JPH0727708A - ウエハの欠陥検査方法 - Google Patents
ウエハの欠陥検査方法Info
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- JPH0727708A JPH0727708A JP19400793A JP19400793A JPH0727708A JP H0727708 A JPH0727708 A JP H0727708A JP 19400793 A JP19400793 A JP 19400793A JP 19400793 A JP19400793 A JP 19400793A JP H0727708 A JPH0727708 A JP H0727708A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 欠陥の場所を容易に特定できるウエハの欠陥
検査方法を提供すること。 【構成】 先ずウエハ1上のチップAの一部のパターン
の映像を光学読み取り機構3にて取り込んだ後、このパ
ターンと対応するチップBの一部のパターンの映像を光
学読み取り機構3にて取り込んでそれぞれ比較して第1
の比較結果を得る。次いでチップBの一部のパターンと
対応するチップA’の一部のパターンの映像を取り込ん
でその映像とチップBの一部のパターンの映像とを比較
して第2の比較結果を得る。そして第1の比較結果およ
び第2の比較結果に基づいてチップA、チップB、チッ
プA’のどのチップに欠陥が存在するかを特定する。
検査方法を提供すること。 【構成】 先ずウエハ1上のチップAの一部のパターン
の映像を光学読み取り機構3にて取り込んだ後、このパ
ターンと対応するチップBの一部のパターンの映像を光
学読み取り機構3にて取り込んでそれぞれ比較して第1
の比較結果を得る。次いでチップBの一部のパターンと
対応するチップA’の一部のパターンの映像を取り込ん
でその映像とチップBの一部のパターンの映像とを比較
して第2の比較結果を得る。そして第1の比較結果およ
び第2の比較結果に基づいてチップA、チップB、チッ
プA’のどのチップに欠陥が存在するかを特定する。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、同一のパターンから成
る複数のチップが形成されたウエハを用い、そのウエハ
上の欠陥の有無と位置とを特定するウエハの欠陥検査方
法に関するものである。
る複数のチップが形成されたウエハを用い、そのウエハ
上の欠陥の有無と位置とを特定するウエハの欠陥検査方
法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】半導体装置の製造においては、所定の回
路パターンが描かれたレチクルを用いてその回路パター
ンをウエハ上に転写するいわゆるフォトリソグラフィー
工程を行うことにより、1枚のウエハ上に同一の回路パ
ターンから成るチップを複数形成している。
路パターンが描かれたレチクルを用いてその回路パター
ンをウエハ上に転写するいわゆるフォトリソグラフィー
工程を行うことにより、1枚のウエハ上に同一の回路パ
ターンから成るチップを複数形成している。
【0003】このように複数のチップが形成されたウエ
ハをダイシングして次の工程に進める前に、そのウエハ
上に欠陥が存在するかどうかを検査する必要がある。フ
ォトリソグラフィー工程にて発生する欠陥としては、主
としてレチクル上に発生した欠陥がそのままウエハに転
写されてチップ上の同じ位置に欠陥が発生するいわゆる
固定欠陥と、異物の混入や現像ムラ等の原因により発生
するいわゆるランダム欠陥とがある。これらの欠陥の有
無を検査して、欠陥の存在するチップを排除することに
より不良品を製造しないようにしている。
ハをダイシングして次の工程に進める前に、そのウエハ
上に欠陥が存在するかどうかを検査する必要がある。フ
ォトリソグラフィー工程にて発生する欠陥としては、主
としてレチクル上に発生した欠陥がそのままウエハに転
写されてチップ上の同じ位置に欠陥が発生するいわゆる
固定欠陥と、異物の混入や現像ムラ等の原因により発生
するいわゆるランダム欠陥とがある。これらの欠陥の有
無を検査して、欠陥の存在するチップを排除することに
より不良品を製造しないようにしている。
【0004】図4は、従来のウエハの欠陥検査方法を説
明する図であり、これに基づいてウエハ上の欠陥を検査
する方法を説明する。なお、ここでは1ショット(1回
の露光領域)により2つの同一なチップ2が形成された
ウエハ1を検査する場合を例として説明する。このウエ
ハ1上の欠陥を検査するには、先ず、チップAの左から
右に向けて100μm程度の幅でスキャン(スキャン方
向a)を行い、光学読み取り機構3にてスキャン方向a
に沿った左端から右端までの長さ分(以下、1ライン分
とする)のパターンの映像を取り込み図示しないメモリ
内に記憶しておく。
明する図であり、これに基づいてウエハ上の欠陥を検査
する方法を説明する。なお、ここでは1ショット(1回
の露光領域)により2つの同一なチップ2が形成された
ウエハ1を検査する場合を例として説明する。このウエ
ハ1上の欠陥を検査するには、先ず、チップAの左から
右に向けて100μm程度の幅でスキャン(スキャン方
向a)を行い、光学読み取り機構3にてスキャン方向a
に沿った左端から右端までの長さ分(以下、1ライン分
とする)のパターンの映像を取り込み図示しないメモリ
内に記憶しておく。
【0005】続いて、そのままの方向で隣のチップBの
左から右に向けて同様に100μm程度の幅でスキャン
を行い、光学読み取り機構にて1ライン分のパターンの
映像を取り込む。そして、この映像とメモリに記憶して
おいたチップAの1ライン分のパターンの映像との比較
(映像信号の差引き)を行い比較結果(差信号)を得
る。
左から右に向けて同様に100μm程度の幅でスキャン
を行い、光学読み取り機構にて1ライン分のパターンの
映像を取り込む。そして、この映像とメモリに記憶して
おいたチップAの1ライン分のパターンの映像との比較
(映像信号の差引き)を行い比較結果(差信号)を得
る。
【0006】映像として取り込んだチップAの1ライン
分のパターンとチップBの1ライン分のパターンとは同
一であるため、もし欠陥が存在しなければ比較結果によ
る差信号には何も検出されないことになる。また、仮に
チップAに欠陥が存在する場合には、その欠陥の映像に
基づく信号が比較結果の差信号に残ることになり欠陥の
存在を確認できる。
分のパターンとチップBの1ライン分のパターンとは同
一であるため、もし欠陥が存在しなければ比較結果によ
る差信号には何も検出されないことになる。また、仮に
チップAに欠陥が存在する場合には、その欠陥の映像に
基づく信号が比較結果の差信号に残ることになり欠陥の
存在を確認できる。
【0007】スキャン方向aによる欠陥検査が終了した
場合には、スキャン幅1つ分だけ下げて反対にチップB
の右からチップAの左に向けて同様なスキャン(スキャ
ン方向b)を行い、それぞれの1ライン分のパターンに
おける欠陥検査を行う。このような光学読み取り機構3
による映像の取り込みと比較とを繰り返すことにより、
1ショット分の欠陥検査を行うようにしている。
場合には、スキャン幅1つ分だけ下げて反対にチップB
の右からチップAの左に向けて同様なスキャン(スキャ
ン方向b)を行い、それぞれの1ライン分のパターンに
おける欠陥検査を行う。このような光学読み取り機構3
による映像の取り込みと比較とを繰り返すことにより、
1ショット分の欠陥検査を行うようにしている。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】しかしながらこのよう
なウエハの欠陥検査方法には次のような問題がある。す
なわち、取り込んだ2つチップの映像を比較することで
得られる差信号では、欠陥が存在するかどうかの判断は
できるものの、どちらのチップに欠陥が存在するかを判
断することは不可能である。そこで、このような差信号
により欠陥の存在を調べた後、実際に2つのチップのパ
ターンを作業者が光学顕微鏡等を用いて確認し、どちら
のチップに欠陥が存在するかという欠陥の位置の特定作
業を行っている。このような特定作業により、迅速な欠
陥検査を行うことが困難であり製品の歩留りにも悪影響
を及ぼすことになる。よって本発明は、欠陥の場所を容
易に特定できるウエハの欠陥検査方法を提供することを
目的とする。
なウエハの欠陥検査方法には次のような問題がある。す
なわち、取り込んだ2つチップの映像を比較することで
得られる差信号では、欠陥が存在するかどうかの判断は
できるものの、どちらのチップに欠陥が存在するかを判
断することは不可能である。そこで、このような差信号
により欠陥の存在を調べた後、実際に2つのチップのパ
ターンを作業者が光学顕微鏡等を用いて確認し、どちら
のチップに欠陥が存在するかという欠陥の位置の特定作
業を行っている。このような特定作業により、迅速な欠
陥検査を行うことが困難であり製品の歩留りにも悪影響
を及ぼすことになる。よって本発明は、欠陥の場所を容
易に特定できるウエハの欠陥検査方法を提供することを
目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明は、このような課
題を解決するために成されたウエハの欠陥検査方法であ
る。すなわち、この欠陥検査方法は、同一のパターンの
チップが少なくとも3つ以上形成されたウエハを用い、
このウエハに存在する欠陥を検査する方法であって、先
ず、第1チップの一部のパターンの映像を光学読み取り
機構にて取り込んだ後、この第1チップの一部のパター
ンと対応する第2チップの一部のパターンの映像を光学
読み取り機構にて取り込んでそれぞれの映像を比較する
ことで第1の比較結果を得る。次いで、第2チップの一
部のパターンと対応する第3チップの一部のパターンの
映像を光学読み取り機構にて取り込み、その映像と先に
取り込んだ第2チップの一部のパターンの映像とを比較
することで第2の比較結果を得る。そして、第1の比較
結果および第2の比較結果に基づいて第1チップ、第2
チップまたは第3チップのうちのどのチップに欠陥が存
在するかを特定する欠陥検査方法である。
題を解決するために成されたウエハの欠陥検査方法であ
る。すなわち、この欠陥検査方法は、同一のパターンの
チップが少なくとも3つ以上形成されたウエハを用い、
このウエハに存在する欠陥を検査する方法であって、先
ず、第1チップの一部のパターンの映像を光学読み取り
機構にて取り込んだ後、この第1チップの一部のパター
ンと対応する第2チップの一部のパターンの映像を光学
読み取り機構にて取り込んでそれぞれの映像を比較する
ことで第1の比較結果を得る。次いで、第2チップの一
部のパターンと対応する第3チップの一部のパターンの
映像を光学読み取り機構にて取り込み、その映像と先に
取り込んだ第2チップの一部のパターンの映像とを比較
することで第2の比較結果を得る。そして、第1の比較
結果および第2の比較結果に基づいて第1チップ、第2
チップまたは第3チップのうちのどのチップに欠陥が存
在するかを特定する欠陥検査方法である。
【0010】また、このようなウエハの欠陥検査方法に
おいて、第1チップと第2チップと第3チップとが一定
方向に沿って連設されている場合には、光学読み取り機
構にてその映像を取り込む一部のパターンは先の一定方
向、すなわち各チップが並ぶ方向に沿ったチップ上の一
定長さ分のパターンから成り、それぞれのチップの一定
長さ分のパターンの映像をその一定方向に沿って取り込
むようにしたウエハの欠陥検査方法でもある。
おいて、第1チップと第2チップと第3チップとが一定
方向に沿って連設されている場合には、光学読み取り機
構にてその映像を取り込む一部のパターンは先の一定方
向、すなわち各チップが並ぶ方向に沿ったチップ上の一
定長さ分のパターンから成り、それぞれのチップの一定
長さ分のパターンの映像をその一定方向に沿って取り込
むようにしたウエハの欠陥検査方法でもある。
【0011】
【作用】第1チップの一部のパターンの映像と、この第
1チップの一部のパターンと対応する第2チップの一部
のパターンの映像とを光学読み取り機構にて取り込み、
それぞれの映像を比較して得た第1の比較結果により、
第1チップまたは第2チップのどちらかに欠陥が存在す
るかどうかを調べることができる。
1チップの一部のパターンと対応する第2チップの一部
のパターンの映像とを光学読み取り機構にて取り込み、
それぞれの映像を比較して得た第1の比較結果により、
第1チップまたは第2チップのどちらかに欠陥が存在す
るかどうかを調べることができる。
【0012】また、第1チップまたは第2チップのどち
らかに欠陥が存在する場合、第2チップの一部のパター
ンと対応する第3チップの一部のパターンの映像を得
て、その映像と先に取り込んだ第2チップの一部のパタ
ーンの映像とを比較し第2の比較結果を得ることで、そ
の比較に差がない場合には第1チップに欠陥が存在する
ものと判断でき、また比較に差がある場合には第2チッ
プに欠陥が存在するものと判断できる。
らかに欠陥が存在する場合、第2チップの一部のパター
ンと対応する第3チップの一部のパターンの映像を得
て、その映像と先に取り込んだ第2チップの一部のパタ
ーンの映像とを比較し第2の比較結果を得ることで、そ
の比較に差がない場合には第1チップに欠陥が存在する
ものと判断でき、また比較に差がある場合には第2チッ
プに欠陥が存在するものと判断できる。
【0013】一方、第1の比較結果に差がない場合には
第1チップ、第2チップのいずれにも欠陥が存在しない
ことになり、この状態で第2の比較結果に差がある場合
には第3チップに欠陥が存在するものと判断できること
になる。また、いずれの比較結果にも差がない場合に
は、全てのチップに欠陥が存在しないことになる。
第1チップ、第2チップのいずれにも欠陥が存在しない
ことになり、この状態で第2の比較結果に差がある場合
には第3チップに欠陥が存在するものと判断できること
になる。また、いずれの比較結果にも差がない場合に
は、全てのチップに欠陥が存在しないことになる。
【0014】また、第1チップから第3チップまでが一
定方向に沿って連設されている場合には、その一定方向
に沿った第1チップの一定長さ分のパターンを読み込
み、次にそのまま連続して第2チップの一定長さ分のパ
ターンを読み込み、さらに続けて第3チップの一定長さ
分のパターンを読み込むようにして一度のスキャンによ
り第1の比較結果と第2の比較結果とを得るようにす
る。そして、この第1の比較結果と第2の比較結果とに
基づいてどのチップに欠陥が存在するかを特定する。
定方向に沿って連設されている場合には、その一定方向
に沿った第1チップの一定長さ分のパターンを読み込
み、次にそのまま連続して第2チップの一定長さ分のパ
ターンを読み込み、さらに続けて第3チップの一定長さ
分のパターンを読み込むようにして一度のスキャンによ
り第1の比較結果と第2の比較結果とを得るようにす
る。そして、この第1の比較結果と第2の比較結果とに
基づいてどのチップに欠陥が存在するかを特定する。
【0015】
【実施例】以下に、本発明のウエハの欠陥検査方法の実
施例を図に基づいて説明する。図1は本発明のウエハの
欠陥検査方法を説明する図、図2は比較結果を説明する
図である。すなわち、このウエハの欠陥検査方法は、ウ
エハ1上に同一のパターンから成るチップ2が3つ以上
露光されたものを用いて欠陥の存在とその位置とを特定
するものであり、ウエハ1の上方に配置した光学読み取
り機構3にて各チップ2のパターンの映像を得て検査を
行う方法である。
施例を図に基づいて説明する。図1は本発明のウエハの
欠陥検査方法を説明する図、図2は比較結果を説明する
図である。すなわち、このウエハの欠陥検査方法は、ウ
エハ1上に同一のパターンから成るチップ2が3つ以上
露光されたものを用いて欠陥の存在とその位置とを特定
するものであり、ウエハ1の上方に配置した光学読み取
り機構3にて各チップ2のパターンの映像を得て検査を
行う方法である。
【0016】欠陥の検査を行うには、先ずウエハ1を図
示しないステージ上に位置決めした状態で、ウエハ1の
上方に配置された光学読み取り機構3を用いて例えばチ
ップAの左から右に向けてスキャン(スキャン方向a)
を行う。このスキャンによる映像の取り込みの幅は10
0μm程度であるが、検査精度や検査時間等に応じて定
めればよい。
示しないステージ上に位置決めした状態で、ウエハ1の
上方に配置された光学読み取り機構3を用いて例えばチ
ップAの左から右に向けてスキャン(スキャン方向a)
を行う。このスキャンによる映像の取り込みの幅は10
0μm程度であるが、検査精度や検査時間等に応じて定
めればよい。
【0017】このスキャンによりチップAの一ライン分
のパターンの映像を得て、その信号を図2(a)に示す
比較回路の1ラインメモリ4に記憶する。次に、そのま
まスキャン方向aに沿って進み、チップBの左に達した
時点からチップBの一ライン分のパターンの映像を光学
読み取り機構3にて取り込む。そして、この取り込んだ
映像の信号を図2(a)に示す比較回路に入力するとと
もに、1ラインメモリ4に記憶されたチップAの一ライ
ン分の映像の信号を読み出して比較器5に入力する。
のパターンの映像を得て、その信号を図2(a)に示す
比較回路の1ラインメモリ4に記憶する。次に、そのま
まスキャン方向aに沿って進み、チップBの左に達した
時点からチップBの一ライン分のパターンの映像を光学
読み取り機構3にて取り込む。そして、この取り込んだ
映像の信号を図2(a)に示す比較回路に入力するとと
もに、1ラインメモリ4に記憶されたチップAの一ライ
ン分の映像の信号を読み出して比較器5に入力する。
【0018】これらの信号を比較器5により比較して、
その差信号を出力する。つまり、光学読み取り機構3に
て取り込んだチップAのパターンと、チップBのパター
ンとは対応する位置関係にあるため同一のパターンから
成るものであり、どちらのチップ2にも欠陥が存在しな
い場合には比較器5における信号の差引きにより、出力
される差信号には何も残らない(検出されない)ことに
なる。一方、どちらかのチップ2に欠陥が存在する場合
には比較器5から出力される差信号においてその欠陥の
映像の信号のみが残ることになり欠陥の存在が検出され
ることになる。
その差信号を出力する。つまり、光学読み取り機構3に
て取り込んだチップAのパターンと、チップBのパター
ンとは対応する位置関係にあるため同一のパターンから
成るものであり、どちらのチップ2にも欠陥が存在しな
い場合には比較器5における信号の差引きにより、出力
される差信号には何も残らない(検出されない)ことに
なる。一方、どちらかのチップ2に欠陥が存在する場合
には比較器5から出力される差信号においてその欠陥の
映像の信号のみが残ることになり欠陥の存在が検出され
ることになる。
【0019】このチップAのパターンの映像とチップB
のパターンの映像との比較を第1の比較結果として記憶
しておく。なお、この比較を行うに際し1ラインメモリ
4からチップAのパターンの映像の信号を読み出してい
るため、比較が終了した段階でこの信号は1ラインメモ
リ4から無くなっており、その後から入力されたチップ
Bのパターンの映像の信号が新たに1ラインメモリ4に
記憶されることになる。
のパターンの映像との比較を第1の比較結果として記憶
しておく。なお、この比較を行うに際し1ラインメモリ
4からチップAのパターンの映像の信号を読み出してい
るため、比較が終了した段階でこの信号は1ラインメモ
リ4から無くなっており、その後から入力されたチップ
Bのパターンの映像の信号が新たに1ラインメモリ4に
記憶されることになる。
【0020】次に、そのままスキャン方向aに沿って進
みチップA’の左に達した時点からチップA’の一ライ
ン分のパターンの映像を光学読み取り機構3にて取り込
むようにする。これとともに、その映像の信号を図2
(a)に示す比較回路の比較器5に入力し、さらに1ラ
インメモリ4に記憶されているチップBのパターンの映
像の信号を比較器5に入力する。そして、これらの信号
の比較を行って差信号から成る出力を得る。このチップ
A’のパターンの映像とチップBのパターンの映像との
比較を第2の比較結果として記憶しておく。
みチップA’の左に達した時点からチップA’の一ライ
ン分のパターンの映像を光学読み取り機構3にて取り込
むようにする。これとともに、その映像の信号を図2
(a)に示す比較回路の比較器5に入力し、さらに1ラ
インメモリ4に記憶されているチップBのパターンの映
像の信号を比較器5に入力する。そして、これらの信号
の比較を行って差信号から成る出力を得る。このチップ
A’のパターンの映像とチップBのパターンの映像との
比較を第2の比較結果として記憶しておく。
【0021】この取り込んだチップA’のパターンは、
チップBのパターンおよびチップAのパターンとそれぞ
れ対応する位置関係にあるため同一のパターンから成る
ものであり、光学読み取り機構3にて得られたチップ
A’のパターンの映像の信号と1ラインメモリ4に記憶
されているチップBのパターンの映像の信号とは一致す
るはずである。ところが、どちらかのチップ2に欠陥が
存在する場合には、第2の比較結果にその欠陥の映像の
信号が残ることになり、これに基づいて欠陥の存在を検
出できることになる。
チップBのパターンおよびチップAのパターンとそれぞ
れ対応する位置関係にあるため同一のパターンから成る
ものであり、光学読み取り機構3にて得られたチップ
A’のパターンの映像の信号と1ラインメモリ4に記憶
されているチップBのパターンの映像の信号とは一致す
るはずである。ところが、どちらかのチップ2に欠陥が
存在する場合には、第2の比較結果にその欠陥の映像の
信号が残ることになり、これに基づいて欠陥の存在を検
出できることになる。
【0022】そして、得られた第1の比較結果と第2の
比較結果とに基づいて、チップA、チップB、チップ
A’のうちのどのチップ2に欠陥が存在するかを特定す
る。図2(b)は、それぞれの比較結果と欠陥発生場所
との関係を示すものである。すなわち、第1の比較結果
にて信号(欠陥の映像による信号)が検出された場合に
は、チップAまたはチップBのどちらかに欠陥が存在す
るものと判断できる。
比較結果とに基づいて、チップA、チップB、チップ
A’のうちのどのチップ2に欠陥が存在するかを特定す
る。図2(b)は、それぞれの比較結果と欠陥発生場所
との関係を示すものである。すなわち、第1の比較結果
にて信号(欠陥の映像による信号)が検出された場合に
は、チップAまたはチップBのどちらかに欠陥が存在す
るものと判断できる。
【0023】このような第1の比較結果が得られたもの
のうち、第2の比較結果において信号が検出されなかっ
た場合には、チップBとチップA’との信号が一致した
ということになり、これらのチップ、すなわちチップB
とチップA’とにはいずれも欠陥が存在しないことにな
る。つまり、残るチップAに欠陥が存在するということ
を特定できる。
のうち、第2の比較結果において信号が検出されなかっ
た場合には、チップBとチップA’との信号が一致した
ということになり、これらのチップ、すなわちチップB
とチップA’とにはいずれも欠陥が存在しないことにな
る。つまり、残るチップAに欠陥が存在するということ
を特定できる。
【0024】一方、第1の比較結果で信号が検出され、
かつ第2の比較結果でも信号が検出された場合には、そ
れぞれの比較結果に共通するチップBに欠陥が存在する
ということを特定できる。
かつ第2の比較結果でも信号が検出された場合には、そ
れぞれの比較結果に共通するチップBに欠陥が存在する
ということを特定できる。
【0025】また、第1の比較結果で信号が検出されな
かった場合にはチップAにもチップBにも欠陥が存在し
ないということになり、さらにこの状態で第2の比較結
果により信号が検出された場合には、残るチップA’に
欠陥が存在するということになる。このようにして、第
1の比較結果と第2の比較結果とに基づいてチップA、
チップB、またはチップA’のうちのどのチップ2に欠
陥が存在するかを特定できることになる。なお、第1の
比較結果および第2の比較結果ともに欠陥による信号が
検出されなかった場合には全てのパターンが一致するこ
とになり、いずれのチップ2にも欠陥が存在しないこと
になる。
かった場合にはチップAにもチップBにも欠陥が存在し
ないということになり、さらにこの状態で第2の比較結
果により信号が検出された場合には、残るチップA’に
欠陥が存在するということになる。このようにして、第
1の比較結果と第2の比較結果とに基づいてチップA、
チップB、またはチップA’のうちのどのチップ2に欠
陥が存在するかを特定できることになる。なお、第1の
比較結果および第2の比較結果ともに欠陥による信号が
検出されなかった場合には全てのパターンが一致するこ
とになり、いずれのチップ2にも欠陥が存在しないこと
になる。
【0026】そして、チップ2の一ライン分のパターン
の欠陥検査が終了した時点で比較回路を一旦クリアし、
スキャン幅一つ分だけ下げた次の一ライン分のパターン
の欠陥検査を行う。この場合には、チップA’の右から
左に向けた方向にスキャン(スキャン方向b)を行い、
光学読み取り機構3にてそのパターンの映像を取り込む
ようにする。
の欠陥検査が終了した時点で比較回路を一旦クリアし、
スキャン幅一つ分だけ下げた次の一ライン分のパターン
の欠陥検査を行う。この場合には、チップA’の右から
左に向けた方向にスキャン(スキャン方向b)を行い、
光学読み取り機構3にてそのパターンの映像を取り込む
ようにする。
【0027】スキャン方向bに沿って一ライン分の映像
を取り込む際には、先に述べた取り込みとは反対に、先
ずチップA’の一ライン分のパターンの映像を取り込
み、次にチップB、さらにはチップAの一ライン分のパ
ターンの映像を取り込む。そして同様にそれぞれのパタ
ーンの映像の比較を行うことにより、スキャン方向bに
沿った一ライン分のパターンに存在する欠陥の位置を特
定する。このような一ライン分のパターンの映像の取り
込みと比較とを繰り返すことにより、チップ2全体の欠
陥検査を行うようにする。
を取り込む際には、先に述べた取り込みとは反対に、先
ずチップA’の一ライン分のパターンの映像を取り込
み、次にチップB、さらにはチップAの一ライン分のパ
ターンの映像を取り込む。そして同様にそれぞれのパタ
ーンの映像の比較を行うことにより、スキャン方向bに
沿った一ライン分のパターンに存在する欠陥の位置を特
定する。このような一ライン分のパターンの映像の取り
込みと比較とを繰り返すことにより、チップ2全体の欠
陥検査を行うようにする。
【0028】次に、図3に基づいて本発明の他の例を説
明する。すなわち、この欠陥検査方法は1ショットで同
一のパターンから成るチップ2が少なくとも3つ形成さ
れたウエハを用いた欠陥検査である(図では3つのチッ
プが形成された場合を示す)。例えば、1ショットでチ
ップA、チップB、チップCが形成される場合、先ず、
スキャン方向aに沿ってそれぞれのチップ2の一ライン
分のパターンの映像を取り込み、図2(b)に示すよう
な第1の比較結果および第2の比較結果を得る(なお、
この場合には図中のA’がCとなる)。
明する。すなわち、この欠陥検査方法は1ショットで同
一のパターンから成るチップ2が少なくとも3つ形成さ
れたウエハを用いた欠陥検査である(図では3つのチッ
プが形成された場合を示す)。例えば、1ショットでチ
ップA、チップB、チップCが形成される場合、先ず、
スキャン方向aに沿ってそれぞれのチップ2の一ライン
分のパターンの映像を取り込み、図2(b)に示すよう
な第1の比較結果および第2の比較結果を得る(なお、
この場合には図中のA’がCとなる)。
【0029】そして、第1の比較結果と第2の比較結果
とに基づいて、チップA、チップB、チップCのいずれ
のチップ2に欠陥が存在するかを特定する。次の一ライ
ン分のパターンを取り込む場合には、スキャン方向aに
沿った取り込みが終了した位置で折り返し、スキャン幅
一つ分だけ下げてスキャン方向bに沿って次の一ライン
分の取り込みを行うようにする。
とに基づいて、チップA、チップB、チップCのいずれ
のチップ2に欠陥が存在するかを特定する。次の一ライ
ン分のパターンを取り込む場合には、スキャン方向aに
沿った取り込みが終了した位置で折り返し、スキャン幅
一つ分だけ下げてスキャン方向bに沿って次の一ライン
分の取り込みを行うようにする。
【0030】このように、1ショットで同一なパターン
のチップ2が3つ以上形成される場合には、1ショット
内のチップ2のうちの少なくとも3つのチップ2のパタ
ーンの映像を取り込んで比較すれば、その3つのチップ
2のうちのどのチップ2に欠陥が存在するかを特定でき
るようになる。しかも、この場合には隣のショット内の
チップ2(例えばA’)のパターンの映像を取り込む必
要がないため、レチクル上の欠陥が転写されたいわゆる
固定欠陥が存在する場合であっても検出することが可能
となる。
のチップ2が3つ以上形成される場合には、1ショット
内のチップ2のうちの少なくとも3つのチップ2のパタ
ーンの映像を取り込んで比較すれば、その3つのチップ
2のうちのどのチップ2に欠陥が存在するかを特定でき
るようになる。しかも、この場合には隣のショット内の
チップ2(例えばA’)のパターンの映像を取り込む必
要がないため、レチクル上の欠陥が転写されたいわゆる
固定欠陥が存在する場合であっても検出することが可能
となる。
【0031】つまり、例えば固定欠陥がチップAおよび
チップA’の同一位置に存在している場合であってもパ
ターンの映像の取り込みとしてチップA、チップB、チ
ップCの3つのチップ2だけで済むために先に述べた比
較結果にてチップAに何らかの欠陥(固定欠陥かランダ
ム欠陥かの区別はつかない)が存在することを特定でき
る。また、固定欠陥がランダム欠陥かの区別を行う場合
には、チップA、チップB、チップCにおける欠陥検査
の後に隣のショット内のチップA’、チップB’、チッ
プC’における欠陥検査を行い、検出された欠陥の位置
を比較してそれが同一の位置に存在するかどうかを算出
し、同一の位置に欠陥が存在すれば固定欠陥であると判
別できる。
チップA’の同一位置に存在している場合であってもパ
ターンの映像の取り込みとしてチップA、チップB、チ
ップCの3つのチップ2だけで済むために先に述べた比
較結果にてチップAに何らかの欠陥(固定欠陥かランダ
ム欠陥かの区別はつかない)が存在することを特定でき
る。また、固定欠陥がランダム欠陥かの区別を行う場合
には、チップA、チップB、チップCにおける欠陥検査
の後に隣のショット内のチップA’、チップB’、チッ
プC’における欠陥検査を行い、検出された欠陥の位置
を比較してそれが同一の位置に存在するかどうかを算出
し、同一の位置に欠陥が存在すれば固定欠陥であると判
別できる。
【0032】なお、これらの実施例においては、光学読
み取り機構3によるパターンの映像の取り込みとしてチ
ップ2の一ライン分を取り込むことを例として説明した
が、必ずしも一ライン分を取り込む必要はなく、3つの
チップ2においてそれぞれ対応するパターンの一部を取
り込んで比較すれば同様である。
み取り機構3によるパターンの映像の取り込みとしてチ
ップ2の一ライン分を取り込むことを例として説明した
が、必ずしも一ライン分を取り込む必要はなく、3つの
チップ2においてそれぞれ対応するパターンの一部を取
り込んで比較すれば同様である。
【0033】また、パターンの映像を取り込む3つのチ
ップ2がスキャン方向a、bに沿って連設されている場
合には、先に述べたように連続してパターンの映像を取
り込むようにすればよいが、連設されていない場合には
3つのパターンの映像をそれぞれ別個に取り込んで比較
を行うようにすればよい。
ップ2がスキャン方向a、bに沿って連設されている場
合には、先に述べたように連続してパターンの映像を取
り込むようにすればよいが、連設されていない場合には
3つのパターンの映像をそれぞれ別個に取り込んで比較
を行うようにすればよい。
【0034】
【発明の効果】以上説明したように、本発明のウエハの
欠陥検査方法によれば次のような効果がある。すなわ
ち、3つのチップのパターンの映像を取り込んで比較す
ることにより、その3つのチップのうちのどのチップに
欠陥が存在するかを特定できるようになる。また、3つ
のチップが一定方向に沿って連設されている場合には効
率良く欠陥の検査を行うことができる。このため、作業
者が光学顕微鏡等を用いて目視を行い欠陥の位置を判別
する必要がなく、迅速なウエハの欠陥検査を行うことが
できるため、半導体装置の製造歩留りを向上させること
が可能となる。
欠陥検査方法によれば次のような効果がある。すなわ
ち、3つのチップのパターンの映像を取り込んで比較す
ることにより、その3つのチップのうちのどのチップに
欠陥が存在するかを特定できるようになる。また、3つ
のチップが一定方向に沿って連設されている場合には効
率良く欠陥の検査を行うことができる。このため、作業
者が光学顕微鏡等を用いて目視を行い欠陥の位置を判別
する必要がなく、迅速なウエハの欠陥検査を行うことが
できるため、半導体装置の製造歩留りを向上させること
が可能となる。
【図1】本発明のウエハの欠陥検査方法を説明する図で
ある。
ある。
【図2】比較結果を説明する図で、(a)は比較回路、
(b)は比較結果を示すものである。
(b)は比較結果を示すものである。
【図3】他の例を説明する図である。
【図4】従来例を説明する図である。
1 ウエハ 2 チップ 3 光学読み取り機構 4 1ラインメモリ 5 比較器
Claims (2)
- 【請求項1】 同一のパターンから成るチップが少なく
とも3つ以上形成されたウエハを用い、該ウエハに存在
する欠陥の検査を行う方法であって、 先ず、第1チップの一部のパターンの映像を光学読み取
り機構にて取り込んだ後、前記第1チップの一部のパタ
ーンと対応する第2チップの一部のパターンの映像を該
光学読み取り機構にて取り込んでそれぞれの映像を比較
することで第1の比較結果を得る工程と、 次いで、前記第2チップの一部のパターンと対応する第
3チップの一部のパターンの映像を前記光学読み取り機
構にて取り込み、該映像と前記第2チップの一部のパタ
ーンの映像とを比較することで第2の比較結果を得る工
程と、 前記第1の比較結果および前記第2の比較結果に基づい
て前記第1チップ、前記第2チップまたは前記第3チッ
プのうちのどのチップに前記欠陥が存在するかを特定す
る工程とから成ることを特徴とするウエハの欠陥検査方
法。 - 【請求項2】 請求項1記載のウエハの欠陥検査方法に
おいて、 前記第1チップと前記第2チップと前記第3チップとは
一定方向に沿って連設されている場合には、前記一部の
パターンは該一定方向に沿ったチップ上の一定長さ分の
パターンから成り、それぞれのチップの該一定長さ分の
パターンの映像を該一定方向に沿って取り込むことを特
徴とするウエハの欠陥検査方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19400793A JPH0727708A (ja) | 1993-07-09 | 1993-07-09 | ウエハの欠陥検査方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19400793A JPH0727708A (ja) | 1993-07-09 | 1993-07-09 | ウエハの欠陥検査方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0727708A true JPH0727708A (ja) | 1995-01-31 |
Family
ID=16317422
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19400793A Pending JPH0727708A (ja) | 1993-07-09 | 1993-07-09 | ウエハの欠陥検査方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0727708A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH11160247A (ja) * | 1997-11-28 | 1999-06-18 | Hitachi Ltd | 外観検査方法およびその装置 |
| JP2013250225A (ja) * | 2012-06-04 | 2013-12-12 | Toray Eng Co Ltd | 外観検査装置及び外観検査方法 |
| CN103604814A (zh) * | 2013-10-23 | 2014-02-26 | 上海华力微电子有限公司 | 一种芯片缺陷的检测方法 |
| CN108417505A (zh) * | 2018-02-02 | 2018-08-17 | 武汉新芯集成电路制造有限公司 | 一种对晶圆进行缺陷扫描的分析方法及缺陷扫描设备 |
| CN111048435A (zh) * | 2019-12-25 | 2020-04-21 | 上海华力微电子有限公司 | 缺陷监控方法 |
| WO2020105319A1 (ja) * | 2018-11-19 | 2020-05-28 | 株式会社日立ハイテク | 欠陥検査装置、欠陥検査方法 |
| CN114509446A (zh) * | 2020-10-23 | 2022-05-17 | 联华电子股份有限公司 | 晶片缺角自动检测方法与晶片缺角自动检测系统 |
-
1993
- 1993-07-09 JP JP19400793A patent/JPH0727708A/ja active Pending
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH11160247A (ja) * | 1997-11-28 | 1999-06-18 | Hitachi Ltd | 外観検査方法およびその装置 |
| JP2013250225A (ja) * | 2012-06-04 | 2013-12-12 | Toray Eng Co Ltd | 外観検査装置及び外観検査方法 |
| WO2013183471A1 (ja) * | 2012-06-04 | 2013-12-12 | 東レエンジニアリング株式会社 | 外観検査装置及び外観検査方法 |
| CN103604814A (zh) * | 2013-10-23 | 2014-02-26 | 上海华力微电子有限公司 | 一种芯片缺陷的检测方法 |
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| WO2020105319A1 (ja) * | 2018-11-19 | 2020-05-28 | 株式会社日立ハイテク | 欠陥検査装置、欠陥検査方法 |
| US11788973B2 (en) | 2018-11-19 | 2023-10-17 | Hitachi High-Tech Corporation | Defect inspection device and defect inspection method |
| CN111048435A (zh) * | 2019-12-25 | 2020-04-21 | 上海华力微电子有限公司 | 缺陷监控方法 |
| CN114509446A (zh) * | 2020-10-23 | 2022-05-17 | 联华电子股份有限公司 | 晶片缺角自动检测方法与晶片缺角自动检测系统 |
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