,4,6−トリ
メチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド(以
下APOと略す)1.8重量部、紫外線吸収剤として2
−(2−ヒドロキシ−5−t−ブチルフェニルベンゾト
リアゾール(チバガイギー社製、商品名:チヌビンP
S;以下UA−1と略す)3.8重量部を加えて溶解さ
せ、被覆用組成物を得た。
得られた被覆用組成物を、ギヤオーブンで50℃に加温
したポリカーボネート板(三菱レイヨン(株)製、商品
名:ダイヤライト、厚さ2mm)に塗布し、その上から
ポリエステルフィルム(ダイヤホイル社製、厚さ50μ
m)をかぶせながら、スポンジロールを用いて密圧着
し、よくしごいた。この状態で50秒間おいた後、照射
幅13cmに調整された120W/cmのメタルハライ
ドランプ(平行型リフレクター付き、オゾンレスタイ
プ、被写体とランプとの距離30cm)の下を、2m/
分のスピードで、ポリエステルフィルム面側が照射され
るように通過させた。次いで、ポリエステルフィルムの
みを剥離し、更に120W/cmの高圧水銀灯(平行リ
フレクター付き、オゾンタイプ、照射幅13cm、被写
体とランプとの距離30cm)の下を1m/分のスピー
ドで通過させ、被覆用組成物の硬化被膜で表面が保護さ
れた樹脂板を得た。得られた該樹脂板について、前記し
た評価方法で行った評価の結果を表3に示す。
に示す各種組成の被覆用組成物を実施例1と同様の方法
で調製し、ポリカーボネート板(三菱レイヨン(株)
製、商品名:ダイヤライト、厚さ2mm)またはポリメ
チルメタクリレート板(三菱レイヨン(株)製、厚さ2
mm)の上に、実施例1と同様な手法で塗布、硬化させ
ることによって、硬化被膜で表面が保護された樹脂板を
得た。そして、ここで得られた各樹脂板について、実施
例1と同様の方法で行った評価の結果を表3,表4に示
した。
コロイダルシリカ35重量部に、γ−アミノプロピルト
リメトキシシラン(以下、APTMSと略す。)3.4
重量部を加えたところ、コロイダルシリカがゲル化し、
析出してしまったので、被覆用組成物とすることができ
なかった。このゲル化物にC6DA30重量部、及びT
AS20重量部を更に加えても、ゲル化物のままであっ
た。
コロイダルシリカ35重量部に、C6DA30重量部、
及びTAS20重量部を加えた後に、APTMS3.4
重量部を加えたが、ゲル化を生じ、被覆用組成物とする
ことができなかった。
コロイダルシリカ35重量部に、PTMS1.7重量部
及び脱イオン水0.8重量部を加え40℃で1時間攪拌
した。その後、C6DAを30重量部、TASを20重
量部加え、減圧下で揮発分をほとんど留去した。次い
で、APTMS1.7重量部を加え、40℃で1時間攪
拌し、残留揮発分を完全に留去した。その後、APO
1.8重量部、及びUA−1 3.8重量部を加えて被
覆用組成物とした。
得られた被覆用組成物を、実施例1と同じ条件のポリカ
ーボネート板に塗布し、その上からポリエステルフィル
ム(ダイヤホイル社製、厚さ50μm)をかぶせなが
ら、スポンジロールを用いて密圧着し、塗布層の厚みが
約8μmになるようによくしごいた。この状態で120
秒間おいた後、照射幅13cmに調整された80W/c
mのメタルハライドランプ(平行型リフレクター付き、
オゾンレスタイプ、被写体とランプとの距離30cm)
の下を、0.5m/分のスピードで、ポリエステルフィ
ルム面側が照射されるように通過させた。次いで、ポリ
エステルフィルムのみを剥離し、更に120W/cmの
高圧水銀灯(平行リフレクター付き、オゾンタイプ、照
射幅13cm、被写体とランプとの距離30cm)の下
を1m/分のスピードで通過させ、被覆用組成物の硬化
被膜で表面が保護された樹脂板を得た。得られた該樹脂
板について、実施例1と同様の方法で行った評価の結果
を表3,表4に示す。
成の被覆用組成物を実施例23と同様の方法で調製し、
ポリカーボネート板(三菱レイヨン(株)製、商品名:
ダイヤライト、厚さ2mm)の上に、実施例23と同様
の手法で塗布、硬化させることによって、硬化被膜で表
面が保護された樹脂板を得た。そして、ここで得られた
各樹脂板について、実施例1と同様の方法で行った評価
結果を表4に示す。
コロイダルシリカ35重量部に、PTMS 1.7重量
部、VPTMS 1重量部、及び脱イオン水0.8重量
部を加え、40℃で1時間攪拌した。その後、C6DA
30重量部、TAS 20重量部を加え、減圧下で揮発
分をほとんど留去した。次いで、APTMS 0.8重
量部を加え、40℃で1時間攪拌し、残留揮発分を完全
に留去した。その後、APO 1.8重量部、及びUA
−1 3.8重量部を加えて被覆用組成物とした。
得られた被覆用組成物を、実施例1と同じ条件のポリカ
ーボネート板の上に実施例23と同様な手法で塗布、硬
化させることによって、硬化被膜で表面が保護された樹
脂板を得た。得られた該樹脂板について、実施例1と同
様の方法で行った評価の結果を表4に示す。
様のコロイダルシリカ100重量部に、γ−メタクリロ
イルオキシプロピルメトキシシラン(以下、MPTMS
と略す)6.2重量部、PTMS 10重量部、及び
0.01規定の塩酸水溶液4重量部を加え、40℃で2
時間攪拌した。その後、C6DA 20重量部、ビス
(アクリロイルオキシエチル)ヒドロキシエチルイソシ
アヌレート(東亜合成(株)製、商品名:アロニックス
M−215)80重量部、APO1.2重量部、メチル
フェニルグリオキシレート0.8重量部、UA−1 1
0重量部、ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−
ピペリジル)セバケート(三共(株)製、商品名:サノ
ールLS770)0.4重量部、イソブチルアルコール
270重量部、酢酸n−ブチル130重量部、3−メト
キシ−1−ブタノール40重量部を加えてよく攪拌し、
被覆用組成物とした。
得られた被覆用組成物を、実施例1と同じ条件のポリカ
ーボネート板に、0.3cm/秒の速度で浸漬塗布して
被膜を形成し、80℃で10分間放置し、該被覆用組成
物中の溶剤を蒸発させた。次いで、ポリエステルフィル
ムをかぶせずに、実施例1で用いた高圧水銀灯を用い、
該ポリカーボネート板とランプとの距離を15cmと
し、ラインスピードを1.5m/分とする以外は、実施
例1と同様にして活性エネルギー線照射を行い、被覆用
組成物を硬化させることによって、硬化被膜で表面が保
護された樹脂板を得た。得られた該樹脂板について、実
施例1と同様の方法で行った評価の結果を表4に示し
た。
(モル比2/4/1)の縮合物 C9DA:1,9−ノナンジオールジアクリレート FA731A:トリス(アクリロイルオキシエチル)イ
ソシアヌレート(日立化成(株)製、商品名:FA−7
31A) DPHA:ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート R−684:ジシクロペンタニルジアクリレート(日本
化薬(株)製、商品名:カヤラッドR−684) IBA:イソボルニルアクリレート CHA:シクロヘキシルアクリレート ADA:1−アダマンチルアクリレート DMADA:3,5−ジメチル−1−アダマンチルアク
リレート TBA:t−ブチルアクリレート CPTAA:シクロペンタニルアクリレート CPTEA:シクロペンテニルアクリレート THFA:テトラヒドロフルフリルアクリレート M−215:ビス(アクリロイルオキシエチル)ヒドロ
キシエチルイソシアヌレート(東亜合成(株)製;商品
名:アロニックスM−215) S−1:イソプロピルアルコール分散型コロイダルシリ
カ(シリカ含量30重量%、日産化学工業(株)製;商
品名:IPA−ST) S−2:水分散型コロイダルシリカ(シリカ含量20重
量%、日産化学工業(株)製;商品名:スノーテックス
O) VPTMS:p−ビニルフェニルトリメトキシシラン PTMS:フェニルトリメトキシシラン MPTMS:γ−メタクリロイルオキシプロピルトリメ
トキシシラン MTMS:メチルトリメトキシシラン DMDMS:ジメチルジメトキシシラン TMMS:トリメチルメトキシシラン TMS:テトラメトキシシラン VTMS:ビニルトリメトキシシラン PATMS:N−フェニル−γ−アミノプロピルトリメ
トキシシラン APTMS:γ−アミノプロピルトリメトキシシラン APO:2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニル
ホスフィンオキサイド(BASF製、商品名:LUCI
RIN−TPO) BAPO:ビス(2,6−ジメトキシベンゾイル)−
2,4,4−トリメチルペンチルホスフィンオキサイド
/2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン
−1−オンの重量比1/3の混合物(チバガイギー社
製、商品名:CGI−1700) MPG:メチルフェニルグリオキシレート(アクゾ・ジ
ャパン(株)製、商品名:VICURE−55) UA−1:2−(2’−ヒドロキシ−5’−tert−
ブチルフェニル)ベンゾトリアゾール(チバガイギー社
製;商品名:チヌビン−PS) UA−2:2−(2’−ヒドロキシ−5’−tert−
オクチルフェニル)ベンゾトリアゾール(チバガイギー
社製、商品名チヌビン−329) HLS−1:ビス(1−オクトキシ−2,2,6,6−
テトラメチル−4−ピペリジル)セバケート(チバガイ
ギー社製、商品名:チヌビン−123) HLS−2:4−ベンゾイルオキシ−2,2,6,6−
テトラメチルピペリジン(三共(株)製、商品名:サノ
ールLS−744) HLS−3:ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4
−ピペリジル)セバケート(三共(株)製、商品名:サ
ノールLS−770) HLS−4:ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル
−4−ピペリジル)セバケート(三共(株)製、商品
名:サノールLS−765)
剤型いずれの場合でも塗布可能な被覆用組成物であり、
これを基材に塗布硬化して形成した硬化被膜は、耐摩耗
性、耐衝撃性に優れ、外観も良好である。また、優れた
耐候性をも発現し、被覆膜のクラック等の発生防止にも
有効である。また、本発明の表面被覆成形物は、表面に
上述効果をもつ硬化被膜で覆われているので、例えば合
成樹脂成形品において従来より問題であったキズによる
審美性の低下等各種問題を解消した成形物を得ることが
できる。さらに本発明の被覆組成物より得た硬化被膜
は、耐候性に非常に優れるため、例えば車輛、飛行機な
ど運送機用の窓ガラス、ヘッドランプカバー、風防ガラ
ス、屋根材;建造物用の窓ガラス、屋根材;道路の防音
壁;銘板、ディスプレー用面板等各種面板のように屋外
にて使用される用途に特に有用である。
形物、及びその製造方法
〜10の炭化水素基、R3は水素原子または炭素数1〜
10の炭化水素基、R4は炭素数1〜10の二価の炭化
水素基、R5およびR6は、同一又は異種の水素原子また
は炭素数1〜10の炭化水素基、mは0〜2の整数を表
す。)で表されるシラン化合物から選ばれる少なくとも
1種以上のシラン化合物(b−1)5〜95モル部と、
下記一般式(IV)
の炭化水素基、R9は水素原子または炭素数1〜10の
炭化水素基、nおよびpは0〜3の整数であり、かつn
+pは0〜3である。)で表されるシラン化合物(b−
2)95〜5モル部との混合物の加水分解物で表面を修
飾したシリカ微粒子、及び、(c)成分として活性エネ
ルギー線重合開始剤とを含有することを特徴とする被覆
用組成物。
射することにより、耐摩耗性並びに耐候性の優れた硬化
被膜を形成しうる被覆用組成物、及び該被覆用組成物の
硬化物で表面が被覆された成形物として、特にヘッドラ
ンプカバー、風防ガラス、車両用窓ガラス、車両用屋根
材、建造物用窓ガラス、建造物用屋根材、道路用防音
壁、銘板及びディスプレー用面板などに用いられる、耐
磨耗性並びに耐候性に優れた表面被覆成形物に関するも
のである。
良好な耐破砕性を備えた透明プラスチック材料を使用す
ることが広く行われている。
無機ガラスに比べて表面が柔らかく、引っかき傷を生じ
易いといった耐摩耗性不足と耐候性不足という重大な難
点を有している。そこで、従来から透明プラスチック材
料の耐摩耗性を改良するために多くの試みがなされてき
た。
53−102936号公報、同53−104638号公
報、同54−97633号公報等に記載されているよう
に、分子中に複数のアクリロイルオキシ基あるいはメタ
クリロイルオキシ基を有する化合物を主体とする硬化液
を成形品表面に塗布し、熱あるいは紫外線などの活性エ
ネルギー線照射により硬化させて、耐擦傷性の優れた被
覆を有する成形品を得る方法がある。この方法に用いる
硬化液は、比較的安価で手軽に入手できるが、得られる
硬化被膜は有機物であることから、この被覆を有する成
形品の耐摩耗性には限界があるのが現状である。
して、例えば特開昭48−26822号公報、同59−
64671号公報等に記載されているように、アルコキ
シシラン化合物をプラスチック成形品表面に塗布し、熱
により硬化させた被覆を有する成形品を得る方法、ある
いは、特開昭56−106969号公報、特開平2−2
72041号公報には、コロイダルシリカと硬化液とか
らなる被覆用組成物をプラスチック成形品表面に塗布し
熱により硬化させた被覆を有する成形品を得る方法など
が知られている。
用組成物には、その塗装性を良好にするため有機溶剤を
用いられているので、乾燥工程で被塗物となるプラスチ
ック成形品にクラックが発生したり、塗りむら等の塗膜
欠陥が生じ易く、得られる被覆成形品の外観にも問題が
生じやすい。また、その塗装工程で空気中に有機溶剤の
放出が避けられず、近年注目されている地球環境保護の
観点からも好ましくない。
より硬化させるためエネルギー消費量が大きく、その硬
化に長時間を要するため、工業的に不利である。
公平1−55307号公報、同3−2168号公報、同
3−6190号公報、特開昭59−204669号公
報、同62−256874号公報、特開平2−6413
8号公報、同4−18423号公報、同4−21474
3号公報、同4−220411号公報、同5−9818
9号公報、同5−306374号公報、同6−2536
3号公報、同6−41468号公報、及び同6−151
694号公報には、コロイダルシリカと、アクリル基又
はメタクリル基を有するアルコキシシランと、多官能ア
クリレートとからなる被覆用組成物が開示されている。
としても用いることが可能であり、この被覆材からは比
較的優れた表面硬度を有するプラスチック成形品を得る
ことができるが、硬化被膜中のコロイダルシリカとアル
コキシシランとの界面において加水分解を受け、硬化被
膜に、クラックや白化現象を生じ、その耐候性が十分で
はないという難点があった。これらの課題を解決するた
め、本発明者らは、特開平6−100798号に示した
ように、スチリル基を有するアルコキシシランの加水分
解物で表面が修飾させたシリカ微粒子、多官能アクリレ
ート、及び活性エネルギー線重合開始剤からなる被覆用
組成物が良好な特性を有することを見いだした。
成物も従来のものよりは優れた性能を有するものの、ま
だ十分とはいえず、表面硬度が高く、かつ耐候性に優れ
た硬化被膜を形成し得る無溶剤でも用いることが可能な
活性エネルギー線硬化型被覆用組成物は未だ得られてい
ないのが現状である。本発明は上述の課題を解決するた
めに鋭意検討をした結果得られたものであり、その目的
は、溶剤を用いなくても塗装可能であり、かつ表面硬度
が高く外観及び耐候性が良好で、耐磨耗性、耐擦傷性に
優れた硬化被膜を形成できる活性エネルギー線硬化型被
覆用組成物にある。本発明の他の目的は、この被覆用組
成物の硬化物で表面が被覆された成形物を提供すること
にある。
加水分解物で修飾したシリカ微粒子と多官能アクリレー
ト及び/又はメタアクリレート(以下、(メタ)アクリ
レートと略す)を主成分とする従来開発されてきた被覆
用組成物から得られる硬化被膜は、かなり優れるものの
耐候性に劣るという点を改良するために、この硬化被膜
の表面硬度発現機構ならびにその耐候性に影響する要因
について鋭意検討を行った結果、本発明に至ったもので
ある。すなわち、本発明は、(a)成分として、分子中
に少なくとも2個のアクリロイルオキシ基及び/又はメ
タクリロイルオキシ基を有する架橋重合性化合物(a−
1)、または該架橋重合性化合物(a−1)50重量%
以上とこれと共重合可能な化合物(a−2)50重量%
とからなる混合物、(b)成分として、下記一般式
(I)〜(III)
〜10の炭化水素基、R3は水素原子または炭素数1〜
10の炭化水素基、R4は炭素数1〜10の二価の炭化
水素基、R5およびR6は、同一又は異種の水素原子また
は炭素数1〜10の炭化水素基、mは0〜2の整数を表
す。)で表されるシラン化合物から選ばれる少なくとも
1種以上のシラン化合物(b−1)5〜95モル部と、
下記一般式(IV)
0の炭化水素基、R9は水素原子または炭素数1〜10
の炭化水素基、nおよびpは0〜3の整数であり、かつ
n+pは0〜3である。)で表されるシラン化合物(b
−2)95〜5モル部との混合物の加水分解物で表面を
修飾したシリカ微粒子、及び、(c)成分として活性エ
ネルギー線重合開始剤からなる被覆用組成物である。
分、(b)成分及び(c)成分を混合して前記被覆用組
成物を製造する方法において、シリカ微粒子の分散液中
にシラン化合物(b−2)を添加してその加水分解物に
よりシリカ微粒子の表面を修飾し、次いで(a)成分を
添加してからシリカ微粒子の分散媒および水を留去し、
その後にシラン化合物(b−1)を添加してその加水分
解物による更なるシリカ微粒子の表面を修飾する工程を
有することを特徴とする被覆用組成物の製造方法であ
る。更に、前記被覆用組成物の硬化物で表面が被覆され
た成形物も本発明の対象である。
膜の表面硬度発現機構および耐候性に影響する要因とし
て、(1)硬化被膜の耐候性は、シリカ微粒子の表面修
飾の程度に影響され、表面修飾が適切でなければ耐候性
の低下につながること、(2)硬化被膜の表面硬度を高
度に発現させるためには、シリカ微粒子と多官能(メ
タ)アクリレートの重合硬化物との間に何らかの結合を
有していなければならず、シラン化合物(b−1)はそ
の役割を果たすものであること、(3)シリカ微粒子と
多官能(メタ)アクリレートの重合硬化物の結合点が多
すぎると、硬化被膜の可撓性を阻害する要因となり、そ
の耐候性評価における高温/低温の熱サイクルテスト及
び吸水/乾燥の吸水サイクルテスト時に硬化被膜が成形
物の膨張、収縮挙動についてゆけず、硬化被膜にクラッ
ク等の欠陥が現れることが判明した。
硬度と耐候性とが両立して発現する被覆用組成物を得る
ために、さらに検討を重ねた結果、シリカ微粒子表面を
修飾するために用いるシラン化合物として、シリカ微粒
子と多官能(メタ)アクリレートの重合硬化物との間に
結合を生起させるシラン化合物(b−1)と、両者間に
結合を生起させないシラン化合物(b−2)とを併用す
ることにより、上記の性能が発現され得ることを明らか
とした。
塗膜の表面硬度の向上に働き、またシラン化合物(b−
2)はシリカ微粒子の表面修飾に働いて、硬化被膜に可
撓性を付与するので、両者で修飾したシリカ微粒子を含
む被覆用組成物を用いることにより、高い表面硬度及び
良好な耐候性を発現した硬化被膜が得られることを見い
だした。
発明の被覆用組成物における(a)成分は、分子中に少
なくとも2個のアクリロイルオキシ基及び/又はメタク
リロイルオキシ基(以下、(メタ)アクリロイルオキシ
基と略す)を有する架橋重合性化合物(a−1)であ
る。本発明で用いる架橋重合性化合物(a−1)は、
(メタ)アクリロイルオキシ基以外の部分である残基が
炭化水素またはその誘導体であり、その分子内にはエー
テル結合、チオエーテル結合、エステル結合、アミド結
合、ウレタン結合等を含んでいてもよい。
例えば、多価アルコールと(メタ)アクリル酸またはそ
れらの誘導体とから得られるエステル化合物、あるいは
多価アルコールと多価カルボン酸と(メタ)アクリル酸
またはそれらの誘導体とから得られるエステル化合物が
挙げられる。
レングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレン
グリコール、テトラエチレングリコール、平均分子量が
約300〜約1000のポリエチレングリコール、プロ
ピレングリコール、ジプロピレングリコール、1,3−
プロパンジオール、1,3−ブタンジオール、2,3−
ブタンジオール、1,4−ブタンジオール、1,5−ペ
ンタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、1,9−
ノナンジオール、ネオペンチルグリコール(すなわち
2,2−ジメチル−1,3−プロパンジオール)、2−
エチルヘキシル−1,3−ヘキサンジオール、2,2’
−チオジエタノール、1,4−シクロヘキサンジメタノ
ール等の2価のアルコール;トリメチロールプロパン
(即ち1,1,1−トリメチロールプロパン)、ペンタ
グリセロール(即ち、1,1,1−トリメチロールエタ
ン)、グリセロール、1,2,4−ブタントリオール、
1,2,6−ヘキサントリオール等の3価のアルコー
ル;その他、ペンタエリスリトール(即ち2,2−ビス
(ヒドロキシメチル)−1,3−プロパンジオール)、
ジグリセロール、ジペンタエリスリトール等が挙げられ
る。
トとして得られる架橋重合性化合物(a−1)の具体例
として、下記一般式(V)
るX1はそのうちの2個以上が(メタ)アクリロイルオ
キシ基を、その残りのX1は各々独立に水素原子、水酸
基、アミノ基、アルキル基または置換アルキル基を示
す。)で表される化合物が挙げられる。
は、具体的には、トリメチロールプロパントリ(メタ)
アクリレート、トリメチロールエタントリ(メタ)アク
リレート、ペンタグリセロールトリ(メタ)アクリレー
ト、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、
ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジ
ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペ
ンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペ
ンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペ
ンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、トリ
ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ト
リペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、
トリペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレー
ト、トリペンタエリスリトールヘプタ(メタ)アクリレ
ート等が挙げられる。
価アルコールのポリ(メタ)アクリレートとしては、例
えばジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ト
リエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、テトラ
エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,4−
ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキ
サンジオールジ(メタ)アクリレート、1,9−ノナン
ジオールジ(メタ)アクリレート、グリセリントリ(メ
タ)アクリレート等が挙げられる。
ルコールと(メタ)アクリル酸又はその誘導体とから得
られるエステル化合物を用いる場合、特に好ましいエス
テル化合物は、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリ
レート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレー
ト、テトラエチレングリコールジ(メタ)アクリレー
ト、1,4−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、
1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、
1,9−ノナンジオールジ(メタ)アクリレート、トリ
メチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタ
グリセロールアクリレート、ジペンタグリセロールペン
タアクリレート等である。
用い得る多価アルコールと多価カルボン酸と(メタ)ア
クリル酸またはそれらの誘導体とから得られるエステル
化合物は、基本的には、多価アルコールのヒドロキシル
基と、多価カルボン酸および(メタ)アクリル酸又はそ
の誘導体の両者のカルボキシル基とが最終的には当量と
なるような混合物を反応させることによって得られる。
は、多価アルコールとして、2価のアルコール、3価の
アルコール、または2価のアルコールと3価のアルコー
ルとの混合物を用い、多価カルボン酸として、2価カル
ボン酸を用いて得られたエステル化物が挙げられる。3
価のアルコールと2価のアルコールとの混合物を用いる
場合は、3価のアルコールと2価のアルコールとのモル
比は任意に選べる。
酸又はその誘導体とを併用する場合のモル比は、(メ
タ)アクリル酸又はその誘導体のカルボキシル基1モル
に対して2価カルボン酸のカルボキシル基が2モル以下
の範囲内とすることが好ましい。2価カルボン酸が上記
範囲より過剰にある場合には、生成するエステルの粘度
が高くなり過ぎて塗膜の形成が困難になる場合がある。
カルボン酸またはその誘導体としては、例えばコハク
酸、アジピン酸、セバシン酸などの脂肪族ジカルボン
酸;テトラヒドロフタル酸、3,6−エンドメチレンテ
トラヒドロフタル酸などの脂環族ジカルボン酸;フタル
酸、イソフタル酸、テレフタル酸などの芳香族ジカルボ
ン酸;その他チオグリコール類、チオジバレリン酸、ジ
グリコール酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、お
よびこれらの塩化物、無水物、並びにエステル等を挙げ
ることができる。
上述のエステル化合物の具体例としては、マロン酸/ト
リメチロールエタン/(メタ)アクリル酸、マロン酸/
トリメチロールプロパン/(メタ)アクリル酸、マロン
酸/グリセリン/(メタ)アクリル酸、マロン酸/ペン
タエリスリトール/(メタ)アクリル酸、コハク酸/ト
リメチロールエタン/(メタ)アクリル酸、コハク酸/
トリメチロールプロパン/(メタ)アクリル酸、コハク
酸/グリセリン/(メタ)アクリル酸、コハク酸/ペン
タエリスリトール/(メタ)アクリル酸、アジピン酸/
トリメチロールエタン/(メタ)アクリル酸、アジピン
酸/トリメチロールプロパン/(メタ)アクリル酸、ア
ジピン酸/ペンタエリスリトール/(メタ)アクリル
酸、アジピン酸/グリセリン/(メタ)アクリル酸、グ
ルタル酸/トリメチロールエタン/(メタ)アクリル
酸、グルタル酸/トリメチロールプロパン/(メタ)ア
クリル酸、グルタル酸/グリセリン/(メタ)アクリル
酸、グルタル酸/ペンタエリスリトール/(メタ)アク
リル酸、セバシン酸/トリメチロールエタン/(メタ)
アクリル酸、セバシン酸/トリメチロールプロパン/
(メタ)アクリル酸、セバシン酸/グリセリン/(メ
タ)アクリル酸、セバシン酸/ペンタエリスリトール/
(メタ)アクリル酸、フマル酸/トリメチロールエタン
/(メタ)アクリル酸、フマル酸/トリメチロールプロ
パン/(メタ)アクリル酸、フタル酸/グリセリン/
(メタ)アクリル酸、フマル酸/ペンタエリスリトール
/(メタ)アクリル酸、イタコン酸/トリメチロールエ
タン/(メタ)アクリル酸、イタコン酸/トリメチロー
ルプロパン/(メタ)アクリル酸、イタコン酸/ペンタ
エリスリトール/(メタ)アクリル酸、無水マレイン酸
/トリメチロールエタン/(メタ)アクリル酸、無水マ
レイン酸/グリセリン/(メタ)アクリル酸等の組み合
わせによる飽和または不飽和ポリエステルポリ(メタ)
アクリレートである。
て、例えば下記一般式(VI)で示されるトリレントリイ
ソシアネート
す。)、ヘキサメチレンジイソシアネート、トリレンジ
イソシアネート、ジフェニルエタンジイソシアネート、
キシレンジイソシアネート、4,4’−メチレンビス
(シクロヘキシルイソシアネート)、イソホロンジイソ
シアネートまたはトリメチルヘキサメチレンジイソシア
ネート等のポリイソシアネートと、活性水素を有するア
クリル系単量体、例えば2−ヒドロキシエチル(メタ)
アクリレート、2−ヒドロキシ−3−メトキシプロピル
(メタ)アクリレート、N−メチロール(メタ)アクリ
ルアミド、N−ヒドロキシ(メタ)アクリルアミド等と
を、イソシアネート基1モル当たりアクリル系単量体1
モル以上を常法により反応させて得られるウレタン(メ
タ)アクリレート;トリス(2−ヒドロキシエチル)イ
ソシアヌル酸のトリ(メタ)アクリレート等のポリ
[(メタ)アクリロイルオキシエチル]イソシアヌレー
トが挙げられる。
は、架橋重合性化合物(a−1)を主成分(50重量%
以上)とこれと共重合可能な化合物(a−2)を配合し
た混合物であってもよい。
は、例えば分子中に1個の(メタ)アクリロイル基を有
する化合物等が用いられる。
レート、エチル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)
アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、t−
ブチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メ
タ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、ド
デシル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)
アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレ
ート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、
グリシジル(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフ
リル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレ
ート、イソボルニル(メタ)アクリレート、1−アダマ
ンチル(メタ)アクリレート、3,5−ジメチル−1−
アダマンチル(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニ
ル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニル(メタ)
アクリレート、1,4−ブチレングリコールモノ(メ
タ)アクリレート、エトキシエチル(メタ)アクリレー
ト、エチルカルビトール(メタ)アクリレート、2−ヒ
ドロキシ−3−クロロプロピル(メタ)アクリレート、
(メタ)アクリルアミド、N−ヒドロキシエチル(メ
タ)アクリルアミド、N−ヒドロキシメチル(メタ)ア
クリルアミド、N−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリ
ルアミド、2,2,2−トリフルオロエチル(メタ)ア
クリレート、2,2,3,3−テトラフルオロプロピル
(メタ)アクリレート、1H,1H,5H−オクタフル
オロペンチル(メタ)アクリレート、N−ヒドロキシブ
チル(メタ)アクリルアミド、ヒドロキシメチルジアセ
トン(メタ)アクリルアミド、N−ヒドロキシエチル−
N−メチル(メタ)アクリルアミド等が挙げられる。
イルオキシ基を示し、R1 1はアルキル基、置換アルキル
基、フェニル基、置換フェニル基、ベンジル基または置
換ベンジル基を示す。)で表されるモノ(メタ)アクリ
レート等も挙げられる。
表されるモノ(メタ)アクリレートとしては、例えばメ
トキシジエチレングリコール(メタ)アクリレート、メ
トキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、
フェノキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレー
ト、ブトキシエチレングリコール(メタ)アクリレート
等が挙げられる。
て、例えばβ−(メタ)アクリロイルオキシエチルハイ
ドロゲンフタレート、β−(メタ)アクリロイルオキシ
エチルハイドロゲンサクシネート、β−(メタ)アクリ
ロイルオキシプロピルハイドロゲンサクシネート、およ
び公知の各種エポキシ(メタ)アクリレート、ウレタン
(メタ)アクリレート等も挙げられる。
る硬化被膜の用途に応じて選ばれるが、表面硬度の高い
被膜を望む場合には、化合物(a−2)の重合体のガラ
ス転移温度の高いものが好適に用いられる。
タ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレー
ト、イソボルニル(メタ)アクリレート、1−アダマン
チル(メタ)クリレート、3,5−ジメチル−1−アダ
マンチル(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニル
(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニル(メタ)ア
クリレートなどが挙げられる。
は、(a)成分中に50重量%以下の割合で含有される
ことが必要であり、30重量%以下であることが好まし
い。この範囲外の割合で(a)成分中に化合物(a−
2)を含有させると、本発明で得られる硬化被膜の表面
硬度が低下してしまう。
は、一般式(I)〜(III)で表されるシラン化合物か
ら選ばれる少なくとも1種以上のシラン化合物(b−
1)と、一般式(IV)で表されるシラン化合物から選ば
れる少なくとも1種以上のシラン化合物(b−2)との
混合物の加水分解物で表面が修飾されたシリカ微粒子で
ある。
た」とは、シリカ微粒子の表面の一部または全部にシラ
ン化合物の加水分解物が保持された状態にあり、シリカ
微粒子の表面特性が改質されていることを意味する。な
お、シラン化合物の加水分解物の縮合反応が進んだもの
が同時に保持されているシリカ微粒子もこれに含まれ
る。
は、代表的には、シリカ微粒子存在下にシラン化合物の
加水分解、または加水分解と縮合反応を生じせしめるこ
とにより容易に行うことができる。
ではないが、シリカ微粒子の平均粒径が1nm〜1μm
の範囲であるものが好ましく、さらに好ましくは平均粒
径が5〜200nmの範囲である。シリカ微粒子を含む
被覆材より形成した被膜に透明性が要求される場合に
は、平均粒径が5〜100nmのシリカ微粒子を用いる
ことが好ましい。
シリカが使用できる。コロイダルシリカを用いる場合、
その分散媒は特に限定されないが、通常、水;メタノー
ル、エタノール、イソプロピルアルコール、n−ブタノ
ールのようなアルコール類;セロソルブ類;ジメチルア
セトアミド、トルエン、キシレン等が使用される。特に
好ましい分散媒は、アルコール類、セロソルブ類、トル
エン、及び水である。
表されるシラン化合物(b−1)は、シリカ微粒子と
(a)成分との間に活性エネルギー線の照射により結合
を生起させ、シリカ微粒子による硬化被膜の表面硬度の
発現に寄与する成分である。
−1)としては、例えばp−ビニルフェニルトリメトキ
シシラン、(すなわちp−トリメトキシシリルスチレ
ン)、p−ビニルフェニルトリエトキシシラン、p−ビ
ニルフェニルトリイソプロポキシシラン、p−ビニルフ
ェニルメチルジメトキシシラン、p−ビニルフェニルメ
チルジエトキシシラン、p−ビニルフェニルエチルジメ
トキシシラン、p−ビニルフェニルプロピルジメトキシ
シラン、p−ビニルフェニルフェニルジメトキシシラ
ン、p−ビニルフェニルジメチルメトキシシラン、o−
ビニルフェニルトリメトキシシラン、o−ビニルフェニ
ルメチルジメトキシシラン、m−ビニルフェニルトリメ
トキシシラン、p−イソプロペニルフェニルトリメトキ
シシラン、p−イソプロペニルフェニルメチルジメトキ
シシラン、m−イソプロペニルフェニルトリメトキシシ
ラン、m−イソプロペニルフェニルメチルジメトキシシ
ラン等が挙げられる。
−1)としては、例えば、ビニルトリメトキシシラン、
ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリn−ブトキシシ
ラン、ビニルメチルジメトキシシラン、ビニルメチルジ
エトキシシラン、ビニルエチルトリメトキシシラン、ビ
ニルジメチルメトキシシラン、イソプロペニルトリメト
キシシラン、イソプロペニルメチルジメトキシシラン等
が挙げられる。
(b−1)としては、具体例として、γ−アミノプロピ
ルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキ
シシラン、γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラ
ン、γ−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、γ−
アミノプロピルエチルジメトキシシラン、γ−アミノプ
ロピルジメチルメトキシシラン、N−メチル−γ−アミ
ノプロピルトリメトキシシラン、N−エチル−γ−アミ
ノプロピルトリメトキシシラン、N−フェニル−γ−ア
ミノプロピルトリメトキシシラン、N−フェニル−γ−
アミノプロピルトリエトキシシラン、N−フェニル−γ
−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N−フェニ
ル−γ−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、N,
N−ジメチル−γ−アミノプロピルトリメトキシシラ
ン、N,N−ジエチル−γ−アミノプロピルトリメトキ
シシラン等が挙げられる。
シラン化合物(b−1)は、単独で、あるいは2種以上
を組み合わせて用いられる。
合物(b−1)のうち、例えば、γ−アミノプロピルト
リメトキシシランや、γ−アミノプロピルトリエトキシ
シラン等のシラン化合物のみを用いて本発明の無溶剤型
被覆用組成物を製造した場合、系がゲル化してしまうた
め、得られた被覆用組成物は塗布不能となってしまうた
め、好ましくない。しかしながら、後述するシラン化合
物(b−2)を該シラン化合物と併用したときのみ、系
のゲル化を生じることなく被覆用組成物とすることがで
きる。
−2)は、シリカ微粒子の表面修飾に寄与するが、シリ
カ微粒子と(a)成分との間の結合能を有さないため、
硬化被膜の可撓性向上、ひいては良好な耐候性を発現す
る成分となっている。
−2)の具体例としては、テトラメトキシシラン、テト
ラエトキシシラン、テトラn−ブトキシシラン、メチル
トリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチ
ルトリメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、
フェニルトリエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラ
ン、ジフェニルジメトキシシラン、メチルエチルジメト
キシシラン、メチルフェニルジメトキシシラン、トリメ
チルメトキシシラン、トリメチルエトキシシラン、トリ
エチルメトキシシラン等、及びこれらの混合物が挙げら
れる。
シラン化合物(b−2)との使用モル比は、5:95〜
95:5の範囲にあり、好ましくは10:90〜90:
10の範囲であり、10:90〜60:40の範囲であ
ることが特に好ましい。
(b−2)の使用モル比が、前記の範囲外にて修飾した
シリカ微粒子を含む被覆用組成物を用いた場合には、硬
化被膜の表面硬度低下や、耐候性の悪化を生じてしま
う。
いる場合は、シラン化合物をコロイダルシリカの分散液
中に混合して、この系中の水または新たに加える水によ
り加水分解すれば、この加水分解物で表面が修飾された
シリカ微粒子(b)を得ることができる。
には、触媒として無機酸または有機酸を使用することが
できる。無機酸としては、例えば塩酸、弗化水素酸、臭
化水素酸等のハロゲン化水素酸や、硫酸、硝酸、リン酸
等が挙げられる。有機酸としては、蟻酸、酢酸、シュウ
酸、アクリル酸、メタクリル酸等が挙げられる。
に溶媒を用いることが好ましい。この溶媒としては、反
応物であるシランアルコキシドと水、触媒を相容させ得
るものが好ましい。
ル、イソプロピルアルコール等のアルコール類;アセト
ン、メチルイソブチルケトン類のケトン類、テトラヒド
ロフラン、ジオキサン等のエーテル類を挙げることがで
きる。
イダルシリカの分散媒をそのまま用いてもよいし、新た
に必要量加えてもよい。新たに加える場合にも、前述し
た溶媒が使用できる。
る量であれば特に制限はないが、反応物の濃度が希薄に
なりすぎると、反応速度が著しく遅くなる場合がある。
シラン化合物の加水分解と縮合反応は、室温〜120℃
程度の温度で30分〜24時間程度の条件下で行うのが
好ましく、さらに好ましくは室温〜溶媒の沸点程度の温
度で1〜10時間程度の条件下で行うのがよい。
との配合比は、特に制限されないが、シリカ微粒子(コ
ロイダルシリカの場合にはその固形分)100重量部に
対し、シラン化合物(b−1)とシラン化合物(b−
2)の混合物を5〜200重量部の範囲とすることが好
ましく、さらに好ましくは10〜100重量部の範囲で
ある。また、(a)成分と(b)成分との配合比も制限
されないが、(a)成分100重量部に対し、(b)成
分を1〜200重量部の範囲とすることが好ましく、特
に好ましくは5〜60重量部の範囲である。
に使用される活性エネルギー線としては、例えばβ線、
γ線、X線、加速電子線等の放射線及び紫外線等が挙げ
られ、本発明の被覆用組成物中に重合反応を生起させ得
るため、活性エネルギー線重合開始剤(c)を添加する
必要がある。
ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエ
チルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベン
ゾインイソブチルエーテル、アセトイン、ブチロイン、
トルオイン、ベンジル、ベンゾフェノン、p−メトキシ
ベンゾフェノン、ジエトキシアセトフェノン、2−ヒド
ロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オ
ン、1−(4−イソプロピルフェニル)−2−ヒドロキ
シ−2−メチルプロパン−1−オン、1−(4−ドデシ
ルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−
1−オン、4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル−
(2−ヒドロキシ−2−メチルプロピル)ケトン、1−
ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−メチル
−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルホリ
ノプロパノン−1、ベンジルジメチルケタール、チオキ
サントン、2−クロロチオキサントン、2,4−ジクロ
ロチオキサントン、2−メチルチオキサントン、2,4
−ジメチルチオキサントン、2−イソプロピルチオキサ
ントン、2,4−ジエチルチオキサントン、2,4−ジ
イソプロピルチオキサントン、メチルフェニルグリオキ
シレート等のカルボニル化合物;テトラメチルチウラム
モノスルフィド、テトラメチルチウラムジスルフィド等
の硫黄化合物;アゾビスイソブチロニトリル、アゾビス
−2,4−ジメチルバレロニトリル等のアゾ化合物;ベ
ンゾイルパーオキサイド、ジターシャリーブチルパーオ
キサイド等のパーオキサイド化合物;2,4,6−トリ
メチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、ベ
ンゾイルジエトキシホスフィンオキサイド、ビス(2,
6−ジメトキシベンゾイル)−2,4,4−トリメチル
ペンチルホスフィンオキサイド等のホスフィンオキサイ
ド化合物等が挙げられる。中でも、2,4−トリメチル
ベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、ビス
(2,6−ジメトキシベンゾイル)−2,4,4−トリ
メチルペンチルホスフィンオキサイド、ビス(2,6−
ジメトキシベンゾイル)2,4,4−トリメチルペンチ
ルホスフィンオキシド及びメチルフェニルグリオキシレ
ートが好ましい。
単独で使用してもよく、2種以上組み合わせて用いても
よい。活性エネルギー線重合開始剤(c)の配合量は、
(a)成分100重量部に対し、0.01〜10重量部
が好ましい。
溶剤を含有しないものとして提供されるが、所望により
有機溶剤を添加して使用することができる。この有機溶
剤としては、(a)成分及び(c)成分と均一混合が可
能であり、かつ(b)成分を均一分散可能なものを使用
できる。
以下であり、かつ常温(25℃)での粘度が10センチ
ボイズ以下のものが適当である。有機溶媒の沸点が上記
範囲外の場合、塗布液が乾固してしまったり、塗布後の
乾燥ができなくなるなどの不都合が生じる場合があり、
また、粘度が上記範囲外である場合には塗装性が低下し
やすい。
イソプロピルアルコール、ノルマルプロピルアルコー
ル、ノルマルブチルアルコール、イソブチルアルコール
等のアルコール類、ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化
水素類;アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類;
ジオキサン等のエーテル類;酢酸エチル、酢酸ブチル等
のエステル類:N,N−ジメチルホルムアミド類等が挙
げられる。これらの有機溶剤は、単独でまたは2種以上
を混合して使用することができる。
は、硬化被膜の劣化防止及び基材の保護の目的で、紫外
線吸収剤(d)を含むことが好ましい。紫外線吸収剤
(d)としては、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾー
ル系、シュウ酸アニリド系、シアノアクリレート系、及
びトリアジン系のものが用いられるが、本発明の被覆用
組成物においては、ベンゾトリアゾール系のものが好ま
しく用いられる。
ドロキシ−5’−メチルフェニル)ベンゾトリアゾー
ル、2−(2’−ヒドロキシ−5’−t−ブチルフェニ
ル)ベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−
5’−t−オクチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2
−[2’−ヒドロキシ−3’,5’−ビス(α,α−ジ
メチルベンジル)フェニル]−2H−ベンゾトリアゾー
ル、2−(2’−ヒドロキシ−3’,5’−ジ−t−ブ
チルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒド
ロキシ−3’−t−ブチル−5’−メチルフェニル)−
5−クロロベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキ
シ−3’,5’−ジ−t−ブチルフェニル)−5−クロ
ロベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−
3’,5’−ジ−t−アミルフェニル)ベンゾトリアゾ
ール、2−(2’−ヒドロキシ−3’−t−ブチル−
5’−オクトキシカルボニルエチルフェニル)ベンゾト
リアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−3’−t−ブチ
ル−5’−ポリエチレングリコキシカルボニルエチルフ
ェニル)ベンゾトリアゾールなどが挙げられる。これら
紫外線吸収剤(d)は、単独で使用してもよく、2種以
上を組み合わせて用いてもよい。
さらに光安定剤(e)を含有することができるが、中で
もヒンダードアミン系光安定剤が好適に用いられる。光
安定剤(e)の具体的な化合物としては、ビス(2,
2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)セバケー
ト、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピ
ペリジル)セバケート、4−ベンゾイルオキシ−2,
2,6,6−テトラメチルピペリジン、ビス(1−オク
トキシ−2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジ
ル)セバケート、1−[2−{3−(3,5−ジ−t−
ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオニルオキ
シ}エチル]−4−{3−(3,5−ジ−t−ブチル−
4−ヒドロキシフェニル)プロピオニルオキシ}−2,
2,6,6−テトラメチルピペリジン、8−アセチル−
3−ドデシル−7,7,9,9−テトラメチル−1,
3,8−トリアザスピロ[4,5]デカン−2,4−ジ
オン、4−(メタ)アクリロイルオキシ−2,2,6,
6−テトラメチルピペリジン、4−(メタ)アクリロイ
ルオキシ−1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジ
ンなどが挙げられる。
(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)セ
バケート、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−
4−ピペリジル)セバケート、4−ベンゾイルオキシ−
2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、ビス(1−
オクトキシ−2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペ
リジル)セバケートである。
は、一般に知られているように、被覆用組成物中で沈殿
が生じたり、系のゲル化を生じさせ、塗布することが不
可能となるので注意が必要であるが、これは成分
(a)、成分(b−1)、成分(b−2)の組成の選択
や溶剤の添加により回避することができる。具体的に
は、本発明の被覆用組成物のうち無溶剤型のものにおい
ては、成分(b−1)として前述した一般式(I)及び
(II)で表されるシラン化合物を用いた場合、ビス
(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)セ
バケートやビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−
4−ピペリジル)セバケート等、下記一般式(IX)で表
されるヒンダードアミン系光安定剤を用いると被覆用組
成物のゲル化が生じるので好ましくない。
化水素基、R13は炭素数1〜4の炭化水素基、R14は炭
素数4〜12の二価の炭化水素基を表す。)
と(a−2)成分からなる(a)成分、(b−1)成分
と(b−2)成分とからなる(b)成分の組成の選択や
溶剤の添加により前記課題を解決するにいたった。
無溶剤型のものにおいては、4−ベンゾイルオキシ−
2,2,6,6−テトラメチルピペリジンやビス(1−
オクトキシ−2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペ
リジル)セバケートなど、下記一般式(X)又は(XI)
化水素基、R16は炭素数1〜4の炭化水素基、R17は炭
素−炭素二重結合を含んでいても良い炭素数1〜12の
炭化水素基、R18は炭素数1〜12の炭化水素基、R19
は炭素数4〜12の二価の炭化水素基を表す。)で表さ
れるヒンダードアミン系光安定剤を用いることが好まし
い。
被覆用組成物において、成分(b−1)として前述した
一般式(III)で表されるシラン化合物を用いた場合に
は、上述したすべてのヒンダードアミン系光安定剤につ
いて、系のゲル化を生じることなく使用できることを見
いだした。さらに、またこれらヒンダードアミン系光安
定剤は、本発明の被覆用組成物の硬化被膜の耐候性を向
上させることも見いだした。
必要に応じて、表面平滑剤、界面活性剤、貯蔵安定剤な
どの各種添加剤を適宜添加して使用してもよい。
限定されるものではないが、例えばコロイダルシリカの
分散液にシラン化合物よりなる(b)成分及び必要なら
ば水や触媒を混合し、前述した反応条件で反応させ、こ
の反応後の液中に(a)成分を混合する。次いでコロイ
ダルシリカの分散媒およびシラン化合物の加水分解反応
で生成した揮発分を除去し、その後(c)成分および必
要ならば他の添加剤を加える方法が特に好ましい。
に一般式(III)で示されるシラン化合物を用いる場合
には、(a)成分と(b)成分の混合は以下の方法によ
るのが好ましい。
ず一般式(IV)で示されるシラン化合物(b−2)を添
加して加水分解反応をさせてその加水分解物による表面
修飾を行い、シリカ微粒子の表面状態を変化させる。次
いで、この反応系に(a)成分を添加してから、シリカ
微粒子の分散媒および水などの揮発分の大部分を留去し
て、シリカ微粒子の分散媒を(a)成分へ置換する。そ
の後に、一般式(III)で示されるシラン化合物(b−
1)を添加して加水分解反応をさせて、その加水分解物
による更なるシリカ微粒子の表面修飾を行う。一般式
(III)で示されるシラン化合物(b−1)をアルコー
ル等の揮発性分散媒を餅多シリカ微粒子の分散液中に添
加するとシリカ微粒子が析出し、ゲル化しやすい。
とにより、このような二段階修飾法を採用することによ
り、一般式(III)のシラン化合物を用いた本発明の被
覆用組成物をゲル化が全くない状態で製造することが可
能となる。
に塗布する方法としては、刷毛塗り法、流延法、ローラ
ー法、バーコート法、噴霧コート法、エアーナイフコー
ト法、ディッピング法等が挙げられる。
に対する塗布量としては、硬化被膜の膜厚が1〜30μ
mになるように塗布するのが適当である。膜厚が1μm
未満の場合は耐摩耗性に劣り、該膜厚が30μmを越え
る場合には硬化被膜にクラックが入りやすい傾向にあ
る。
しては、表面の耐摩耗性等の向上が求められる公知の各
種成形物でよい。
ばポリメチルメタクリレート、メチルメタクリレートを
主構成成分とする共重合体、ポリスチレン、スチレン−
メチルメタクリレート共重合体、スチレン−アクリロニ
トリル共重合体、ポリカーボネート、セルロースアセテ
ートブチレート樹脂、ポリアクリルジグリコールカーボ
ネート樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリエステル樹脂等
が挙げられる。
膜は、耐候性に非常に優れるため、例えば車両、飛行機
など運送機用の窓ガラス、風防ガラス、屋根材、ヘッド
ランプカバー;建造物用の窓ガラス、屋根材;道路の防
音壁;銘板、ディスプレー用面版のように屋外にて使用
される用途に特に有用である。
明するが、本発明は実施例に限定されるものではない。
なお、実施例中の部は重量部を示す。
価は、以下に示す方法で行った。 1)耐擦傷性 000番スチールウールを25φ円形パッドに装着し、
往復式摩耗試験台上に保持された試料表面に該パッドを
置いて、荷重1000g下で100回往復擦傷した。そ
の後、擦傷させた試料を洗浄し、ヘーズメーターで曇価
を測定した。耐スチールウール擦傷性(%)は、(擦傷
後曇価)−(擦傷前曇価)で示した。 2)耐摩耗性 テーバー摩耗試験法により、CS−10F摩耗輪と50
0gの重量のおもりを組み合わせ、100回転させたと
きの曇価をヘーズメーターで測定した。なお、曇価の測
定は摩耗サイクルの軌道の回り4か所で行い、平均値を
算出した。テーバー摩耗性(%)は、(テーバー試験後
曇価)−(テーバー試験前曇価)で示した。 3)硬化被膜の密着性 サンプルをカミソリの刃で1mm間隔に、縦・横11本
ずつ切り目を入れて、100個のゴバン目をつくり、市
販セロハンテープをよく密着させた後、90℃手前方向
に急激にはがした時、硬化被膜が成形物から剥離せずに
残存したときのます目数(X)をX/100で表示し
た。 4)外観 硬化被膜を形成した成形物の外観について、帯色、ブ
ツ、クラック、くもり等の欠陥を目視にて判定し、次の
ように評価した。 ○:特に目だった欠陥なし。 ×:△YI値として4.0以上の黄帯色またはブツ、ク
ラック、くもり等の発生が見られる。 5)耐候性 サンシャインウエザーメーター(スガ試験機(株)製、
WEL−SUN−DC型)を用いてブラックパネル温度
63℃で降雨12分−乾燥48分のサイクルで1000
および2000時間暴露後、硬化被膜を形成した成形物
の外観及び密着性を評価した。 ◎:特に目立った欠陥なし。 ○:若干の汚れの付着が見られるが、ほとんど問題な
し。 △:密着性が低下。 ×:△YI値として4.0以上の黄帯色またはクラッ
ク、くもりなどの発生が見られる。 (耐候性の良好な順は、◎>○>△>×で表す。)
コロイダルシリカ(シリカ含量30重量%、日産化学工
業(株)製、商品名:IPA−ST)35重量部に、p
−ビニルフェニルトリメトキシシラン(以下、VPTM
Sと略す)2.0重量部、フェニルトリメトキシシラン
(以下、PTMSと略す)1.7重量部、0.01規定
の塩酸水溶液1重量部を加え、40℃で1時間攪拌し
た。その後、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート
(以下、C6DAと略す)30重量部、及びトリメチロ
ールエタン/アクリル酸/コハク酸(2/4/1)の縮
合物(以下、TASと略す)20重量部を加え、減圧下
で揮発分をすべて留去した。次いで、これに活性エネル
ギー線重合開始剤として、2,4,6−トリメチルベン
ゾイルジフェニルホスフィンオキサイド(以下APOと
略す)1.8重量部、紫外線吸収剤として2−(2−ヒ
ドロキシ−5−tert−ブチルフェニルベンゾトリア
ゾール(チバガイギー社製、商品名:チヌビンPS;以
下UA−1と略す)3.8重量部を加えて溶解させ、被
覆用組成物を得た。
得られた被覆用組成物を、ギヤオーブンで50℃に加温
したポリカーボネート板(三菱レイヨン(株)製、商品
名:ダイヤライト、厚さ2mm)に塗布し、その上から
ポリエステルフィルム(ダイヤホイル社製、厚さ50μ
m)をかぶせながら、スポンジロールを用いて密圧着
し、塗布層の厚みが約8μmになるようによくしごい
た。この状態で50秒間おいた後、照射幅13cmに調
整された120W/cmのメタルハライドランプ(平行
型リフレクター付き、オゾンレスタイプ、被写体とラン
プとの距離30cm)の下を、2m/分のスピードで、
ポリエステルフィルム面側が照射されるように通過させ
た。次いで、ポリエステルフィルムのみを剥離し、更に
120W/cmの高圧水銀灯(平行リフレクター付き、
オゾンタイプ、照射幅13cm、被写体とランプとの距
離30cm)の下を1m/分のスピードで通過させ、被
覆用組成物の硬化被膜で表面が保護された樹脂板を得
た。得られた該樹脂板について、前記した評価方法で行
った評価結果を表2に示す。
に示す各種組成の被覆用組成物を実施例1と同様の方法
で調製し、ポリカーボネート板(三菱レイヨン(株)
製、商品名:ダイヤライト、厚さ2mm)またはポリメ
チルメタクリレート板(三菱レイヨン(株)製、厚さ2
mm)の上に、実施例1と同様な手法で塗布、硬化させ
ることによって、硬化被膜で表面が保護された樹脂板を
得た。そして、ここで得られた各樹脂板について、実施
例1と同様の方法で行った評価結果を表2に示す。
コロイダルシリカ35重量部に、γ−アミノプロピルト
リメトキシシラン(以下、APTMSと略す。)3.4
重量部を加えたところ、コロイダルシリカがゲル化を起
こして析出してしまったため、被覆用組成物とすること
ができなかった。そこで、これにC6DA30重量部、
及びTAS20重量部を加えてみたが、同様であり、被
覆用組成物とすることはできなかった。
ロイダルシリカ35重量部に、C6DA30重量部、及
びTAS20重量部を加えた後に、APTMS3.4重
量部を加えたが、ゲル化を生じ、被覆用組成物とするこ
とができなかった。
コロイダルシリカ35重量部に、PTMS1.7重量部
及び脱イオン水0.8重量部を加え40℃で1時間攪拌
した。その後、C6DAを30重量部、TASを20重
量部加え、減圧下で揮発分をほとんど留去した。次い
で、APTMS1.7重量部を加え、40℃で1時間攪
拌し、残留揮発分を完全に留去した。その後、APO
1.8重量部、及びUA−13.8重量部を加えて被覆
用組成物とした。
得られた被覆用組成物を、実施例1と同じ条件のポリカ
ーボネート板に塗布し、その上からポリエステルフィル
ム(ダイヤホイル社製、厚さ50μm)をかぶせなが
ら、スポンジロールを用いて密圧着し、塗布層の厚みが
8μmになるようによくしごいた。この状態で120秒
間おいた後、照射幅13cmに調整された80W/cm
のメタルハライドランプ(平行型リフレクター付き、オ
ゾンレスタイプ、被写体とランプとの距離30cm)の
下を、0.5m/分のスピードで、ポリエステルフィル
ム面側が照射されるように通過させた。次いで、ポリエ
ステルフィルムのみを剥離し、更に120W/cmの高
圧水銀灯(平行リフレクター付き、オゾンタイプ、照射
幅13cm、被写体とランプとの距離30cm)の下を
1m/分のスピードで通過させ、被覆用組成物の硬化被
膜で表面が保護された樹脂板を得た。得られた該樹脂板
について、実施例1と同様の方法で行った評価結果を表
2に示す。
成の被覆用組成物を実施例23と同様の方法で調製し、
ポリカーボネート板(三菱レイヨン(株)製、商品名:
ダイヤライト、厚さ2mm)の上に、実施例23と同様
の手法で塗布、硬化させることによって、硬化被膜で表
面が保護された樹脂板を得た。そして、ここで得られた
各樹脂板について、実施例1と同様の方法で行った評価
結果を表2に示す。
コロイダルシリカ35重量部に、PTMS1.7重量
部、VPTMS1重量部、及び脱イオン水0.8重量部
を加え、40℃で1時間攪拌した。その後、C6DA
30重量部、TAS 20重量部を加え、減圧下で揮発
分をほとんど留去した。次いで、APTMS 0.8重
量部を加え、40℃で1時間攪拌し、残留揮発分を完全
に留去した。その後、APO 1.8重量部、及びUA
−1 3.8重量部を加えて被覆用組成物とした。
得られた被覆用組成物を、実施例1と同じ条件のポリカ
ーボネート板の上に実施例23と同様な方法で塗布、硬
化させることによって、硬化被膜で表面が保護された樹
脂板を得た。得られた該樹脂板について、実施例1と同
様の方法で行った評価結果を表2に示す。
様のコロイダルシリカ100重量部に、VPTMS5.
6重量部、PTMS 10重量部、及び0.01規定の
塩酸水溶液4重量部を加え、40℃で2時間攪拌した。
その後、C6DA 20重量部、ビス(アクリロイルオ
キシエチル)ヒドロキシエチルイソシアヌレート(東亜
合成(株)製、商品名:アロニックスM−215)80
重量部、APO1.2重量部、メチルフェニルグリオキ
シレート0.8重量部、UA−1を10重量部、ビス
(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)セ
バケート(三共(株)製、商品名:サノールLS77
0)0.4重量部、イソブチルアルコール270重量
部、酢酸n−ブチル130重量部、3−メトキシ−1−
ブタノール40重量部を加えてよく攪拌し、被覆用組成
物とした。
得られた被覆用組成物を、実施例1と同じ条件のポリカ
ーボネート板に、0.3cm/秒の速度で浸漬塗布して
被膜を形成し、80℃で10分間放置し、該被覆用組成
物中の溶剤を蒸発させた。次いで、ポリエステルフィル
ムをかぶせずに、実施例1で用いた高圧水銀灯を用い、
該ポリカーボネート板とランプとの距離を15cmと
し、ラインスピードを1.5m/分とする以外は、実施
例1と同様にして活性エネルギー線照射を行い、被覆用
組成物を硬化させることによって、硬化被膜で表面が保
護された樹脂板を得た。得られた該樹脂板について、実
施例1と同様の方法で行った評価結果を表2に示す。
(モル比2/4/1)の縮合物 C9DA:1,9−ノナンジオールジアクリレート FA731A:トリス(アクリロイルオキシエチル)イ
ソシアヌレート(日立化成(株)製、商品名:FA−7
31A) DPHA:ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート R−684:ジシクロペンタニルジアクリレート(日本
化薬(株)製、商品名:カヤラッドR−684) IBA:イソボルニルアクリレート CHA:シクロヘキシルアクリレート ADA:1−アダマンチルアクリレート DMADA:3,5−ジメチル−1−アダマンチルアク
リレート TBA:t−ブチルアクリレート CPTAA:シクロペンタニルアクリレート CPTEA:シクロペンテニルアクリレート THFA:テトラヒドロフルフリルアクリレート M−215:ビス(アクリロイルオキシエチル)ヒドロ
キシエチルイソシアヌレート(東亜合成(株)製;商品
名:アロニックスM−215) S−1:イソプロピルアルコール分散型コロイダルシリ
カ(シリカ含量30重量%、日産化学工業(株)製;商
品名:IPA−ST) S−2:水分散型コロイダルシリカ(シリカ含量20重
量%、日産化学工業(株)製;商品名:スノーテックス
O) VPTMS:p−ビニルフェニルトリメトキシシラン MPTMS:γ−メタクリロイルオキシプロピルトリメ
トキシシラン PTMS:フェニルトリメトキシシラン MTMS:メチルトリメトキシシラン DMDMS:ジメチルジメトキシシラン TMMS:トリメチルメトキシシラン TMS:テトラメトキシシラン VTMS:ビニルトリメトキシシラン PATMS:N−フェニル−γ−アミノプロピルトリメ
トキシシラン APTMS:γ−アミノプロピルトリメトキシシラン APO:2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニル
ホスフィンオキサイド(BASF製、商品名:LUCI
RIN−TPO) BAPO:ビス(2,6−ジメトキシベンゾイル)−
2,4,4−トリメチルペンチルホスフィンオキサイド
/2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン
−1−オンの重量比1/3の混合物(チバガイギー社
製、商品名:CGI−1700) MPG:メチルフェニルグリオキシレート(アクゾ・ジ
ャパン(株)製、商品名:VICURE−55) UA−1:2−(2’−ヒドロキシ−5’−tert−
ブチルフェニル)ベンゾトリアゾール(チバガイギー社
製;商品名:チヌビン−PS) UA−2:2−(2’−ヒドロキシ−5’−tert−
オクチルフェニル)ベンゾトリアゾール(チバガイギー
社製、商品名チヌビン−329) HALS−1:ビス(1−オクトキシ−2,2,6,6
−テトラメチル−4−ピペリジル)セバケート(チバガ
イギー社製、商品名:チヌビン−123) HALS−2:4−ベンゾイルオキシ−2,2,6,6
−テトラメチルピペリジン(三共(株)製、商品名:サ
ノールLS−744) HALS−3:ビス(2,2,6,6−テトラメチル−
4−ピペリジル)セバケート(三共(株)製、商品名:
サノールLS−770) HALS−4:ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチ
ル−4−ピペリジル)セバケート(三共(株)製、商品
名:サノールLS−765)
剤型いずれの場合でも塗布可能な被覆用組成物であり、
これを基材に塗布硬化して形成した硬化被膜は、耐摩耗
性、耐衝撃性に優れ、外観も良好である。また、優れた
耐候性をも発現し、硬化被膜のクラック等の発生防止に
も有効である。また、本発明の表面被覆成形物は、表面
に上述効果をもつ硬化被膜で覆われているので、例えば
合成樹脂成形品において従来より問題であったキズによ
る審美性の低下等各種問題を解消した成形物を得ること
ができる。さらに、本発明の被覆組成物より得た硬化被
膜は、耐候性に非常に優れるため、例えば車両、飛行機
など輸送機用の窓ガラス、ヘッドランプカバー、風防ガ
ラス、屋根材;建造物用の窓ガラス、屋根材;道路の防
音壁;銘板、ディスプレー用面板等各種面板のように屋
外にて使用される用途に特に有用である。
Claims (3)
- 【請求項1】(a)成分として、分子中に少なくとも2
個のアクリロイルオキシ基及び/又はメタクリロイルオ
キシ基を有する架橋重合性化合物(a−1)、または該
架橋重合性化合物(a−1)を50重量%以上とこれと
共重合可能な化合物(a−2)50重量%以下とからな
る混合物、(b)成分として下記一般式(I)〜(IV) 【化1】 (式中、R1は水素原子またはメチル基、R2は炭素数1
〜10の炭化水素基、R3は水素原子または炭素数1〜
10の炭化水素基、R4は炭素数1〜10の二価の炭化
水素基、R5およびR6は、同一又は異種の水素原子また
は炭素数1〜10の炭化水素基、mは0〜2の整数を表
す。)で表されるシラン化合物から選ばれる少なくとも
1種以上のシラン化合物(b−1)5〜95モル部と、
下記一般式(V) 【化2】 (式中、R7およびR8は同一又は異種の炭素数1〜10
の炭化水素基、R9は水素原子または炭素数1〜10の
炭化水素基、nおよびpは0〜3の整数であり、かつn
+pは0〜3である。)で表されるシラン化合物(b−
2)95〜5モル部との混合物の加水分解物で表面を修
飾したシリカ微粒子、及び(c)成分として活性エネル
ギー線重合開始剤、とを含有することを特徴とする被覆
用組成物。 - 【請求項2】請求項1記載の被覆用組成物の硬化物で表
面が被覆された成形物。 - 【請求項3】請求項1記載の被覆組成物を製造する方法
において、シリカ微粒子(b)の分散液中にシラン化合
物(b−2)を添加してその加水分解物によりシリカ微
粒子(b)の表面を修飾し、次いで、(a)成分を添加
してからシリカ微粒子(b)の分散媒および水を留去
し、その後にシラン化合物(b−1)を添加してその加
水分解物によりシリカ微粒子の表面を修飾する工程を有
することを特徴とする被覆用組成物の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP01545695A JP3247266B2 (ja) | 1994-02-02 | 1995-02-01 | 被覆用組成物、それを用いた表面被覆成形物、及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6-11246 | 1994-02-02 | ||
| JP1124694 | 1994-02-02 | ||
| JP01545695A JP3247266B2 (ja) | 1994-02-02 | 1995-02-01 | 被覆用組成物、それを用いた表面被覆成形物、及びその製造方法 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7104448A Division JP3035468B2 (ja) | 1995-04-27 | 1995-04-27 | 被覆用組成物、それを用いた表面被覆成形物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07258582A true JPH07258582A (ja) | 1995-10-09 |
| JP3247266B2 JP3247266B2 (ja) | 2002-01-15 |
Family
ID=26346663
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP01545695A Expired - Fee Related JP3247266B2 (ja) | 1994-02-02 | 1995-02-01 | 被覆用組成物、それを用いた表面被覆成形物、及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3247266B2 (ja) |
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1999055789A1 (en) * | 1998-04-24 | 1999-11-04 | Catalysts & Chemicals Industries Co., Ltd. | Coating liquid for forming silica-based film having low dielectric constant and substrate having film of low dielectric constant coated thereon |
| JP2002256220A (ja) * | 2001-02-28 | 2002-09-11 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | 被覆用硬化性組成物、多層硬化塗膜、被覆物品、自動車用外板、および活性エネルギー線硬化性組成物 |
| JP2007138144A (ja) * | 2005-10-18 | 2007-06-07 | Hitachi Chem Co Ltd | シリカ系被膜形成用組成物 |
| JP2009102628A (ja) * | 2007-10-01 | 2009-05-14 | Atomix Co Ltd | 紫外線硬化型コーティング用組成物およびその製造方法、並びにこれを被覆してなる樹脂被覆品 |
| KR100939877B1 (ko) * | 2001-08-29 | 2010-01-29 | 사토시 사와무라 | 투명 실리콘계 피막형성조성물 및 그 경화방법 |
| WO2010071073A1 (ja) * | 2008-12-16 | 2010-06-24 | 昭和電工株式会社 | 硬化性組成物及びその硬化物 |
| JP2011137097A (ja) * | 2009-12-28 | 2011-07-14 | Jgc Catalysts & Chemicals Ltd | 透明被膜形成用塗布液ならびに透明被膜付基材、および疎水性金属酸化物粒子の製造方法 |
| WO2014141819A1 (ja) * | 2013-03-15 | 2014-09-18 | 横浜ゴム株式会社 | 硬化性樹脂組成物 |
| JP2016175981A (ja) * | 2015-03-19 | 2016-10-06 | セイコーインスツル株式会社 | 有機無機ハイブリッドコーティング剤およびその製造方法 |
| JPWO2015152140A1 (ja) * | 2014-03-31 | 2017-04-13 | 三菱レイヨン株式会社 | 硬化性組成物、積層体及び自動車ヘッドランプレンズ |
-
1995
- 1995-02-01 JP JP01545695A patent/JP3247266B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1999055789A1 (en) * | 1998-04-24 | 1999-11-04 | Catalysts & Chemicals Industries Co., Ltd. | Coating liquid for forming silica-based film having low dielectric constant and substrate having film of low dielectric constant coated thereon |
| US6562465B1 (en) * | 1998-04-24 | 2003-05-13 | Catalysts & Chemicals Industries Co., Ltd. | Coating liquid for forming a silica-containing film with a low-dielectric constant and substrate coated with such a film |
| JP2002256220A (ja) * | 2001-02-28 | 2002-09-11 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | 被覆用硬化性組成物、多層硬化塗膜、被覆物品、自動車用外板、および活性エネルギー線硬化性組成物 |
| KR100939877B1 (ko) * | 2001-08-29 | 2010-01-29 | 사토시 사와무라 | 투명 실리콘계 피막형성조성물 및 그 경화방법 |
| JP2007138144A (ja) * | 2005-10-18 | 2007-06-07 | Hitachi Chem Co Ltd | シリカ系被膜形成用組成物 |
| JP2009102628A (ja) * | 2007-10-01 | 2009-05-14 | Atomix Co Ltd | 紫外線硬化型コーティング用組成物およびその製造方法、並びにこれを被覆してなる樹脂被覆品 |
| WO2010071073A1 (ja) * | 2008-12-16 | 2010-06-24 | 昭和電工株式会社 | 硬化性組成物及びその硬化物 |
| US8349934B2 (en) | 2008-12-16 | 2013-01-08 | Showa Denko K.K. | Hardening composition and hardened product thereof |
| JP5689320B2 (ja) * | 2008-12-16 | 2015-03-25 | 昭和電工株式会社 | 硬化性組成物及びその硬化物 |
| TWI500686B (zh) * | 2008-12-16 | 2015-09-21 | Showa Denko Kk | Hardened composition and hardened product thereof |
| JP2011137097A (ja) * | 2009-12-28 | 2011-07-14 | Jgc Catalysts & Chemicals Ltd | 透明被膜形成用塗布液ならびに透明被膜付基材、および疎水性金属酸化物粒子の製造方法 |
| WO2014141819A1 (ja) * | 2013-03-15 | 2014-09-18 | 横浜ゴム株式会社 | 硬化性樹脂組成物 |
| JPWO2014141819A1 (ja) * | 2013-03-15 | 2017-02-16 | 横浜ゴム株式会社 | 硬化性樹脂組成物 |
| JPWO2015152140A1 (ja) * | 2014-03-31 | 2017-04-13 | 三菱レイヨン株式会社 | 硬化性組成物、積層体及び自動車ヘッドランプレンズ |
| JP2016175981A (ja) * | 2015-03-19 | 2016-10-06 | セイコーインスツル株式会社 | 有機無機ハイブリッドコーティング剤およびその製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3247266B2 (ja) | 2002-01-15 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5695851A (en) | Coating composition and molded articles having a surface coated therewith | |
| EP0832917B1 (en) | Molded resin articles having marproof organic hard coat layer and nonfogging organic hard coat layer, process for the production of the same, and coating materials therefor | |
| JPWO1997011129A1 (ja) | 耐摩耗性被膜形成被覆組成物及び該被膜被覆物品 | |
| JP2010254840A (ja) | 活性エネルギー線硬化型組成物及び成形品 | |
| US5635544A (en) | Process for preparing a UV-curable coating material and anti-abrasion coating composition | |
| JP3247266B2 (ja) | 被覆用組成物、それを用いた表面被覆成形物、及びその製造方法 | |
| JPH07109355A (ja) | 紫外線硬化性被覆材の製法及びそれを用いた耐摩耗性被覆材組成物 | |
| JP3035468B2 (ja) | 被覆用組成物、それを用いた表面被覆成形物 | |
| JP2004346228A (ja) | 活性エネルギー線硬化性組成物及びハードコートフィルム | |
| JP4272692B2 (ja) | 紫外線遮蔽層形成用樹脂組成物に用いる変性ポリマーの製造方法、紫外線遮蔽層形成用樹脂組成物および紫外線遮蔽性積層体 | |
| JP4372268B2 (ja) | コーティング剤、および被覆層を有する樹脂成形品 | |
| JP3218132B2 (ja) | 表面硬化皮膜の形成方法 | |
| JP2003238887A (ja) | 紫外線遮蔽層形成用樹脂組成物および紫外線遮蔽性積層体 | |
| JP5037780B2 (ja) | 活性エネルギー線硬化性組成物及びハードコートフィルム | |
| JP3025587B2 (ja) | 被覆用組成物および表面被覆成形物 | |
| JP3819245B2 (ja) | 被覆用硬化性組成物、被覆物品、および自動車用外板 | |
| JP3187603B2 (ja) | 被覆用組成物および表面被覆成形物 | |
| JP4299513B2 (ja) | 被覆材組成物および物品 | |
| JP5104788B2 (ja) | 積層体 | |
| US5494645A (en) | Process for producing abrasion-resistant synthetic resin molded articles | |
| JP3782670B2 (ja) | 被覆用硬化性組成物、被覆物品、自動車用外板、および活性エネルギー線硬化性組成物 | |
| JPH05179157A (ja) | 活性エネルギ−線硬化性塗料組成物 | |
| JP3179932B2 (ja) | 被覆用組成物および表面被覆成形物 | |
| JPH05320289A (ja) | 活性エネルギ−線硬化性被覆材組成物 | |
| JP2798261B2 (ja) | 紫外線硬化型ポリカーボネート樹脂被覆用組成物および表面特性を改質した硬化被膜を有するプラスチック成形品の製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081102 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091102 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101102 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111102 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111102 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111102 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121102 Year of fee payment: 11 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121102 Year of fee payment: 11 |
|
| S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121102 Year of fee payment: 11 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121102 Year of fee payment: 11 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131102 Year of fee payment: 12 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |