JPH072659B2 - 新規なビスシクロヘキサノール類 - Google Patents
新規なビスシクロヘキサノール類Info
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- JPH072659B2 JPH072659B2 JP61124520A JP12452086A JPH072659B2 JP H072659 B2 JPH072659 B2 JP H072659B2 JP 61124520 A JP61124520 A JP 61124520A JP 12452086 A JP12452086 A JP 12452086A JP H072659 B2 JPH072659 B2 JP H072659B2
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-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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Description
【発明の詳細な説明】 発明の技術分野 本発明は新規なビスシクロヘキサノール類に関する。
発明の技術的背景ならびにその問題点 脂肪族、脂環族あるいは芳香族ジオール類は、ポリエス
テル、飽和ポリエステル樹脂、不飽和ポリエステル樹
脂、アルキッド樹脂、ポリカボネート樹脂、エポキシ樹
脂、ポリウレタンなど各種の高分子材料の原料として広
く用いられている。これらの用途分野では、要求性能の
高度化に対応するために、材料に対して強度、耐熱性、
耐候性、耐水性など各種の物性の向上がますます求めら
れるようになっている。
テル、飽和ポリエステル樹脂、不飽和ポリエステル樹
脂、アルキッド樹脂、ポリカボネート樹脂、エポキシ樹
脂、ポリウレタンなど各種の高分子材料の原料として広
く用いられている。これらの用途分野では、要求性能の
高度化に対応するために、材料に対して強度、耐熱性、
耐候性、耐水性など各種の物性の向上がますます求めら
れるようになっている。
本発明は、これらの材料に求められている各種の物性の
向上に対して、とくに耐熱性および耐水性の向上に対し
て有効な効果をもたらす新規なビスシクロヘキサノール
類に関する。
向上に対して、とくに耐熱性および耐水性の向上に対し
て有効な効果をもたらす新規なビスシクロヘキサノール
類に関する。
また、ポリオレフィンあるいは塩化ビニルなど多くの高
分子材料の利用にあたっては、成形性および各種物性を
向上させるために、滑剤、可塑剤、帯電防止剤など各種
の添加剤が使用されているが、これらの添加剤に対して
も要求される性能がますます高度化している。
分子材料の利用にあたっては、成形性および各種物性を
向上させるために、滑剤、可塑剤、帯電防止剤など各種
の添加剤が使用されているが、これらの添加剤に対して
も要求される性能がますます高度化している。
本発明は、このような高度な性能が要求される各種添加
剤としてあるいは各種添加剤の原料として有用な新規な
ビスシクロヘキサノール類に関する。
剤としてあるいは各種添加剤の原料として有用な新規な
ビスシクロヘキサノール類に関する。
また、潤滑油やブレーキ油など各種の油性製品において
も、それぞれの性能を高めるために各種の添加剤が使用
されているが、これらの分野の添加剤に対しても要求さ
れる性能がますます高度になってきている。
も、それぞれの性能を高めるために各種の添加剤が使用
されているが、これらの分野の添加剤に対しても要求さ
れる性能がますます高度になってきている。
本発明は、このような分野に用いられる添加剤あるいは
添加剤の原料として有用な新規なビスシクロヘキサノー
ル類に関する。
添加剤の原料として有用な新規なビスシクロヘキサノー
ル類に関する。
さらに、本発明はたとえば過酸化物など各種の有機化合
物製品の原料としても有用な新規なビスシクロヘキサノ
ール類に関する。
物製品の原料としても有用な新規なビスシクロヘキサノ
ール類に関する。
ところで下記式で示されるようなビスシクロヘキサノー
ル類は、特開昭51−34133号公報に開示されている。
ル類は、特開昭51−34133号公報に開示されている。
（式中、R1〜R4は炭素数１〜３個のアルキル基を表わ
し、Ｘは単結合、炭素数１〜10個の２価の脂肪族基、炭
素数５〜15個の２価の環式脂肪族基、芳香族または環式
脂肪族置換基をもった合計で炭素数６〜15の２価脂肪族
基、あるいは を表わす。） この公報には、上記のビスシクロヘキサノール類は、硬
化可能なポリエステル組成物を製造する際に極めて重要
であり、硬化したポリエステル組成物に耐薬品性を付与
しうる旨教示されている。ところがこの特開昭51−3413
3号公報に開示された化合物は、あくまでもポリエステ
ル組成物に耐薬品性を付与するためのものであって、ポ
リエステルの耐熱性、あるいは耐水性などを向上させる
ことを目的とするものではない。
し、Ｘは単結合、炭素数１〜10個の２価の脂肪族基、炭
素数５〜15個の２価の環式脂肪族基、芳香族または環式
脂肪族置換基をもった合計で炭素数６〜15の２価脂肪族
基、あるいは を表わす。） この公報には、上記のビスシクロヘキサノール類は、硬
化可能なポリエステル組成物を製造する際に極めて重要
であり、硬化したポリエステル組成物に耐薬品性を付与
しうる旨教示されている。ところがこの特開昭51−3413
3号公報に開示された化合物は、あくまでもポリエステ
ル組成物に耐薬品性を付与するためのものであって、ポ
リエステルの耐熱性、あるいは耐水性などを向上させる
ことを目的とするものではない。
発明の目的 本発明は、ポリエステル、飽和ポリエステル樹脂、不飽
和ポリエステル樹脂、アルキッド樹脂、ポリカーボネー
ト樹脂、エポキシ樹脂あるいはポリウレタンなどの原料
成分としてあるいは原料成分の一部として用いることに
よって、物性が優れた、とくに耐熱性と耐水性が優れた
該高分子材料を製造することができる。新規なビスシク
ロヘキサノール類を提供することを目的としている。
和ポリエステル樹脂、アルキッド樹脂、ポリカーボネー
ト樹脂、エポキシ樹脂あるいはポリウレタンなどの原料
成分としてあるいは原料成分の一部として用いることに
よって、物性が優れた、とくに耐熱性と耐水性が優れた
該高分子材料を製造することができる。新規なビスシク
ロヘキサノール類を提供することを目的としている。
また本発明は、ポリオレフィンあるいは塩化ビニルなど
各種高分子材料の成形性および各種物性を向上させるた
めに有用な滑剤、可塑剤、帯電防止剤など各種添加剤と
してあるいは各種添加剤の原料として有用な新規なビス
シクロヘキサノール類を提供することを目的としてい
る。
各種高分子材料の成形性および各種物性を向上させるた
めに有用な滑剤、可塑剤、帯電防止剤など各種添加剤と
してあるいは各種添加剤の原料として有用な新規なビス
シクロヘキサノール類を提供することを目的としてい
る。
さらに、本発明は、潤滑油やブレーキ油など各種油性製
品の性能向上のための添加剤あるいは添加剤の原料とし
て、あるいはたとえば過酸化物など各種の有機化合物製
品の原料として有用な新規なビスシクロヘキサノール類
を提供することを目的とする。
品の性能向上のための添加剤あるいは添加剤の原料とし
て、あるいはたとえば過酸化物など各種の有機化合物製
品の原料として有用な新規なビスシクロヘキサノール類
を提供することを目的とする。
発明の概要 本発明に係る新規なビスシクロヘキサノール類は、下記
式［Ｉ］で表わされる。
式［Ｉ］で表わされる。
を表わす。ここでR1、R2は水素原子、低級アルキル基、
シクロヘキシル基またはアリール基を表わし、ただしR1
とR2とは環を形成して２価のシクロヘキシル基を形成し
ていてもよく、２価のシクロヘキシル基を形成しない場
合にはR1とR2のうち少なくともいずれか一方はシクロヘ
キシル基またはアリール基である。） 本発明に係るビスシクロヘキサノール類は、新規な化合
物であって、物性とくに耐熱性おび耐水性に優れたポリ
エステル、飽和ポリエステル樹脂、不飽和ポリエステル
樹脂、アルキッド樹脂、ポリカーボネート樹脂、エポキ
シ樹脂あるいはポリウレタンなどの高分子材料を製造す
るための原料あるいは原料成分の一部として有用であ
る。
シクロヘキシル基またはアリール基を表わし、ただしR1
とR2とは環を形成して２価のシクロヘキシル基を形成し
ていてもよく、２価のシクロヘキシル基を形成しない場
合にはR1とR2のうち少なくともいずれか一方はシクロヘ
キシル基またはアリール基である。） 本発明に係るビスシクロヘキサノール類は、新規な化合
物であって、物性とくに耐熱性おび耐水性に優れたポリ
エステル、飽和ポリエステル樹脂、不飽和ポリエステル
樹脂、アルキッド樹脂、ポリカーボネート樹脂、エポキ
シ樹脂あるいはポリウレタンなどの高分子材料を製造す
るための原料あるいは原料成分の一部として有用であ
る。
また、本発明に係るビスシクロヘキサノール類は、ポリ
オレフィンあるいは塩化ビニルなど各種高分子材料の成
形性あるいは各種物性を向上させるために有用な滑剤、
可塑剤、帯電防止剤などの各種添加剤として、あるいは
各種添加剤の原料としても有用である。
オレフィンあるいは塩化ビニルなど各種高分子材料の成
形性あるいは各種物性を向上させるために有用な滑剤、
可塑剤、帯電防止剤などの各種添加剤として、あるいは
各種添加剤の原料としても有用である。
さらに、本発明に係るビスシクロヘキサノール類は、潤
滑油あるいはブレーキ油など各種油性製品の性能向上の
ための添加剤あるいは添加剤の原料として有用であり、
またたとえば有機過酸化物など各種の有機化合物製品の
原料としても有用である。
滑油あるいはブレーキ油など各種油性製品の性能向上の
ための添加剤あるいは添加剤の原料として有用であり、
またたとえば有機過酸化物など各種の有機化合物製品の
原料としても有用である。
発明の具体的説明 以下本発明に係る新規なビスシクロヘキサノール類につ
いて具体的に説明する。
いて具体的に説明する。
ビスシクロヘキサノール類 本発明に係る新規なビスシクロヘキサノール類は、下記
式［Ｉ］で表わされる。
式［Ｉ］で表わされる。
（式中、 を表わす。ここでR1、R2は水素原子、低級アルキル基、
シクロヘキシル基またはアリール基を表わし、ただしR1
とR2とは環を形成して２価のシクロヘキシル基を形成し
ていてもよく、２価のシクロヘキシル基を形成しない場
合にはR1とR2のうち少なくともいずれか一方はシクロヘ
キシル基またはアリール基である。） この新規なビスシクロヘキサノール類の構造は、融点測
定、ガスクロマトグラフィー分析、質量分析、1H−NMR
により確認することができる。
シクロヘキシル基またはアリール基を表わし、ただしR1
とR2とは環を形成して２価のシクロヘキシル基を形成し
ていてもよく、２価のシクロヘキシル基を形成しない場
合にはR1とR2のうち少なくともいずれか一方はシクロヘ
キシル基またはアリール基である。） この新規なビスシクロヘキサノール類の構造は、融点測
定、ガスクロマトグラフィー分析、質量分析、1H−NMR
により確認することができる。
具体的には、上記の化合物をそのまま、あるいはトリメ
チルシリル化してガスクロ分析を行なうとともに、ビス
シクロヘキサノール類、あるいはトリメチルシリル化さ
れたビスシクロヘキサノール類を質量分析し、またCDC|
3溶媒を用いて1H−NMR（60MHZ）により各プロトンのδ
値を求めることにより構造が決定される。
チルシリル化してガスクロ分析を行なうとともに、ビス
シクロヘキサノール類、あるいはトリメチルシリル化さ
れたビスシクロヘキサノール類を質量分析し、またCDC|
3溶媒を用いて1H−NMR（60MHZ）により各プロトンのδ
値を求めることにより構造が決定される。
製造方法 本発明に係るビスシクロヘキサノール類は、下記式［I
I］で示される対応するビスフェノール類の核水素化反
応により製造することができる。
I］で示される対応するビスフェノール類の核水素化反
応により製造することができる。
（式中、Ｘは前記と同様である。） 具体的には、たとえば4,4′‐［1,4-フェニレンビス（1
-メチルエチリデン）］ビスフェノールを特定の条件下
で核水素化すれば、4,4′‐［1,4-フェニレンビス（1-
メチルエチリデン）］ビスシクロヘキサノールが得ら
れ、また、4,4′‐［1,3-フェニレンビス（1-メチルエ
チリデン）］ビスフェノールを特定の条件下で核水素化
すれば、4,4′‐［1,3-フェニレンビス（1-メチルエチ
リデン）］ビスシクロヘキサノールが得られる。さら
に、4,4′‐（1-フェニルエチリデン）ビスフェノール
を核水素化すれば、4,4′‐（1-シクロヘキシルエチリ
デン）ビスシクロヘキサノールが得られ、4,4′‐（フ
ェニルメチリデン）ビスフェノールを核水素化すれば、
4,4′‐（シクロヘキシルメチリデン）ビスシクロヘキ
サノールが得られ、4,4′‐シクロヘキシリデンビスフ
ェノールを核水素化すれば4,4′‐シクロヘキシリデン
ビスシクロヘキサノールが得られる。
-メチルエチリデン）］ビスフェノールを特定の条件下
で核水素化すれば、4,4′‐［1,4-フェニレンビス（1-
メチルエチリデン）］ビスシクロヘキサノールが得ら
れ、また、4,4′‐［1,3-フェニレンビス（1-メチルエ
チリデン）］ビスフェノールを特定の条件下で核水素化
すれば、4,4′‐［1,3-フェニレンビス（1-メチルエチ
リデン）］ビスシクロヘキサノールが得られる。さら
に、4,4′‐（1-フェニルエチリデン）ビスフェノール
を核水素化すれば、4,4′‐（1-シクロヘキシルエチリ
デン）ビスシクロヘキサノールが得られ、4,4′‐（フ
ェニルメチリデン）ビスフェノールを核水素化すれば、
4,4′‐（シクロヘキシルメチリデン）ビスシクロヘキ
サノールが得られ、4,4′‐シクロヘキシリデンビスフ
ェノールを核水素化すれば4,4′‐シクロヘキシリデン
ビスシクロヘキサノールが得られる。
ビスフェノール類の核水素化反応は、次のような条件下
で行なうことができる。
で行なうことができる。
ビスフェノール類の核水素化を行なうに際しては、従来
公知の核水素化触媒、たとえば担持Rh触媒、担持Ru触
媒、ラネーニッケルなどが用いられる。
公知の核水素化触媒、たとえば担持Rh触媒、担持Ru触
媒、ラネーニッケルなどが用いられる。
反応に際しては、ビスフェノール類をそのまま核水素化
してもよく、またメタノール、エタノール、イソプロピ
ルアルコールなどのアルコール類、ジオキサンなどのエ
ーテル類などの溶媒の存在下に核水素化してもよい。
してもよく、またメタノール、エタノール、イソプロピ
ルアルコールなどのアルコール類、ジオキサンなどのエ
ーテル類などの溶媒の存在下に核水素化してもよい。
本発明では前記した一般式［II］で示される原料のビス
フェノール類を核水素化して本発明に係わる一般式
［Ｉ］で示されるビスシクロヘキサノール類が製造され
るわけであるが、この場合、一般式［Ｉ］と［II］中に
あるＸで示される の基の中にあるベンゼン環の核水素化は行わないで、又
Ｘが−CR1R2−の基の場合には該基中のアリール基を必
要に応じて核水素化してシクロヘキシル基とし、Ｘの両
端に位置するベンゼン環を核水素化して、本発明に係わ
るビスシクロヘキサノール類が得られる。このような原
料のビスフェノール類の核水素化反応は反応の際の溶
媒、触媒の種類及び圧力、温度等の反応条件をうまく選
ぶことによってコントロールすることができる。一例を
あげれば、触媒として担持Rh触媒を用い、反応温度130
℃、水素圧力40kg/cm2Gの条件で、溶媒としてエタノー
ルを用いて一般式［II］中のＸが であるビスフェノール化合物を水素還元すると、一般式
［Ｉ］のＸが であるビスシクロヘキサノール化合物が得られるが、同
様の条件で溶媒としてイソプロパノールを用いて水素還
元を行うと一般式［Ｉ］のＸが にまで還元されたビスシクロヘキサノール化合物が得ら
れる。
フェノール類を核水素化して本発明に係わる一般式
［Ｉ］で示されるビスシクロヘキサノール類が製造され
るわけであるが、この場合、一般式［Ｉ］と［II］中に
あるＸで示される の基の中にあるベンゼン環の核水素化は行わないで、又
Ｘが−CR1R2−の基の場合には該基中のアリール基を必
要に応じて核水素化してシクロヘキシル基とし、Ｘの両
端に位置するベンゼン環を核水素化して、本発明に係わ
るビスシクロヘキサノール類が得られる。このような原
料のビスフェノール類の核水素化反応は反応の際の溶
媒、触媒の種類及び圧力、温度等の反応条件をうまく選
ぶことによってコントロールすることができる。一例を
あげれば、触媒として担持Rh触媒を用い、反応温度130
℃、水素圧力40kg/cm2Gの条件で、溶媒としてエタノー
ルを用いて一般式［II］中のＸが であるビスフェノール化合物を水素還元すると、一般式
［Ｉ］のＸが であるビスシクロヘキサノール化合物が得られるが、同
様の条件で溶媒としてイソプロパノールを用いて水素還
元を行うと一般式［Ｉ］のＸが にまで還元されたビスシクロヘキサノール化合物が得ら
れる。
本発明では触媒の使用量は、触媒の種類、貴金属担持
量、ビスフェノール類、濃度などによっても変わるが、
ビスフェノール類100重量部に対して0.1〜100重量部の
量で用いられることが好ましい。
量、ビスフェノール類、濃度などによっても変わるが、
ビスフェノール類100重量部に対して0.1〜100重量部の
量で用いられることが好ましい。
反応温度は、室温〜350℃好ましくは50〜250℃であり、
反応時の水素圧は、常圧〜300kg/cm2G好ましくは５〜20
0kg/cm2Gである。
反応時の水素圧は、常圧〜300kg/cm2G好ましくは５〜20
0kg/cm2Gである。
反応終了後には、反応混合液から触媒を濾別し、次いで
溶媒を用いた場合には溶媒を留去した後、必要に応じて
減圧下で蒸留精製するか、あるいは適当な溶媒を加えて
晶析精製すれば、本発明のビスシクロヘキサノール類が
得られる。
溶媒を用いた場合には溶媒を留去した後、必要に応じて
減圧下で蒸留精製するか、あるいは適当な溶媒を加えて
晶析精製すれば、本発明のビスシクロヘキサノール類が
得られる。
有用性 本発明に係る新規なビスシクロヘキサノール類は、物性
とくに耐熱性および耐水性に優れたポリエステル、飽和
ポリエステル樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、アルキッ
ド樹脂、ポリカーボネート樹脂、エポキシ樹脂あるいは
ポリウレタンなどの高分子材料を製造するための原料あ
るいは原料成分の一部として有用である。たとえば代表
的なポリエステルであるテレフタル酸とエチレングリコ
ールとから成るポリエチレンテレフタレートを製造する
に際して、本発明に係るビスシクロヘキサノールを、テ
レフタル酸とエチレングリコールとの合計重量に対して
約10重量％程度添加すると、得られるポリエチレンテレ
フタレートのガラス転移温度は約85℃以上となる。これ
に対して、本発明に係るビスシクロヘキサノールを全く
添加しないでテレフタル酸とエチレングリコールとから
得られるポリエチレンテレフタレートは、そのガラス転
移温度は約75℃程度である。このように本発明に係る新
規なビスシクロヘキサノール類を、テレフタル酸とエチ
レングリコールとからポリエチレンテレフタレートを製
造するに際して反応系に添加すると、得られるポリエチ
レンテレフタレートのガラス転移温度は上昇し、引張強
度、剛性、弾性などの実用物性がより高温まで保持され
るようになる。
とくに耐熱性および耐水性に優れたポリエステル、飽和
ポリエステル樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、アルキッ
ド樹脂、ポリカーボネート樹脂、エポキシ樹脂あるいは
ポリウレタンなどの高分子材料を製造するための原料あ
るいは原料成分の一部として有用である。たとえば代表
的なポリエステルであるテレフタル酸とエチレングリコ
ールとから成るポリエチレンテレフタレートを製造する
に際して、本発明に係るビスシクロヘキサノールを、テ
レフタル酸とエチレングリコールとの合計重量に対して
約10重量％程度添加すると、得られるポリエチレンテレ
フタレートのガラス転移温度は約85℃以上となる。これ
に対して、本発明に係るビスシクロヘキサノールを全く
添加しないでテレフタル酸とエチレングリコールとから
得られるポリエチレンテレフタレートは、そのガラス転
移温度は約75℃程度である。このように本発明に係る新
規なビスシクロヘキサノール類を、テレフタル酸とエチ
レングリコールとからポリエチレンテレフタレートを製
造するに際して反応系に添加すると、得られるポリエチ
レンテレフタレートのガラス転移温度は上昇し、引張強
度、剛性、弾性などの実用物性がより高温まで保持され
るようになる。
また、本発明に係るビスシクロヘキサノール類は、ポリ
オレフィンあるいは塩化ビニルなど各種高分子材料の成
形性あるいは各種物性を向上させるために有用な滑剤、
可塑剤、帯電防止剤など各種添加剤として、あるいは各
種添加剤を製造するための原料として有用である。たと
えば軟質塩化ビニルにはフタル酸ジ2-エチルヘキシル、
フタル酸ジヘプチルなどの可塑剤が多量に配合されてい
るが、これらのかわりにあるいはこれらの一部のかわり
に本発明に係るビスシクロヘキサノールの高級脂肪酸エ
ステルを用いると、不揮発性、耐抽出性、耐水性、吸水
性などの保留性能を向上させることができる。
オレフィンあるいは塩化ビニルなど各種高分子材料の成
形性あるいは各種物性を向上させるために有用な滑剤、
可塑剤、帯電防止剤など各種添加剤として、あるいは各
種添加剤を製造するための原料として有用である。たと
えば軟質塩化ビニルにはフタル酸ジ2-エチルヘキシル、
フタル酸ジヘプチルなどの可塑剤が多量に配合されてい
るが、これらのかわりにあるいはこれらの一部のかわり
に本発明に係るビスシクロヘキサノールの高級脂肪酸エ
ステルを用いると、不揮発性、耐抽出性、耐水性、吸水
性などの保留性能を向上させることができる。
さらに、本発明に係るビスシクロヘキサノール類は、潤
滑油やブレーキ油など各種油性製品の性能を向上させる
ために用いられる添加剤あるいは添加剤の原料としても
有用である。
滑油やブレーキ油など各種油性製品の性能を向上させる
ために用いられる添加剤あるいは添加剤の原料としても
有用である。
またさらに、本発明に係るビスシクロヘキサノール類
は、過酸化物など各種の有機有用物質の原料としても有
用である。
は、過酸化物など各種の有機有用物質の原料としても有
用である。
発明の効果 本発明に係るビスシクロヘキサノール類は、新規で有用
な化合物であって、物性とくに耐熱性および耐水性とに
優れた各種高分子材料の原料として、また各種高分子材
料の添加剤としてあるいは各種高分子材料の添加剤の原
料として、さらにたとえば潤滑油やブレーキ油など各種
油性製品の添加剤としてあるいは添加剤の原料として、
あるいはたとえば過酸化物など各種の有機化合物製品の
原料として用いることができる。
な化合物であって、物性とくに耐熱性および耐水性とに
優れた各種高分子材料の原料として、また各種高分子材
料の添加剤としてあるいは各種高分子材料の添加剤の原
料として、さらにたとえば潤滑油やブレーキ油など各種
油性製品の添加剤としてあるいは添加剤の原料として、
あるいはたとえば過酸化物など各種の有機化合物製品の
原料として用いることができる。
以下本発明を実施例により説明するが、本発明はこれら
実施例に限定されるものではない。
実施例に限定されるものではない。
実施例１ 4,4′‐［1,4-フェニレンビス（1-メチルエチリデ
ン）］ビスシクロヘキサノール （式Ａ）の合成 4,4′‐［1,4-フェニレンビス（1-メチルエチリデ
ン）］ビスフェノール45g、エタノール45gおよびカーボ
ンに５重量％のRhを担持させた５％Rh/炭素2gを、撹拌
機を備えた200mlのステンレス製オートクレーブに仕込
み、130℃、水素圧力40kg/cm2Gの条件で水素の吸収がほ
とんどなくなるまで撹拌を行なって、上記ビスフェノー
ルの核水素化反応を行なった。
ン）］ビスシクロヘキサノール （式Ａ）の合成 4,4′‐［1,4-フェニレンビス（1-メチルエチリデ
ン）］ビスフェノール45g、エタノール45gおよびカーボ
ンに５重量％のRhを担持させた５％Rh/炭素2gを、撹拌
機を備えた200mlのステンレス製オートクレーブに仕込
み、130℃、水素圧力40kg/cm2Gの条件で水素の吸収がほ
とんどなくなるまで撹拌を行なって、上記ビスフェノー
ルの核水素化反応を行なった。
反応終了後、室温にまで冷却し、オートクレーブ内に残
留した水素を系外にパージしたのち、反応内容物をエタ
ノールで希釈して取り出した。エタノールで希釈した反
応内容物を濾過して触媒を除いたのち、減圧下でエタノ
ールを留去した。得られた残査にトルエンを加え加温し
て全体を均一としたのち、ヘキサンを加えて結晶を析出
させた。
留した水素を系外にパージしたのち、反応内容物をエタ
ノールで希釈して取り出した。エタノールで希釈した反
応内容物を濾過して触媒を除いたのち、減圧下でエタノ
ールを留去した。得られた残査にトルエンを加え加温し
て全体を均一としたのち、ヘキサンを加えて結晶を析出
させた。
この結晶を濾別し乾燥したところ光透過法で測定した融
点（メトラーEP−61型自動融点測定装置を用いて測定）
が130℃〜160℃の白色結晶35gが得られた。
点（メトラーEP−61型自動融点測定装置を用いて測定）
が130℃〜160℃の白色結晶35gが得られた。
この化合物は下記の機器分析結果から式Ａの構造を有す
る4,4′‐［1,4-フェニレンビス（1-メチルエチリデ
ン）］ビスシクロヘキサノール（シス／シス、シス／ト
ランス、およびトランス／トランスの混合物、GC分析に
よる純度、96.4％）であることが確認された。
る4,4′‐［1,4-フェニレンビス（1-メチルエチリデ
ン）］ビスシクロヘキサノール（シス／シス、シス／ト
ランス、およびトランス／トランスの混合物、GC分析に
よる純度、96.4％）であることが確認された。
ガスクロ分析 上記の結晶をガスクロ工業（株）製「TMSI−Ｈ」でトリ
メチルシリル化したのち、ガスクロ分析に供した。下記
の条件で分析を行ったところ、リテンションタイム19.4
分、21.6分および24.4分（標準として用いたオルソータ
ーフェニルのリテンションタイム:4.9分）に各々40.7
％、44.9％および13.3％の面積で３本のピークが認めら
れた。
メチルシリル化したのち、ガスクロ分析に供した。下記
の条件で分析を行ったところ、リテンションタイム19.4
分、21.6分および24.4分（標準として用いたオルソータ
ーフェニルのリテンションタイム:4.9分）に各々40.7
％、44.9％および13.3％の面積で３本のピークが認めら
れた。
（ガスクロ分析条件）： カラム:Dexil-300GC,1mガラスカラム 温度， Col.,200→280℃５℃/min昇温 Inj.,Det.,280℃ キャリヤーガス,N240ml/min,検出器F1D 質量分析 上記３ピーク中に含まれる化合物の分子量をGC−MS（FI
法）で測定した結果、いずれのピークも分子量502をも
った化合物であることが確認された。
法）で測定した結果、いずれのピークも分子量502をも
った化合物であることが確認された。
の構造から計算される分子量:502 各吸収の帰属は下記の通りである。
１） OHのgem-Hを除くシクロヘキサン環プロトン及び
‐OHプロトン ２） CH3プロトン ３） OHのgem-H（axial及びequatorial） ４） ベンゼン環プロトン 実施例２ 4,4′‐［1,3-フェニレンビス（1-メチルエチリデ
ン）］ビスシクロヘキサノール （式Ｂ）の合成 4,4′‐［1,3-フェニレンビス（1-メチルエチリデ
ン）］ビスフェノール50g、エチルアルコール50gおよび
カーボンに５重量％のRhを担持させた５％Rh/炭素2g
を、撹拌機を備えた200mlのステンレス製オートクレー
ブに仕込み、130℃、水素圧力40kg/cm2Gの条件で水素の
吸収がほとんどなくなるまで撹拌を行なって、上記ビス
フェノールの核水素化反応を行なった。反応終了後、室
温まで冷却し、オートクレーブ内に残留した水素を系外
にパージしたのち、反応内容物をエタノールで希釈して
取り出した。エタノールで希釈した反応内容物を濾別し
て触媒を除いたのち、減圧下でエタノールを留去した。
得られた残査にトルエンを加え加温して全体を均一とし
たのちヘキサンを加えて、結晶を析出させた。
‐OHプロトン ２） CH3プロトン ３） OHのgem-H（axial及びequatorial） ４） ベンゼン環プロトン 実施例２ 4,4′‐［1,3-フェニレンビス（1-メチルエチリデ
ン）］ビスシクロヘキサノール （式Ｂ）の合成 4,4′‐［1,3-フェニレンビス（1-メチルエチリデ
ン）］ビスフェノール50g、エチルアルコール50gおよび
カーボンに５重量％のRhを担持させた５％Rh/炭素2g
を、撹拌機を備えた200mlのステンレス製オートクレー
ブに仕込み、130℃、水素圧力40kg/cm2Gの条件で水素の
吸収がほとんどなくなるまで撹拌を行なって、上記ビス
フェノールの核水素化反応を行なった。反応終了後、室
温まで冷却し、オートクレーブ内に残留した水素を系外
にパージしたのち、反応内容物をエタノールで希釈して
取り出した。エタノールで希釈した反応内容物を濾別し
て触媒を除いたのち、減圧下でエタノールを留去した。
得られた残査にトルエンを加え加温して全体を均一とし
たのちヘキサンを加えて、結晶を析出させた。
この結晶を濾別し乾燥したところ光透過法で測定した融
点（メトラ−EP−61型自動融点測定装置を用いて測定）
が122℃〜126℃の白色結晶36.5gが得られた。この化合
物は下記の機器分析結果から式［Ｂ］の構造を有する4,
4′‐［1,3-フェニレンビス（1-メチルエチリデン）］
ビスシクロヘキサノール（シス／シス，シス／トラン
ス，およびトランス／トランスの混合物、GC分析による
純度、95.6％）であることが確認された。
点（メトラ−EP−61型自動融点測定装置を用いて測定）
が122℃〜126℃の白色結晶36.5gが得られた。この化合
物は下記の機器分析結果から式［Ｂ］の構造を有する4,
4′‐［1,3-フェニレンビス（1-メチルエチリデン）］
ビスシクロヘキサノール（シス／シス，シス／トラン
ス，およびトランス／トランスの混合物、GC分析による
純度、95.6％）であることが確認された。
ガスクロ分析 上記結晶を実施例１と同様にトリメチルシリル化したの
ち、ガスクロ分析に供した。実施例１と同一条件で分析
を行ったところリテンションタイム16.9分、18.5分およ
び20.6分（標準として用いたオルソーターフェニルのリ
テンションタイム:4.9分）に各々21.8％、45.1％および
28.7％の面積で３本のピークが認められた。
ち、ガスクロ分析に供した。実施例１と同一条件で分析
を行ったところリテンションタイム16.9分、18.5分およ
び20.6分（標準として用いたオルソーターフェニルのリ
テンションタイム:4.9分）に各々21.8％、45.1％および
28.7％の面積で３本のピークが認められた。
質量分析 上記３ピーク中に含まれる化合物の分子量をGC−MS（FI
法）で測定した結果いずれのピークも分子量502をもっ
た化合物であることが確認された。
法）で測定した結果いずれのピークも分子量502をもっ
た化合物であることが確認された。
の構造から計算される分子量:502 各吸収の帰属は下記の通りである。
１） OHのgem-Hを除くシクロヘキサン環プロトン及び
‐OHプロトン ２） CH3プロトン ３） OHのgem-H（axial及びequatorial） ４） ベンゼン環プロトン 実施例３ 4,4′‐（1-シクロヘキシルエチリデン）ビスシクロヘ
キサノール （式Ｃ）の合成 4,4′‐（1-フェニルエチリデン）ビスフェノール50g、
イソプロピルアルコール50gおよびカーボンに５重量％
のRhを担持させた５％Rh/炭素2gを、撹拌機を備えた200
mlのステンレス製オートクレーブに仕込み、130℃水素
圧力50kg/cm2Gの条件で水素の吸収がほとんどなくなる
まで撹拌を行って、上記ビスフェノールの核水素化反応
を行なった。
‐OHプロトン ２） CH3プロトン ３） OHのgem-H（axial及びequatorial） ４） ベンゼン環プロトン 実施例３ 4,4′‐（1-シクロヘキシルエチリデン）ビスシクロヘ
キサノール （式Ｃ）の合成 4,4′‐（1-フェニルエチリデン）ビスフェノール50g、
イソプロピルアルコール50gおよびカーボンに５重量％
のRhを担持させた５％Rh/炭素2gを、撹拌機を備えた200
mlのステンレス製オートクレーブに仕込み、130℃水素
圧力50kg/cm2Gの条件で水素の吸収がほとんどなくなる
まで撹拌を行って、上記ビスフェノールの核水素化反応
を行なった。
反応終了後、室温まで冷却し、オートクレーブ内に残留
した水素を系外にパージした後、反応内容物をテトラヒ
ドロフランで希釈して取り出した。テトラヒドロフラン
で希釈した反応内容物を濾過して触媒を除いた後、減圧
下でイソプロピルアルコールとテトラヒドロフランを留
去した。得られた残査にトルエンを加え加温して全体を
均一としたのち氷冷させて、結晶を析出させた。
した水素を系外にパージした後、反応内容物をテトラヒ
ドロフランで希釈して取り出した。テトラヒドロフラン
で希釈した反応内容物を濾過して触媒を除いた後、減圧
下でイソプロピルアルコールとテトラヒドロフランを留
去した。得られた残査にトルエンを加え加温して全体を
均一としたのち氷冷させて、結晶を析出させた。
この結晶を濾別し乾燥したところ光透過法で測定した融
点（メトラ−EP−61型自動融点測定装置を用いて測定）
が169℃〜171℃の白色結晶29.5gが得られた。
点（メトラ−EP−61型自動融点測定装置を用いて測定）
が169℃〜171℃の白色結晶29.5gが得られた。
この化合物は下記の機器分析結果から式［Ｃ］の構造を
有する4,4′‐（1-シクロヘキシルエチリデン）ビスシ
クロヘキサノール（シス／シス，シス／トランス，およ
びトランス／トランスの混合物、GC純度、87.2％）であ
ることが確認された。
有する4,4′‐（1-シクロヘキシルエチリデン）ビスシ
クロヘキサノール（シス／シス，シス／トランス，およ
びトランス／トランスの混合物、GC純度、87.2％）であ
ることが確認された。
ガスクロ分析 上記結晶をテトラヒドロフランに溶解してガスクロ分析
に供した。実施例１と同一ガスクロ条件で分析したとこ
ろリテンションタイム16.4分、17.1分および17.9分（標
準として用いたオルソーターフェニルのリテンションタ
イム:4.9分）に各々35.1％、46.2％および5.9％の面積
で３本のピークが認められた。
に供した。実施例１と同一ガスクロ条件で分析したとこ
ろリテンションタイム16.4分、17.1分および17.9分（標
準として用いたオルソーターフェニルのリテンションタ
イム:4.9分）に各々35.1％、46.2％および5.9％の面積
で３本のピークが認められた。
質量分析 上記３ピーク中に含まれる化合物の分子量をGC−MS（FI
法）で測定した結果いずれのピークも分子量308をもっ
た化合物であることが確認された。
法）で測定した結果いずれのピークも分子量308をもっ
た化合物であることが確認された。
の構造から計算される分子量:308 各吸収の帰属は下記の通りである。
１） CH3プロトン ２） OHのgem-Hを除くシクロヘキサン環プロトン及び
‐OHプロトン ３） OHのgem-H（axial及びequatorial） 実施例４ 4,4′‐シクロヘキシリデンビスシクロヘキサノール （式Ｄ）の合成 4,4′‐シクロヘキシリデンビスフェノール50g、イソプ
ロピルアルコール50gおよびカーボンに５重量％のRhを
担持させた５％Rh/炭素2gを、撹拌機を備えた200mlのス
テンレス製オートクレーブに仕込み、130℃、水素圧力5
0kg/cm2Gの条件下で水素の吸収がほとんどなくなるまで
撹拌を行って、上記ビスフェノールの核水素化を行なっ
た。
‐OHプロトン ３） OHのgem-H（axial及びequatorial） 実施例４ 4,4′‐シクロヘキシリデンビスシクロヘキサノール （式Ｄ）の合成 4,4′‐シクロヘキシリデンビスフェノール50g、イソプ
ロピルアルコール50gおよびカーボンに５重量％のRhを
担持させた５％Rh/炭素2gを、撹拌機を備えた200mlのス
テンレス製オートクレーブに仕込み、130℃、水素圧力5
0kg/cm2Gの条件下で水素の吸収がほとんどなくなるまで
撹拌を行って、上記ビスフェノールの核水素化を行なっ
た。
反応終了後、室温まで冷却し、オートクレーブ内に残留
した水素を系外にパージしたのち、反応内容物をテトラ
ヒドロフランで希釈して取り出した。テトラヒドロフラ
ンで希釈した反応内容物を濾別して触媒を除いたのち、
減圧下でテトラヒドロフランおよびイソプロピルアルコ
ールを留去した。得られた残査にヘキサンを加え、加熱
撹拌したのち全体を氷冷した。
した水素を系外にパージしたのち、反応内容物をテトラ
ヒドロフランで希釈して取り出した。テトラヒドロフラ
ンで希釈した反応内容物を濾別して触媒を除いたのち、
減圧下でテトラヒドロフランおよびイソプロピルアルコ
ールを留去した。得られた残査にヘキサンを加え、加熱
撹拌したのち全体を氷冷した。
得られた結晶を濾別し乾燥したところ光透過法で測定し
た融点が160℃〜168℃の白色結晶24gが得られた。
た融点が160℃〜168℃の白色結晶24gが得られた。
この化合物は下記の機器分析結果から式［Ｄ］の構造を
有する4,4′‐シクロヘキシリデンビスシクロヘキサノ
ール（シス／シス、シス／トランス、およびトランス／
トランスの混合物、GC分析による純度、87.5％）である
ことが確認された。
有する4,4′‐シクロヘキシリデンビスシクロヘキサノ
ール（シス／シス、シス／トランス、およびトランス／
トランスの混合物、GC分析による純度、87.5％）である
ことが確認された。
ガスクロ分析 上記結晶をテトラヒドロフランに溶解してガスクロ分析
に供した。実施例１と同一ガスクロ条件で分析したとこ
ろリテンションタイム13.9分、14.6分、および15.2分
（標準として用いたオルソーターフェニルのリテンショ
ンタイム:4.9分）に各々35.5％、38.5％および13.5％の
面積で３本のピークが認められた。
に供した。実施例１と同一ガスクロ条件で分析したとこ
ろリテンションタイム13.9分、14.6分、および15.2分
（標準として用いたオルソーターフェニルのリテンショ
ンタイム:4.9分）に各々35.5％、38.5％および13.5％の
面積で３本のピークが認められた。
質量分析 上記３ピーク中に含まれる化合物の分子量をGC−MS（FI
法）で測定した結果、いずれのピークも分子量280をも
った化合物であることが確認された。
法）で測定した結果、いずれのピークも分子量280をも
った化合物であることが確認された。
の構造から計算される分子量:280 各吸収の帰属は下記の通りである。
１） OHのgem-Hを除くシクロヘキサン環プロトン及び
‐OHプロトン ２） OHのgem-H（axial及びequatorial） 実施例５ 4,4′‐（シクロヘキシルメチリデン）ビスシクロヘキ
サノール式７の合成 4,4′‐（フェニルメチリデン）ビスフェノール5.0g、
イソプロピルアルコール5.0g、および５％Rh/炭素0.3g
を撹拌機を備えた200mlのステンレス製オートクレーブ
に仕込み130℃、水素圧力50kg/cm2Gの条件で、水素の吸
収がほとんどなくなるまで撹拌を行った。反応終了後、
室温まで冷却しオートクレーブ内に残留した水素を系外
にパージしたのち、反応内容物をテトラヒドロフランで
希釈して取り出した。テトラヒドロフランで希釈した反
応内容物を濾過して触媒を除いたのち、減圧化でテトラ
ヒドロフランおよびイソプロピルアルコールを留去し
た。
‐OHプロトン ２） OHのgem-H（axial及びequatorial） 実施例５ 4,4′‐（シクロヘキシルメチリデン）ビスシクロヘキ
サノール式７の合成 4,4′‐（フェニルメチリデン）ビスフェノール5.0g、
イソプロピルアルコール5.0g、および５％Rh/炭素0.3g
を撹拌機を備えた200mlのステンレス製オートクレーブ
に仕込み130℃、水素圧力50kg/cm2Gの条件で、水素の吸
収がほとんどなくなるまで撹拌を行った。反応終了後、
室温まで冷却しオートクレーブ内に残留した水素を系外
にパージしたのち、反応内容物をテトラヒドロフランで
希釈して取り出した。テトラヒドロフランで希釈した反
応内容物を濾過して触媒を除いたのち、減圧化でテトラ
ヒドロフランおよびイソプロピルアルコールを留去し
た。
得られた残査にトルエンを加え加温して全体を均一とし
たのち氷冷し結晶を析出させた。
たのち氷冷し結晶を析出させた。
この結晶を濾別し乾燥したところ光透過法で測定した融
点（メトラ−EP−61型自動融点測定装置を用いて測定）
が148〜153℃の白色結晶が3.2g得られた。この化合物は
下記の機器分析結果から式７の構造を有する4,4′‐
（シクロヘキシルメチリデン）ビスシクロヘキサノール
（シス／シス、シス／トランス及びトランス／トランス
の混合物、GC分析による純度87.9％）であることが確認
された。
点（メトラ−EP−61型自動融点測定装置を用いて測定）
が148〜153℃の白色結晶が3.2g得られた。この化合物は
下記の機器分析結果から式７の構造を有する4,4′‐
（シクロヘキシルメチリデン）ビスシクロヘキサノール
（シス／シス、シス／トランス及びトランス／トランス
の混合物、GC分析による純度87.9％）であることが確認
された。
ガスクロ分析 上記の結晶をガスクロ工業（株）製「TMSI−Ｈ」でトリ
メチルシリル化したのち、ガスクロ分析に供した。下記
の条件で分析を行ったところ、リテンションタイム12.9
分、14.6分および16.6分（標準として用いたオルソータ
ーフェニルのリテンションタイム:5.7分）に各々1.8
％、42.3％および23.8％の面積で３本のピークが認めら
れた。
メチルシリル化したのち、ガスクロ分析に供した。下記
の条件で分析を行ったところ、リテンションタイム12.9
分、14.6分および16.6分（標準として用いたオルソータ
ーフェニルのリテンションタイム:5.7分）に各々1.8
％、42.3％および23.8％の面積で３本のピークが認めら
れた。
（ガスクロ分析条件）： カラム:Dexil-300GC,1mガラスカラム 温度， Col.,200→280℃５℃/min昇温 Inj.,Det.,280℃ キャリヤーガス,N240ml/min,検出機F1D 質量分析 上記３ピーク中に含まれる化合物の分子量をGC−MS（FI
法）で測定した結果、いずれのピークも分子量438をも
った化合物であることが確認された。
法）で測定した結果、いずれのピークも分子量438をも
った化合物であることが確認された。
の構造から計算される分子量:438 各吸収の帰属は下記の通りである。
１） OHのgem-Hを除くシクロヘキサン環プロトン及び
‐OHプロトン ２） OHのgem-H（axial及びequatorial）
‐OHプロトン ２） OHのgem-H（axial及びequatorial）
Claims (2)
- 【請求項１】下記式［Ｉ］ （式中、 ここでR1、R2は水素原子、低級アルキル基、シクロヘキ
シル基またはアリール基を表わし（ただしR1が水素原子
であるとき、R2は水素原子、炭素数２以上の低級アルキ
ル基、シクロヘキシル基またはアリール基であり）、ま
たR1とR2とは環を形成して２価のシクロヘキシル基を形
成していてもよく、２価のシクロヘキシル基を形成しな
い場合にはR1とR2のうち少なくともいずれか一方はシク
ロヘキシル基またはアリール基である。） で表わされるビスシクロヘキサノール類。 - 【請求項２】ビスシクロヘキサノール類が、4,4′‐
［1,4-フェニレンビス（1-メチルエチリデン）］ビスシ
クロヘキサノール、4,4′‐［1,3-フェニレンビス（1-
メチルエチリデン）］ビスシクロヘキサノール、4,4′
‐（1-シクロヘキシルエチリデン）ビスシクロヘキサノ
ール、4,4′‐（シクロヘキシルメチリデン）ビスシク
ロヘキサノールまたは4,4′‐シクロヘキシリデンビス
シクロヘキサノールである特許請求の範囲第１項に記載
のビスシクロヘキサノール類。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61124520A JPH072659B2 (ja) | 1986-05-29 | 1986-05-29 | 新規なビスシクロヘキサノール類 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61124520A JPH072659B2 (ja) | 1986-05-29 | 1986-05-29 | 新規なビスシクロヘキサノール類 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62281832A JPS62281832A (ja) | 1987-12-07 |
| JPH072659B2 true JPH072659B2 (ja) | 1995-01-18 |
Family
ID=14887514
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61124520A Expired - Fee Related JPH072659B2 (ja) | 1986-05-29 | 1986-05-29 | 新規なビスシクロヘキサノール類 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH072659B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20110040030A1 (en) * | 2008-05-14 | 2011-02-17 | Basf Se | Use of a cyclohexane diol mixture for manufacturing polymers |
| TWI630954B (zh) | 2014-12-09 | 2018-08-01 | 財團法人工業技術研究院 | 雙酚a或其衍生物的氫化方法以及對苯二甲酸或其衍生物的氫化方法 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS568062B2 (ja) * | 1972-11-27 | 1981-02-21 | ||
| DE2434966A1 (de) * | 1974-07-19 | 1976-02-05 | Bayer Ag | O,o,o',o'-tetraalkylsubstituierte biscyclohexanole |
-
1986
- 1986-05-29 JP JP61124520A patent/JPH072659B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS62281832A (ja) | 1987-12-07 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |