JPH0727140U - 積層チップコンデンサ - Google Patents

積層チップコンデンサ

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JPH0727140U
JPH0727140U JP5581793U JP5581793U JPH0727140U JP H0727140 U JPH0727140 U JP H0727140U JP 5581793 U JP5581793 U JP 5581793U JP 5581793 U JP5581793 U JP 5581793U JP H0727140 U JPH0727140 U JP H0727140U
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JP
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chip capacitor
multilayer chip
internal electrodes
high frequency
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良男 築山
大川  隆
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Nippon Steel Corp
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Sumitomo Metal Industries Ltd
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Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【構成】 誘電体基板11の同一面上に2個以上の内部
電極12、13がその端面12a、13aが対向するよ
うに形成され、誘電体基板11が積層されて積層体14
が形成され、その両端部に各内部電極12、13の一端
12b、13bが接続された外部電極15、16が形成
されている積層チップコンデンサ。 【効果】 内部電極12、13の対向する端面12a、
13aにより容量を形成することができ、高Q値を得る
ことができ、高周波領域への対応を容易にすることがで
きる。また、構造的に高周波領域における高Q値化を図
ることができ、誘電体基板11にQ値の高いセラミック
ス材料を用いる必要がなくなり、比較的Q値の低い低温
焼結材料により積層体14を形成することができ、内部
電極12、13として低抵抗金属を用いることができ
る。さらに、高周波領域におけるESRを小さくするこ
とができる。また、自己共振周波数も高周波側にシフト
できる。

Description

【考案の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】
本考案は積層チップコンデンサに関し、より詳細には特に高周波領域で使用さ れる移動体通信機器やコードレスフォン等の各種電子機器において有効に利用す ることができる小容量の高周波特性に優れた積層チップコンデンサに関する。
【0002】
【従来の技術】
近年、TV、VTR等の各種電子機器の小型化、多機能化に伴い、これらの電 子機器において幅広く用いられているコンデンサにおいても、小型化、大容量化 および高Q値化が要求されてきている。
【0003】 小型化、大容量化が図られたコンデンサとして、積層チップコンデンサが知ら れている。
【0004】 図9は従来の積層チップコンデンサの一例を示した一部断面斜視図であり、図 中21は誘電体基板を示している。積層された誘電体基板21間には、左端を除 く略一面に形成された内部電極22と右端を除く略一面に形成された内部電極2 3とが一層おきに形成されており、これら誘電体基板21、内部電極22及び内 部電極23により積層体24が構成されている。また、この積層体24の両端部 には内部電極22の一端が接続された外部電極25と、内部電極23の一端が接 続された外部電極26とが形成され、これら積層体24、外部電極25及び外部 電極26を含んで積層チップコンデンサ20は構成されている。
【0005】 このように構成された積層チップコンデンサ20の回路構成は図10に示した 等価回路で表わせる。したがって、積層チップコンデンサ20における総容量値 は、内部電極22と内部電極23との対向する積層面間で形成される各容量値C1 、C2 、C3 、C4 、C5 の和となり、小型であっても大容量が得られる。
【0006】
【考案が解決しようとする課題】
ところで近年、自動車電話や携帯電話等の移動体通信機器やBSチューナー、 コードレスフォンといった数100MHz〜数GHzの高周波領域において使用 される電子機器が急増してきており、このような電子機器の電子回路に使用され るコンデンサにおいては、小容量でQ値が高いことが要求されている。
【0007】 しかしながら上記した従来の積層チップコンデンサ20においては、高周波領 域においてQ値が低くなり、使用することができないという課題があった。
【0008】 このような課題を解決するためには、Q値の高い誘電体材料を誘電体基板21 に用い、かつ低抵抗金属を内部電極22、23及び外部電極25、26に用いる 必要がある。Q値の高い誘電体材料としてはMgTiO3 −CaTiO3 系、B a(Mg1/3 Ta2/3 )O3 系のセラミックスが知られており、これらのセラミ ックスは1400℃〜1600℃の高温で焼結されることにより高いQ値が得ら れる。また、低抵抗金属としてはAg、Au、Cu等があるが、これらの金属の 融点(Ag;961℃、Au;1063℃、Cu;1083℃)は前記セラミッ クス誘電体の焼結温度よりもかなり低い。
【0009】 通常、積層体24は誘電体基板21及び内部電極22、23の一体焼結により 形成されるため、誘電体基板21に前記セラミックスを用い、内部電極22、2 3にAg、Au、Cu等を用いると、前記セラミックスを前記低抵抗金属の融点 以下の温度で焼結させなければなくなり、前記セラミックスにおいて高いQ値が 得られない。一方、前記セラミックスにおいて高いQ値を得ようとすると、焼結 温度が前記低抵抗金属の融点を超えるため、内部電極22、23にAg、Au、 Cu等の低抵抗金属を用いることができなくなる。したがって、Q値の高い誘電 体材料を誘電体基板21に用い、かつ低抵抗の金属を内部電極22、23に用い ることはできず、積層チップコンデンサ20のQ値を高めることができないとい う課題があった。
【0010】 本考案はこのような課題に鑑みなされたものであって、Q値の高い誘電体材料 を用いなくても高周波領域における高Q値化を図ることができる積層チップコン デンサを提供することを目的としている。
【0011】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために本考案に係る積層チップコンデンサは、誘電体基板 の同一面上に2個以上の内部電極がその端面が対向するように形成され、前記誘 電体基板が積層されて積層体が形成され、該積層体の両端部に前記各内部電極の 一端が接続された外部電極が形成されていることを特徴としている。
【0012】
【作用】
上記した構成の積層チップコンデンサにおいて、例えば誘電体基板の同一面上 に2個の内部電極がその端面が対向するように形成され、前記誘電体基板が積層 されて積層体が形成され、該積層体の両端部に前記各内部電極の一端が接続され た外部電極が形成され、前記内部電極が5層形成されている場合、前記積層コン デンサの回路構成は図1に示した等価回路であらわせる。外部電極15、16に 接続された2個の内部電極12、13により1個のコンデンサが形成されること となり、前記積層コンデンサの総容量Cは5個のコンデンサC10、C20、C30、 C40、C50の容量の和と略等しくなる。これらの各コンデンサC10、C20、C30 、C40、C50においては、容量が内部電極12、13の対向する端面により形成 され、対向する端面の面積は積層面の面積に比べて非常に狭いため、前記積層コ ンデンサの総容量は、全体の大きさや内部電極の面積及び数が同じである従来の 積層コンデンサの総容量に比べ、大幅に小さくなる。
【0013】 本考案に係る積層チップコンデンサによれば、誘電体基板の同一面上に2個以 上の内部電極がその端面が対向するように形成され、前記誘電体基板が積層され て積層体が形成され、該積層体の両端部に前記各内部電極の一端が接続された外 部電極が形成されているので、前記内部電極の対向する端面により容量が形成さ れることとなり、容量を大幅に小さくしても高Q値が得られ、高周波領域への対 応が容易となる。また、構造的に高周波領域における高Q値化が図られ、前記誘 電体基板にQ値の高いセラミックス材料を用いる必要がなくなり、比較的Q値の 低い低温焼結材料を用いて前記積層体を形成することが可能となる。従って、前 記内部電極としてAg、Au、Cu等の低抵抗の金属を用いることが可能となる 。さらに高周波領域における等価直列抵抗(以下、ESR(Equivalent Series Resistance)と記す。)が小さくなる。また、自己共振周波数も高周波側にシフ トする。
【0014】
【実施例及び比較例】
以下、本発明に係る積層チップコンデンサの実施例及び比較例を図面に基づい て説明する。
【0015】 図2は実施例に係る積層チップコンデンサを示した模式的断面図であり、図3 は実施例に係る積層チップコンデンサを図2におけるX−X線で切断した場合の 模式的断面図である。図中11は誘電体基板を示しており、誘電体基板11の同 一面上には2個の内部電極12、13がこれらの端面12a、13aが対向する ように形成され、この誘電体基板11が積層されて積層体14が形成されている 。この積層体14の両端部には内部電極12の一端12bが接続された外部電極 15と、内部電極13の一端13bが接続された外部電極16とが形成されてお り、これら誘電体基板11、内部電極12、13及び外部電極15、16を含ん で積層チップコンデンサ10は構成されている。
【0016】 このような構成の積層チップコンデンサ10を作製するには、まずガラス系焼 結助剤を添加したBaO−Nd23 −TiO2 の粉末に分散剤、有機バインダ 、可塑剤を添加して混練した後、ドクターブレード法により厚さが約30μmの シート状に成形し、誘電体シートを得る。
【0017】 次に、焼き上がり寸法が例えば縦が1.6mm、横が0.8mmとなるような 大きさに誘電体シートを切断した後、誘電体シートの一主面にAuペーストまた はAg/Pb(90/10)ペーストを用いたスクリーン印刷法により図6に示 したような内部電極パターン18aを形成する。
【0018】 この後、内部電極パターン18aが印刷された誘電体シートを20枚積層し、 積層された誘電体シートの上下面に内部電極パターン18aが印刷されていない 誘電体シートを積層し、積層誘電体シートを形成する。
【0019】 次に、この積層誘電体シートを1点鎖線(図6)に沿って切断した後、880 ℃の大気中で焼成して積層体14を形成する。この後、積層体14の両端面全面 にAgペーストを塗布し、次に焼き付け処理を施して外部電極15、16を形成 することにより積層チップコンデンサ10を作製する。
【0020】
【表1】
【0021】 表1は実施例1、実施例2、比較例1及び比較例2において、1MHzでの容 量値及びQ値をキャパシタンスメータで測定した結果と、周波数を1GHz、2 GHz、3GHzに変化させた場合におけるESR値、Q値及び自己共振周波数 をネットワークアナライザを用いて測定した結果とを示している。実施例1は誘 電体基板11に比誘電率が75、1GHzでの材料Qが2500、焼結温度が8 80℃の厚さ30μmの誘電体シートにAuペーストを用いて20層の内部電極 12、13が形成され、電極端間距離が0.057mmである積層チップコンデ ンサ10である。実施例2は実施例1に係る誘電体基板11と同様の材料からな る厚さが30μmの誘電体シートにAg/Pd(90/10)のペーストを用い て20層の内部電極12、13が形成され、かつ電極端間距離が0.086mm に設定された積層チップコンデンサである。比較例1は比誘電率が21、7GH zでの材料Qが7500、焼結温度が1320℃、厚さが60μmの誘電体シー トに100%Pdのペーストを用いて3層の内部電極32、33が形成された従 来の積層チップコンデンサ30(図8)である。比較例2は実施例1に係る材料 と同様の材料を用い、20層の内部電極2が形成された従来の積層チップコンデ ンサ20(図9)である。これら4個の積層チップコンデンサの形状はいずれも 縦1.6mm×横0.8mm×厚さ0.8mmであった。そして、自己共振周波 数以上の周波数では誘導成分となり、コンデンサとして機能しない。
【0022】 表1から明らかなように実施例1のものでは、1MHzでの容量値は4.7p Fで、また1GHz、2GHzでのQ値はそれぞれ189、112と高い値を示 しており、また3GHzでのQ値は33と高い値となっており、しかもESR値 も良好で、さらに自己共振周波数は3.96と高い値となっている。また実施例 2のものでは、1MHzでの容量値は3.8pFで、また1GHz、2GHz、 3GHzでのQ値はそれぞれ220、136、62と高い値となっており、また ESR値は良好であり、さらに自己共振周波数は4.42GHzと高い値を示し ている。これに対し、比較例1のものでは、1MHzでの容量値は3.8pFと 実施例2と同じであり、しかもQ値は9000と高い値となっているものの、1 GHz、2GHz、3GHzでのQ値はそれぞれ140、72、20と低い値と なっており、また自己共振周波数は3.56GHzと小さな値となっている。ま た比較例2のものでは、1MHzでの容量値が340pFと非常に大きいが、Q 値は700と低い値となっており、また1GHz以上の高周波領域では自己共振 周波数以上でコンデンサとして機能しなかった。このように内部電極12、13 の端面12a、13aで容量を形成することにより高周波領域への対応を容易に することができ、またQ値の高いセラミックス材料を用いなくても構造的に高周 波領域におけるQ値及び自己共振周波数を高めることができた。
【0023】
【表2】
【0024】 表2は表1における実施例2に係る積層チップコンデンサと表1における比較 例1に係る積層チップコンデンサ30(図8)とにおいて、各50個ずつにおけ る容量値の偏差及び相対偏差を調べた結果を示したものである。
【0025】 表2から明らかなように実施例2に係る積層チップコンデンサでは、容量値の 偏差は0.024pF、また相対偏差は0.63%となっている。これに対して 比較例1に係る積層チップコンデンサ30では、容量値の偏差は0.057pF 、また相対偏差は1.51%と実施例2に係る積層チップコンデンサに比べ、2 .4倍の大きな値となっている。このように内部電極12、13の端面12a、 13aにより容量を形成することにより、容量値のばらつきを少なくすることが でき、容量値の偏差の精度を高めることができた。
【0026】
【表3】
【0027】 表3は実施例に係る積層チップコンデンサ10における電極端間距離を種々に 変化させた場合の、1MHz及び1GHzでの容量と、1GHzの高周波領域で の容量、ESR値及びQ値とを測定した結果を示したものである。なお、電極端 間距離の値は積層チップコンデンサ10の断面を光学顕微鏡を用いて実測するこ とにより得たものである。
【0028】 表3から明らかなように、電極端間距離の値が小さいものほど1MHzでの容 量値及び1GHzでの容量値は高くなり、しかも1GHzでのESRは小さくな っている。また、実施例1〜7の全てのものにおいて、1GHzでのQ値が18 9〜315と、表1の比較例1のものにおける1GHzでのQ値(140)に比 べて高くなっており、電極端間距離を変化させても高いQ値を得ることができた 。
【0029】 以上説明したように実施例に係る積層チップコンデンサ10にあっては、誘電 体基板11の同一面上に2個以上の内部電極12、13がその端面12a、13 aが対向するように形成され、誘電体基板11が積層されて積層体14が形成さ れ、積層体14の両端部に各内部電極12、13の一端12b、13bが接続さ れた外部電極15、16が形成されているので、内部電極12、13の対向する 端面12a、13aにより容量を形成することができ、高Q値を得ることができ 、高周波領域への対応を容易にすることができる。また、構造的に高周波領域に おける高Q値化を図ることができ、誘電体基板11にQ値の高いセラミックス材 料を用いる必要がなくなり、比較的Q値の低い低温焼結材料により積層体14を 形成することができる。従って、内部電極12、13としてAg、Au、Cu等 の低抵抗の金属を用いることができる。さらに、高周波領域におけるESRを小 さくすることができる。また、自己共振周波数も高周波側にシフトできる。
【0030】 したがって、特に高周波領域で使用される電子機器において、優れたコンデン サとして有効に利用することができる。また、内部電極パターン18a(図6) を形成した場合、積層誘電体シートを切断するときの切断線の位置はw方向に対 して幅が一定であればどの位置であっても、またl方向に対しても少々ずれても 、対向する端面12a及び端面13aの距離は変化しない。このため、容量のば らつきを少なくすることができ、容量値の偏差を小さくすることができる。また 、内部電極パターン18a、18bの形成時及び積層誘電体シート切断時におけ る精度をゆるめることができ、また高精度配置の内部電極パターンが印刷された 2種類の誘電体シートを交互に積層する必要がなく、1種類の誘電体シートを同 一方向に積層するだけでよくなり、製造の際の手間及びコストを省くことができ る。
【0031】 なお上記した実施例では、誘電体基板11の材料にガラス系助剤を添加したB aO−Nd23 −TiO2 を用いた場合を例にとって説明したが、別の実施例 では、誘電体基板11の材料にその他のガラス/セラミックス低温焼成基板、有 機高分子材料等を用いてもよい。
【0032】 また上記した実施例では、図6に示した内部電極パターン18aを形成した場 合を例にとって説明したが、別の実施例では、図7に示したような内部電極パタ ーン18bを形成してもよく、この場合も前記切断線の位置は少々ずれても問題 とならない。
【0033】 さらに上記した実施例では、積層チップコンデンサ10が2端子を有する場合 について説明したが、別の実施例では、積層チップコンデンサ10が例えば内部 電極12、13、19が形成されて3端子(図4)以上を有する場合においても 同様に本発明を適用することができる。尚図5は図4の等価回路図である。
【0034】 また上記した実施例では、積層チップコンデンサ10がコンデンサ単一機能の 部品である場合について説明したが、別の実施例では、積層チップコンデンサ1 0が例えばL(インダクタンス)やR(レジスタンス)を含んだ積層部品の一部 に使用される場合においても同様に本発明を適用することができる。
【0035】 さらに上記した実施例では、内部電極12、13にAuやAg/Pb(90/ 10)を用いた場合を例にとって説明したが、別の実施例では内部電極12、1 3にAgやCu等を用いてもよい。
【0036】
【考案の効果】
以上詳述したように本考案に係る積層チップコンデンサにおいては、誘電体基 板の同一面上に2個以上の内部電極がその端面が対向するように形成され、前記 誘電体基板が積層されて積層体が形成され、該積層体の両端部に前記各内部電極 の一端が接続された外部電極が形成されているので、前記内部電極の対向する端 面により容量を形成することができ、高Q値化を図ることができ、高周波領域へ の対応を容易にすることができる。また、構造的に高周波領域における高Q値化 を図ることができ、前記誘電体基板にQ値の高いセラミックス材料を用いる必要 がなくなり、比較的Q値の低い材料でも前記積層体を形成することができる。し たがって、低温焼結材を用いれば前記内部電極としてAg、Au、Cu等の低抵 抗の金属を用いることができる。さらに、高周波領域におけるESRを小さくす ることができる。また、自己共振周波数も高周波側にシフトできる。
【0037】 したがって、特に高周波領域で使用される電子機器において、優れたコンデン サとして有効に利用することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本考案に係る積層チップコンデンサの回路構成
を示した等価回路図である。
【図2】本考案に係る積層チップコンデンサの実施例を
模式的に示した断面図である。
【図3】実施例に係る積層チップコンデンサを図2にお
けるX−X線で切断した場合の模式的断面図である。
【図4】別の実施例に係る積層チップコンデンサにおけ
る内部電極部分を模式的に示した横断面図である。
【図5】別の実施例に係る積層チップコンデンサの回路
構成を示した等価回路図である。
【図6】実施例に係る内部電極パターンを示した上面図
である。
【図7】実施例に係る積層チップコンデンサを作製する
際に、誘電体シート上に形成することができる内部電極
パターンの他の一例を示した上面図である。
【図8】比較例1に係る従来の積層チップコンデンサを
模式的に示した断面図である。
【図9】従来の積層チップコンデンサを示した断面斜視
図である。
【図10】従来の積層チップコンデンサの回路構成を示
した等価回路図である。
【符号の説明】
10 積層チップコンデンサ 11 誘電体基板 12、13、19 内部電極 12a、13a 端面 12b、13b 一端 14 積層体 15、16 外部電極

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 【請求項1】 誘電体基板の同一面上に2個以上の内部
    電極がその端面が対向するように形成され、前記誘電体
    基板が積層されて積層体が形成され、該積層体の両端部
    に前記各内部電極の一端が接続された外部電極が形成さ
    れていることを特徴とする積層チップコンデンサ。
JP5581793U 1993-10-15 1993-10-15 積層チップコンデンサ Pending JPH0727140U (ja)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004507069A (ja) * 1999-07-06 2004-03-04 エプコス アクチエンゲゼルシャフト 低容量多層バリスタ
JP2011040581A (ja) * 2009-08-11 2011-02-24 Sony Corp 静電容量素子及び共振回路
JP2013507757A (ja) * 2009-10-12 2013-03-04 エプコス アーゲー 電気的多層コンポーネント及び回路装置

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