JPH0726281B2 - ジエツトル−ムにおける流体噴射制御装置 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 発明の目的 （産業上の利用分野） 本発明は、電磁ソレノイド部の励消磁によりバルブ体を
切換移動して流体通路孔を開閉する電磁バルブ機構を備
え、複数の緯糸供給源から供給される複数本の緯糸を経
糸開口内へ緯入れするための噴射流体の供給を前記電磁
バルブ機構により制御するジェットルームにおける流体
噴射制御装置に関するものである。

（従来の技術） 一般に、ジェットルームにおいては経糸開口内の緯糸飛
走通路内へ緯入れ用メインノズルから射出緯入れされた
緯糸は緯糸飛走通路に沿って配設された複数の補助ノズ
ルにより飛走を助勢されるようになっている。このよう
なジェットルームにおける緯糸の飛走状態は流体噴射圧
により大きな影響を受け、同噴射圧が適正に設定されて
いない状態では緯糸先端部が緯入れ時に緯糸飛走通路か
ら飛び出したり、ループ状となって織布に織りこまれる
等の緯入れミスが生ずるため、緯糸の種類あるいは糸番
手等に応じて流体噴射圧が適宜に調整される。例えば毛
羽が多い糸種類ほど噴射圧が低く設定される。このよう
な流体噴射圧の調整は複数の緯糸供給源から供給される
複数本の緯糸を選択して緯入れする場合にも必要とな
り、そのための制御手段が特開昭58−126344号公報及び
特開昭59−125942号公報に開示されている。

特開昭58−126344号公報の装置では補助ノズルが緯入れ
パターンに従って開閉される切換弁及び絞り弁を含む２
系列の供給経路を介して圧縮空気供給タンクに接続され
ており、２種類の緯糸に対応して各絞り弁を調整するこ
とにより補助ノズルにおける流体噴射圧が２通りに設定
可能となっている。

特開昭59−125942号公報の装置では補助ノズルが切換弁
を含む２系列の供給経路を介して２種類の緯糸に対応す
る圧力値に設定された２つの圧縮空気供給タンクに接続
されており、緯入れパターンに従って切換弁を切換える
ことにより補助ノズルにおける流体噴射圧が緯入れされ
た緯糸種類に応じて２通りに切換えられるようになって
いる。

（発明が解決しようとする問題点） しかし、前記従来装置のいずれにおいても緯入れされる
緯糸の本数に応じた圧縮空気供給経路を必要とすること
からその構成が複雑かつ高価とならざるを得ず、特に後
者の装置においては糸種類に応じた圧力値に設定された
複数種類の圧縮空気供給タンクを配設することから構成
が一層複雑かつ高価となり、しかもスペースの制約から
供給経路及び供給タンクの配設が困難である。

発明の構成 （問題点を解決するための手段） そこで本発明では、電磁ソレノイド部の励消磁によりバ
ルブ体を切換移動して流体通路孔を開閉する電磁バルブ
機構を備え、複数の緯糸供給源から供給される複数本の
緯糸を経糸開口内へ緯入れするための噴射流体の供給を
前記電磁バルブ機構により制御するジェットルームを対
象とし、前記バルブ体の移動を異なる開放位置に規定す
る開放位置規定部材と、前記開放位置規定部材を異なる
位置へ切換配置するための切換駆動機構とを備えたスト
ッパ機構を構成し、前記ストッパ機構の開放位置規定部
材を前記バルブ体の開放移動側に配設し、前記切換駆動
機構の切換動作を選択して前記バルブ体の開閉ストロー
ク量を緯入れ毎に切換可能に制御するようにした。

（作用） すなわち、電磁バルブ機構のバルブ体を受け止める開放
位置規定部材が緯入れパターンに従って電磁ソレノイド
機構あるいはカム機構により緯入れ毎にその開放位置規
定位置を切換えられ、前記バルブ体が同配置位置のスト
ッパにより受け止められる。これによりバルブ体の開閉
ストローク量が緯入れ毎に調整され、緯入れパターンに
従って緯入れされる所定の緯糸に応じた流体噴射圧が得
られる。従って、緯糸はその種類あるいは糸番手に応じ
た適正な流体噴射圧により緯入れされ、緯入れミスが防
止される。又、流体供給経路及び供給タンクは１つの緯
入れ用ノズルに対して１系列で済み、構成が簡素かつ低
コスト化が可能である。

（実施例） 以下、本発明を具体化した一実施例を第１〜６図に基づ
いて説明する。

スレイ１上には筬２と対向して多数の緯糸ガイド部材３
が緯入れ方向に並設されており、同じくスレイ１上には
図示しない一対の緯糸供給源から供給される２本の緯糸
Y1,Y2を射出緯入れするための一対の緯入れ用メインノ
ズル4,5が装着されている。両メインノズル4,5はスレイ
１の前面に締付固定された支持ブラケット６に取付アー
ム7aを介して回動可能に支持されたノズルホルダ７内に
収容されており、取付アーム7aには図示しないカム機構
により緯入れパターンに同期して上下動される作動レバ
ー８が連結されている。すなわち、一対の緯入れ用メイ
ンノズル4,5が緯入れパターンに従って緯入れ位置に切
換配置され、緯糸Y1,Y2が緯糸ガイド部材３の案内孔3a
の列により形成される緯糸飛走通路Ｓ内へ択一的に選択
緯入れされる。

筬２と緯糸ガイド部材３との間には緯糸飛走通路Ｓ方向
に所定間隔をおいて複数の補助ノズル９が立設されてお
り、緯糸飛走通路Ｓ内に緯入れされた緯糸Y1,Y2の飛走
を助勢するようになっている。緯糸ガイド部材３及び補
助ノズル９はそれぞれ所定個数ずつベースブロック10,1
0A上に支持されており、このようなベースブロック10,1
0Aがスレイ１上に複数（この実施例では６つ）装着され
ている。

スレイ１の下方には緯入れ用メインノズル4,5用の圧縮
流体供給タンク11,12及び補助ノズル９用の圧縮流体供
給タンク13が配設されており、圧縮流体供給タンク11内
の圧力は他方の圧縮流体供給タンク12内の圧力よりも高
く設定されている。圧縮流体供給タンク11と緯入れ用メ
インノズル４との間には図示しない制御装置からの指令
に基づいて開閉制御される電磁バルブ機構14が介在され
ており、供給タンク11内の噴射流体が入力側供給パイプ
15、電磁バルブ機構14及び出力側供給パイプ16を介して
緯入れ用メインノズル４に供給されるようになってい
る。同様に、緯入れ用メインノズル５には供給タンク12
内の噴射流体が入力側供給パイプ17、電磁バルブ機構18
及び出力側供給パイプ19を介して供給されるようになっ
ている。

圧縮流体供給タンク13と補助ノズル９との間には電磁バ
ルブ機構20,20Aがベースブロック10,10Aと対応して介在
されており、圧縮流体供給タンク13内の噴射流体が入力
側供給パイプ21、電磁バルブ機構20,20A、及び第２図に
示すように補助ノズル９に連通されたベースブロック1
0,10A内の流体通路10aに接続された出力側供給パイプ22
を介して補助ノズル９に供給されるようになっている。
電磁バルブ機構20,20Aは前記制御装置からの指令に基づ
いて緯糸の飛走タイミングに同期して緯入れ用メインノ
ズル4,5側から順次リレー的に開閉制御され、補助ノズ
ル９がベースブロック10,10A単位で緯入れ用メインノズ
ル4,5側から順次リレー噴射するようになっている。

電磁バルブ機構20,20Aは第３〜５図に示す構造となって
いる。23は電磁ソレノイド部であって、収容筒24の内周
面にはソレノイド25が装着されており、その内側にはプ
ランジャ26及びコア27が内臓されている。収容筒24の右
端にはハウジング28が固設されているとともに、その内
部にはプランジャピン26aと当接した状態でバルブ体29
がプランジャ26と同一方向にスライド可能に収容されて
おり、ハウジング28内の流体通路孔28aを開閉できるよ
うになっている。バルブ体29のバルブロッド29aの先端
には凹状のばね受け部材30が止着されており、前記ハウ
ジング28の右端に嵌入止着された補助ハウジング31の小
径収容孔31a内にスライド可能に嵌入収容されている。
補助ハウジング31の右端にはバルブ体29に対するストッ
パ機構の切換駆動機構としての電磁ソレノイド部32が前
記電磁ソレノイド部23と対向して固設されており、収容
筒33内に内蔵されたプランジャ34がソレノイド35の励磁
によりコア36側（すなわち、バルブ体29の開放移動方向
と反対方向）へ吸引されるようになっている。電磁ソレ
ノイド部32は前記制御装置からの指令に基づいて励消磁
されるようになっており、この励磁に伴うプランジャ34
の付勢力は電磁ソレノイド部23側の励磁に伴うプランジ
ャ26の付勢力よりも大きく設定されている。ばね受け部
材30とプランジャ34の一部であるプランジャピン34aと
の間で補助ハウジング31の大径収容孔31b内にはフラン
ジ部37aを有する凹状のばね受け部材37が嵌入収容され
ており、両ばね受け部材30,37間には押圧ばね38が介在
されている。従って、電磁ソレノイド部23が非励磁状態
のときには第３図に示すようにバルブ体29は押圧ばね38
の作用によりハウジング28内の流体通路孔28aを閉じる
ようになっている。又、ばね受け部材37はそのフランジ
部37aが補助ハウジング31内の段差部31cに当接すること
によりバルブ体29側への移動を規制されている。すなわ
ち、電磁ソレノイド部23の励消磁に伴うバルブ体29の開
閉ストローク量は電磁ソレノイド部32の非励磁状態及び
励磁状態におけるばね受け部材37の位置により規制さ
れ、流体通路孔28aの開放度は大小２通りの状態に制御
可能となっている。

この実施例では緯糸Y1,Y2は交互に１回ずつ緯入れされ
る緯入れパターンとなっており、以下、この緯入れパタ
ーンに従って前記構成の作用を説明する。

さて、第１図に示すように、緯入れパターンに従って緯
入れ用メインノズル４が緯入れ位置に切換配置されてお
り、緯入れタイミングに同期して電磁バルブ機構14が開
放されることにより緯糸Y1が緯入れ用メインノズル４か
ら緯糸飛走通路Ｓ内へ射出緯入れされる。電磁バルブ機
構14の開放とほぼ同時に緯入れ用メインノズル側の電磁
バルブ機構20Aが開放され、圧縮流体供給タンク13内の
噴射流体がベースブロック10Aの補助ノズル９群に供給
される。これにより緯糸Y1の先端部が補助ノズル９群か
らの流体噴射により緯入れ方向に牽引され、緯糸Y1の飛
走が助勢される。この場合、第４図に示すようにばね受
け部材37のフランジ部37aが補助ハウジング31内の段差
部31cと非当接状態となっているように、電磁ソレノイ
ド部32は非励磁状態にあり、バルブ体29の開閉ストロー
ク量は最大となる。開放位置規定部材となるプランジャ
34はばね受け部材30,37を介してバルブ体29を受け止め
る。第４図におけるプランジャ34の位置は、バルブ体29
の開閉ストローク量を最大にする開放位置にバルブ体29
を規定する開放位置規定位置である。バルブ体29の最大
開閉ストローク量を第４図においてＬで示す。電磁バル
ブ機構20Aに対応する補助ノズル９における流体噴射圧
は第６図の曲線Ｃのようになる。その最大噴射圧は同図
にP1で示されており、緯糸Y1の種類あるいは糸番手に適
した値である。なお、同図に鎖線で示す直線Ｋは圧縮流
体供給タンク13内の噴射流体の圧力Ｐを示すものであ
る。

緯糸Y1の先端が次のベースブロック10の補助ノズル９群
に到達するに伴い、電磁バルブ機構20Aが消磁されると
ともに、隣の電磁バルブ機構20が励磁され、緯糸Y1の飛
走助勢が次のベースブロック10の補助ノズル９群に受け
継がれる。同補助ノズル９群における噴射圧は第６図に
鎖線で示す曲線C1のように前記曲線Ｃの場合と同様であ
る。

以下、同様に電磁バルブ機構20がリレー的に開閉制御さ
れて緯糸Y1の飛走助勢が流体噴射圧P1のもとに順次リレ
ー的に受け継がれてゆき、良好な緯入れがなされる。な
お、最後の電磁バルブ機構においては第６図に鎖線で示
す曲線C2のように若干長めに開放され、緯糸先端部がほ
ぼ筬打ち動作の間牽引されるようになっている。

次の緯入れ時期に至ると、緯入れ用メインノズル５が緯
入れ用メインノズル４と代わって緯入れ位置に切換配置
され、電磁バルブ機構18が開放されて同メインノズル５
から緯糸Y2が緯糸飛走通路Ｓ内へ射出緯入れされる。電
磁バルブ機構18の開放とほぼ同時に緯入れ用メインノズ
ル側の電磁バルブ機構20Aが開放され、圧縮流体供給タ
ンク13内の噴射流体がベースブロック10Aの補助ノズル
９群に供給される。これにより緯糸Y2の先端部が補助ノ
ズル９群からの流体噴射により緯入れ方向に牽引され、
緯糸Y2の飛走が助勢される。この場合、第５図に示すよ
うにばね受け部材37のフランジ部37aが補助ハウジング3
1内の段差部31cと当接状態となっているように、電磁ソ
レノイド部32は励磁状態にあり、バルブ体29の開閉スト
ローク量は前記開閉ストローク量Ｌよりも少なくなる。
即ち、第５図におけるプランジャ34の位置は、バルブ体
29の開閉ストローク量を最大開閉ストローク量よりも小
さくする開放位置にバルブ体29を規定する開放位置規定
位置である。バルブ体29の開閉ストローク量を同図にｌ
で示す。これにより電磁バルブ機構20Aに対応する補助
ノズル９における流体噴射圧は第６図の曲線Ｄのように
なる。その最大噴射圧は同図にP2で示されており、P1＞
P2となる。すなわち、流体噴射圧P2は緯糸Y2の種類ある
いは糸番手に適した値であり、緯糸Y2は適正な流体噴射
圧P2によりその飛走を助勢される。そして、前記と同様
に電磁バルブ機構20がリレー的に開閉制御され、緯糸Y2
の飛走助勢が流体噴射圧P2のもとに順次リレー的に受け
継がれて良好な緯入れがなされる。

このように、各緯糸Y1,Y2に適した補助ノズル９におけ
る流体噴射圧がバルブ体29の開閉ストローク量の制御に
より切換えられるため、１本の補助ノズル９から圧縮流
体供給タンク13に至る流体供給経路を２系統にする必要
がなく、供給系統の構成の簡素化が可能である。しか
も、この実施例ではバルブ体29の開閉ストローク量を制
御するストッパ機構として電磁ソレノイドを採用したこ
とにより開閉ストローク量を自由に切換えることがで
き、緯入れパターンを自由に設定することができるとと
もに、流体噴射制御装置全体のコンパクト化が可能であ
る。

本発明はもちろん前記実施例のみに限定されるるもので
はなく、例えば第７〜９図に示す実施例も可能である。

この実施例では変形筬39により緯糸飛走通路Ｓを形成
し、４つの緯入れ用メインノズル40,41,42,43から４本
の緯糸Y1,Y2,Y3,Y4を緯入れする織機に本発明を具体化
したものであり、スレイ44の前面に装着された補助ノズ
ル45が所定本数ずつ群となって電磁バルブ機構46を介し
て圧縮流体供給タンク47に接続されている。電磁バルブ
機構46には第8,9図に示すようにバルブ体29のストッパ
機構の切換駆動機構としてカム機構が採用されており、
カム48の回動によりばね受けを兼ねるカムフォロア49が
補助ハウジング31内においてスライド配置されるように
なっている。カム48はその回動中心からの距離が異なる
円弧状の４つのカム面48a,48b,48c,48dを有しており、
各カム面との係合に応じてカムフォロア49がばね50に抗
して４位置に切換配置されるようになっている。カム48
は第７図に示すように緯入れパターンに従って作動制御
されるステップモータ51により回動される竹52に止着さ
れており、前記カム面48a,48b,48c,48dが開放位置規定
部材となるカムフォロア49との係合位置に切換配置され
るようになっている。第８図に鎖線で示すバルブ体29の
位置はカム面48aに対応するバルブ体29の開放位置を示
し、第９図ではカム面48cに対応するバルブ体29の開放
状態を示している。又、補助ノズル45に接続された出力
側供給パイプ19は電磁バルブ機構46の出力側に止着され
た分配管53に所定本数ずつ接続されている。

この実施例においても１本の補助ノズル45から圧縮流体
供給タンク47に至る流体供給経路は１系統で済み、供給
系統の構成が簡素化される。又、切換駆動機構となるス
テップモータ51の採用によりカム48の自由な回動切換配
置が可能となり、バルブ体29の開閉ストローク量を自由
に制御して各緯糸Y1,Y2,Y3,Y4に応じた適正な流体噴射
圧に切換えることができ、任意の緯入れパターンに対応
することができる。

又、本発明は緯入れ用メインノズルにおける流体噴射の
制御にも適用可能である。

発明の効果 以上詳述したように、本発明では緯入れ用ノズルへの噴
射流体の供給を制御する電磁バルブ機構にストッパ機構
を組付けてバルブ体の開閉ストローク量を緯入れ毎に切
換可能に制御するようにしたので、緯入れされる複数の
緯糸のそれぞれに適するように前記緯入れノズルにおけ
る流体噴射圧を切換えることができ、しかも１つの緯入
れ用ノズルに接続された流体供給経路が１系列のみの簡
単な供給系統となるという優れた効果を奏する。

【図面の簡単な説明】

第１〜６図は本発明を具体化した一実施例を示し、第１
図はスレイ付近を示す斜視図、第２図はスレイの縦断面
図、第３図は閉成状態の電磁バルブ機構を示す縦断面
図、第４図はストッパ機構非作動時の電磁バルブ機構の
開放状態を示す縦断面図、第５図はストッパ機構作動時
の電磁バルブ機構の閉成状態を示す縦断面図、第６図は
補助ノズルにおける流体噴射圧曲線を示すグラフ、第７
〜９図は本発明の別例を示し、第７図はスレイ付近を示
す斜視図、第８図は閉成状態の電磁バルブ機構を示す縦
断面図、第９図は電磁バルブ機構の開放状態を示す要部
縦断面図である。 補助ノズル9,45、電磁バルブ機構20,20A,46、ストッパ
機構の切換駆動機構を構成する電磁ソレノイド部32、開
放位置規定部材となるプランジャ34、ストッパ機構の切
換駆動機構を構成するカム48及びステップモータ51、緯
糸Y1,Y2。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】電磁ソレノイド部の励消磁によりバルブ体
   を切換移動して流体通路孔を開閉する電磁バルブ機構を
   備え、複数の緯糸供給源から供給される複数本の緯糸を
   経糸開口内へ緯入れするための噴射流体の供給を前記電
   磁バルブ機構により制御するジェットルームにおいて、
   前記バルブ体の移動を異なる開放位置に規定する開放位
   置規定部材と、前記開放位置規定部材を異なる位置へ切
   換配置するための切換駆動機構とを備えたストッパ機構
   を構成し、前記ストッパ機構の開放位置規定部材を前記
   バルブ体の開放移動側に配設し、前記切換駆動機構の切
   換動作を選択して前記バルブ体の開閉ストローク量を緯
   入れ毎に切換可能に制御するようにしたジェットルーム
   における流体噴射制御装置。
2. 【請求項２】前記ストッパ機構の切換駆動機構は、前記
   バルブ体を挟んで前記電磁バルブ機構の電磁ソレノイド
   部と対向して配置された電磁ソレノイド部であり、前記
   開放位置規定部材は該電磁ソレノイド部のプランジャで
   ある特許請求の範囲第１項に記載のジェットルームにお
   ける流体噴射制御装置。