JPH072713A - １α，２５，２６−トリヒドロキシ−２２−エン−コレカルシフエロールの製造法 - Google Patents
１α，２５，２６−トリヒドロキシ−２２−エン−コレカルシフエロールの製造法Info
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- JPH072713A JPH072713A JP6070169A JP7016994A JPH072713A JP H072713 A JPH072713 A JP H072713A JP 6070169 A JP6070169 A JP 6070169A JP 7016994 A JP7016994 A JP 7016994A JP H072713 A JPH072713 A JP H072713A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】１α，２５，２６−トリヒドロキシ−２２−エ
ン−コレカルシフエロールの製造方法を提供する。 【構成】 対応する５Ｅ,７Ｅ−異性体を介して１α,２
５(Ｒ),２６−トリヒドロキシ−２２Ｅ−エン−コレカ
ルシフェロールおよび１α,２５(Ｓ),２６−トリヒドロ
キシ−２２Ｅ−エン−コレカルシフェロールを製造する
方法。
ン−コレカルシフエロールの製造方法を提供する。 【構成】 対応する５Ｅ,７Ｅ−異性体を介して１α,２
５(Ｒ),２６−トリヒドロキシ−２２Ｅ−エン−コレカ
ルシフェロールおよび１α,２５(Ｓ),２６−トリヒドロ
キシ−２２Ｅ−エン−コレカルシフェロールを製造する
方法。
Description
【０００１】本発明は、式
【０００２】
【化９】
【０００３】により表される化合物である１α,２５
(Ｒ),２６−トリヒドロキシ−２２−エン−コレカルシ
フェロールおよび１α,２５(Ｓ),２６−トリヒドロキシ
−２２−エン−コレカルシフェロールの製造方法に関す
る。
(Ｒ),２６−トリヒドロキシ−２２−エン−コレカルシ
フェロールおよび１α,２５(Ｓ),２６−トリヒドロキシ
−２２−エン−コレカルシフェロールの製造方法に関す
る。
【０００４】その方法は、ａ）式Ｐｈ3Ｐ＝ＣＨＬｉの
化合物を式
化合物を式
【０００５】
【化１０】
【０００６】［式中、Ｘは酸素保護基である］の特異的
エピマーと反応させて式
エピマーと反応させて式
【０００７】
【化１１】
【０００８】の対応する特異的エピマーを生成せしめ、 ｂ）式IVの特異的エピマーを式
【０００９】
【化１２】
【００１０】［式中、Ｙは酸素保護基である］の化合物
と反応させて式
と反応させて式
【００１１】
【化１３】
【００１２】［式中、ＸおよびＹは上記のとおりであ
る］の対応する特異的エピマーを生成せしめ、 ｃ）式VIの特異的エピマーを式
る］の対応する特異的エピマーを生成せしめ、 ｃ）式VIの特異的エピマーを式
【００１３】
【化１４】
【００１４】の対応する特異的エピマーに転化させ、 ｄ）式VIIの特異的エピマーを異性化して式Ｉの対応す
る特異的エピマーを生成せしめることを含んでなる。
る特異的エピマーを生成せしめることを含んでなる。
【００１５】本発明の好適な一面は、式VIの化合物にす
るための式IVの化合物と式Ｖの化合物との反応であり、
ここでＸおよびＹはシリル含有酸素保護基である。
るための式IVの化合物と式Ｖの化合物との反応であり、
ここでＸおよびＹはシリル含有酸素保護基である。
【００１６】Ｃ−２５エピマー類が個々に製造および論
議されているが、Ｃ−２５エピマー類の混合物も本発明
の範囲内であることを理解すべきである。ここで使用さ
れる「酸素保護基」という語はエーテルまたはシリルエ
ーテル基、例えばテトラヒドロピラニルまたは−Ｓｉ
(Ｒ1,Ｒ2,Ｒ3)、であり、ここでＲ1、Ｒ2およびＲ3は独
立してアルキルまたはフェニルであり、好適にはトリア
ルキルシリル基である。「アルキル」という語は炭素数
１〜１０の、好適には１〜６の、直鎖状もしくは分枝鎖
状のアルキル基を示す。
議されているが、Ｃ−２５エピマー類の混合物も本発明
の範囲内であることを理解すべきである。ここで使用さ
れる「酸素保護基」という語はエーテルまたはシリルエ
ーテル基、例えばテトラヒドロピラニルまたは−Ｓｉ
(Ｒ1,Ｒ2,Ｒ3)、であり、ここでＲ1、Ｒ2およびＲ3は独
立してアルキルまたはフェニルであり、好適にはトリア
ルキルシリル基である。「アルキル」という語は炭素数
１〜１０の、好適には１〜６の、直鎖状もしくは分枝鎖
状のアルキル基を示す。
【００１７】本発明に従うと、式[Ｐｈ3Ｐ−ＣＨ3]+Ｚ-
（ここでＺは弗素以外のハロゲンである）の化合物を非
プロトン性有機溶媒、好適にはエーテル、中でセカンダ
リーブチルリチウムまたはターシャリーブチルリチウム
で処理して式Ｐｈ3Ｐ＝ＣＨＬｉの既知化合物を製造
し、それを既知化合物であるかまたは既知方法により製
造できる式IIIの特異的エピマーと反応させて式IVの対
応する特異的エピマーを生成せしめる。反応は非プロト
ン性有機溶媒、例えばＴＨＦまたは好適にはエーテル、
中で行われる。
（ここでＺは弗素以外のハロゲンである）の化合物を非
プロトン性有機溶媒、好適にはエーテル、中でセカンダ
リーブチルリチウムまたはターシャリーブチルリチウム
で処理して式Ｐｈ3Ｐ＝ＣＨＬｉの既知化合物を製造
し、それを既知化合物であるかまたは既知方法により製
造できる式IIIの特異的エピマーと反応させて式IVの対
応する特異的エピマーを生成せしめる。反応は非プロト
ン性有機溶媒、例えばＴＨＦまたは好適にはエーテル、
中で行われる。
【００１８】式IVの特異的エピマーを既知化合物である
かまたは既知方法により製造できる式Ｖの化合物と反応
させて式VIの対応する特異的エピマーを生成せしめる。
反応は上記の如き非プロトン性有機溶媒中で−７８°〜
２５℃の範囲の温度において行われる。
かまたは既知方法により製造できる式Ｖの化合物と反応
させて式VIの対応する特異的エピマーを生成せしめる。
反応は上記の如き非プロトン性有機溶媒中で−７８°〜
２５℃の範囲の温度において行われる。
【００１９】式VIの特異的エピマーをＴＨＦ中で弗化物
塩、例えば弗化テトラブチルアンモニウム、で処理して
式VIIの対応する特異的エピマーを生成せしめる。
塩、例えば弗化テトラブチルアンモニウム、で処理して
式VIIの対応する特異的エピマーを生成せしめる。
【００２０】式VIIの特異的エピマーを好適には触媒と
して９−アセチルアントラセンを用いてメタノールおよ
びターシャリーブチルメチルエーテル中で光異性化にか
けて式Ｉの対応する化合物を生成せしめる。
して９−アセチルアントラセンを用いてメタノールおよ
びターシャリーブチルメチルエーテル中で光異性化にか
けて式Ｉの対応する化合物を生成せしめる。
【００２１】式
【００２２】
【化１５】
【００２３】［式中、Ｘは酸素保護基であり、特にここ
でＸは−Ｓｉ(Ｒ1,Ｒ2,Ｒ3)であり、Ｒ1、Ｒ2およびＲ3
はＣ1−Ｃ6アルキルまたはフェニルであり、特にここで
Ｘはテキシルジメチルシリルである］の化合物並びに式
でＸは−Ｓｉ(Ｒ1,Ｒ2,Ｒ3)であり、Ｒ1、Ｒ2およびＲ3
はＣ1−Ｃ6アルキルまたはフェニルであり、特にここで
Ｘはテキシルジメチルシリルである］の化合物並びに式
【００２４】
【化１６】
【００２５】［式中、Ｗは水素または同一もしくは異な
る酸素保護基、特にターシャリーブチルジメチルシリル
もしくはテキシルジメチルシリル、である］の化合物、
特に(１α,３β,５Ｅ,７Ｅ,２２Ｅ,２５Ｒ)−９,１０−
セココレスタ−５,７,１０(１９),２２−テトラエン−
１,３,２５,２６−テトロール、(１α,３β,５Ｅ,７Ｅ,
２２Ｅ,２５Ｓ)−９,１０−セココレスタ−５,７,１０
(１９),２２−テトラエン−１,３,２５,２６−テトロー
ル、(１α,３β,５Ｅ,７Ｅ,２２Ｅ,２５Ｒ)−１,３−ビ
ス[[(１,１−ジメチル)ジメチルシリル]オキシ]−２６
−[[ジメチル(１,１,２−トリメチルプロピル)シリル]
オキシ]−９,１０−セココレスタ−５,７,１０(１９),
２２−テトラエノ−２５−ール、および(１α,３β,５
Ｅ,７Ｅ,２２Ｅ,２５Ｓ)−１,３−ビス[[(１,１−ジメ
チル)ジメチルシリル]オキシ]−２６−[[ジメチル(１,
１,２−トリメチルプロピル)シリル]オキシ]−９,１０
−セココレスタ−５,７,１０(１９),２２−テトラエノ
−２５−ールからなる群の化合物は新規であり、そして
本発明の他の面を構成する。
る酸素保護基、特にターシャリーブチルジメチルシリル
もしくはテキシルジメチルシリル、である］の化合物、
特に(１α,３β,５Ｅ,７Ｅ,２２Ｅ,２５Ｒ)−９,１０−
セココレスタ−５,７,１０(１９),２２−テトラエン−
１,３,２５,２６−テトロール、(１α,３β,５Ｅ,７Ｅ,
２２Ｅ,２５Ｓ)−９,１０−セココレスタ−５,７,１０
(１９),２２−テトラエン−１,３,２５,２６−テトロー
ル、(１α,３β,５Ｅ,７Ｅ,２２Ｅ,２５Ｒ)−１,３−ビ
ス[[(１,１−ジメチル)ジメチルシリル]オキシ]−２６
−[[ジメチル(１,１,２−トリメチルプロピル)シリル]
オキシ]−９,１０−セココレスタ−５,７,１０(１９),
２２−テトラエノ−２５−ール、および(１α,３β,５
Ｅ,７Ｅ,２２Ｅ,２５Ｓ)−１,３−ビス[[(１,１−ジメ
チル)ジメチルシリル]オキシ]−２６−[[ジメチル(１,
１,２−トリメチルプロピル)シリル]オキシ]−９,１０
−セココレスタ−５,７,１０(１９),２２−テトラエノ
−２５−ールからなる群の化合物は新規であり、そして
本発明の他の面を構成する。
【００２６】下記の実施例は本発明をさらに説明するも
のである。
のである。
【００２７】
【実施例】実施例１ ６.４８ｇの臭化メチルトリフェニルホスホニウムおよ
び６５ｍｌの無水エーテルの懸濁液をＡｒ下で−３０℃
に冷却した。次に、３０.９ｍｌのシクロヘキサン中１.
３Ｍセカンダリーブチルリチウムを滴々添加した。次
に、混合物を室温で４時間撹拌した。生じた橙色懸濁液
を５℃に冷却し、７.１１ｇの(Ｒ)−ジメチル[(２−メ
チルオキシラニル)メトキシ](１,１,２−トリメチルプ
ロピル)シランを加えた。２０分後に、混合物を室温で
一夜撹拌した。黄色懸濁液を次に−７０℃に冷却し、そ
して７.４３ｇの(１α,３β,５Ｅ,７Ｅ,２０Ｓ)−１,３
−ビス[[(１,１−ジメチルエチル)ジメチルシリル]オキ
シ]−９,１０−セコプレグナ−５,７,１０(１９)−トリ
エン−２０−カルボキシアルデヒドを加えた。混合物を
−７０℃において１時間撹拌し、そして次にゆっくり室
温に暖めた。反応混合物を再び５℃に冷却し、そして
１.４８ｍｌの酢酸の添加およびその後の水の添加によ
り捕集した。混合物をエーテルで抽出した。一緒にした
有機層を乾燥し、そして濃縮した。残渣をヘキサンおよ
び９５％メタノールの間に分配させた。ヘキサン層を９
５％メタノールで洗浄した。メタノール層をヘキサンで
抽出した。ヘキサン層を乾燥しそして濃縮した。残渣を
メタノール中に懸濁させ、そして混合物を冷却して生成
物を固化させた。生じた懸濁液を９５％メタノールで希
釈しそして濾過の前に０℃で撹拌した。固体を９５％メ
タノールで洗浄し、そして乾燥した。生成物をメタノー
ル中に懸濁させ、そして混合物を室温で撹拌した。９５
％メタノールで希釈した後に、混合物を０℃において撹
拌した。沈澱を濾過し、９５％メタノールで洗浄し、そ
して乾燥して、７.３８ｇ（７１.０％）の(１α,３β,
５Ｅ,７Ｅ,２２Ｅ,２５Ｒ)−１,３−ビス[[(１,１−ジ
メチルエチル)ジメチルシリル]オキシ]−２６−[[ジメ
チル(１,１,２−トリメチル−プロピル)シリル]オキシ]
−９,１０−セココレスタ−５,７,１０(１９),２２−テ
トラエノ−２５−ールを白色固体状で与えた。融点８２
−８６℃。
び６５ｍｌの無水エーテルの懸濁液をＡｒ下で−３０℃
に冷却した。次に、３０.９ｍｌのシクロヘキサン中１.
３Ｍセカンダリーブチルリチウムを滴々添加した。次
に、混合物を室温で４時間撹拌した。生じた橙色懸濁液
を５℃に冷却し、７.１１ｇの(Ｒ)−ジメチル[(２−メ
チルオキシラニル)メトキシ](１,１,２−トリメチルプ
ロピル)シランを加えた。２０分後に、混合物を室温で
一夜撹拌した。黄色懸濁液を次に−７０℃に冷却し、そ
して７.４３ｇの(１α,３β,５Ｅ,７Ｅ,２０Ｓ)−１,３
−ビス[[(１,１−ジメチルエチル)ジメチルシリル]オキ
シ]−９,１０−セコプレグナ−５,７,１０(１９)−トリ
エン−２０−カルボキシアルデヒドを加えた。混合物を
−７０℃において１時間撹拌し、そして次にゆっくり室
温に暖めた。反応混合物を再び５℃に冷却し、そして
１.４８ｍｌの酢酸の添加およびその後の水の添加によ
り捕集した。混合物をエーテルで抽出した。一緒にした
有機層を乾燥し、そして濃縮した。残渣をヘキサンおよ
び９５％メタノールの間に分配させた。ヘキサン層を９
５％メタノールで洗浄した。メタノール層をヘキサンで
抽出した。ヘキサン層を乾燥しそして濃縮した。残渣を
メタノール中に懸濁させ、そして混合物を冷却して生成
物を固化させた。生じた懸濁液を９５％メタノールで希
釈しそして濾過の前に０℃で撹拌した。固体を９５％メ
タノールで洗浄し、そして乾燥した。生成物をメタノー
ル中に懸濁させ、そして混合物を室温で撹拌した。９５
％メタノールで希釈した後に、混合物を０℃において撹
拌した。沈澱を濾過し、９５％メタノールで洗浄し、そ
して乾燥して、７.３８ｇ（７１.０％）の(１α,３β,
５Ｅ,７Ｅ,２２Ｅ,２５Ｒ)−１,３−ビス[[(１,１−ジ
メチルエチル)ジメチルシリル]オキシ]−２６−[[ジメ
チル(１,１,２−トリメチル−プロピル)シリル]オキシ]
−９,１０−セココレスタ−５,７,１０(１９),２２−テ
トラエノ−２５−ールを白色固体状で与えた。融点８２
−８６℃。
【００２８】分析、Ｃ47Ｈ88Ｏ4Ｓｉ3に関する計算値：
Ｃ、７０.４４；Ｈ、１１.０７；Ｓｉ、１０.５１ 実測値：Ｃ、７０.０８；Ｈ、１１.０５；Ｓｉ、１０.
２４実施例２ ７.３８ｇの実施例１の生成物、および９２ｍｌのＴＨ
Ｆ中１Ｍ弗化テトラブチルアンモニウムの溶液をＡｒ下
で３０℃において２４時間撹拌し、そして次に３００ｍ
ｌの水および１００ｍｌのヘキサンの撹拌溶液に注入し
た。生じた懸濁液を室温で撹拌した。沈澱を濾過しそし
て水で洗浄し次にヘキサンで洗浄した。乾燥後に、固体
をメタノール中に溶解させ、そして次に水で希釈した。
暖めた後に、混合物を冷蔵庫に貯蔵した。沈澱を濾過し
そして５０％メタノールで洗浄した。乾燥後に、３.２
３ｇ（８１.５％）の(１α,３β,５Ｅ,７Ｅ,２２Ｅ,２
５Ｒ)−９,１０−セココレスタ−５,７,１０(１９),２
２−テトラエン−１,３,２５,２６−テトロールが白色
固体状で得られた。融点１６３−１６６℃。
Ｃ、７０.４４；Ｈ、１１.０７；Ｓｉ、１０.５１ 実測値：Ｃ、７０.０８；Ｈ、１１.０５；Ｓｉ、１０.
２４実施例２ ７.３８ｇの実施例１の生成物、および９２ｍｌのＴＨ
Ｆ中１Ｍ弗化テトラブチルアンモニウムの溶液をＡｒ下
で３０℃において２４時間撹拌し、そして次に３００ｍ
ｌの水および１００ｍｌのヘキサンの撹拌溶液に注入し
た。生じた懸濁液を室温で撹拌した。沈澱を濾過しそし
て水で洗浄し次にヘキサンで洗浄した。乾燥後に、固体
をメタノール中に溶解させ、そして次に水で希釈した。
暖めた後に、混合物を冷蔵庫に貯蔵した。沈澱を濾過し
そして５０％メタノールで洗浄した。乾燥後に、３.２
３ｇ（８１.５％）の(１α,３β,５Ｅ,７Ｅ,２２Ｅ,２
５Ｒ)−９,１０−セココレスタ−５,７,１０(１９),２
２−テトラエン−１,３,２５,２６−テトロールが白色
固体状で得られた。融点１６３−１６６℃。
【００２９】分析、Ｃ27Ｈ42Ｏ4に関する計算値：Ｃ、
７５.３１；Ｈ、９.８３ 実測値：Ｃ、７５.０６；Ｈ、９.７３実施例３ ３.２０ｇの実施例２の生成物、６４ｍｇの９−アセチ
ルアントラセン、１.２リットルのメタノールおよび０.
５リットルのターシャリーブチルメチルエーテルの溶液
をＡｒ下で−２０℃に冷却し、そして４５０Ｗ中圧水銀
灯を用いてウランガラスフィルターを通して３時間にわ
たり照射した。室温で撹拌した後に、懸濁液をヘキサン
で希釈し、そして冷蔵庫に貯蔵した。固体を濾過しそし
て酢酸エチル−ヘキサン（３：１）で洗浄した。３.１
１ｇのこのようにして得られた粗製生成物をメタノール
中に還流下で溶解させた。冷却後に、溶液を水で希釈
し、そして濾過の前に室温で撹拌した。固体を５０％メ
タノールで洗浄しそして乾燥して、２.８５ｇ（８９.１
％）の１α,２５Ｒ,２６−トリヒドロキシ−２２Ｅ−エ
ン−コレカルシフェロールを白色固体状で与えた。融点
１７６−１７８℃。
７５.３１；Ｈ、９.８３ 実測値：Ｃ、７５.０６；Ｈ、９.７３実施例３ ３.２０ｇの実施例２の生成物、６４ｍｇの９−アセチ
ルアントラセン、１.２リットルのメタノールおよび０.
５リットルのターシャリーブチルメチルエーテルの溶液
をＡｒ下で−２０℃に冷却し、そして４５０Ｗ中圧水銀
灯を用いてウランガラスフィルターを通して３時間にわ
たり照射した。室温で撹拌した後に、懸濁液をヘキサン
で希釈し、そして冷蔵庫に貯蔵した。固体を濾過しそし
て酢酸エチル−ヘキサン（３：１）で洗浄した。３.１
１ｇのこのようにして得られた粗製生成物をメタノール
中に還流下で溶解させた。冷却後に、溶液を水で希釈
し、そして濾過の前に室温で撹拌した。固体を５０％メ
タノールで洗浄しそして乾燥して、２.８５ｇ（８９.１
％）の１α,２５Ｒ,２６−トリヒドロキシ−２２Ｅ−エ
ン−コレカルシフェロールを白色固体状で与えた。融点
１７６−１７８℃。
【００３０】分析、Ｃ27Ｈ42Ｏ4に関する計算値：Ｃ、
７５.３１；Ｈ、９.８３ 実測値：Ｃ、７５.０６；Ｈ、９.９０ 本発明の主なる特徴および態様は以下のとおりである。
７５.３１；Ｈ、９.８３ 実測値：Ｃ、７５.０６；Ｈ、９.９０ 本発明の主なる特徴および態様は以下のとおりである。
【００３１】１．式
【００３２】
【化１７】
【００３３】［式中、Ｗは水素または同一もしくは異な
る酸素保護基、特にターシャリーブチルジメチルシリル
もしくはテキシルジメチルシリル、である］の化合物。
る酸素保護基、特にターシャリーブチルジメチルシリル
もしくはテキシルジメチルシリル、である］の化合物。
【００３４】２．(１α,３β,５Ｅ,７Ｅ,２２Ｅ,２５
Ｒ)−９,１０−セココレスタ−５,７,１０(１９),２２
−テトラエン−１,３,２５,２６−テトロール、(１α,
３β,５Ｅ,７Ｅ,２２Ｅ,２５Ｓ)−９,１０−セココレス
タ−５,７,１０(１９),２２−テトラエン−１,３,２５,
２６−テトロール、(１α,３β,５Ｅ,７Ｅ,２２Ｅ,２５
Ｒ)−１,３−ビス[[(１,１−ジメチル)ジメチルシリル]
オキシ]−２６−[[ジメチル(１,１,２−トリメチルプロ
ピル)シリル]オキシ]−９,１０−セココレスタ−５,７,
１０(１９),２２−テトラエン−２５−オール、および
(１α,３β,５Ｅ,７Ｅ,２２Ｅ,２５Ｓ)−１,３−ビス
[[(１,１−ジメチル)ジメチルシリル]オキシ]−２６−
[[ジメチル(１,１,２−トリメチルプロピル)シリル]オ
キシ]−９,１０−セココレスタ−５,７,１０(１９),２
２−テトラエン−２５−オールからなる群の上記１の化
合物。
Ｒ)−９,１０−セココレスタ−５,７,１０(１９),２２
−テトラエン−１,３,２５,２６−テトロール、(１α,
３β,５Ｅ,７Ｅ,２２Ｅ,２５Ｓ)−９,１０−セココレス
タ−５,７,１０(１９),２２−テトラエン−１,３,２５,
２６−テトロール、(１α,３β,５Ｅ,７Ｅ,２２Ｅ,２５
Ｒ)−１,３−ビス[[(１,１−ジメチル)ジメチルシリル]
オキシ]−２６−[[ジメチル(１,１,２−トリメチルプロ
ピル)シリル]オキシ]−９,１０−セココレスタ−５,７,
１０(１９),２２−テトラエン−２５−オール、および
(１α,３β,５Ｅ,７Ｅ,２２Ｅ,２５Ｓ)−１,３−ビス
[[(１,１−ジメチル)ジメチルシリル]オキシ]−２６−
[[ジメチル(１,１,２−トリメチルプロピル)シリル]オ
キシ]−９,１０−セココレスタ−５,７,１０(１９),２
２−テトラエン−２５−オールからなる群の上記１の化
合物。
【００３５】３．式
【００３６】
【化１８】
【００３７】［式中、Ｘは酸素保護基であり、特にＸは
−Ｓｉ(Ｒ1,Ｒ2,Ｒ3)であり、ここでＲ1、Ｒ2およびＲ3
はＣ1−Ｃ6アルキルまたはフェニルであり、特にＸはテ
キシルジメチルシリルである］の化合物。
−Ｓｉ(Ｒ1,Ｒ2,Ｒ3)であり、ここでＲ1、Ｒ2およびＲ3
はＣ1−Ｃ6アルキルまたはフェニルであり、特にＸはテ
キシルジメチルシリルである］の化合物。
【００３８】４．ａ）式Ｐｈ3Ｐ＝ＣＨＬｉの化合物を
式
式
【００３９】
【化１９】
【００４０】［式中、Ｘは酸素保護基である］の特異的
エピマーと反応させて式
エピマーと反応させて式
【００４１】
【化２０】
【００４２】の対応する特異的エピマーを生成せしめ、 ｂ）式IVの特異的エピマーを式
【００４３】
【化２１】
【００４４】［式中、Ｙは酸素保護基である］の化合物
と反応させて式
と反応させて式
【００４５】
【化２２】
【００４６】［式中、ＸおよびＹは上記の如くである］
の対応する特異的エピマーを生成せしめ、 ｃ）式VIの特異的エピマーを式
の対応する特異的エピマーを生成せしめ、 ｃ）式VIの特異的エピマーを式
【００４７】
【化２３】
【００４８】の対応する特異的エピマーに転化させ、 ｄ）式VIIの特異的エピマーを異性化して式Ｉの対応す
る特異的エピマーを生成せしめることを含んでなる、式
る特異的エピマーを生成せしめることを含んでなる、式
【００４９】
【化２４】
【００５０】の特異的エピマーの製造方法。
【００５１】５．Ｘがテトラヒドロピラニルまたは−Ｓ
ｉ(Ｒ3,Ｒ4,Ｒ5)であり、ここでＲ3、Ｒ4、Ｒ5は独立し
てアルキルまたはフェニルである上記４の方法。
ｉ(Ｒ3,Ｒ4,Ｒ5)であり、ここでＲ3、Ｒ4、Ｒ5は独立し
てアルキルまたはフェニルである上記４の方法。
【００５２】６．式
【００５３】
【化２５】
【００５４】［式中、Ｘはシリル含有酸素保護基であ
る］の化合物を式
る］の化合物を式
【００５５】
【化２６】
【００５６】［式中、Ｙはシリル含有酸素保護基であ
る］の化合物と反応させることを含んでなる、式
る］の化合物と反応させることを含んでなる、式
【００５７】
【化２７】
【００５８】［式中、ＸおよびＹは同一もしくは異なる
シリル酸素保護基である］の化合物の製造方法。
シリル酸素保護基である］の化合物の製造方法。
Claims (3)
- 【請求項１】 式 【化１】 ［式中、Ｗは水素または同一もしくは異なる酸素保護
基、特にターシャリーブチルジメチルシリルもしくはテ
キシルジメチルシリル、である］の化合物。 - 【請求項２】 式 【化２】 ［式中、Ｘは酸素保護基であり、特にＸは−Ｓｉ(Ｒ1,
Ｒ2,Ｒ3)であり、ここでＲ1、Ｒ2およびＲ3はＣ1−Ｃ6
アルキルまたはフェニルであり、特にＸはテキシルジメ
チルシリルである］の化合物。 - 【請求項３】 ａ）式Ｐｈ3Ｐ＝ＣＨＬｉの化合物を式 【化３】 ［式中、Ｘは酸素保護基である］の特異的エピマーと反
応させて式 【化４】 の対応する特異的エピマーを生成せしめ、 ｂ）式IVの特異的エピマーを式 【化５】 ［式中、Ｙは酸素保護基である］の化合物と反応させて
式 【化６】 ［式中、ＸおよびＹは上記のとおりである］の対応する
特異的エピマーを生成せしめ、 ｃ）式VIの特異的エピマーを式 【化７】 の対応する特異的エピマーに転化させ、 ｄ）式VIIの特異的エピマーを異性化して式Ｉの対応す
る特異的エピマーを生成せしめることを特徴とする、式 【化８】 の特異的エピマーの製造方法。
Applications Claiming Priority (2)
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|---|---|---|---|
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|---|---|
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