JPH0726895B2 - 低温で生物学的標本を処理するための装置 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は後の顕微鏡、特に電子顕微鏡検査のため低温で
標本、特に生物学的標本を処理する装置に関する。

特に本発明は、低温において生物学的標本を処理（特に
脱水及び／又は重合包埋）する装置であって、 液体窒素を収容する断熱びんのネック部中に配設され
た、前記生物学的標本及び脱水又は包埋用の処理媒体を
収納する容器を有し、該容器は、その上端が該断熱びん
のネック部の上部縁からある距離に配置されて、標本処
理室を形成し、 更に、該容器及び該ネック部の開口の上方に配される絶
縁カバー手段を有すると共に 該容器内に入り込んでいるかくはん装置と、 前記容器の温度を調整するための温度調節装置とを有す
るものに関する。

〔従来の技術〕

顕微鏡、特に電子顕微鏡検査用の生物学的標本は、標本
を急速に安定化するよう増大する範囲で極めて急速に凍
結（ショック凍結）される。その後標本は、常に標本の
90％を越える水分を除去するため脱水処理を受けること
がある。この脱水処理は、標本を低温に温置して標本内
に含まれる水を適当な有機溶剤例えば無水アセトン又は
メタノール又は、他の適当な有機溶液、例えば無水アセ
トン又はメタノールにOsO₄および／または酢酸ウラニル
を入れた溶液と置換することにより行なわれる。この置
換の初期の相を正しく制御することは極めて重要であ
り、この置換は少なくともこの初期の相の間一般に−80
℃以下の温度で行なわれる。−80℃より高い温度を使用
すると、標本の分子構造変化が生じることがあり、この
変化はその後の検査の価値を低下させてしまう。

安全上の理由から、この脱水の初期の相は、一般に−80
℃から−120℃の間の温度範囲内で行われるが、このよ
うな温度は従来の冷凍サーモスタットでは装置に対して
大きな出費をせずに得ることができない。

電子顕微鏡検査法では、個々の容積が0.1mm³から10mm³
の通常１〜10個の組織ブロックを一回の操作で脱水処理
する。これには物体の寸法および所定温度によって３日
〜３週間の時間がかかることがある。この期間の間、温
度は臨界値（これは各標本ごとに決めなければならな
い）を越えてはならない。その理由は、臨界値を越えて
しまうと、標本の分子構造が変化し、その後検査をして
も正常に生きている状態の標本構造について有効な科学
的分析ができなくなってしまうからである。

西独特許公開公報第3,042,578号には標本処理装置が記
載されている。この明細書によれば、容器の頂部と断熱
びん（以下「デュワーびん」とも称する）の頂部リムが
実質的に面一となる脱水および／または包埋（埋込固
定）が行なわれる容器がデュワーびんのネック部内に位
置するよう吊り下げられ、こうして容器内に脱水および
／または包埋用媒体および凍結標本を容易に充填できる
ようになっている。

脱水および包埋処理の間、容器およびデュワーびんは絶
縁カバーにおおわれており、媒体かくはん用のかくはん
器のシャフトおよび温度調節用電気配線だけがこのカバ
ーを貫通している。温度調節は電気調節回路を使って加
熱カートリッジおよび温度センサにより行なわれる。

デュワーびんは液体窒素を含み、約−80℃の最低点まで
の温置温度に対しては液体窒素から連続して沸騰する低
温窒素による冷却で充分である。高さ調節可能であり、
液体窒素に直接金属接触させることにより容器からより
強い熱束を一時的に取出す「コールドフィンガ」により
作業開始時に限り容器の冷却を加速化する。

この公知の装置は、先に使用されていた冷却システムよ
り効率および簡単な構造の点で実質的に優れている。

［発明が解決しようとする問題点］ しかしながら、容器に脱水媒体を充填する間および凍結
標本を充填する間にある問題が生じる。使用される媒体
はすべて極端に吸湿性があり、特に冷却された状態では
湿った室内の空気から極めて急速に水を吸収する。これ
により必要なタイプの低温脱水が不可能となってしま
う。更に導入時に凍結標本は外面が−80℃よりも高い温
度に暖められ、標本の良好に保存された周辺ゾーンで不
可逆的な熱損傷が生じる可能性もある。このゾーンはし
ばしば僅か10μｍの深さであるがその損傷は低温脱水の
効果を劣化させる −120℃またはそれより低い温度で使用される媒体によ
り操作をし、脱水処理後、約−35℃で包埋を行なわなけ
ればならないとき別の問題が生じる。このような包埋の
例は、ロウィクリル（Lowicryl）低温包埋法（カーレマ
ルム等（Carlemalm et al）、J.of Microscopy1982年12
6巻123〜143ページの「電子顕微鏡検査法用樹脂顕色お
よび低温における包埋の解析」を参照）である。容器と
液体窒素との間を金属接続せずに−120℃まで初期冷却
することはできないが、これにより包埋を行うより高い
温度レンジでその後液体窒素の強い沸騰が始まり、この
沸騰は容器の必要な対応加熱により制御できないものと
なる。

更に例えば低温脱水の後に脱水した標本を低温包埋用の
別の室へ移動すると共に低温包埋をするとき媒体を複数
回交換しなければならないが、これによりこの見込みあ
る科学的に興味ある方法がこれまでほとんど採用されな
かったという大きな問題が生じていた。

〔発明の目的〕

よって、本発明の目的は後に顕微鏡、特に電子顕微鏡の
検査のための標本、特に約10mm³より小さい容積を有す
る小型の生物学的標本の低温処理を容易かつ簡略化する
と共にこの目的に適した装置を提供することにある。

本発明は、特に低温媒体を過度に消費することなく−15
0℃と約−30℃との間の温度レンジで標本の導入および
操作および処理媒体の充填および交換を従来よりもより
容易かつより安全に行うことができる装置を提供するこ
とを主眼とする。

［問題点を解決するための手段］ 本発明によれば、上記目的は、冒頭に揚げた種類の低温
処理装置において、標本処理室を試料導入時（カバー開
放時）に十分外気から遮断して予冷却装置に保持すると
共に、標本処理媒体に対しその導入時に外気との接触を
遮断して所定低温へ予冷却する予冷却手段を備えること
により達成される。即ち、試料の低温脱水処理が確実か
つ効果的に行われる。

即ち、本願の第１発明によれば、 前記容器（20、20′、52）の上端（21）が、前記断熱び
んのネック部（１）の上部縁から実質的に下方に配され
たことと、 前記容器において、標本処理室（24、53）の横側に、オ
ーバーフロー部のみを介して該標本処理室と連通された
充填ボア（27、27′）が形成されたことと、 前記容器の充填ボア（27、27′）と整合する充填孔（2
6）並びに前記容器から前記処理媒体を取出すための取
出し孔（32）が、前記カバー手段としてのカバー（11、
11′）に形成されたことと、 充填装置（25a）のカニューレ（25b）がカバーの充填孔
（26）を経て前記容器の充填ボア（27、27′）の底部近
傍まで突入して配設されて、カニューレ（25b）内を流
れる前記処理媒体とその外面上を流れる前記処理媒体と
の間に向流的熱交換を行う予冷却手段を形成する充填装
置（25a）をカバー（11、11′）の上方に取付け可能に
構成したことと、 を特徴とする（以下基本構成という）。

さらに、本願の第２発明によれば、上記の基本構成（但
しかくはん装置は除く）に付加して、下記の装置を用い
ることにより、低温包埋が効果的に行われる。

即ち、低温包埋の目的のために前記容器（20、20′、5
2）の上方において断熱びん（１）に挿入可能なインサ
ート（60、61）を備え、該インサート（60、61）は、標
本（５）又は標本（５）の包埋容器（64）を受入れるた
めの凹部（63）を有すると共に、処理された標本を凹部
（63）又は包埋容器（64）に移行させるための前記容器
（20、20′、52）の標本処理室（24、53）に至る通路を
有することを特徴とする（第２発明の構成）。

この包埋処理は、紫外線照射により包埋剤を重合硬化さ
せて行うのが効果的であり、本願の第３発明により、そ
のための装置が併せて提供される。即ち、本願の上記第
２発明の構成に付加して、前記断熱びん（１）の、前記
カバー手段（11、11′）の下面以下に紫外線照射系（7
0）が配設されたことを特徴とする（第３発明の構
成）。

この包埋処理の作業性を高めるため、本願の第４発明に
よれば照明装置が付加される。即ち、前記本願第２発明
の構成に付加して、容器（20、20′、52）又はインサー
ト（60、61）の照明手段を、断熱びん（１）の外側に配
されたランプ（65）と、容器（20、20′、52）を受容す
るためのチューブ状の保持具（22、22′）中に配設した
揺動自在であり、該ランプ（65）の光を内方へ反射する
ミラー（66）とをもって構成したことを特徴とする。

第１〜第４の発明に共通して明らかな通り、基本構成部
分が基本的に低温脱水処理に役立ち、次いで低温包埋処
理にも共通して役立つものである。

なお、容器の上端は、断熱びんのネック部の上部縁から
少くとも30mm下方の距離に配することがカバー開放時の
外気の影響遮断のために好ましい。

好ましくは標本処理媒体をかくはんするため標本処理室
内まで延長するかくはん器を設け、標本処理室内の標本
処理媒体の温度を調節するための温度調節装置を更に設
けてもよい。

液体冷却剤内に加熱素子を配置でき、前記加熱素子はカ
バーが取外されているとき標本処理室に水が附着するの
を防止すると共にカバーが取外されているとき液体冷却
剤を加熱して蒸発させ、びんの外にガス状冷却剤を流出
し、これにより外部環境からびんの内部への湿った空気
の進入を防止するよう作動できる。このことは、カバー
が取外されているときの霜の附着および標本の暖まりを
防止するのに役立つ。標本処理室をびんの上方リムから
離間させたこともこの効果に寄与する。

本装置は、カバーを上げるよう作動する変位手段（開閉
装置）と、加熱素子作動後所定時間まで変位手段の作動
を防止するようになっている遅延手段とを更に含むこと
ができ、変位手段はスプリングにより負荷がかけられた
往復動ピストンを含み、ピストンの運動を開始させる電
動作動式戻り止めを設け、ピストンの移動速度を制御す
るバルブを設けることができる。

本装置は、更に容器を液体冷却剤から熱シールドするよ
うになっている熱絶縁層と、冷却剤内まで延長する高い
熱伝導率を有する要素と、熱絶縁層を貫通すると共に標
本処理室を該要素に接続する接続部材とを更に含むこと
ができる。

好ましくは接続部材は円筒状チューブ（ないしスリー
ブ）から成り、この円筒状チューブと良好に熱接触する
ようこのチューブ内に円筒状インサート要素が摺動自在
に配置され、熱束を改善するよう円筒状インサート要素
の垂直位置を調節するための調節手段を設けることがで
きる。前記調節手段は例えばスプリング圧に抗して作動
ロッドを移動することによりインサート要素を調節でき
るよう配置されたスプリングおよび作動ロッドから構成
できる。

カバーのびんからの取外しを容易にするよう作動ロッド
は取外し自在にでき、作動ロッドの位置を調節するよう
調節手段を設けることができる。

標本処理媒体供給手段にはカニューレが固定された大径
部を設けることができ、好ましくは標本処理媒体がカニ
ューレに進入する前に標本処理媒体から水を抜き取るた
めのフイルタを前記大径部内に設ける。

一実施態様では標本処理容器に複数個の前記標本処理室
および前記リザーバボアと前記別のリザーバボアの複数
個の対を設け、前記処理室の各々は前記リザーバボアの
うちの一つおよび前記別のリザーバボアのうちの一つと
連通させてもよい。内部に前記標本処理室が回転自在に
配置されたハウジングを設け、標本処理室を所定角だけ
回転すると、リザーバボアおよび追加リザーバボアの一
対はカバー内の孔および追加孔と整合できるようにして
もよい。

液体冷却剤をびん内に導入するための連続したボアを設
け、ボアを閉じるようカバー近くのボアの端に熱絶縁さ
れたプラグを設け、前記ボアがカバーおよび標本処理容
器を貫通するようにしてもよい。

垂直方向に調節可能なシャフトを設け、このシャフトを
垂直方向に調節することによりかくはん器の位置を調節
できるよう前記シャフトはかくはん器に固定される。

好ましくはかくはん器は、シャフトと同軸の回転部材で
あってその上面から下面までシャフトの軸に対して傾斜
して貫通する少なくとも一つのボアを有する回転部材を
含み、かくはん器は標本処理媒体の必要な量を最小とす
るような寸法と形状にされる。

びん内の標本処理容器より上方に配置されるようになっ
ている低温包埋用の取外し自在な包埋用インサートを設
け、この包埋用インサートは標本用の包埋用容器を収容
する凹部を含み、標本を標本処理室から包埋容器まで移
動できるようにする標本処理室までの通路を有してもよ
い。

カバーの下面には紫外線放射器を取外し自在に固定し、
放射器と包埋インサートとの間に紫外線を透過するプレ
ートを設け、プレートと包埋インサートとの間にプレー
トと包埋インサート間の温度を測定して調節するための
温度センサを設けてもよい。

びんの外部にランプを配置し、びんに固定されたブラケ
ット上に枢動自在なミラーを配置し、前記ミラーは第１
位置と第２位置との間で枢動自在にできる。ランプを切
るよう作動できるスイッチング素子を更に設け、好まし
くはミラーが第１位置にあるときミラーはスイッチと係
合してスイッチ素子を作動しランプを切り、ミラーが第
２位置にあるときミラーはランプから包埋インサート上
へ光ビームを偏向できる。

本発明に係る装置では標本が導入された後標本処理室を
外部環境に露出することなく、従って処理媒体を大気と
の接触を断って標本を完全に処理できる。

［従来技術の説明］ 第1A図は、小型の生物学的標本の脱水および／または包
埋用の公知の装置の装置を示す。デュワーびん（即ち断
熱びん）３のネック部１の内部には標本５の脱水および
／または包埋用の標本処理媒体６および標本５を収容す
る標本処理室4aを有する金属容器４が設けられている。
デュワーびん３は、液体窒素２状の液体冷却剤により満
たされている。標本５は容器４内のメッシュ７上に載
り、媒体６によりすべての側面を連続して洗浄するが如
くにして脱水処理するようになっている。このメッシュ
７は、標本処理室4a内に標本５を支持するよう役立つ。

媒体６は、シャフト９をモータ８により駆動されるかく
はん器10により循環される。

容器４は、脱水および／または包埋中はカバー11により
閉じられるが、標本５および／または媒体６の導入中お
よび媒体６を交換するときは一時的に開けなければなら
ない。

容器４は、液体窒素２の上方のガス状窒素内に配置さ
れ、液体窒素に直接接触することはない。平衡状態のと
き、容器４は約−80℃の領域内の最低温度に達するがこ
の最低温度はデュワーびん３内の液体窒素２の上方表面
高さＨと共に変わる。この容器４の温度は、この平衡値
より上の一定値（定常操作中）に維持できる。又上記方
法とは別に温度調節装置14に接続された温度センサ13お
よび加熱カートリッジ12により温度−時間制御系として
温度を再現自在に変えることができる。

容器４と液体窒素２との間には放射シールドプレート15
が設けられている。例えば−50℃を越えるレンジ内の高
温を使用するとき、この放射シールドプレート15は液体
窒素２のより強い沸騰を防止する。

容器４と液体窒素２との間を金属により導熱自在に接続
すると実に低い温度が得られる。これは、例えばアルミ
製の円筒ロッド16を液体窒素２内に挿入することにより
行なわれる。達成できる最低温度は容器４の底部と液体
窒素２の上面レベルとの間の距離Ａとに大幅に依存して
変化するが、この距離Ａは高さＨの関数となっている。

第1B図は複数の標本５を同時に温置するのに適した装置
を示す。第1B図において、容器４′には複数の標本処理
室17が設けられ、各処理室17は実質的に円筒状で複数の
積み重ねられた小型標本容器18を収容できるようになっ
ている。小型標本容器18の各々の底部にはメッシュ７′
が設けられ、このメッシュ上に標本５を置き、支持す
る。小型容器18の各積層体はメッシュ７′を有するカバ
ー19によりカバーされ、このためかくはん器が高速回転
されているときでも最上方の標本容器18内に収容された
標本５が容器４′より外へ流出されることはない。

［好ましい実施態様の説明］ 第２〜７図は本発明に係る装置の実施態様を示す。第２
〜７図内の多数の部品は第1A図、第1B図に示されている
部品に類似するが、同じ部品には同一参照番号が付けて
ある。

第２図に示す装置には標本処理容器20が設けられ、この
容器20は第1A,1B図に示された容器４および４′と同様
にデュワーびん３のネック部１内に配置されている。こ
のデュワーびん３には液体窒素２が満たされており、容
器20には円筒状の標本処理室24が設けられている。容器
20の最上方部分21は、デュワーびん３のネック部１の頂
部リム部（即ち上端）より少なくとも30mm（第２図では
Ｄと表示）下方に配置され、肉薄チューブ22によりネッ
ク部１内に維持され、チューブ22は例えばステンレスス
チールから構成できる。このチューブ22にはリング状に
配した小孔23が設けられている。

この装置には媒体６を標本処理室24内に入れる前に標本
処理媒体６を予冷却するための予冷却手段が設けられて
いる。この予冷却手段は、ボア27の形状をしたリザーバ
とカニューレ手段25b内の送り手段とから成り、カニュ
ーレの一端をボア27内に貫入してボア27の底部に隣接さ
せている。ボア27に貫入した端部と反対側のカニューレ
25bの端部は充填シリンダ25aの形状をした標本処理媒体
供給手段（充填装置）と連通する。

ボア27の頂部リムは標本処理室24に対してオーバーフロ
ー部27aを形成する。ボア27と反対側にて容器20内に設
けられた別のボア31状の別のリザーバは、その下方部分
が標本処理室24と連通している。

デュワーびんのネック部１はカバー11′により閉じら
れ、カバーには孔26および32が設けられている。孔26は
ボア27と整合し、取出し孔32はボア31と整合している。
カニューレ25bは孔26を貫通し、第２カニューレ30から
成る排出手段が孔32を通ってボア31内に延長している。

第２図に示す装置が作動する前は、ボア27、31および標
本処理室24には標本処理媒体６が充填されず、かつデュ
ワーびん３にも液体窒素は充填されない。カバー11′を
取外し、デュワーびんのネック部１を通してチューブ状
保持具（以下「チューブ」という）22内に液体窒素２を
注入すると、液体窒素は容器20およびチューブを冷却し
これを満たし、次に孔23を通ってデュワーびん３内に流
入する。容器20およびチューブ22は最初は孔23の高さま
で液体窒素２が充填されたままで、小型容器（図示せ
ず）を使ってこの中に例えば脱水処理のため凍結した標
本５を安全に入れることができる。チューブ22内の液体
窒素２の液位より下方にある処理室24内のメッシュ７上
に標本５を置く。次にカバー11′を閉じ、温度調節装置
14、温度センサ13および加熱カートリッジ12を使って液
体窒素２を容器20およびチューブ22の外へ蒸発させる。
このとき容器20は処理のため予め選択した温度に暖める
ことができる。この温度に達した後、室温になっている
標本処理媒体６を充填シリンダ25a内に注入する。充填
シリンダ25aからカニューレ25bを通ってボア27へ標本処
理媒体６が流れる。

ボア27およびカニューレ25bは、これらボア27およびカ
ニューレ25bを通って流れる標本処理媒体６が液体窒素
２により冷却されかつ標本処理媒体６がボア27からオー
バーフロー部27aを通って標本処理室24に流れる標本処
理媒体６と向流状態で熱交換するようカニューレ25bを
流れるよう配置されている。カニューレ25bの内径およ
びボア27の内径は、標本処理媒体６がゆっくりと流れ、
ボア27内の向流移動中に容器20の所定温度まで冷却さ
れ、この温度に達した後に限り標本処理室24内にオーバ
ーフローするように設定される。全標本処理媒体６の熱
容量は、予冷却された容器20の熱容量の５％より少ない
ので、容器20は標本処理媒体６の冷却中は若干暖められ
るだけである。

シリンダ25a内の介在フィルタ29上には分子ふるい28が
配置され、このため例えば後で元素分析をするとき等、
必要であれば完全に無水状にて標本処理媒体６を提供で
きる。

媒体６を交換するには、カバー11′を開けることなく、
容器内のボア31および第２カニューレ30を通して標本処
理室24から媒体６を吸い出すことができる。従ったカバ
ー11′を外すことなくすべての処理を行うことができ
る。例えば、ロウィクリル（Lowicryl）モノマー包埋前
のアセトン／OsO₄又はメタノール／OsO₄／酢酸ウラニル
内での通常の極低温置換の場合、カバー11′を開けるこ
となく更に第1A、1B図に示す従来タイプの装置で生じる
ような水の附着および／または標本５の制御できない加
熱の危険なく処理の全工程を実行できる。

液体窒素２から連続して蒸発されるガス状窒素は孔23を
通過してチューブ22の内部に進入するので、容器20の上
方の空間を低温に維持する。

第３図に示す実施態様は、脱水された標本５の抜き取り
および新しい凍結標本を充填するため装置を繰返しおよ
びルーチンで開けることを可能にするものである。メタ
ノール／OsO₄の置換は６時間以内に行うことができ、こ
の実施態様は一日がかりの作業が必要なときに特に適
す。

この実施態様では、カバー11′が開いているときデュワ
ーびんのネック部１への湿った室内の空気の進入および
容器20およびチューブ22への霜の附着を防止できるよう
容器20の上方にあるデッドスペースには熱絶縁材料のプ
ラグ33が充填されている。このプラグ33は任意の態様で
カバー11′に接続され、カバー11′に連動するようにな
っている。

液体窒素２内に配置された加熱カートリッジ34は蒸発器
として作動する。

加熱カートリッジ34がスイッチオンされると液体窒素２
は加熱カートリッジ12により加熱され、多量の液体窒素
が蒸発する。この蒸発したガス状の窒素はチューブ22の
孔23を通過して、カバー11′が上がっているときプラグ
33によりからになった空間を満たす。これにより湿った
室内空気の進入が防止される。更に容器に凍結標本５を
充填するときに不活性の乾燥した低温ガスふん囲気をも
保証する。カバー11′を外す前に加熱カートリッジ34を
ONに切換えて、カバー11′を取外す前にチューブ22にガ
ス状窒素を充填すると最良の結果を得ることができる。

カバー11′は取外して手で交換できる。しかしながらカ
バー11′を最低速度で自動的に上げるようカバーを機械
的に取外すよう作動することが好ましい。これを達成す
る他の方法は、開閉装置例えばサーボモータを使うこと
である。これとは別に第３図に示される機械式装置を使
用することもできる。このシステムは、中空柱35状の変
位手段から成り、この柱は詳細に示してない方法でデュ
ワーびん３に隣接して取付けられる。この変位手段は、
中空柱35内に摺動自在に配置されたシャンク36も含み、
シャンク36の外面は中空柱35の内面と液密に係合するの
で、ヨーク36aによりカバー11′に接続されたピストン
装置が得られる。このヨーク36aはシャンク36にボルト
締めされ、予め張力を加えられた圧縮スプリング38によ
り上方に付勢される。シャンク36は戻り止め37によりカ
バー11′の閉じた状態に対応する位置に維持される。中
空柱35のベースにはバルブ39が設けられ、スロットルオ
リフィスを介して中空柱35の内部に空気が流入できるよ
うにしている。

戻り止め37を解放すると、摺動自在なシャンク36はヨー
ク36aおよびカバー11′と共にスプリング38により上昇
される。バルブ39は、シャンク36の上昇ストロークの間
中空柱35の内部への空気の低速導入を可能とするので、
カバー11′はゆっくりと上昇される。カバー11′の次の
降下の間バルブ39は中空柱35から再び高速で空気を出す
ことを可能にする。

加熱カートリッジ34および自動カバー上昇機構を制御す
るための電子システム40を設けることができる。この電
子システム40は開放ボタン41を含む。このボタン41を押
すと、電子システム40を通して加熱カートリッジ34がオ
ンされ、一定の時間遅延の後、戻り止め37が電気的に傾
けられる。こうしてオペレータの介入なしに加熱カート
リッジ34のスイッチオン後の必要な遅延後カバー11′は
自動的に上昇する。この電子システム40は、遅延時間を
予め選択できる遅延手段を含む。

カバー11′内の孔26および32もプラグ33内を貫通し、こ
のため上で既に述べたと同じように媒体６の充填および
交換を行うことができる。

第４図に示す実施態様は、極めて低温又は高温の温置温
度で標本を処理するのに特に適するが、このような温置
温度は、−120℃で極低温置換をし、次に−30℃で低温
温置する場合の単一操作の際に必要となることが多い。
−120℃近傍での所望の低温を得るには液体窒素２に金
属接触することが必要である。更に約−30℃の高温を得
るには液体窒素２と標本処理器20′との間の熱絶縁を極
めて良好にすることが必要である。

これらの要件に合わせるには、容器20′の少なくとも下
方の半分は、例えばポリウレタンの硬質発泡体から成る
熱絶縁層42により液体窒素２に対して熱絶縁する。容器
20′のボア20a内に係止された肉薄の金属スリーブ43を
含む接続部材は絶縁層42を通って大きな金属部材44の対
応するボア44a内へ突入し、容器20′と大きな金属部材4
4とを金属接触させている。

大金属部材44は良好な熱伝導率を有する材料（例えばア
ルミ）から構成され、部材44の全材料はデュワーびん３
内の液体窒素の充填高さとは無関係に液体窒素２のほぼ
沸点になっている。容器20′の温度は、長さＬ、横断面
積およびスリーブの熱伝導率によって変わる。

容器20′の温度は、例えば金属結合部を成すスリーブ43
にすべり込ませることができる管状挿入部品（図示せ
ず）により所定の値に調節できる。冷却システムはこの
ように大きな出費を必要とせずに異なる作動条件に合わ
せることができる。

第４図は、装置を開放することなく処理中に容器20′の
温度を所定値まで調節する別の方法を示す。このため接
続部材は、更にスリーブ43の金属内壁に密に嵌合される
ようスリーブ43内に摺動自在に配置された円筒状挿入部
品45を含む。この部品45はスプリング46とロッドないし
チューブ47から成る調節手段に上下に移動できる。この
部品45は、ロッドすなわちチューブ47により部品45のベ
ースと金属部材44のボアのベースとの間に配置された圧
縮スプリング46の押圧力に抗して上下に移動自在であ
る。第4A図はこのような挿入部品45内の円筒状孔48を示
すが、この孔により容器22′から金属部材44への熱損失
を極めて正確に変えることができる。

挿入部品45の上下運動は、手で行うことができるが、第
４図はこの運動を行うための機械式調節手段を示す。こ
の調節手段は歯付きホイール50と、ロッドないしチュー
ブ47に係合するラック51′から成るラック伝達器を含
む。歯付きホイール50はモータ49により駆動され、歯付
きホイール50が一方向に回転するとラック51が上方に移
動し、歯付きホイール50が逆方向に回転するとラック5
1′が下方向に移動するよう歯付きホイール50の歯はラ
ック51′の歯と係合している。

温度センサ13および加熱素子12に接続された調節ユニッ
ト52′は、液体窒素消費量が容器20′からの熱損失を調
節することにより最小にできるようにモータ49にも接続
されている。ロッドないしチューブ47の上下運動は、温
度センサ13により測定される容器20′の温度の関数とし
て制御される。

第5A,5B図は同一装置で複数の標本を同時に処理できる
実施態様を示す。この装置は、異なる数の標本を容易に
処理できるようになっている。

上述のように10mm³より小さい容積の小型標本は、低温
で脱水又は包埋処理するとき通常少数で処理される。本
例では、一つの操作で数個のブロックしか脱水および包
埋しないことが通常である。脱水媒体への添加剤として
高濃度で使用されることが多いOsO₄の高価なことを考え
ると、できるだけ少量の液体で処理することが好まし
い。しかしながら、特定時の処理に必要な標本の数はか
なり変化する傾向がある。

第5A、5B図に示される実施態様は、これら変化する要件
に合致できるものである。標本処理容器52は円筒状の構
造体であり、金属ハウジング部分51内の垂直軸Ａ−Ａを
中心にして回転自在に配置されている。容器52の軸Ａ−
Ａはハウジング部分51の中心軸Ｂ−Ｂに対して平行で、
長さＥだけ偏心している。容器52およびデュワーびんの
ネック部をカバーするカバーは第5A,5B図には示されて
いないが、媒体６を導入、排出しかつかくはん器９のた
め第２図で説明した孔が設けられている。

容器52にはハウジングチューブ53が設けてあり、このチ
ューブは標本処理室として作用する。このハウジングチ
ューブ53はオーバーフロー部を介して充填ボア27と連通
し、ハウジングチューブ53の軸Ｂ−Ｂは容器52の回転軸
Ａ−Ａから間隔Ｅだけ離れている。

３つの相互に連通するチューブ54、55および56から成る
チューブシステムは、チューブ53の軸Ａ−Ａの逆の側に
配置され、チューブ54、55および56の中心チューブ55は
軸Ａ−Ａから距離Ｅの所に配置されている。チューブ5
4、55および56は、充填ボア27′および排出ボア31′と
連通し、チューブ54、55および56は充填ボア27′を介し
て媒体６を充填できる。

媒体６は、先に述べた実施態様と同じようにカバーを開
放することなくボア31を介してハウジングチューブ53よ
り又ボア31′を介してチューブ54、55および56より排出
できる。

容器52の下方端面には、２つの互に対向するボア52aお
よび52bが設けられている。一時にボア52aおよび52bの
一方が戻り止め手段57と協働するが、この戻り止め手段
57は容器52の回転位置を固定するようハウシング部分51
の底部中に延長している。この戻り止め手段57は例えば
ボルトでよい。

戻り止め手段57が引込んだ後、軸Ａ−Ａを中心として18
0°だけ容器52を回転できる。これによりハウジングチ
ューブ53は第5A図の位置から外へ移動し、チューブ54、
55および56のチューブ55をハウジング部分51の中心（す
なわちＢ−Ｂ軸上）へ移動する。

次に容器22が第5A,5B図に示す位置にあるとき一つのハ
ウジングチューブ53の漬積しているかくはん器のシャフ
ト９を有するかくはん器10をチューブ55、56および57の
うちの中心チューブ55内に浸漬することができる。同様
に充填ボア27および排出ボア31をカバー内の対応する孔
と整合しないよう移動し、ボア27′および31′を移動
し、カバー内の対応する孔に整合するよう移動する。ボ
ア27および31は、ボア27′および31′と鏡像対称に配置
されるので、軸Ａ・Ａのまわりを180°回転した後は、
容器52を180°回転する前のハウジングチューブ53の充
填排出と同じカバー内の孔を通してチューブ54、55およ
び56の充填排出をすることができる。容器52のそれぞれ
の正しい位置は、戻り止め手段57を容器52の対応するボ
ア52aおよび52bに係合させることにより保証される。

第5A,5B図に示す装置によれば、ハウジングチューブ53
だけを使って少数個の標本を処理できるが、一方チュー
ブ54,55および56を使用すれば多数の標本を処理でき
る。

第5A,5B図では連続垂直ボア58はカバー11′、プラグ3
3′、金属ハウジング部分51およびこのハウジング部分5
1を囲む熱絶縁層42′を貫通する。ボア58はカバー11′
の表面上の熱絶縁されたプラグ83により閉じられてお
り、金属チューブで補強することが好ましい。カバー1
1′の表面内の熱絶縁プラグが開いているとき、新しい
液体窒素２をデュワーびん３内に導入するためのチュー
ブ59をボア58内に摺動して入れることができるので、必
要なときに行なっている処理プロセスを中断することな
くデュワーびん３を液体窒素２で一杯に満たすことがで
きる。この満杯化は、後にアルカリ又はアルカリ土類金
属の水溶性イオンの元素分析をするため非極性疎水性媒
体（例えばエーテル又はクロロフオルム）によって置換
する場合特に有効である。これら媒体とH₂O分子との間
の親和度は低いので、このような交換プロセスは数週間
を要することが多く、上記のような態様により可能とな
った液体窒素２による満杯化をすることなく完了するこ
とはできない。

上述のように数個の標本５しか置換しない場合、コスト
を最小にするため高価な材料、例えばOsO₄を含む媒体６
の量をできるだけ少なくしなければならない、第６図に
示す実施態様は、特にこの要件を満たす上で適してい
る。第６図に示す実施態様は第５図に示す実施態様の改
良例であり、同一部品には同一の参照番号を付けた。第
６図に示す実施態様では、容器52のハウジングチューブ
53内の液柱の高さＪをできるだけ低く維持できる。この
高さＪは、積み重ねた容器およびカバー19の高さおよび
／または数に正しく合わせることができる。

これを行うには、かくはん器10′の垂直位置を調節でき
ることが重要である。更にカバー11′を開けることなく
装置の外部からかくはん器10′の垂直位置を調節できる
ことおよびかくはん器10′の幾何学的形状が交換に直接
必要でないデッドスペースを制限することも重要であ
る。この目的のためかくはん器のシャフト９′はスリー
ブ73内で垂直方向に上下に摺動可能であり、クランプ装
置により所望の垂直位置に固定できるようになってい
る。このクランプ装置は例えばコレット74を含むことが
できる。かくはん器のシャフト９′は、スリーブ73と係
合する伝達器を介してモータ８′により駆動される。

第6A図はかくはん器（回転体）10′の構造をより詳細に
示す。デッドスペースを減らしかつかくはん器10′の安
定性を高くするには、かくはん器は通常のようにプロペ
ラのように構成せず、周辺が閉じた回転部品として構成
され、その回転部品の径d₁、d₂は小型標本容器18および
／または標本容器18用カバー19の対応する径D₁,D₂に合
うようになっている。同様にして、かくはん器10′から
下方に突出するラグの高さｈはコレット74を解放したと
き、シャフト９′を介して外部からかくはん器10′を安
全に押し下げ、カバー19と機械的に接触できるような寸
法になっている。この接触の後、媒体６内でかくはん器
10′が自由に回転する短い距離だけ、シャフトを視覚可
能に（例えば目で見ながら）上昇させることができる。
容器18及びかくはん器10′の幾何学的形状は、数個の標
本５だけを１つの容器18内で置換している場合、本実施
態様では置換のために約2mlの液体量が充分となるよ
う、経験的に適当に合わされ、最適化される。

かくはん器10′を形成するディスク内の傾斜ボア75によ
り、媒体６の対流が発生する。各ボア75の軸は、かくは
ん器のシャフト９′の軸に対して所定角をなすよう配列
されている。

第５図及び第６図の実施態様では、媒体６が循環できる
ようにチューブ53の長さに沿って延長する深さｂの溝
が、ハウジングチューブ53の側面にフライス加工されて
いる。

低温脱水の後、直接低温包埋（例えばロウィクリル）を
行わなければならないことが多い。本発明に係わる装置
は第７図に示すようなこの目的のために、すぐに構成し
て適合できる。

容器20′及びチューブ22により境界の定められたスペー
ス内にカップ状のインサート60を挿入できる。このイン
サート60は金属性でよく、容器20′の所定温度に実質的
に等しくなるよう、容器20′の表面との間で良好な熱接
触をする。インサート60内に収容されている別のインサ
ート61の表面には、凹部63が設けられておりこの凹部は
標本５を直接収容するか又は包埋容器64を収容するよう
働く。包埋容器64は、例えばゼラチン又はポリエチレン
製のカプセルにすることができ、標本５をこれら容器64
内に入れてもよい。

低温包埋用のモノマー出発物質（モノマー調剤）６′は
凹部63に直接充填されるか又は標本５の上の包埋容器64
内に充填される。第７図から明らかなように、インサー
ト60及び61の双方には中心通路が設けられているが、こ
の通路は容器20′の標本室24へのアクセスを可能とし、
温置された標本５の標本室24からの取出し及びそれらの
凹部63への移動及び／又はデュワーびんのネック部内の
包埋容器64への移動を容易とする。

実際はデュワーびんのネック部１の口径が比較的狭いた
め適当な照明ができないのでこれらの操作はある問題を
生じさせる。この問題を解決するため、第７図に示され
る実施態様にはデュワーびんのネック部１の外に配置さ
れた光源65により照明がされる。この光源は従来手段に
よりネック部１に固定できる。

チューブ22′の上端は開口81が設けられた環状取付部80
に接続されている。ミラー66はほぼ水平軸のまわりを枢
動できるように、開口81に取付けられる。光源65と開口
81内のミラー66との間には熱阻止フィルター67が配置さ
れているが、このフィルターは光源65の赤外線成分を実
質的に除去するようになっている。ミラー66は光源65の
光をインサート60及び61の情報の作動スペース内にビー
ム状に投射できる。このミラー66はネック部１の一方の
側に配置されており準備操作、例えば標本５の室25への
導入、標本５の小型容器18への充填、又は標本５の63又
は包埋容器64への移動を妨害することは全くない。

カバー11′及び熱絶縁されたプラグ33′（第７図には図
示されず）が閉じられる時、ミラー66は点線で表示され
る休止位置66′に自動的に枢動して戻る。照明を自動的
に切るようマイクロ接点68が設けられている。ミラー66
が、休止位置66′にあるときは、マイクロ接点68は休止
位置に押圧され、これにより光源は切られる。

標本５及びモノマー調剤６′又は包埋容器64の導入後、
紫外線による重合ができるようにカバー11′のかわり
に、紫外線放射器70を有する取付具69をデュワーびんの
ネック部１又はチューブ22′の頂端部に取付けてもよ
い。この重合室は取付具69、チューブ22及びインサート
60及び61により境界が定められている。必要であれば重
合室の上方端は、温度センサー72が設けられた石英ガラ
スプレート71により閉じてもよい。温度センサー72は温
度調節装置（図示せず）と共に石英ガラスプレート71の
下方にある重合室内の重合温度を一定に維持することを
可能とする。温度センサー72は容器20の温度を測定して
いる温度センサー13と置き換えたものであるので、調節
用に設けられた調節装置も交換しなければならない。

インサート60は熱伝導率が良好な金属から構成されてい
るが、一方、インサート60は非付着性材料、例えばシリ
コーンゴム又はフッ素樹脂から構成され、かつ、各処理
の特殊用件に容易に合わせることができる。

第２図〜第７図までを参照して説明した装置は改善又は
変更できる。

例えば、加熱素子、温度センサーおよび温度調節器の特
定の形式は重要でなく、それらの装置内の設置位置も条
件に従って変えることができる。

更に、第５図に示した原理は多数の異なる方法で具体化
できる。充填ボア27及び排出ボア31を別に選択した対称
形にした場合、標本を収容するのに適したチューブシス
テムは180°の回転でなくて120°又は90°回転するだけ
でかくはん器のシャフト９の軸に対応する中心軸Ｂ−Ｂ
まで移動できる。媒体６が充填されるが直接、温置プロ
セスには役立たない装置の全スペースの容積はできるだ
け小さくしなければならない。このことは、例えば第２
図に関連して説明した向流状態での熱交換効果が生じる
ように、径を充分に小さくしなければならない充填ボア
27又は27′及び媒体６の適当な循環のため充分大きい幅
Ｂの溝（第5a及び第６図に示される）にあてはまる。

［発明の効果］ 本発明によれば、生物学的標本の低温処理（特に脱水、
凍結、包埋安定化ないし固定化処理）が、容易かつ簡単
にかつ確実になされる。特に標本処理室をカバー開放時
に外気から遮断して所定温度に予冷却保持すると共に、
処理媒体（特に脱水処理用の高吸湿性のもの）を外気と
の接触から完全に遮断してしかも、迅速に予冷却しつつ
導入できる。

本願第１発明の基本構成において、この予冷却は、即ち
処理媒体を処理室に導入する際に予冷却する手段を媒体
の充填装置とこれに対応する標本処理室の組合せにおい
て設けたこと、及び、標本処理室を成す容器の上端を断
熱びんのネック部上部端から（好ましくは30mm以上）実
質的に下に配置することによって、達成される。

即ち、カバーを開けて処理試料を装入する際、断熱びん
中の液体窒素（冷却媒体）の気化ガスによって標本処理
室を充満して外気の流入を防いで、所定の予冷却温度に
保持でき、カバー密閉後、処理媒体を十分熱交換可能な
向流方式下で予冷却しつつ容器内へ導入できる。

その結果、例えば、−150℃〜−30℃の間のレンジで標
本の導入、処理操作が処理媒体の充填、交換を繰り返す
必要のある場合にも、従来よりも簡易かつ確実に、不首
尾の場合の解凍によって標本の表面を害うこともなく、
また低温冷却媒体（液化窒素等）の消費を最低限に抑え
て、行うことができる。

さらに、本願の第２〜４発明によれば、上記の第１発明
の脱水処理（包埋処理の先行段をなす）に続き、包埋処
理を所定の低温に保ちつつ容易かつ迅速に、しかも簡単
な構造の装置によって、一連に行うことができる。

即ち、第２発明によれば、中央に連通孔を有し上面に凹
部を備えたインサートを用いて、脱水処理された標本を
昇温なく迅速に包埋処理することができる。

第３発明によれば、カバー手段の下面に紫外線照射系を
配することによって、包埋剤の紫外線重合硬化が、低温
のままできる。

第４発明によれば、これらの包埋処理の際照明装置によ
って照明下で確実に取扱うことができる。

【図面の簡単な説明】

第1A図および第1B図は、低温における標本の脱水および
／または包埋用液体／ガス状窒素冷凍システムを有する
従来技術の装置の２つの異なる実施態様を示す略側面
図、第1C図は第1B図の1c-1c線に沿った断面図、第1D図
は第1B図に示した標本容器の積層体を拡大して示す軸方
向断面図、第２図は本発明に係る装置の第１実施態様の
略側断面図、第３図は本発明に係る装置の第２実施例を
示す略側断面図、第４図は本発明に係る装置の第３実施
態様を示す略側断面図、第4A図は第４図に示したインサ
ート部品の部分断面図、第5A図および第5B図は、それぞ
れ本発明に係る装置の第４実施態様の一部を第２〜４図
の装置よりも拡大して示す略平面および略側断面、第６
図は本発明に係る装置の一部の第５実施態様の略側断面
図、第6A図は第６図に示したかくはん器および関連標本
容器の平面図および側面図、第７図は重合包埋用手段が
標本容器の上方に配置された本発明に係る装置の一部を
示す略側断面図である。 ２……液体窒素 ３……デュワーびん（断熱びん） ４……容器 4a……標本処理室 ５……標本 ６……媒体

Claims (22)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】後の顕微鏡検査のために低温において生物
   学的標本を処理する装置であって、 液体窒素を収容する断熱びんのネック部中に配設され
   た、前記生物学的標本及び脱水又は包埋用の処理媒体を
   収納する容器を有し、該容器は、その上端が該断熱びん
   のネック部の上部縁からある距離に配置されて、標本処
   理室を形成し、 更に、該容器及び該ネック部の開口の上方に配される絶
   縁カバー手段を有すると共に 該容器中に入り込んでいるかくはん装置と、 前記容器の温度を調整するための温度調節装置とを付設
   可能とするものにおいて、 前記容器（20、20′、52）の上端（21）が、前記断熱び
   んのネック部（１）の上部縁から実質的に下方に配され
   たことと、 前記容器において、標本処理室（24、53）の横側に、オ
   ーバーフロー部のみを介して該標本処理室と連通された
   充填ボア（27、27′）が形成されたことと、 前記容器の充填ボア（27、27′）と整合する充填孔（2
   6）並びに前記容器から前記処理媒体を取出すための取
   出し孔（32）が、前記カバー手段としてのカバー（11、
   11′）に形成されたことと、 充填装置（25a）のカニューレ（25b）がカバーの充填孔
   （26）を経て前記容器の充填ボア（27、27′）の底部近
   傍まで突入して配設されて、カニューレ（25b）内を流
   れる前記処理媒体とその外面上を流れる前記処理媒体と
   の間に向流的熱交換を行う予冷却手段を形成する充填装
   置（25a）をカバー（11、11′）の上方に取付け可能に
   構成したことと、 を特徴とする装置。
2. 【請求項２】前記容器の上端（21）が、前記断熱びんの
   ネック部（１）の上部縁から少くとも30mm下方の距離に
   配されたことを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の
   装置。
3. 【請求項３】前記カバー（11、11′）が熱絶縁材料製の
   プラグ（33、33′）を固着して構成され、このプラグ
   が、カバー（11、11′）の下面と容器（20、20′、52）
   の上端（21）との間のスペースをほぼ完全に満たすこと
   を特徴とする特許請求の範囲第１項又は第２項記載の装
   置。
4. 【請求項４】前記温度調節装置の一環として断熱ビン
   （３）中の液体窒素の液面の下方に加熱体（34）を配設
   したことと、 カバーを開放した際に容器（20、20′、52）に水が沈澱
   しないようにするために、加熱体（34）を加熱可能と
   し、 その際に窒素が余分に蒸発することによって、冷たい乾
   燥窒素ガス流を生じ、このガス流が容器に沿って流れ、
   断熱びんのネック部（１）に湿った空気が流入すること
   を阻止するようにしたことを特徴とする特許請求の範囲
   第１〜３のいずれか一に記載の装置。
5. 【請求項５】前記カバー手段は、カバー（11、11′）を
   上昇するための開閉装置（35、36）を備え、該開閉装置
   （35、36）は、加熱体（34）をオンにした後所定時間経
   過の後にのみ作動されうることを特徴とする特許請求の
   範囲第４項記載の装置。
6. 【請求項６】前記開閉装置が、ばね（38）によって付勢
   されたピストンを備え、ピストンの運動開始を制御する
   戻り止め（37）を備え、運動速度を制御するバルブ（3
   9）を有する特許請求の範囲第５項記載の装置。
7. 【請求項７】前記容器（20′、51、52）は、その下面を
   覆う熱絶縁層（42、42′）を備えると共に、 該容器下部に液体窒素中に入り込む熱伝導性の良好な金
   属部材（44）を備え、 該容器（20′、51、52）が、該熱絶縁層（42、42′）を
   貫通する金属結合部（43）を介してこの金属部材（44）
   と一体化されて温度調節装置を構成することを特徴とす
   る特許請求の範囲第１〜６項のいずれか一に記載の装
   置。
8. 【請求項８】前記容器（20′）とその前記金属部材（4
   4）との間の前記金属結合部（43）が、垂直に配置され
   た円筒チューブによって形成され、このチューブの内部
   に、円筒状もしくは中空円筒状の挿入部品（45）が挿入
   可能となっており、 挿入部品（45）は、該チューブの壁と良好な熱接触に保
   たれ、挿入部品（45）によって、金属結合部（43）の断
   面が、チューブの全長又はその一部について可変とされ
   ることを特徴とする特許請求の範囲第７項記載の装置。
9. 【請求項９】前記金属結合部（43）を成す円筒状チュー
   ブ中の円筒状又は中空円筒状の挿入部品（45）の高さ位
   置が、熱束を変更する目的のために、スプリング（46）
   の圧力に抗して、操作ロッド（47）を介して外部から可
   変とされることを特徴とする特許請求の範囲第８項記載
   の装置。
10. 【請求項１０】カバー（11、11′）の開放を可能とする
    ように操作ロッド（47）を構成したことを特徴とする特
    許請求の範囲第９項記載の装置。
11. 【請求項１１】前記温度調節装置の一環としての加熱素
    子（12）による加熱の強さ、従って窒素の消費、が最小
    に保たれるように、制御回路（12、13、52′）により、
    サーボモーター及び適宜の伝達要素（50、51′）を介し
    て操作ロッド（47）を制御可能としたことを特徴とする
    特許請求の範囲第９項又は第10項記載の装置。
12. 【請求項１２】前記充填装置（25a）が大開口の充填要
    素を含み、この充填要素にカニューレ（25b）が固着し
    てあり、 カニューレ（25b）との接続口の上流において、該充填
    要素が、媒体（６）から水を抽出するためのフィルター
    （28）を備えていることを特徴とする特許請求の範囲第
    １〜９項のいずれか一に記載の装置。
13. 【請求項１３】前記容器（52）が複数の標本処理室（5
    3、54〜56）並びに充填ボア及び排出ボア（27、31;2
    7′、31′）を対応して適合された液量においていろい
    ろの量の標本を培養するために備えており、 該容器（52）は、ハウジング部分（51）中に回動可能に
    配設され、該容器（52）が所定の角度回動された時に、
    １対の充填ボア及び排出ボア（27、31;27′、31′）、
    並びに、媒体（６）を充填したり排出したりするための
    開口（26、32）ないしはかくはん機構（９、10;9′、1
    0′）のための貫通孔を備えた少くとも１つの標本処理
    室（53、54〜56）が、カバー（11、11′）において遮断
    されうるようになっていることを特徴とする特許請求の
    範囲第１〜12項のいずれか一に記載の装置。
14. 【請求項１４】絶縁性プラグ（33、33′）を併いうるカ
    バー（11、11′）並びに熱絶縁層（42、42′）を併いう
    る容器（51、52）に、液体窒素を断熱びん（３）に２次
    的に充填するための貫通孔が形成してあり、この貫通孔
    がカバー側の先端部において絶縁性のプラグによって閉
    止されうることを特徴とする特許請求の範囲第１〜13項
    のいずれか一に記載の装置。
15. 【請求項１５】前記かくはん装置において、かくはん器
    （10′）の軸（９′）が外部から高さ調節自在にカバー
    （11′）に配設されたことを特徴とする特許請求の範囲
    第１〜14項のいずれか一に記載の装置。
16. 【請求項１６】かくはん器（10′）が、軸（９′）と同
    軸的な、外周部が閉ざされた回転部品として形成され、
    上面から下面にかけて貫通し軸（９′）の軸線に対し軸
    線が傾斜している少くとも１つの通し孔（75）を有し、 かくはん器（10′）の寸法及び形状が標本処理室（5
    3）、標本容器（18）又は標本容器−カバー（19）の寸
    法及び形状に媒体（６）の所用量が最小となるように適
    合されたことを特徴とする特許請求の範囲第15項記載の
    装置。
17. 【請求項１７】後の顕微鏡検査のために低温において生
    物学的標本を処理する装置であって、 液体窒素を収容する断熱びんのネック部中に配設され
    た、前記生物学的標本及び脱水又は包埋用の処理媒体を
    収納する容器を有し、該容器は、その上端が該断熱びん
    のネック部の上部縁からある距離に配置されて、標本処
    理室を形成し、 更に、該容器及び該ネック部の開口の上方に配される絶
    縁カバー手段を有すると共に 前記容器の温度を調整するための温度調節装置を付設可
    能とするものにおいて、 前記容器（20、20′、52）の上端（21）が、前記断熱び
    んのネック部（１）の上部縁から実質的に下方に配され
    たことと、 前記容器において、標本処理室（24、53）の横側に、オ
    ーバーフロー部のみを介して該標本処理室と連通された
    充填ボア（27、27′）が形成されたことと、 前記容器の充填ボア（27、27′）と整合する充填孔（2
    6）並びに前記容器から前記処理媒体を取出すための取
    出し孔（32）が、前記カバー手段としてのカバー（11、
    11′）に形成されたことと、 充填装置（25a）のカニューレ（25b）がカバーの充填孔
    （26）を経て前記容器の充填ボア（27、27′）の底部近
    傍まで突入して配設されて、カニューレ（25b）内を流
    れる前記処理媒体とその外面上を流れる前記処理媒体と
    の間に向流的熱交換を行う予冷却手段を形成する充填装
    置（25a）をカバー（11、11′）の上方に取付け可能に
    構成したことと、 低温包埋の目的のために前記容器（20、20′、52）の上
    方において断熱びん（１）に挿入可能なインサート（6
    0、61）を備え、該インサート（60、61）は、標本
    （５）又は標本（５）の包埋容器（64）を受入れるため
    の凹部（63）を有すると共に、処理された標本を凹部
    （63）又は包埋容器（64）に移行させるための前記容器
    （20、20′、52）の標本処理室（24、53）に至る通路を
    有することを特徴とする装置。
18. 【請求項１８】インサート（60、61）が、耐低温−非付
    着性の合成樹脂によって覆われるか又は該合成樹脂から
    できていることを特徴とする特許請求の範囲第17項記載
    の装置。
19. 【請求項１９】後の顕微鏡検査のために低温において生
    物学的標本を処理する装置であって、 液体窒素を収容する断熱びんのネック部中に配設され
    た、前記生物学的標本及び脱水又は包埋用の処理媒体を
    収納する容器を有し、該容器は、その上端が該断熱びん
    のネック部の上部縁からある距離に配置されて、標本処
    理室を形成し、 更に、該容器及び該ネック部の開口の上方に配される絶
    縁カバー手段を有すると共に 前記容器の温度を調整するための温度調節装置を付設可
    能とするものにおいて、 前記容器（20、20′、52）の上端（21）が、前記断熱び
    んのネック部（１）の上部縁から実質的に下方に配され
    たことと、 前記容器において、標本処理室（24、53）の横側に、オ
    ーバーフロー部のみを介して該標本処理室と連通された
    充填ボア（27、27′）が形成されたことと、 前記容器の充填ボア（27、27′）と整合する充填孔（2
    6）並びに前記容器から前記処理媒体を取出すための取
    出し孔（32）が、前記カバー手段としてのカバー（11、
    11′）に形成されたことと、 充填装置（25a）のカニューレ（25b）がカバーの充填孔
    （26）を経て前記容器の充填ボア（27、27′）の底部近
    傍まで突入して配設されて、カニューレ（25b）内を流
    れる前記処理媒体とその外面上を流れる前記処理媒体と
    の間に向流的熱交換を行う予冷却手段を形成する充填装
    置（25a）をカバー（11、11′）の上方に取付け可能に
    構成したことと、 低温包埋の目的のために前記容器（20、20′、52）の上
    方において断熱びん（１）に挿入可能なインサート（6
    0、61）を備え、該インサート（60、61）は、標本
    （５）又は標本（５）の包埋容器（64）を受入れるため
    の凹部（63）を有すると共に、処理された標本を凹部
    （63）又は包埋容器（64）に移行させるための前記容器
    （20、20′、52）の標本処理室（24、53）に至る通路を
    有することと、 前記断熱びん（１）の、前記カバー手段（11、11′）の
    下面以下に紫外線照射系（70）が配設されたことを特徴
    とする装置。
20. 【請求項２０】前記紫外線照射系はインサート（60、6
    1）をカバーする紫外線透過プレート（71）を備え、該
    プレート（71）とインサート（60、61）との間に画成さ
    れた重合室中に、前記温度調節装置の一環として温度セ
    ンサーが配設されたことを特徴とする特許請求の範囲第
    19項記載の装置。
21. 【請求項２１】後の顕微鏡検査のために低温において生
    物学的標本を処理する装置であって、 液体窒素を収容する断熱びんのネック部中に配設され
    た、前記生物学的標本及び脱水又は包埋用の処理媒体を
    収納する容器を有し、該容器は、その上端が該断熱びん
    のネック部の上部縁からある距離に配置されて、標本処
    理室を形成し、 更に、該容器及び該ネック部の開口の上方に配される絶
    縁カバー手段を有すると共に 前記容器の温度を調整するための温度調節装置を付設可
    能とするものにおいて、 前記容器（20、20′、52）の上端（21）が、前記断熱び
    んのネック部（１）の上部縁から実質的に下方に配され
    たことと、 前記容器において、標本処理室（24、53）の横側に、オ
    ーバーフロー部のみを介して該標本処理室と連通された
    充填ボア（27、27′）が形成されたことと、 前記容器の充填ボア（27、27′）と整合する充填孔（2
    6）並びに前記容器から前記処理媒体を取出すための取
    出し孔（32）が、前記カバー手段としてのカバー（11、
    11′）に形成されたことと、 充填装置（25a）のカニューレ（25b）がカバーの充填孔
    （26）を経て前記容器の充填ボア（27、27′）の底部近
    傍まで突入して配設されて、カニューレ（25b）内を流
    れる前記処理媒体とその外面上を流れる前記処理媒体と
    の間に向流的熱交換を行う予冷却手段を形成する充填装
    置（25a）をカバー（11、11′）の上方に取付け可能に
    構成したことと、 低温包埋の目的のために前記容器（20、20′、52）の上
    方において断熱びん（１）に挿入可能なインサート（6
    0、61）を備え、該インサート（60、61）は、標本
    （５）又は標本（５）の包埋容器（64）を受入れるため
    の凹部（63）を有すると共に、処理された標本を凹部
    （63）又は包埋容器（64）に移行させるための前記容器
    （20、20′、52）の標本処理室（24、53）に至る通路を
    有することと、 容器（20、20′、52）又はインサート（60、61）の照明
    手段を、断熱びん（１）の外側に配されたランプ（65）
    と、容器（20、20′、52）を受容するためのチューブ状
    の保持具（22、22′）中に配設した揺動自在であり、該
    ランプ（65）の光を内方へ反射するミラー（66）とをも
    って構成したことを特徴とする装置。
22. 【請求項２２】前記照明手段は、ミラー（66）の休止位
    置でoffとなるランプ（65）のためのスイッチ要素（6
    8）を備えることを特徴とする特許請求の範囲第21項記
    載の装置。