JPH07270743A - フローティング処理装置 - Google Patents

フローティング処理装置

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JPH07270743A
JPH07270743A JP8566194A JP8566194A JPH07270743A JP H07270743 A JPH07270743 A JP H07270743A JP 8566194 A JP8566194 A JP 8566194A JP 8566194 A JP8566194 A JP 8566194A JP H07270743 A JPH07270743 A JP H07270743A
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JP
Japan
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work
gas
floating
processing device
suction tool
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JP8566194A
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English (en)
Inventor
Hiroshi Akashi
博 明石
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 ワ−クにダストの付着や損傷させることな
く、また薄いワ−クでも損傷なく搬送し、処理する。 【構成】 気体を吹き出すことにより無接触状態にてワ
−クを懸垂保持する吸着具と処理装置6とにより構成さ
れる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】本発明は、ワ−クを浮上した状態にて処理
するフローティング処理装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来より、液晶ガラス基板、セラミック
基板等の製造工程に於いては、紫外線照射による表面改
質処理あるいは加熱による乾燥等の工程がある。
【0003】従来ワ−クを1個づつ処理を行なうバッチ
処理方式では、ワ−クをテーブル上に載置した状態にて
処理する方法が採られている。
【0004】又連続して処理を行なう連続処理方式で
は、ワ−クの左右側端をベルトに乗せ処理装置へワ−ク
を供給及び排出を行なっている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】上記ワ−クを1個づつ
処理を行なうバッチ処理方式では、ワ−クをテーブル上
に載置した状態にて処理するため、テーブル上のダスト
がワ−クに付着したり、ワ−クの裏面を処理する場合、
処理前のワ−クに損傷を与えたりし、ワ−クに悪影響を
及ぼすという問題があり、又連続処理装置方式では、ベ
ルトにより薄いワ−ク2を搬送する場合、ワ−ク側端部
をベルトに載置させるため、ワ−クの自重によりワ−ク
中央部が垂れ下がり、ベルトより落下し、破損するとい
う問題がある。
【0006】
【問題を解決するための手段】上記の問題を解決するた
めに、ワ−クを1枚づつ処理するバッチ処理方式に於い
ては、気体を吹き出すことによりワ−クを吸引し、無接
触状態にて保持する吸着具と、前記吸着具の周囲に配設
され、ワ−クの水平方向の移動を規制するガイド及びワ
−クの処理を行なう処理装置とからなるフローティング
処理装置によって、 又、ワ−クを連続して供給して処
理する連続処理方式に於いては、前記吸着具をワ−ク搬
送方向に複数並設し、該吸着具のワ−ク搬送方向の左右
両側に前後端を回行するべルトを掛渡し、該ベルトの上
走行線が前記吸着具の上面より上方に配設してワ−ク搬
送路となし、該ワ−ク搬送路中間部の上方に処理装置を
設けてなるフローティング処理装置により解決すること
が可能である。
【0007】
【作用】バッチ処理方式では上記の構成により、本発明
では、処理前のワ−クは、搬送具によりフローティング
処理装置内の吸着具の上部に移送されると、吸着具より
気体を吹き出すことによりワ−クは吸引され、無接触状
態にて保持される。
【0008】吸着具の周囲には、ワ−クの水平方向の移
動を規制するガイドが設けられているため、ワ−クが吸
着具より外れて落下することはない。
【0009】この状態にて、吸着具の上部に配設された
処理装置が行なう処理作用により、ワ−クが所定の処理
をされる。
【0010】このことにより、ワ−クがテーブルに載置
されることにより生じるダストの付着及び裏面に生じる
損傷の問題は解決される。
【0011】また連続処理方式に於いては、搬送方向に
並設された吸着具と、その左右側方に設けられているベ
ルトにより形成されている搬送路の最前端ベルト上に、
処理前のワ−クが置かれると、ワ−クの下にある吸着具
から吹き出し、ワ−クを吸引する。
【0012】吸引された前記ワ−クは、吸着具と一定間
隔を開けた無接触状態にて吸引保持されているため、ベ
ルトに密着し、ワ−ク搬送時のベルトとのすべりをなく
すと同時に、ワ−ク中心部は一定以上垂れ下がることが
ないため、ベルトより外れて落下することはない。
【0013】この状態にてベルトが回転すると、ワ−ク
は後方に送られ、ワ−クの先端が次の吸着具の上部にく
るとセンサが感知し、その気体噴出口より気体を吹き出
し、ワ−クを吸引し、ワ−クは搬送路の後方へ送られ
る。
【0014】搬送路中央部上方には処理装置が配設され
ており、処理装置の下を通過するワ−クは、処理装置の
処理作用により所定の処理がされ、後方へ送られる。
【0015】処理の終わったワ−クは、搬送路最後端に
て次の工程に移載される。
【0016】上述のように、薄いワ−クでも中心部が自
重により垂れ下がり、ベルトより外れて落下し、搬送が
不可能になることはない。
【0017】
【実施例1】以下、本発明の実施例を図面に基づいて説
明する。
【0018】図1は、本発明のバッチ処理方式のフロー
ティング処理装置の全体構成を示しており、このフロー
ティング処理装置は、例えば液晶ガラス基板等のワ−ク
をバッチ処理方式にて乾燥させる乾燥装置である。
【0019】図に於て、1は気体を吹き出すことにより
ワ−ク2を吸引し、無接触状態にて保持する吸着具であ
る。
【0020】周囲を壁7によって囲まれたフローティン
グ処理装置15の内部底面上に、ワ−ク2を吸引し、無
接触状態にて保持する吸着具1が、気体噴出口3を上に
向けて設置されている。
【0021】この吸着具1は気体を気体噴出口3よりワ
−ク2に向かって吹き出すことにより、気体流によるベ
ルヌ−イ効果によりワ−ク2を吸引し、無接触状態にて
保持するものである。
【0022】吸着具1の周囲には、ガイド5、5、5、
5が設けられており、ワ−ク2の水平方向の移動を規制
し、ワ−ク2が吸着具1より外れて落下しないようにな
っている。
【0023】フローティング処理装置15の前壁7には
開口部42が形成されており、ワ−ク2の出し入れ時開
閉を行なう扉8が設けてある。
【0024】扉8の上部は、フローティング処理装置1
5の上部にブラケット21により取り付けられたシリン
ダー19のロッド20先端が取り付いており、ロッド2
0の伸縮により、扉8が昇降する機構になっている。
【0025】フローティング処理装置15内の吸着具1
の上部には、加熱源を備えた処理装置6が配設されてい
る。
【0026】気体噴出口3に接続する管路9は、開閉弁
14、加熱器10及び排熱回収器11を介して気体供給
源11に接続している。
【0027】又フローティング処理装置15の側壁7の
上部には、装置内の気体を排出する管路12が接続して
おり、管路12は排熱回収器11を介し排風機13に接
続している。
【0028】ワ−ク2のフローティング処理装置15へ
の出し入れは、ロボット38のアーム16に装着されて
いる吸着具17により行なう。
【0029】該吸着具17は、気体噴出口23より気体
を吹き出すことによりワ−ク2を吸引し、無接触状態に
て保持する。
【0030】前記吸着具17の気体噴出口23には管路
22が接続されており、管路23は、開閉弁39を介し
て気体供給源(図示せず)に連結している。
【0031】以上の構成に於て、供給台24に置かれた
処理前のワ−ク2上に、ロボット38のアーム16に取
り付けてある吸着具17が接近すると、センサ(図示せ
ず)が感知し、開閉弁39を開にする。
【0032】管路22より気体が気体噴出口23に供給
され、供給台4上のワ−ク2に向かって吹き出され、ワ
−ク2は吸着具17に吸引される。
【0033】吸引されたワ−ク2は、吸着具17に周囲
に設けられたガイド18により、吸着具17から外れる
ことなく、無接触状態にて保持されている。
【0034】次にロッド20の収縮により扉8上昇し、
開口部42が開かれ、アーム16が伸長し、フローティ
ング処理装置15内の吸着具1の真上に、吸着具17に
保持されているワ−ク2を移動する。
【0035】この状態にて、開閉弁14を開にして吸着
具1の気体噴出口3より気体を吹き出すと同時に、吸着
具17の気体噴出口23よりの気体の吹き出しを停止す
る。
【0036】上記の操作により、ワ−ク2は吸着具17
より吸着具1へ移載され、ワ−ク2は吸着具1上に無接
触状態にて保持される。
【0037】アーム16がフローティング処理装置15
外へ出ると、ロッド20が伸長し、扉8が下降し、開口
部42が閉じ、フローティング処理装置15は密閉され
る。
【0038】この状態にて、処理装置6の加熱源が作動
し、ワ−ク2を加熱する。
【0039】また気体噴出口3より吹き出す気体も、排
熱回収器11および加熱器10により所定の温度に加熱
されて吸着具1に供給され、ワ−ク2に向かって吹き出
される。
【0040】フローティング処理装置15内の気体性状
に応じて、自動的に排風器13を運転し、装置内の排気
体は、管路12より排熱回収器36に入り、供給気体と
熱交換をし、排風機13より排出される。
【0041】フローティング処理装置15内に於けるワ
−ク2の処理が終了すれば、ロッド20が収縮し、扉8
が上昇し、開口部42が開き、アーム16の移動により
吸着具17がフローティング処理装置15内の吸着具1
に保持されているワ−ク2に近接し、気体噴出口23よ
り気体を吹き出し、ワ−ク2を無接触状態にて受取、フ
ローティング処理装置15外の受給台(図示せず)上ま
で搬送し、気体噴出口23からの気体吹き出しを停止
し、ワ−ク2を受給台に載置する。
【0042】以上で1つのワ−ク2に対する処理動作が
終了し、以後同様の動作が繰り返される。
【0043】本実施例では、フローティング処理装置1
5の下部に吸着具1の気体噴出口3を上に向けて設置
し、処理装置6を上部に配設したが、吸着具1をフロー
ティング処理装置15内の上部に、気体噴出口3を下に
向け、処理装置6を下部に配設してもよい。
【0044】またフローティング処理装置の処理装置6
は、気体噴出口より吹き出す気体のにて処理可能な場合
は、処理装置6は設けなくてもよい。
【0045】
【実施例2】本発明の別の実施例をずめんに基ずいて説
明する。
【0046】図2は、本発明に係る連続してワ−クを処
理する連続処理方式のフローティング処理装置の全体構
成を示している。
【0047】図3は、図2のアーア断面図を示す。
【0048】壁35により周囲を囲まれたフローティン
グ処理装置36の上部には処理装置6が設けられてお
り、下部にはベース34上に、ワ−ク2の搬送方向(図
では左右方向)に吸着具26、26、26、・・・が気
体噴出口37、37、37、・・・を上に向けて並設さ
れており、前記吸着具26の左右両側にワ−ク2の側端
部が載置可能な間隔にて前後端回行するベルト27、2
7を掛渡してワ−ク搬送路40を形成し、前記ワ−ク搬
送路40は、フローティング処理装置36の前後壁3
5、35に設けられた開口部41、41より貫通して設
置されている。
【0049】ベルト27、27の上走行線は、気体噴出
口37の上面よりやや高い位置に配設されている。
【0050】フローティング処理装置36の前側にある
吸着具26、26、26、・・・には開閉弁31を介し
て管路28、28、28、・・・が、フローティング処
理装置36の内にある吸着具26、26、26、・・・
には開閉弁32を介して管路29、29、29、・・・
が、フローティング処理装置36の後側にある吸着具2
6、26、26、・・・には開閉弁33を介して管路3
0、30、30、・・・が接続されており、管路を通る
気体温度を所定の温度に調節して供給している。
【0051】このような構成にて、処理前のワ−ク2
は、ワ−ク搬送路40の最前端部のベルト27上に置か
れると同時に、ワ−ク2の下方にある吸着具26の気体
噴出口37より気体が吹き出し、ワ−ク2を吸引する。
【0052】ワ−ク2は吸着具26に吸引される垂れ下
がるが、ワ−ク2は常に吸着具26と一定間隔を開けた
無接触状態にて保持されているため、一定以上垂れ下が
ることなく、ベルト27、27から外れて落下すること
なく、ベルト27、27上に載置されている。
【0053】この状態にてベルト27、27が後方に移
動するにともないワ−ク2も後方に移送され、ワ−ク2
先端部が後方の吸着具26の上面を通過すると、センサ
(図示せず)が感知し、気体噴出口37より気体を吹き
出しワ−ク2を吸引し、順次後方へ送られていく。
【0054】かようにしてワ−ク2がフローティング処
理装置36内に移送され、内部を移送中に処理装置6に
より処理され、フローティング処理装置36より送り出
され、ワ−ク搬送路40の最後端に到達し、次工程に移
載される。
【0055】順次同様な操作が連続して行なわれる。
【0056】以上述べたごとく、ワ−ク2は吸着具26
と一定間隔を保った無接触状態にて吸引保持されている
ためベルト27に密着し、すべりをおこすことなく移送
されるとともに、移送中ワ−ク2に過度の垂れ下がりを
生させることが無いため、ベルト27から外れて落下
し、破損することもない。
【0057】本例の移送機構では、ベルトを用いている
が、回転駆動が可能なコロによりワ−ク側部を支持する
機構等、ワ−クの両側部を支持して移送する機構のもの
であればよい。
【0058】また吸着具側部にガイドを設け、吸着具に
より浮上しているワ−クを進行方向に噴出する気体流に
より送るワ−ク搬送方式もよい。
【0059】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によると、
気体を吹き出すことによりワ−クを吸引し、無接触状態
にて保持する吸着具を用いたフローティング処理装置に
より、ワ−クにダストを付着さすことなく、ワ−ク裏面
を損傷することなく、また薄い大型のワ−クも自重によ
るたわみにより、落下し破損することなく無接触状態に
移送し、処理が可能となった。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明のフローティング処理装置の実施例の要
部断面図を示す。
【図2】本発明の別のフローティング処理装置の実施例
の要部断面図を示す。
【図3】図2のアーア断面図を示す。
【符号の説明】
1、17、26 吸着具 2 ワ−ク 3、23、37 気体噴出口 5、18 ガイド 6 処理装置 7 壁 15、36 フローティング処理装置 27 ベルト 40 ワ−ク搬送路 @@

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ワ−クを浮上させた状態にて、ワ−クを
    処理する装置であって、気体を吹き出すことによりワ−
    クを吸引し、無接触状態にて保持する吸着具と、前記吸
    着具の周囲に配設され、ワ−クの水平方向の移動を規制
    するガイド及びワ−クの処理を行なう処理装置とからな
    るフローティング処理装置。
  2. 【請求項2】 前記吸着具をワ−ク搬送方向に複数並設
    し、該吸着具のワ−ク搬送方向の左右両側に前後端を回
    行するべルトを掛渡し、該ベルトの上走行線が前記吸着
    具の上面より上方に配設してワ−ク搬送路となし、該ワ
    −ク搬送路中間部上方に処理装置を設けてなるフローテ
    ィング処理装置。
JP8566194A 1994-03-30 1994-03-30 フローティング処理装置 Pending JPH07270743A (ja)

Priority Applications (1)

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JP8566194A JPH07270743A (ja) 1994-03-30 1994-03-30 フローティング処理装置

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JP8566194A JPH07270743A (ja) 1994-03-30 1994-03-30 フローティング処理装置

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JP (1) JPH07270743A (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6961952B1 (en) 1999-04-28 2005-11-01 Sharp Kabushiki Kaisha Disk cartridge
CN1324350C (zh) * 2002-04-18 2007-07-04 显像制造服务株式会社 基板浮置装置及用以制造液晶显示装置的方法
CN100456092C (zh) * 2002-03-22 2009-01-28 乐金显示有限公司 液晶显示装置的基板粘合设备及其驱动方法

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