JPH0726726B2 - スチ−ム発生装置 - Google Patents
スチ−ム発生装置Info
- Publication number
- JPH0726726B2 JPH0726726B2 JP6623986A JP6623986A JPH0726726B2 JP H0726726 B2 JPH0726726 B2 JP H0726726B2 JP 6623986 A JP6623986 A JP 6623986A JP 6623986 A JP6623986 A JP 6623986A JP H0726726 B2 JPH0726726 B2 JP H0726726B2
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- steam
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Description
本発明はスチーム式美顔器や吸入器などに用いられるス
チーム発生装置、殊にボイラー式のスチーム発生装置に
関する。
チーム発生装置、殊にボイラー式のスチーム発生装置に
関する。
スチーム発生装置としては、水が供給されるスチーム発
生室内にヒータを設置したボイラー式のものと、ヒータ
表面に水を滴下するドリップ式のものとがあるが、後者
にあってはスチームの発生に時間的遅れがあまりないも
のの、水供給量にばらつきがあって供給過多となった時
にはスチームとならずに湯玉となって吐出され、火傷を
招くおそれを有していることから、安全性の点では前者
の方が勝っている。 しかしながら、従来のボイラー式のものでは、スチーム
発生室内に多量の水を入れた状態でヒータを作動させる
ことから、スチーム発生までの待ち時間が長くなり、ま
た、この時間を短縮するために、スチーム発生室内に少
量の水しか供給しなかった時には、スチームの発生量が
少なくなり、スチーム発生が短時間のうちに終了してし
まうという不都合がある。 このために、本出願人は、特願昭60−86165号におい
て、次のようなものを提案した。すなわち、加熱用ヒー
タが設けられているスチーム発生室に水位センサーを設
けて、この水位センサーによってスチーム発生室の水位
を監視し、水位が低下すれば給水タンクから水を供給す
るのである。この場合、スチーム発生室に入れておく水
量は少量でよく、従ってスチーム発生までの待ち時間が
短くなる。 しかし、このものでは給水タンクからスチーム発生室に
至る水路の途中に設けた電磁バルブを、スチーム発生室
内の水位が低下した時に、水位センサーからの出力によ
って全閉状態から全開状態とし、所定時間の後、全閉状
態に復帰させることでスチーム発生室内の水量を制御し
ていたことから、つまりはスチーム発生室への給水を断
続的に行なっていたことから、電磁バルブが開かれて給
水タンクからスチーム発生室内に水が流入する時、スチ
ーム発生量が一時的とはいえ大きく減少し、ノズルから
出るスチームの屈く距離が短くなって、使用者まで屈か
なくなってしまう。もちろん、工業用ボイラーなどにお
いて実施されているように、スチーム発生室ににスチー
ム発生量に等しい量の給水を行うならば、安定したスチ
ーム発生量を得ることができるが、美顔器や吸入器に用
いるスチーム発生装置は、そのスチーム発生量が工業用
ボイラーに比して極めて小さく、このために、スチーム
発生量に等しい微小な量の給水を連続的に行うことは実
際上、困難である。
生室内にヒータを設置したボイラー式のものと、ヒータ
表面に水を滴下するドリップ式のものとがあるが、後者
にあってはスチームの発生に時間的遅れがあまりないも
のの、水供給量にばらつきがあって供給過多となった時
にはスチームとならずに湯玉となって吐出され、火傷を
招くおそれを有していることから、安全性の点では前者
の方が勝っている。 しかしながら、従来のボイラー式のものでは、スチーム
発生室内に多量の水を入れた状態でヒータを作動させる
ことから、スチーム発生までの待ち時間が長くなり、ま
た、この時間を短縮するために、スチーム発生室内に少
量の水しか供給しなかった時には、スチームの発生量が
少なくなり、スチーム発生が短時間のうちに終了してし
まうという不都合がある。 このために、本出願人は、特願昭60−86165号におい
て、次のようなものを提案した。すなわち、加熱用ヒー
タが設けられているスチーム発生室に水位センサーを設
けて、この水位センサーによってスチーム発生室の水位
を監視し、水位が低下すれば給水タンクから水を供給す
るのである。この場合、スチーム発生室に入れておく水
量は少量でよく、従ってスチーム発生までの待ち時間が
短くなる。 しかし、このものでは給水タンクからスチーム発生室に
至る水路の途中に設けた電磁バルブを、スチーム発生室
内の水位が低下した時に、水位センサーからの出力によ
って全閉状態から全開状態とし、所定時間の後、全閉状
態に復帰させることでスチーム発生室内の水量を制御し
ていたことから、つまりはスチーム発生室への給水を断
続的に行なっていたことから、電磁バルブが開かれて給
水タンクからスチーム発生室内に水が流入する時、スチ
ーム発生量が一時的とはいえ大きく減少し、ノズルから
出るスチームの屈く距離が短くなって、使用者まで屈か
なくなってしまう。もちろん、工業用ボイラーなどにお
いて実施されているように、スチーム発生室ににスチー
ム発生量に等しい量の給水を行うならば、安定したスチ
ーム発生量を得ることができるが、美顔器や吸入器に用
いるスチーム発生装置は、そのスチーム発生量が工業用
ボイラーに比して極めて小さく、このために、スチーム
発生量に等しい微小な量の給水を連続的に行うことは実
際上、困難である。
本発明はこのような点に鑑み為されたのであり、その目
的とするところは、スチーム式美顔器や吸入器用であり
且つ給水タンクからスチーム発生室に給水するボイラー
式のものにおいて、安定した量のスチームを発生させる
ことができるスチーム発生装置を提供することにある。
的とするところは、スチーム式美顔器や吸入器用であり
且つ給水タンクからスチーム発生室に給水するボイラー
式のものにおいて、安定した量のスチームを発生させる
ことができるスチーム発生装置を提供することにある。
しかして本発明は、加熱用ヒータを備えスチーム発生室
と、このスチーム発生室に給水する給水タンクと、給水
タンクからスチーム発生室に給水する給水手段と、スチ
ーム発生室内に設けられた水位センサーとを備えている
スチーム発生装置において、上記水位センサーは満水位
と低水位の２状態が検知可能なもので形成され、給水手
段は全開状態と中流量と小流量の３状態が切換可能であ
り且つ水位センサーによる満水位検知によって給水量を
全開状態から小流量に切り換え、低水位検知のオンオフ
に応じて、スチーム発生量より少し多い中流量状態とス
チーム発生量より少し少ない小流量状態とに切り換えて
連続的給水を行う流量調節器から成ることに特徴を有し
ている。スチーム発生量より少し少ない小流量状態とス
チーム発生量より少し多い中流量状態とを水位に応じて
切り換えることで、平均流量がスチーム発生量に等しい
流量となるようにしているわけである。 以下本発明を図示の実施例に基づいて詳述すると、図示
例はイオン化したスチームを噴射する美顔器であって、
給水タンク２が上面凹所に設置されるハウジング３と、
このハウジング３外面の受け31に軸32でもって上下に首
振り自在に取り付けられたアーム４とから構成されてお
り、アームホルダー40を緩めることで角度を変えられる
アーム４の先端に、スチームを噴射するノズル19が設け
られている。このノズル19から噴射するスチームを発生
させるスチーム発生室１は、ハウジング３内にその底板
から脚35でもって浮かされた状態で設置されているもの
で、天板から垂下された邪魔板14により、内部が底部に
おいて連通する２室に仕切られており、１室の天面に上
記ノズル19に連なるスチーム吐出口17が、底面に加熱用
のヒータ５が配され、他室に水位センサーS1が設置され
ている。 この水位センサーS1はスチーム発生室１の天板から垂下
されたリードスイッチ部S11およびリードスイッチ部S11
に外挿されたフロート部S12（リードスイッチ駆動用の
永久磁石を具備している）よりなるフロートスイッチ方
式で、スチーム発生室１の露出部は電気絶縁された状態
で取り付けられている。この水位センサーS1は初期の満
水位ＬＨを検知し、ヒータ５および高圧放電ユニット61
に通電し、以降は下限水位ＬＬの検知にて後述する流量
調節器としての電磁バルブ８の動作を行わせるものであ
る。尚、満水位ＬＨとなった時点においても、スチーム
発生室１内の水量は少なく、ヒータ５による加熱を開始
してからすぐにスチームが発生する。 スチーム発生室１内の水をヒータ５で加熱することによ
って得られるスチームは、スチーム吐出口17から前記ノ
ズル19へと導かれるのであるが、ここでノズル19が一端
に設けられている弾性管18とスチーム吐出口17とは直接
接続されておらず、放電電極６が設置された放電管60を
介して接続されている。第６図に示す高圧放電ユニット
61に接続された放電電極６間の放電により、スチームが
イオン化されるようにしているものである。また、ノズ
ル19は、その噴射方向がここに至るまでのスチーム通路
と直交する方向に形成されているとともに、スチーム通
路内に後端が突出するように形成されており、スチーム
通路内の結露水（湯玉）の吹き出しがないものとなって
いる。 さて、スチーム発生室１には、前記給水タンク２から水
が供給されるのであるが、ハウジング３より着脱自在と
された給水タンク２は、第４図に示すようにばねにて常
時閉じる方向に付勢されている弁20がが組み込まれたキ
ャップ21を備えているものであって、ハウジング３上面
に凹所として形成されている補給室７を経てスチーム発
生室１に水を供給する。補給室７は第３図に示すよう
に、その上部が段部70を介して大きくされ、また段部70
には空気抜き用の空間を確保するためのリブ72が設けれ
て、給水タンク２が段部70上に載るようにされており、
底面からはピン71が立設されているとともに、リードス
イッチ部S21及びフロート部S22よりなるフロートスイッ
チとしての水位センサーS2が設けられており、更にその
底面が電磁バルブ８と給水管75とを通じて、スチーム発
生室１の給水口15に接続されている。ピン71は、キャッ
プ21を下方に向けた状態で補給室７上部に載置される給
水タンク２の上記弁20を、そのばね付勢に抗して押し開
き、給水タンク２内の水を補給室７内に導くものであ
る。尚、補給室７内における水位は、給水タンク２内が
空になるまで、下方を向いたキャップ21の下面のレベル
L1に保たれる。また、上記水位センサーS2は、補給室７
における水位が上記のレベルL1である時に導通状態とな
っており、補給室７内の水位が低下して図中L0レベル以
下になると遮断されてしまうものであって、水切れセン
サーとして機能している。 さて、給水タンク２の水は、上述のように補給室７を経
た後、給水管75を通じてスチーム発生室１へと送られる
のであるが、この給水管75の途中に設けられた電磁バル
ブ８は、第５図に示すように、ばね81によって閉じる方
向に付勢された弁体80と、この弁体80が先端に設けられ
た可動鉄芯82、そしてコイル83とからなり、コイル83に
通電すれば弁体81が引き上げられて開くものであるが、
ここにおけるコイル83は巻数の異なるところから引き出
された２つの中間タップを備えて、図中Cl,Cm,Csで示す
３つの端子が形成されているものであり、端子Clを通じ
てコイル83に通電した時には、この電磁バルブ８は全開
となるものの、端子Cmを通じて通電した時にはその開度
が半分以下、端子Csを通じて通電した時には、開度が更
に小さくなるものである。たとえば全開時の流量が180c
c/min、スチーム発生量が18cc/minであれば、端子Cmを
通じて通電した時の中流量が25cc/min、端子Csを通じて
通電した時の最小流量が10cc/minとなるようにする。後
述する理由により、全開時の流量をＬ、中流量をＭ、最
小流量をS,スチーム発生量をＱとする時、 Ｌ＞＞Ｍ＞Ｑ＞Ｓ であり、且つ 2Q＞Ｍ＞Q, Ｑ＞Ｓ＞Q/2 の条件を満たすようにしておく。 以上の説明から明らかなように、スチーム発生室１に水
位センサーS1が、そして補給室７に水位センサーS2が設
置されているわけであるが、第６図に示すように、これ
らの信号を受けたマイクロコンピュータＭは、リレーRT
aを介してヒータ５と高圧放電ユニット61を、そしてリ
レーRTbを介して電磁バルブ８を制御する。ここにおけ
るリレーRTbは、電磁バルブにおける上記３つの端子Cl,
Cm,Csとオフ状態とを切り換えるものである。 そして電磁バルブ８は初期のみ全開とされてスチーム発
生室１に水を供給、水位センサーS1が満水位ＬＨを検知
すると、リレーRTbの接点Tbはコイル83の端子Csに接続
されて電磁バルブの開度が最小とされるとともに、リレ
ーRTaの接点Taが閉となって、ヒータ５および高圧放電
ユニット61に通電される。スチームが発生するまでに水
位はやや上昇するが、スチームが発生するまでの時間が
短い上に、最小流量にセットされている電磁バルブ８を
通じて流入する水量も少ないことから、水位の上昇量は
微少である。そして、スチーム発生によりスチーム発生
室１内の水位がＬＬにまで減少すると、リレーRTbの接
点Tbは所定時間だけ端子Cmに接続されて給水流量を少し
増やし、所定時間経過後に水位ＬＬ以上になっておれ
ば、接点Tbは再度端子Csに接続されて、電磁バルブ８を
最小流量にセットする。以降、同様にしてＬＬ水位検知
による電磁バルブ８のコントロールを行うのであるる。 ここで、スチーム発生室１内が満水位ＬＨとなってから
以降は、給水タンク２及び補給室７からスチーム発生室
１への給水を常時行なっているわけであるが、この時、
電磁バルブを一定の開度で開いた状態とせずに、２段の
開度で流量を増減調節しているのは次の理由による。す
なわち、スチーム発生量の安定化には、スチーム発生量
に匹敵する流量Q0の給水を連続させることが理想的なわ
けであるが、電磁バルブ８を微少な流量Q0に固定するこ
とは困難である。このために、第７図に示すように、電
磁バルブ８の開度を、上記流量Q0よりも少ない最小流量
と、やや多い中流量とが得られるように２段階で調節し
て平均流量がスチーム発生量に匹敵する流量Q0に近くな
るようにしているものである。 この場合、スチームの発生量は、給水量の増減に応じて
水温が変化することからやはり増減するものの、第８図
に示すように、その変化は微少であり、安定した量のス
チームを連続的に発生させることができる。第７図及び
第８図に破線は、前記従来例によるのを示している。 尚、所定時間だけ電磁バルブ８を中流量にセットした際
に給水される総量は、（水位ＬＨ−水位ＬＬ）相当量
に、上記所定時間内においてスチームとなる水量を加算
した量にほぼ等しくなるように設定されている。また、
供給路の詰まりなどによって一定時間後も水位ＬＬ以下
であれば、タイマをリセットして、更に一定時間（たと
えば２分間）だけ、電磁バルブ８を中流量にセットした
状態を保つ。ヒータ５と高圧放電ユニット61は補給室７
内の水位がL0レベル以下となると、水位センサーS1にて
検出されるスチーム発生室１内の水位に関係なく、報知
音発生回路AGにて駆動されるスピーカSKより短時間（２
〜３秒）だけ警報音を出すととに、表示ランプLbを点灯
させて水切れを警告報知する。また、一定時間後（例え
ば１分間）までに水が補給され補給室７内の水位がL0レ
ベル以上ならない限りヒータ５と高圧放電ユニット61は
自動停止手段によって停止され、また電磁バルブ８も閉
じられる。つまり、水位センサーS2がL0以下を検知した
後、１分間後でないとリレーRTaの接点Taは開にならな
い。また、この回路はタイマーのタイムアップ時に接点
Taを開とし、ヒータ５と高圧放電ユニット61の動作が停
止する。このとき、報知音発生回路AGが動作してスピー
カSKよりタイムアップメロデイを短時間（５〜６秒）流
してタイムアップを報知する。スチーム発生室１の下面
にヒータ５に近接して設置されているサーモスイッチTS
が開となっても、メロデイが流れないだけでタイムアッ
プと同様の動作をする。 以下、動作について更に詳しく説明すると、ハウジング
３前面に配されている電源スイッチSWを入れて、タイマ
ーＴのタイムアップ時間を表示部TDに表示されている初
期設定の０分から、この数値を増加させる押釦FWDと減
少させる押釦REVとを用いて適宜時間にセットし、ま
た、水を入れた給水タンク２をセットして、この後、動
作表示ランプLaを点灯させることとなるスタート／スト
ップスイッチSWsを閉じる。この時、水位センサーS1が
検知する水位ＬＨまでスチーム発生室１内の水位が達し
ておらなければ、電磁バルブ８は全開状態を保ち、給水
タンク２からの水を補給室７を経てスチーム発生室１へ
と送り込む。そして、スチーム発生室１内の水位がＬＨ
に達すると、水位センサーS1がそれを検知してリレーRT
aの接点Taが閉となり、ヒータ５、高圧放電ユニット61
に通電され、スチームの発生と、スチームのイオン化が
開始されるとともに、電磁バルブ８は最小流量状態にセ
ットされれる。 以後、タイマーＴのタイムアップもしくは水切れまで、
あるいはスタート／ストップスイッチSWsを再度押すま
で、スチーム発生室１内の水位の増減に応じて、電磁バ
ルブ８は水位センサーS1のＬＬ水位検知により最小流量
と中流量との間の流量調節を繰り返すものであり、スチ
ーム発生室１内の水位はほぼ一定のレベルに保たれたま
ま、スチーム発生が行なわれる。第９図に上述の動作の
フローチャートを示す。そしてノズル19へと向かうスチ
ームは、放電電極６間における放電により肌に良く化粧
ののりを良くするイオン化されたものとされた後、ノズ
ル19から噴射されるものである。 スチームの発生及びスチーム発生室１に流入する水の影
響でスチーム発生室１内の水面は波打つが、邪魔板14の
存在により、水位センサーS1が設置された部分の水面
が、波打つことはない。また、スチーム発生室１の内底
面1aよりもヒータ５の表面が下方に位置しており、使用
後にスチーム発生室１内の水を排水コック（図示せず）
を開にして排水するとき、このヒータ５の表面側に形成
された凹部101に水が残った状態となるために、ヒータ
５が熱いままで乾燥状態になって表面にスケール（酸化
カルシュウムなど）が多量に付着するということがな
く、ヒータ５の表面温度が長期間安定するようになって
いる。 以上の実施例では、流量調節器としての電磁バルブ８を
介してスチーム発生室１に連続的給水を行なったが、補
給室７からスチーム発生室１への給水を電磁ポンプにて
行なうとともに、この電磁ポンプの送水能力を、スチー
ム発生室１の水位センサーS1の出力によって切り換える
ことで、上記実施例の場合と同様に給水量を制御するよ
うにしてもよい。この場合、給水管75や給水口15に生じ
た気泡によって給水量が不安定となったりすることがな
い上に、スチーム発生室１の内圧を高めることが可能と
なるために、ノズル19から噴射されるスチームの到達距
離が短くなったりしない。
と、このスチーム発生室に給水する給水タンクと、給水
タンクからスチーム発生室に給水する給水手段と、スチ
ーム発生室内に設けられた水位センサーとを備えている
スチーム発生装置において、上記水位センサーは満水位
と低水位の２状態が検知可能なもので形成され、給水手
段は全開状態と中流量と小流量の３状態が切換可能であ
り且つ水位センサーによる満水位検知によって給水量を
全開状態から小流量に切り換え、低水位検知のオンオフ
に応じて、スチーム発生量より少し多い中流量状態とス
チーム発生量より少し少ない小流量状態とに切り換えて
連続的給水を行う流量調節器から成ることに特徴を有し
ている。スチーム発生量より少し少ない小流量状態とス
チーム発生量より少し多い中流量状態とを水位に応じて
切り換えることで、平均流量がスチーム発生量に等しい
流量となるようにしているわけである。 以下本発明を図示の実施例に基づいて詳述すると、図示
例はイオン化したスチームを噴射する美顔器であって、
給水タンク２が上面凹所に設置されるハウジング３と、
このハウジング３外面の受け31に軸32でもって上下に首
振り自在に取り付けられたアーム４とから構成されてお
り、アームホルダー40を緩めることで角度を変えられる
アーム４の先端に、スチームを噴射するノズル19が設け
られている。このノズル19から噴射するスチームを発生
させるスチーム発生室１は、ハウジング３内にその底板
から脚35でもって浮かされた状態で設置されているもの
で、天板から垂下された邪魔板14により、内部が底部に
おいて連通する２室に仕切られており、１室の天面に上
記ノズル19に連なるスチーム吐出口17が、底面に加熱用
のヒータ５が配され、他室に水位センサーS1が設置され
ている。 この水位センサーS1はスチーム発生室１の天板から垂下
されたリードスイッチ部S11およびリードスイッチ部S11
に外挿されたフロート部S12（リードスイッチ駆動用の
永久磁石を具備している）よりなるフロートスイッチ方
式で、スチーム発生室１の露出部は電気絶縁された状態
で取り付けられている。この水位センサーS1は初期の満
水位ＬＨを検知し、ヒータ５および高圧放電ユニット61
に通電し、以降は下限水位ＬＬの検知にて後述する流量
調節器としての電磁バルブ８の動作を行わせるものであ
る。尚、満水位ＬＨとなった時点においても、スチーム
発生室１内の水量は少なく、ヒータ５による加熱を開始
してからすぐにスチームが発生する。 スチーム発生室１内の水をヒータ５で加熱することによ
って得られるスチームは、スチーム吐出口17から前記ノ
ズル19へと導かれるのであるが、ここでノズル19が一端
に設けられている弾性管18とスチーム吐出口17とは直接
接続されておらず、放電電極６が設置された放電管60を
介して接続されている。第６図に示す高圧放電ユニット
61に接続された放電電極６間の放電により、スチームが
イオン化されるようにしているものである。また、ノズ
ル19は、その噴射方向がここに至るまでのスチーム通路
と直交する方向に形成されているとともに、スチーム通
路内に後端が突出するように形成されており、スチーム
通路内の結露水（湯玉）の吹き出しがないものとなって
いる。 さて、スチーム発生室１には、前記給水タンク２から水
が供給されるのであるが、ハウジング３より着脱自在と
された給水タンク２は、第４図に示すようにばねにて常
時閉じる方向に付勢されている弁20がが組み込まれたキ
ャップ21を備えているものであって、ハウジング３上面
に凹所として形成されている補給室７を経てスチーム発
生室１に水を供給する。補給室７は第３図に示すよう
に、その上部が段部70を介して大きくされ、また段部70
には空気抜き用の空間を確保するためのリブ72が設けれ
て、給水タンク２が段部70上に載るようにされており、
底面からはピン71が立設されているとともに、リードス
イッチ部S21及びフロート部S22よりなるフロートスイッ
チとしての水位センサーS2が設けられており、更にその
底面が電磁バルブ８と給水管75とを通じて、スチーム発
生室１の給水口15に接続されている。ピン71は、キャッ
プ21を下方に向けた状態で補給室７上部に載置される給
水タンク２の上記弁20を、そのばね付勢に抗して押し開
き、給水タンク２内の水を補給室７内に導くものであ
る。尚、補給室７内における水位は、給水タンク２内が
空になるまで、下方を向いたキャップ21の下面のレベル
L1に保たれる。また、上記水位センサーS2は、補給室７
における水位が上記のレベルL1である時に導通状態とな
っており、補給室７内の水位が低下して図中L0レベル以
下になると遮断されてしまうものであって、水切れセン
サーとして機能している。 さて、給水タンク２の水は、上述のように補給室７を経
た後、給水管75を通じてスチーム発生室１へと送られる
のであるが、この給水管75の途中に設けられた電磁バル
ブ８は、第５図に示すように、ばね81によって閉じる方
向に付勢された弁体80と、この弁体80が先端に設けられ
た可動鉄芯82、そしてコイル83とからなり、コイル83に
通電すれば弁体81が引き上げられて開くものであるが、
ここにおけるコイル83は巻数の異なるところから引き出
された２つの中間タップを備えて、図中Cl,Cm,Csで示す
３つの端子が形成されているものであり、端子Clを通じ
てコイル83に通電した時には、この電磁バルブ８は全開
となるものの、端子Cmを通じて通電した時にはその開度
が半分以下、端子Csを通じて通電した時には、開度が更
に小さくなるものである。たとえば全開時の流量が180c
c/min、スチーム発生量が18cc/minであれば、端子Cmを
通じて通電した時の中流量が25cc/min、端子Csを通じて
通電した時の最小流量が10cc/minとなるようにする。後
述する理由により、全開時の流量をＬ、中流量をＭ、最
小流量をS,スチーム発生量をＱとする時、 Ｌ＞＞Ｍ＞Ｑ＞Ｓ であり、且つ 2Q＞Ｍ＞Q, Ｑ＞Ｓ＞Q/2 の条件を満たすようにしておく。 以上の説明から明らかなように、スチーム発生室１に水
位センサーS1が、そして補給室７に水位センサーS2が設
置されているわけであるが、第６図に示すように、これ
らの信号を受けたマイクロコンピュータＭは、リレーRT
aを介してヒータ５と高圧放電ユニット61を、そしてリ
レーRTbを介して電磁バルブ８を制御する。ここにおけ
るリレーRTbは、電磁バルブにおける上記３つの端子Cl,
Cm,Csとオフ状態とを切り換えるものである。 そして電磁バルブ８は初期のみ全開とされてスチーム発
生室１に水を供給、水位センサーS1が満水位ＬＨを検知
すると、リレーRTbの接点Tbはコイル83の端子Csに接続
されて電磁バルブの開度が最小とされるとともに、リレ
ーRTaの接点Taが閉となって、ヒータ５および高圧放電
ユニット61に通電される。スチームが発生するまでに水
位はやや上昇するが、スチームが発生するまでの時間が
短い上に、最小流量にセットされている電磁バルブ８を
通じて流入する水量も少ないことから、水位の上昇量は
微少である。そして、スチーム発生によりスチーム発生
室１内の水位がＬＬにまで減少すると、リレーRTbの接
点Tbは所定時間だけ端子Cmに接続されて給水流量を少し
増やし、所定時間経過後に水位ＬＬ以上になっておれ
ば、接点Tbは再度端子Csに接続されて、電磁バルブ８を
最小流量にセットする。以降、同様にしてＬＬ水位検知
による電磁バルブ８のコントロールを行うのであるる。 ここで、スチーム発生室１内が満水位ＬＨとなってから
以降は、給水タンク２及び補給室７からスチーム発生室
１への給水を常時行なっているわけであるが、この時、
電磁バルブを一定の開度で開いた状態とせずに、２段の
開度で流量を増減調節しているのは次の理由による。す
なわち、スチーム発生量の安定化には、スチーム発生量
に匹敵する流量Q0の給水を連続させることが理想的なわ
けであるが、電磁バルブ８を微少な流量Q0に固定するこ
とは困難である。このために、第７図に示すように、電
磁バルブ８の開度を、上記流量Q0よりも少ない最小流量
と、やや多い中流量とが得られるように２段階で調節し
て平均流量がスチーム発生量に匹敵する流量Q0に近くな
るようにしているものである。 この場合、スチームの発生量は、給水量の増減に応じて
水温が変化することからやはり増減するものの、第８図
に示すように、その変化は微少であり、安定した量のス
チームを連続的に発生させることができる。第７図及び
第８図に破線は、前記従来例によるのを示している。 尚、所定時間だけ電磁バルブ８を中流量にセットした際
に給水される総量は、（水位ＬＨ−水位ＬＬ）相当量
に、上記所定時間内においてスチームとなる水量を加算
した量にほぼ等しくなるように設定されている。また、
供給路の詰まりなどによって一定時間後も水位ＬＬ以下
であれば、タイマをリセットして、更に一定時間（たと
えば２分間）だけ、電磁バルブ８を中流量にセットした
状態を保つ。ヒータ５と高圧放電ユニット61は補給室７
内の水位がL0レベル以下となると、水位センサーS1にて
検出されるスチーム発生室１内の水位に関係なく、報知
音発生回路AGにて駆動されるスピーカSKより短時間（２
〜３秒）だけ警報音を出すととに、表示ランプLbを点灯
させて水切れを警告報知する。また、一定時間後（例え
ば１分間）までに水が補給され補給室７内の水位がL0レ
ベル以上ならない限りヒータ５と高圧放電ユニット61は
自動停止手段によって停止され、また電磁バルブ８も閉
じられる。つまり、水位センサーS2がL0以下を検知した
後、１分間後でないとリレーRTaの接点Taは開にならな
い。また、この回路はタイマーのタイムアップ時に接点
Taを開とし、ヒータ５と高圧放電ユニット61の動作が停
止する。このとき、報知音発生回路AGが動作してスピー
カSKよりタイムアップメロデイを短時間（５〜６秒）流
してタイムアップを報知する。スチーム発生室１の下面
にヒータ５に近接して設置されているサーモスイッチTS
が開となっても、メロデイが流れないだけでタイムアッ
プと同様の動作をする。 以下、動作について更に詳しく説明すると、ハウジング
３前面に配されている電源スイッチSWを入れて、タイマ
ーＴのタイムアップ時間を表示部TDに表示されている初
期設定の０分から、この数値を増加させる押釦FWDと減
少させる押釦REVとを用いて適宜時間にセットし、ま
た、水を入れた給水タンク２をセットして、この後、動
作表示ランプLaを点灯させることとなるスタート／スト
ップスイッチSWsを閉じる。この時、水位センサーS1が
検知する水位ＬＨまでスチーム発生室１内の水位が達し
ておらなければ、電磁バルブ８は全開状態を保ち、給水
タンク２からの水を補給室７を経てスチーム発生室１へ
と送り込む。そして、スチーム発生室１内の水位がＬＨ
に達すると、水位センサーS1がそれを検知してリレーRT
aの接点Taが閉となり、ヒータ５、高圧放電ユニット61
に通電され、スチームの発生と、スチームのイオン化が
開始されるとともに、電磁バルブ８は最小流量状態にセ
ットされれる。 以後、タイマーＴのタイムアップもしくは水切れまで、
あるいはスタート／ストップスイッチSWsを再度押すま
で、スチーム発生室１内の水位の増減に応じて、電磁バ
ルブ８は水位センサーS1のＬＬ水位検知により最小流量
と中流量との間の流量調節を繰り返すものであり、スチ
ーム発生室１内の水位はほぼ一定のレベルに保たれたま
ま、スチーム発生が行なわれる。第９図に上述の動作の
フローチャートを示す。そしてノズル19へと向かうスチ
ームは、放電電極６間における放電により肌に良く化粧
ののりを良くするイオン化されたものとされた後、ノズ
ル19から噴射されるものである。 スチームの発生及びスチーム発生室１に流入する水の影
響でスチーム発生室１内の水面は波打つが、邪魔板14の
存在により、水位センサーS1が設置された部分の水面
が、波打つことはない。また、スチーム発生室１の内底
面1aよりもヒータ５の表面が下方に位置しており、使用
後にスチーム発生室１内の水を排水コック（図示せず）
を開にして排水するとき、このヒータ５の表面側に形成
された凹部101に水が残った状態となるために、ヒータ
５が熱いままで乾燥状態になって表面にスケール（酸化
カルシュウムなど）が多量に付着するということがな
く、ヒータ５の表面温度が長期間安定するようになって
いる。 以上の実施例では、流量調節器としての電磁バルブ８を
介してスチーム発生室１に連続的給水を行なったが、補
給室７からスチーム発生室１への給水を電磁ポンプにて
行なうとともに、この電磁ポンプの送水能力を、スチー
ム発生室１の水位センサーS1の出力によって切り換える
ことで、上記実施例の場合と同様に給水量を制御するよ
うにしてもよい。この場合、給水管75や給水口15に生じ
た気泡によって給水量が不安定となったりすることがな
い上に、スチーム発生室１の内圧を高めることが可能と
なるために、ノズル19から噴射されるスチームの到達距
離が短くなったりしない。
以上のように本発明においては、給水タンクからスチー
ム発生室に給水するにあたり、断続的に行なうのではな
く、連続的に行なっていることから、スチーム発生室内
の水量が急激に増えて水温が大きく低下するというよう
なことがなく、しかも、連続的給水にあたり、水位セン
サーの低水位検知のオンオフに応じて、スチーム発生量
より少し少ない小流量状態とスチーム発生量より少し多
い中流量状態とに切り換えることから、スチーム式美顔
器や吸入器などに用いるスチーム発生装置であってスチ
ーム発生量がきわめて少ないためにスチーム発生量に相
当する流量の給水を連続的に行うことが困難であるもの
においても、流量調節段階が少なくて簡便な流量調節器
を使用するにもかかわらず、平均流量がスチーム発生量
にほぼ等しい流量の給水を連続的にに行うことができ、
このために安定した量のスチームを連続的に発生させる
ことができるものであり、このスチームをノズルから噴
射させる場合には、スチームの到達距離が安定するもの
である。
ム発生室に給水するにあたり、断続的に行なうのではな
く、連続的に行なっていることから、スチーム発生室内
の水量が急激に増えて水温が大きく低下するというよう
なことがなく、しかも、連続的給水にあたり、水位セン
サーの低水位検知のオンオフに応じて、スチーム発生量
より少し少ない小流量状態とスチーム発生量より少し多
い中流量状態とに切り換えることから、スチーム式美顔
器や吸入器などに用いるスチーム発生装置であってスチ
ーム発生量がきわめて少ないためにスチーム発生量に相
当する流量の給水を連続的に行うことが困難であるもの
においても、流量調節段階が少なくて簡便な流量調節器
を使用するにもかかわらず、平均流量がスチーム発生量
にほぼ等しい流量の給水を連続的にに行うことができ、
このために安定した量のスチームを連続的に発生させる
ことができるものであり、このスチームをノズルから噴
射させる場合には、スチームの到達距離が安定するもの
である。
第１図は本発明一実施例の断面図、第２図は同上の斜視
図、第３図は同上の補給室及び給水タンクの断面図、第
４図は同上の給水タンクの断面図、第５図は同上の電磁
バルブの断面図、第６図は同上の主要回路図、第７図は
給水量の変化を示す特性図、第８図はスチームの発生量
の変化を示す特性図、第９図は同上の動作を示すフロー
チャートである。 １はスチーム発生室、２は給水タンク、５はヒータ、８
は電磁バルブ、S1は水位センサーである。
図、第３図は同上の補給室及び給水タンクの断面図、第
４図は同上の給水タンクの断面図、第５図は同上の電磁
バルブの断面図、第６図は同上の主要回路図、第７図は
給水量の変化を示す特性図、第８図はスチームの発生量
の変化を示す特性図、第９図は同上の動作を示すフロー
チャートである。 １はスチーム発生室、２は給水タンク、５はヒータ、８
は電磁バルブ、S1は水位センサーである。
Claims (3)
- 【請求項１】加熱用ヒータを備えたスチーム発生室と、
このスチーム発生室に給水する給水タンクと、給水タン
クからスチーム発生室に給水する給水手段と、スチーム
発生室内に設けられた水位センサーとを備えているスチ
ーム発生装置において、上記水位センサーは満水位と低
水位の２状態が検知可能なもので形成され、給水手段は
全開状態と中流量と小流量の３状態が切換可能であり且
つ水位センサーによる満水位検知によって給水量を全開
状態から小流量に切り換え、低水位検知のオンオフに応
じて、スチーム発生量より少し多い中流量状態とスチー
ム発生量より少し少ない小流量状態とに切り換えて連続
的給水を行う流量調節器から成ることを特徴とするスチ
ーム発生装置。 - 【請求項２】流量調節器は電磁バルブあることを特徴と
する特許請求の範囲第１項記載のスチーム発生装置。 - 【請求項３】流量調節器はポンプであることを特徴とす
る特許請求の範囲第１項記載のスチーム発生装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6623986A JPH0726726B2 (ja) | 1986-03-25 | 1986-03-25 | スチ−ム発生装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6623986A JPH0726726B2 (ja) | 1986-03-25 | 1986-03-25 | スチ−ム発生装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62223502A JPS62223502A (ja) | 1987-10-01 |
| JPH0726726B2 true JPH0726726B2 (ja) | 1995-03-29 |
Family
ID=13310106
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6623986A Expired - Fee Related JPH0726726B2 (ja) | 1986-03-25 | 1986-03-25 | スチ−ム発生装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0726726B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2019177417A1 (ko) * | 2018-03-16 | 2019-09-19 | 엘지전자 주식회사 | 공기조화기의 실내기 |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4252607B2 (ja) * | 2006-07-26 | 2009-04-08 | シャープ株式会社 | 蒸気発生装置および加熱調理器 |
| JP2009165639A (ja) * | 2008-01-16 | 2009-07-30 | Panasonic Electric Works Co Ltd | ミスト発生装置 |
| JP2011067254A (ja) * | 2009-09-24 | 2011-04-07 | Panasonic Electric Works Co Ltd | 美容装置 |
| JP2012165848A (ja) * | 2011-02-14 | 2012-09-06 | Pacific Medico Co Ltd | 人工呼吸器用加温加湿装置 |
-
1986
- 1986-03-25 JP JP6623986A patent/JPH0726726B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2019177417A1 (ko) * | 2018-03-16 | 2019-09-19 | 엘지전자 주식회사 | 공기조화기의 실내기 |
| US12215890B2 (en) | 2018-03-16 | 2025-02-04 | Lg Electronics Inc. | Indoor unit for an air conditioner |
| US12313293B2 (en) | 2018-03-16 | 2025-05-27 | Lg Electronics Inc. | Indoor unit for an air conditioner |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS62223502A (ja) | 1987-10-01 |
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Legal Events
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|---|---|---|---|
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