JPH0726812B2 - Minimum pattern width inspection device - Google Patents
Minimum pattern width inspection deviceInfo
- Publication number
- JPH0726812B2 JPH0726812B2 JP1238490A JP23849089A JPH0726812B2 JP H0726812 B2 JPH0726812 B2 JP H0726812B2 JP 1238490 A JP1238490 A JP 1238490A JP 23849089 A JP23849089 A JP 23849089A JP H0726812 B2 JPH0726812 B2 JP H0726812B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pattern
- circular mask
- pattern width
- circuit
- scanning
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Landscapes
- Image Processing (AREA)
- Image Analysis (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Tests Of Electronic Circuits (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は最小パターン幅検査装置に関する。The present invention relates to a minimum pattern width inspection device.
従来の技術としては、例えば、「中島，稲垣，“レーザ
ー光によるプリント配線板用マスク自動検査システム",
精機学会自動組立専門委員会，研究例会,No.82−１講演
前刷,7〜11頁,1982年」に示されるように、限定された
方向の最小パターン幅検査装置がある。As conventional techniques, for example, “Nakajima, Inagaki,“ Automatic mask inspection system for printed wiring boards by laser light ”,
There is a minimum pattern width inspecting device in a limited direction, as shown in "Presentation of No. 82-1 Lecture Preprint, No. 82-1 Lecture Meeting, Technical Assembly of the Seiki Society".
従来の最小パターン幅検査装置について図面を参照して
詳細に説明する。A conventional minimum pattern width inspection device will be described in detail with reference to the drawings.
第３図は従来の一例を示すブロック図である。第３図に
示す最小パターン幅検査装置は、検査対象パターンに対
して、0,45,95,135度の各方向のパターンエッジを検出
し、この検出されたパターンエッジ間の距離を求めてパ
ターン幅不良を検出する。FIG. 3 is a block diagram showing a conventional example. The minimum pattern width inspection device shown in FIG. 3 detects a pattern edge in each direction of 0, 45, 95, 135 degrees with respect to the inspection target pattern, and obtains the distance between the detected pattern edges to detect a pattern width defect. To detect.
上述した従来の最小パターン幅検査装置は、あらかじめ
指定した方向のみのパラーン幅検査が可能であるが、こ
のためには、高精度のテーブルを使用して検査対象パタ
ーンの傾きを補正しなければならないという欠点があっ
た。The above-mentioned conventional minimum pattern width inspection device can inspect the parameter width only in the direction designated in advance, but for this purpose, the inclination of the inspection target pattern must be corrected using a highly accurate table. There was a drawback.
本発明の最小パターン幅検査装置は、 （Ａ）測定対象パターンを光電変換スキャナで走査して
読み出した入力画像を２値化画像に変換する２値化回
路、 （Ｂ）前記２値化回路より出力される２値化画像に、あ
らかじめ設定した直径の円形マスクをラスタースキャン
に同期して走査し、この走査した円形マスクの中心部が
パターン上にあるかどうかを判定する円形マスク走査回
路、 （Ｃ）前記円形マスク走査回路で検出した位置で、前記
円形マスクの向い合う２点がともにパターン上にあり、
かつ、これに直交する２点がパターン上にない場合に最
小パターン幅不良として検出するパターン幅検査回路、 とを含んで構成される。The minimum pattern width inspection apparatus of the present invention comprises: (A) a binarizing circuit that scans a measurement target pattern with a photoelectric conversion scanner and converts an input image read into a binarized image; A circular mask scanning circuit that scans the output binary image with a circular mask having a preset diameter in synchronism with raster scanning, and determines whether or not the center of the scanned circular mask is on the pattern. C) At the position detected by the circular mask scanning circuit, there are two facing points of the circular mask on the pattern,
And a pattern width inspection circuit that detects a minimum pattern width defect when two points orthogonal to this are not on the pattern.
次に、本発明について図面を参照して詳細に説明する。 Next, the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
第１図は本発明の一実施例を示すブロック図である。FIG. 1 is a block diagram showing an embodiment of the present invention.
第１図に示す最小パターン幅検査装置は、 （Ａ）測定対象パターンを光電変換スキャナ１で走査し
て読み出した入力画像２を２値化画像４に変換する２値
化回路３、 （Ｂ）２値化回路３より出力される２値化画像４に、あ
らかじめ設定した直径の円形マスクをラスタースキャン
に同期して走査し、この走査した円形マスク中心部がパ
ターン上にある場合に検査位置検出信号６を出力する円
形マスク走査回路５、 （Ｃ）円形マスク走査回路５で検出した位置で、前記円
形マスクの向い合う２点がともにパターン上にあり、か
つ、これに直交する２点がパターン上にない場合に最小
パターン幅不良として検出信号８を出力するパターン幅
検査回路７、 とを含んで構成される。The minimum pattern width inspection apparatus shown in FIG. 1 is (A) a binarization circuit 3 for converting an input image 2 read by scanning a pattern to be measured with a photoelectric conversion scanner 1 into a binarized image 4, (B). The binary image 4 output from the binary circuit 3 is scanned with a circular mask having a preset diameter in synchronization with the raster scan, and the inspection position is detected when the center of the scanned circular mask is on the pattern. Circular mask scanning circuit 5 that outputs signal 6, (C) At the position detected by circular mask scanning circuit 5, there are two points where the circular masks face each other on the pattern, and two points which are orthogonal to this are the pattern. A pattern width inspection circuit 7 that outputs a detection signal 8 as a minimum pattern width defect if it is not above is formed.
第２図は第１図に示すパターン幅検査回路の動作を説明
するための模式図である。FIG. 2 is a schematic diagram for explaining the operation of the pattern width inspection circuit shown in FIG.
検査位置A12でパターン11に対して、あらかじめ設定し
た直径の円形マスク13を走査すると、円形マスク13の向
い合う２点a,bがともにパターン11上にあり、かつ、こ
れに直交する２点d,eもパターン11上にあるので、パタ
ーン幅不良として検出しない。When the circular mask 13 having a preset diameter is scanned with respect to the pattern 11 at the inspection position A12, the two points a and b facing each other on the circular mask 13 are both on the pattern 11 and the two points d orthogonal to this point. , e are also on the pattern 11, so they are not detected as a pattern width defect.
しかしながら、検査位置B14ではパターン11に対して円
形マスク15を走査すると、円形マスク15の向い合う２点
g,hがともにパターン11上にあり、かつ、これに直交す
る２点j,kはパターン11上にないので、パターン幅不良
として検出する。However, when the circular mask 15 is scanned with respect to the pattern 11 at the inspection position B14, two points facing each other of the circular mask 15 are detected.
Since both g and h are on the pattern 11 and the two points j and k orthogonal thereto are not on the pattern 11, it is detected as a pattern width defect.
本発明の最小パターン幅検査装置は、限定された方向に
対するパターン幅を算出する代りに、あらかじめ設定し
た直径の円形マスクを走査してパターン幅検査を行なっ
ているので、検査対象パターンの傾きを補正することな
く検査ができるという効果がある。Since the minimum pattern width inspection device of the present invention scans the pattern width by scanning a circular mask having a preset diameter instead of calculating the pattern width in a limited direction, the inclination of the inspection target pattern is corrected. There is an effect that inspection can be performed without doing.
第１図は本発明の一実施例を示すブロック図、第２図は
第１図に示すパターン幅検査回路の動作を説明するため
の模式図、第３図は従来の一例を示すブロック図であ
る。 １……光電変換スキャナ、２……入力画像信号、３……
２値化回路、４……２値化画像、５……円形マスク走査
回路、６……位置検出信号、７……パターン幅検査回
路、８……欠陥信号、11……パターン、12……検査位置
Ａ、13……円形マスク、14……検査位置Ｂ、15……円形
マスク。FIG. 1 is a block diagram showing an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a schematic diagram for explaining the operation of the pattern width inspection circuit shown in FIG. 1, and FIG. 3 is a block diagram showing an example of the prior art. is there. 1 ... Photoelectric conversion scanner, 2 ... Input image signal, 3 ...
Binarization circuit, 4 ... Binary image, 5 ... Circular mask scanning circuit, 6 ... Position detection signal, 7 ... Pattern width inspection circuit, 8 ... Defect signal, 11 ... Pattern, 12 ... Inspection position A, 13 ... Circular mask, 14 ... Inspection position B, 15 ... Circular mask.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０５Ｋ 13/08 Ｃ 8315−4Ｅ ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code Internal reference number FI Technical indication H05K 13/08 C 8315-4E
Claims (1)
ナで走査して読み出した入力画像を２値化画像に変換す
る２値化回路、 （Ｂ）前記２値化回路より出力される２値化画像に、あ
らかじめ設定した直径の円形マスクをラスタースキャン
に同期して走査し、この走査した円形マスクの中心部が
パターン上にあるかどうかを判定する円形マスク走査回
路、 （Ｃ）前記円形マスク走査回路で検出した位置で、前記
円形マスクの向い合う２点がともにパターン上にあり、
かつ、これに直交する２点がパターン上にない場合に最
小パターン幅不良として検出するパターン幅検査回路、 とを含むことを特徴とする最小パターン幅検査装置。1. A binarizing circuit for converting an input image read by scanning a pattern to be measured with a photoelectric conversion scanner into a binarized image, and (B) a binary output from the binarizing circuit. A circular mask scanning circuit that scans a circularized image having a preset diameter on the converted image in synchronism with raster scanning, and determines whether the center of the scanned circular mask is on the pattern, (C) the circular mask At the position detected by the scanning circuit, there are two facing points of the circular mask on the pattern,
And a pattern width inspection circuit for detecting a minimum pattern width defect when two points orthogonal to this are not present on the pattern.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1238490A JPH0726812B2 (en) | 1989-09-14 | 1989-09-14 | Minimum pattern width inspection device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1238490A JPH0726812B2 (en) | 1989-09-14 | 1989-09-14 | Minimum pattern width inspection device |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03100402A JPH03100402A (en) | 1991-04-25 |
| JPH0726812B2 true JPH0726812B2 (en) | 1995-03-29 |
Family
ID=17031022
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1238490A Expired - Lifetime JPH0726812B2 (en) | 1989-09-14 | 1989-09-14 | Minimum pattern width inspection device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0726812B2 (en) |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62102104A (en) * | 1985-10-29 | 1987-05-12 | Fujitsu Ltd | Method for detecting defect of printed pattern |
-
1989
- 1989-09-14 JP JP1238490A patent/JPH0726812B2/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH03100402A (en) | 1991-04-25 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPS62220843A (en) | Printed matter inspection equipment | |
| JPH0572961B2 (en) | ||
| JPH0222424B2 (en) | ||
| JP2674320B2 (en) | Minimum pattern interval inspection device | |
| JPH0656293B2 (en) | Defect detection method | |
| JPH0961113A (en) | Label position detecting device | |
| JPH042952A (en) | Apparatus for through hole inspection | |
| JP2822747B2 (en) | Land inspection equipment | |
| JP2525261B2 (en) | Mounted board visual inspection device | |
| JP2821047B2 (en) | Setting method of binarization threshold | |
| JPH05152403A (en) | Inspection apparatus for pattern | |
| JPS6335428B2 (en) | ||
| JPH05242228A (en) | Pattern corner detector | |
| JPH03100402A (en) | Minimum pattern width inspection instrument | |
| JP2943733B2 (en) | Position detection device | |
| JPH05126756A (en) | Printed-board-pattern inspecting apparatus | |
| JP2787851B2 (en) | Pattern feature extraction device | |
| JPH0820374B2 (en) | Pattern inspection equipment | |
| JPH03100404A (en) | Pattern remainder inspection instrument | |
| JPH03100875A (en) | Checking device for pattern fatness | |
| JP3469434B2 (en) | Document detection device | |
| JPS5828653A (en) | Detector for defect on surface of material | |
| JPH02133885A (en) | Inspecting method for pattern | |
| JPH03100874A (en) | Checking device for disconnection of pattern | |
| JPH02190776A (en) | Pattern inspecting device |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080329 Year of fee payment: 13 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090329 Year of fee payment: 14 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090329 Year of fee payment: 14 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100329 Year of fee payment: 15 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term | ||
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100329 Year of fee payment: 15 |