JPH07280748A - Ｘ線装置用温湿度制御装置 - Google Patents
Ｘ線装置用温湿度制御装置Info
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- JPH07280748A JPH07280748A JP6096955A JP9695594A JPH07280748A JP H07280748 A JPH07280748 A JP H07280748A JP 6096955 A JP6096955 A JP 6096955A JP 9695594 A JP9695594 A JP 9695594A JP H07280748 A JPH07280748 A JP H07280748A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 分流式湿度発生装置を用いた温湿度制御装置
において、試料室内の湿度を安定して高精度に希望値に
維持できるようにする。 【構成】 試料４を気密に収容する試料室７と、試料室
７内へ送り込まれる湿度保有ガスを発生する湿度発生装
置２２と、湿度発生装置２２と試料室７とを気密に連結
するガス輸送管２３とを有するＸ線装置用温湿度制御装
置である。湿度発生装置２２は、ミキサー２７によって
乾燥ガスと湿度飽和ガスとを混合することにより、湿度
保有ガスの湿度の大きさを調節する分流式湿度発生装置
である。湿度発生装置２２内の温度と試料室７内の温度
とが互いに等しい温度を維持するようにヒータ線４１及
び１６を制御する。試料室７内において、温度変化に起
因する湿度変化が防止されて湿度が安定して高精度に制
御される。
において、試料室内の湿度を安定して高精度に希望値に
維持できるようにする。 【構成】 試料４を気密に収容する試料室７と、試料室
７内へ送り込まれる湿度保有ガスを発生する湿度発生装
置２２と、湿度発生装置２２と試料室７とを気密に連結
するガス輸送管２３とを有するＸ線装置用温湿度制御装
置である。湿度発生装置２２は、ミキサー２７によって
乾燥ガスと湿度飽和ガスとを混合することにより、湿度
保有ガスの湿度の大きさを調節する分流式湿度発生装置
である。湿度発生装置２２内の温度と試料室７内の温度
とが互いに等しい温度を維持するようにヒータ線４１及
び１６を制御する。試料室７内において、温度変化に起
因する湿度変化が防止されて湿度が安定して高精度に制
御される。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、Ｘ線装置に装着された
試料のまわりの温度及び湿度を調節するための温湿度制
御装置に関する。
試料のまわりの温度及び湿度を調節するための温湿度制
御装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】産業界においては、Ｘ線を利用した種々
の装置が存在する。例えばその１つとして、試料の結晶
構造等を解析するために用いられるＸ線回折装置が広く
知られている。このようなＸ線装置による測定におい
て、試料のまわりの湿度を希望の値に設定したり、その
湿度を希望の条件に従って変化させることがある。この
ような必要性に応じて本出願人は、特開平３−２１８４
４８号公報において、いわゆる分流式湿度発生装置を用
いた湿度制御装置を提案した。
の装置が存在する。例えばその１つとして、試料の結晶
構造等を解析するために用いられるＸ線回折装置が広く
知られている。このようなＸ線装置による測定におい
て、試料のまわりの湿度を希望の値に設定したり、その
湿度を希望の条件に従って変化させることがある。この
ような必要性に応じて本出願人は、特開平３−２１８４
４８号公報において、いわゆる分流式湿度発生装置を用
いた湿度制御装置を提案した。
【０００３】この湿度制御装置では、流量計を備えた分
流式湿度発生器で生成された湿度保有空気をヒータを備
えた空気輸送管を経て、湿度センサを備えた試料室に導
入する。流量計は操作部入力に基づいて制御され、この
制御により湿度を調整（すなわち設定）すると共に、湿
度センサ入力によりヒータを制御して湿度を安定化させ
る。
流式湿度発生器で生成された湿度保有空気をヒータを備
えた空気輸送管を経て、湿度センサを備えた試料室に導
入する。流量計は操作部入力に基づいて制御され、この
制御により湿度を調整（すなわち設定）すると共に、湿
度センサ入力によりヒータを制御して湿度を安定化させ
る。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記の従
来装置では、湿度発生器内の温度及び／又は試料室内の
温度の変動に応じて試料室内の湿度が微妙に変動し、よ
って試料室内の湿度を安定して高精度に一定値に維持す
ることができなかった。特に、高湿度域及び低湿度域で
その傾向が顕著であった。さらに、空気輸送管をヒータ
によって温度制御することによって湿度の安定化を図っ
ていたため、試料室温度がヒータ温度に依存して変動
し、やはり、試料室内の湿度を安定して高精度に維持す
ることができなかった。
来装置では、湿度発生器内の温度及び／又は試料室内の
温度の変動に応じて試料室内の湿度が微妙に変動し、よ
って試料室内の湿度を安定して高精度に一定値に維持す
ることができなかった。特に、高湿度域及び低湿度域で
その傾向が顕著であった。さらに、空気輸送管をヒータ
によって温度制御することによって湿度の安定化を図っ
ていたため、試料室温度がヒータ温度に依存して変動
し、やはり、試料室内の湿度を安定して高精度に維持す
ることができなかった。
【０００５】本発明は、上記の問題点を解消するために
なされたものであって、分流式湿度発生装置を用いた温
湿度制御装置において、試料室内の湿度を希望値に安定
して高精度に維持できるようにすることを目的とする。
なされたものであって、分流式湿度発生装置を用いた温
湿度制御装置において、試料室内の湿度を希望値に安定
して高精度に維持できるようにすることを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明に係るＸ線装置用
温湿度制御装置は、Ｘ線装置に装着された試料のまわり
の温度及び湿度を調節するための温湿度制御装置であっ
て、試料を気密に収容する試料室と、その試料室内へ送
り込むための湿度保有ガスを発生する湿度発生手段と、
湿度発生手段と試料室との間を気密に連結するガス輸送
管とを有するＸ線装置用温湿度制御装置である。湿度発
生手段は、ミキサーによって乾燥ガスと湿度飽和ガスと
を混合することにより、上記湿度保有ガスの湿度の大き
さを調節する分流式湿度発生装置によって構成される。
そして、湿度発生手段内の温度と試料室内の温度とが互
いに等しい温度を維持するように制御される。
温湿度制御装置は、Ｘ線装置に装着された試料のまわり
の温度及び湿度を調節するための温湿度制御装置であっ
て、試料を気密に収容する試料室と、その試料室内へ送
り込むための湿度保有ガスを発生する湿度発生手段と、
湿度発生手段と試料室との間を気密に連結するガス輸送
管とを有するＸ線装置用温湿度制御装置である。湿度発
生手段は、ミキサーによって乾燥ガスと湿度飽和ガスと
を混合することにより、上記湿度保有ガスの湿度の大き
さを調節する分流式湿度発生装置によって構成される。
そして、湿度発生手段内の温度と試料室内の温度とが互
いに等しい温度を維持するように制御される。
【０００７】
【作用】湿度発生手段内の温度と試料室内の温度とが互
いに等しい温度に維持されるので、湿度発生手段で発生
した湿度が変化することなく正確に試料室内に再現され
る。しかも、試料室内の温度が一定温度に維持制御され
るので、温度変化に起因する湿度変化が防止され、よっ
て湿度を安定して高精度に維持できる。
いに等しい温度に維持されるので、湿度発生手段で発生
した湿度が変化することなく正確に試料室内に再現され
る。しかも、試料室内の温度が一定温度に維持制御され
るので、温度変化に起因する湿度変化が防止され、よっ
て湿度を安定して高精度に維持できる。
【０００８】
【実施例】図５は、本発明に係る温湿度制御装置を用い
たＸ線装置の一実施例である横型Ｘ線回折装置を示して
いる。このＸ線回折装置は、テーブル１上に設置された
Ｘ線管２と、広角ゴニオメータ３とを有している。広角
ゴニオメータ３は、試料４のＸ線回折面を通る試料軸ω
を中心として所定の角速度で回転、いわゆるθ回転する
θ回転台５と、同じく試料軸ωを中心としてθ回転の２
倍の角速度で同じ方向へ回転、いわゆる２θ回転する２
θ回転台６とを有している。θ回転台５をθ回転させ、
２θ回転台６を２θ回転させるための回転駆動系はゴニ
オベース１０の内部に格納されている。
たＸ線装置の一実施例である横型Ｘ線回折装置を示して
いる。このＸ線回折装置は、テーブル１上に設置された
Ｘ線管２と、広角ゴニオメータ３とを有している。広角
ゴニオメータ３は、試料４のＸ線回折面を通る試料軸ω
を中心として所定の角速度で回転、いわゆるθ回転する
θ回転台５と、同じく試料軸ωを中心としてθ回転の２
倍の角速度で同じ方向へ回転、いわゆる２θ回転する２
θ回転台６とを有している。θ回転台５をθ回転させ、
２θ回転台６を２θ回転させるための回転駆動系はゴニ
オベース１０の内部に格納されている。
【０００９】試料４はθ回転台５の上に着脱可能に装着
され、その試料４のまわりは、Ｘ線透過用窓１１を備え
た試料室７によって気密に包囲されている。２θ回転台
６の右端部には検出器アーム８が固定されて図の右方へ
延びており、その検出器アーム８上に受光スリット９及
びＸ線カウンタ１０が固定されている。試料室７とＸ線
管２との間には、ゴニオベース１０上に固定設置された
スタンド１２によって支持された発散スリット１３が配
置されている。
され、その試料４のまわりは、Ｘ線透過用窓１１を備え
た試料室７によって気密に包囲されている。２θ回転台
６の右端部には検出器アーム８が固定されて図の右方へ
延びており、その検出器アーム８上に受光スリット９及
びＸ線カウンタ１０が固定されている。試料室７とＸ線
管２との間には、ゴニオベース１０上に固定設置された
スタンド１２によって支持された発散スリット１３が配
置されている。
【００１０】このＸ線回折装置では、Ｘ線管２内のＸ線
焦点Ｆから放射されたＸ線が、例えばラインフォーカス
のＸ線ビームとして取り出され、さらに発散スリット１
３によって水平方向内（すなわち、紙面垂直方向内）の
発散角が制限され、さらに窓１１を通して試料室７内へ
入り、そしてさらに試料４へ入射する。入射Ｘ線ビーム
と試料４の結晶格子面との間でブラッグ角が満足される
とその試料４でＸ線の回折が生じ、その回折Ｘ線は窓１
１を通って試料室７の外部へ取り出され、さらに受光ス
リット９に集中してそこを通過し、そしてＸ線カウンタ
１０によってカウントされ、そのカウント結果からＸ線
強度が演算される。ここでさらに、θ回転台５従って試
料４がθ回転し、同時に検出器アーム８従って受光スリ
ット９及びＸ線カウンタ１０が２θ回転する。その結
果、回折角度２θに関する回折Ｘ線強度の変化の状態を
表す周知のＸ線回折図形が求められる。
焦点Ｆから放射されたＸ線が、例えばラインフォーカス
のＸ線ビームとして取り出され、さらに発散スリット１
３によって水平方向内（すなわち、紙面垂直方向内）の
発散角が制限され、さらに窓１１を通して試料室７内へ
入り、そしてさらに試料４へ入射する。入射Ｘ線ビーム
と試料４の結晶格子面との間でブラッグ角が満足される
とその試料４でＸ線の回折が生じ、その回折Ｘ線は窓１
１を通って試料室７の外部へ取り出され、さらに受光ス
リット９に集中してそこを通過し、そしてＸ線カウンタ
１０によってカウントされ、そのカウント結果からＸ線
強度が演算される。ここでさらに、θ回転台５従って試
料４がθ回転し、同時に検出器アーム８従って受光スリ
ット９及びＸ線カウンタ１０が２θ回転する。その結
果、回折角度２θに関する回折Ｘ線強度の変化の状態を
表す周知のＸ線回折図形が求められる。
【００１１】本実施例では、試料室７に温湿度制御装置
１４が付設され、この制御装置１４の働きによって試料
室７内すなわち試料４のまわりが正確に一定湿度、ある
いは特定の条件に従って変化する湿度に設定される。以
下、その湿度制御について詳しく説明する。
１４が付設され、この制御装置１４の働きによって試料
室７内すなわち試料４のまわりが正確に一定湿度、ある
いは特定の条件に従って変化する湿度に設定される。以
下、その湿度制御について詳しく説明する。
【００１２】試料室７は、図４に示すように、熱伝導率
の高い金属、例えば銅（Ｃｕ）、銀（Ａｕ）等によって
形成された試料ケース１５と、その試料ケース１５の内
面に均一に配回されたヒータ線１６と、その試料ケース
１５の外面に均一に配回された冷媒搬送路としての通水
管１７とを有している。試料ケース１５の天井面にはガ
ス導入口１８及びガス導出口１９が設けられ、試料ケー
ス１５のうち試料４をとりまく部分にアルミ箔等によっ
て構成された内外２層のＸ線透過用窓１１ａ及び１１ｂ
が設けられている。また、これらのＸ線透過用窓１１ａ
と１１ｂとの間には、図７にも示すように、窓枠を配回
するように、ヒータ線４７が配置されている。また、θ
回転台５の上端の試料４に近い部分に温湿度センサ２０
が配置され、試料ケース１５の内面に接触又は近接させ
て温度センサ２１が配置されている。
の高い金属、例えば銅（Ｃｕ）、銀（Ａｕ）等によって
形成された試料ケース１５と、その試料ケース１５の内
面に均一に配回されたヒータ線１６と、その試料ケース
１５の外面に均一に配回された冷媒搬送路としての通水
管１７とを有している。試料ケース１５の天井面にはガ
ス導入口１８及びガス導出口１９が設けられ、試料ケー
ス１５のうち試料４をとりまく部分にアルミ箔等によっ
て構成された内外２層のＸ線透過用窓１１ａ及び１１ｂ
が設けられている。また、これらのＸ線透過用窓１１ａ
と１１ｂとの間には、図７にも示すように、窓枠を配回
するように、ヒータ線４７が配置されている。また、θ
回転台５の上端の試料４に近い部分に温湿度センサ２０
が配置され、試料ケース１５の内面に接触又は近接させ
て温度センサ２１が配置されている。
【００１３】図１は温湿度制御装置１４の一実施例の構
成を詳細に示している。この温湿度制御装置１４は、湿
度発生装置２２と、その湿度発生装置２２と試料室７と
を気密に連結するガス輸送管２３とを有している。湿度
発生装置２２は、乾燥ガス供給管２４から分岐してミキ
サー２７で再び連結する２本のガス管、すなわち乾燥ガ
ス管２５及び湿度ガス管２６を有している。乾燥ガス管
２５の途中にはマスフローコントローラ２８が配設さ
れ、湿度ガス管２６にはマスフローコントローラ２９、
ボイラー３０、飽和蒸気発生器３１、そして三方弁３２
の各要素が配設されている。
成を詳細に示している。この温湿度制御装置１４は、湿
度発生装置２２と、その湿度発生装置２２と試料室７と
を気密に連結するガス輸送管２３とを有している。湿度
発生装置２２は、乾燥ガス供給管２４から分岐してミキ
サー２７で再び連結する２本のガス管、すなわち乾燥ガ
ス管２５及び湿度ガス管２６を有している。乾燥ガス管
２５の途中にはマスフローコントローラ２８が配設さ
れ、湿度ガス管２６にはマスフローコントローラ２９、
ボイラー３０、飽和蒸気発生器３１、そして三方弁３２
の各要素が配設されている。
【００１４】ミキサー２７は、例えば図２に示すよう
に、乾燥ガス管２５、湿度ガス管２６及びガス輸送管２
３を互いに連結し、さらにその連結点に耐腐食性の金
属、例えば貴金属、ステンレス等によって形成された金
属綿３３が配置される。マスフローコントローラ２８，
２９は、例えば、電磁バルブを内蔵していて湿度コント
ローラ３４によってその電磁バルブの開閉量を調節する
ことにより、それぞれ乾燥ガス管２５及び湿度ガス管２
６を流れるガスの流量を調節する。
に、乾燥ガス管２５、湿度ガス管２６及びガス輸送管２
３を互いに連結し、さらにその連結点に耐腐食性の金
属、例えば貴金属、ステンレス等によって形成された金
属綿３３が配置される。マスフローコントローラ２８，
２９は、例えば、電磁バルブを内蔵していて湿度コント
ローラ３４によってその電磁バルブの開閉量を調節する
ことにより、それぞれ乾燥ガス管２５及び湿度ガス管２
６を流れるガスの流量を調節する。
【００１５】湿度ガス管２６に設けたボイラー３０は、
温度コントローラ３５からの指示に従って湿度ガス管２
６を流れるガスを加熱する。飽和蒸気発生器３１は、送
られてきたガスを湿度飽和状態（湿度１００％）にして
下流側へ送り出す。三方弁３２は、ホストコンピュータ
３６からの指示に従って次の２つの接続モード、すなわ
ち飽和蒸気発生器３１とミキサー２７とを互いに連結す
る混合モードと、飽和蒸気発生器３１の出力口を外部へ
排気する排気モードとの間で切り替わる。
温度コントローラ３５からの指示に従って湿度ガス管２
６を流れるガスを加熱する。飽和蒸気発生器３１は、送
られてきたガスを湿度飽和状態（湿度１００％）にして
下流側へ送り出す。三方弁３２は、ホストコンピュータ
３６からの指示に従って次の２つの接続モード、すなわ
ち飽和蒸気発生器３１とミキサー２７とを互いに連結す
る混合モードと、飽和蒸気発生器３１の出力口を外部へ
排気する排気モードとの間で切り替わる。
【００１６】試料室７には、記述の通り、ヒータ線１６
が設けられている。このヒータ線１６は、ホストコンピ
ュータ３６によって動作制御される温度コントローラ３
７からの指示に従って発熱する。また、温度コントロー
ラ３８からの指示に従って発熱するヒータ線３９がガス
輸送管２３のまわりに設けられ、さらにホストコンピュ
ータ３６によって動作制御される温度コントローラ４０
からの指示に従って発熱するヒータ線４１が湿度発生装
置２２のまわりに設けられる。
が設けられている。このヒータ線１６は、ホストコンピ
ュータ３６によって動作制御される温度コントローラ３
７からの指示に従って発熱する。また、温度コントロー
ラ３８からの指示に従って発熱するヒータ線３９がガス
輸送管２３のまわりに設けられ、さらにホストコンピュ
ータ３６によって動作制御される温度コントローラ４０
からの指示に従って発熱するヒータ線４１が湿度発生装
置２２のまわりに設けられる。
【００１７】試料室７において試料４の近傍に配置され
た温湿度センサ２０によって採取された温度信号Ｓ１及
び湿度信号Ｓ２は温湿度計４２によって信号処理され、
温度信号Ｓ１は温度コントローラ３７へ送られ、湿度信
号Ｓ２は湿度コントローラ３４へ送られる。また、必要
に応じて、試料４のまわりの温度及び湿度を記録計４３
に表示する。温度コントローラ３７には、試料ケース１
５の内面近傍に配置した温度センサ２１からの温度信号
Ｓ３も送られる。温度コントローラ３７は、送り込まれ
る２つの温度信号Ｓ１及びＳ３に基づいて、例えば図６
に示すような周知のカスケード方式に基づく周知のＰＩ
Ｄ制御を行って、試料室７内の温度を予め決められた設
定温度に正確に維持する。
た温湿度センサ２０によって採取された温度信号Ｓ１及
び湿度信号Ｓ２は温湿度計４２によって信号処理され、
温度信号Ｓ１は温度コントローラ３７へ送られ、湿度信
号Ｓ２は湿度コントローラ３４へ送られる。また、必要
に応じて、試料４のまわりの温度及び湿度を記録計４３
に表示する。温度コントローラ３７には、試料ケース１
５の内面近傍に配置した温度センサ２１からの温度信号
Ｓ３も送られる。温度コントローラ３７は、送り込まれ
る２つの温度信号Ｓ１及びＳ３に基づいて、例えば図６
に示すような周知のカスケード方式に基づく周知のＰＩ
Ｄ制御を行って、試料室７内の温度を予め決められた設
定温度に正確に維持する。
【００１８】図１において、試料室７において試料ケー
ス１５に通水管１７を設けることは記述した通りである
が、湿度発生装置２２のまわりにも同様に通水管４４が
設けられる。そして、これらの通水管１７及び４４には
冷却器４５から送り出される冷却水が循環して流され
る。この冷却水は本温湿度制御装置が稼働している間、
常時、一定量流される。
ス１５に通水管１７を設けることは記述した通りである
が、湿度発生装置２２のまわりにも同様に通水管４４が
設けられる。そして、これらの通水管１７及び４４には
冷却器４５から送り出される冷却水が循環して流され
る。この冷却水は本温湿度制御装置が稼働している間、
常時、一定量流される。
【００１９】以下、上記構成より成る温湿度制御装置の
動作について説明する。
動作について説明する。
【００２０】湿度コントローラ３４には、目標湿度に対
応する基準信号Ｓｒがホストコンピュータ３６から送り
込まれ、温湿度計４２から送られる湿度信号Ｓ２がその
基準信号Ｓｒと比較され、湿度信号Ｓ２が基準信号Ｓｒ
と一致するように、各マスフローコントローラ２８及び
２９による流量制御が行われる。このときに湿度コント
ローラ３４によって行われる流量制御は、例えば図３に
示すような総量一定の正逆比例制御で行われる。すなわ
ち図示の通り、乾燥ガス又は湿度飽和ガスのいずれか一
方を増量するときには他方を減量して、それらの総量が
常に一定量になるように制御する。このように乾燥ガ
ス、例えば乾燥空気に関する総量一定の流量制御を行う
ことにより、試料室７へ送り込まれるガスの量は常に一
定に保持されるので、試料室７内におけるガスの脈動が
防止され、試料４のまわりの雰囲気が安定状態に置かれ
る。
応する基準信号Ｓｒがホストコンピュータ３６から送り
込まれ、温湿度計４２から送られる湿度信号Ｓ２がその
基準信号Ｓｒと比較され、湿度信号Ｓ２が基準信号Ｓｒ
と一致するように、各マスフローコントローラ２８及び
２９による流量制御が行われる。このときに湿度コント
ローラ３４によって行われる流量制御は、例えば図３に
示すような総量一定の正逆比例制御で行われる。すなわ
ち図示の通り、乾燥ガス又は湿度飽和ガスのいずれか一
方を増量するときには他方を減量して、それらの総量が
常に一定量になるように制御する。このように乾燥ガ
ス、例えば乾燥空気に関する総量一定の流量制御を行う
ことにより、試料室７へ送り込まれるガスの量は常に一
定に保持されるので、試料室７内におけるガスの脈動が
防止され、試料４のまわりの雰囲気が安定状態に置かれ
る。
【００２１】通常の温湿度制御の際には湿度ガス管２６
に設けた三方弁３２が飽和蒸気発生器３１とミキサー２
７とを互いに連結する混合モードに設定される。乾燥ガ
ス管２５を流れる流量制御された乾燥ガス及び湿度ガス
管２６を流れる流量制御された湿度飽和ガスはミキサー
２７によって混合され、これにより希望の湿度を保有す
るガスが生成される。このとき図２に示すようにミキサ
ー２７内には金属綿３３が配置されているので、乾燥ガ
スと湿度飽和ガスとの混合が効率良く促進され、湿度が
均一な混合ガスが得られる。
に設けた三方弁３２が飽和蒸気発生器３１とミキサー２
７とを互いに連結する混合モードに設定される。乾燥ガ
ス管２５を流れる流量制御された乾燥ガス及び湿度ガス
管２６を流れる流量制御された湿度飽和ガスはミキサー
２７によって混合され、これにより希望の湿度を保有す
るガスが生成される。このとき図２に示すようにミキサ
ー２７内には金属綿３３が配置されているので、乾燥ガ
スと湿度飽和ガスとの混合が効率良く促進され、湿度が
均一な混合ガスが得られる。
【００２２】得られた混合ガス、すなわち湿度保有ガス
はガス輸送管２３を通して試料室７内へ送り込まれ、試
料４のまわりを希望の湿度状態に設定する。この状態
で、図５に関連して説明したＸ線回折測定が実行され
る。一般に、湿度と温度は密接に関連していて、温度が
変化すればそれに応じて湿度も変化する。よって、試料
室７内へ送られるガスの湿度を湿度発生装置２２によっ
て正確に制御したとしても、試料室７の温度が変動すれ
ば、その湿度を一定に保持することは難しい。これに対
し本実施例では、試料室７に設置した冷却用通水管１７
及び温度コントローラ３７によって発熱制御される加熱
用ヒータ線１６の働きにより、試料室７内が希望の一定
温度に維持される。従って、試料室７内をきわめて正確
に目標湿度に維持できる。
はガス輸送管２３を通して試料室７内へ送り込まれ、試
料４のまわりを希望の湿度状態に設定する。この状態
で、図５に関連して説明したＸ線回折測定が実行され
る。一般に、湿度と温度は密接に関連していて、温度が
変化すればそれに応じて湿度も変化する。よって、試料
室７内へ送られるガスの湿度を湿度発生装置２２によっ
て正確に制御したとしても、試料室７の温度が変動すれ
ば、その湿度を一定に保持することは難しい。これに対
し本実施例では、試料室７に設置した冷却用通水管１７
及び温度コントローラ３７によって発熱制御される加熱
用ヒータ線１６の働きにより、試料室７内が希望の一定
温度に維持される。従って、試料室７内をきわめて正確
に目標湿度に維持できる。
【００２３】内外２層のＸ線透過用窓１１ａ，１１ｂの
間の窓枠に設けたヒータ４７は、これらのＸ線透過用窓
１１ａ，１１ｂが結露するのを防止する。
間の窓枠に設けたヒータ４７は、これらのＸ線透過用窓
１１ａ，１１ｂが結露するのを防止する。
【００２４】さらに、試料室７内の温度制御に加えて、
湿度発生装置２２に設けたヒータ線４１及び通水管４４
によって湿度発生装置２２内を温度制御し、同時にヒー
タ線３９によってガス輸送管２３を温度制御することに
より、次のような技術的特徴が得られる。
湿度発生装置２２に設けたヒータ線４１及び通水管４４
によって湿度発生装置２２内を温度制御し、同時にヒー
タ線３９によってガス輸送管２３を温度制御することに
より、次のような技術的特徴が得られる。
【００２５】まず、湿度発生装置２２、ガス輸送管２３
及び試料室７の各温度を等しく保持した場合には、湿度
発生装置２２で発生した湿度を変動させることなくその
まま正確に試料室７内で再現できる。また、ガス輸送管
２３の温度を湿度発生装置２２及び試料室７の温度より
も高く保持した場合には、ガス輸送管２３内での結露を
確実に防止できる。この現象は、特に試料室７内を高湿
度に設定する場合に有利に働く。
及び試料室７の各温度を等しく保持した場合には、湿度
発生装置２２で発生した湿度を変動させることなくその
まま正確に試料室７内で再現できる。また、ガス輸送管
２３の温度を湿度発生装置２２及び試料室７の温度より
も高く保持した場合には、ガス輸送管２３内での結露を
確実に防止できる。この現象は、特に試料室７内を高湿
度に設定する場合に有利に働く。
【００２６】試料室７内をきわめて低湿度に設定したい
場合には、三方弁３２を排気モード、すなわち飽和蒸気
発生器３１の出力口を排気するモードに切り替える。こ
れにより、ミキサー２７への湿度飽和ガスの供給が完全
に遮断され、その結果、試料室７内の低湿度が実現でき
る。
場合には、三方弁３２を排気モード、すなわち飽和蒸気
発生器３１の出力口を排気するモードに切り替える。こ
れにより、ミキサー２７への湿度飽和ガスの供給が完全
に遮断され、その結果、試料室７内の低湿度が実現でき
る。
【００２７】以上、１つの実施例をあげて本発明を説明
したが、本発明はその実施例に限定されるものでなく、
請求の範囲に記載した技術的範囲内で種々に改変可能で
ある。
したが、本発明はその実施例に限定されるものでなく、
請求の範囲に記載した技術的範囲内で種々に改変可能で
ある。
【００２８】例えば、図５に示したＸ線回折装置は説明
をわかり易くするために例示したＸ線装置の一実施例で
あって、本発明に係る温湿度制御装置はそのようなＸ線
回折装置以外の任意のＸ線装置に適用できる。また、湿
度発生装置２２、ガス輸送管２３及び試料室７を加熱す
るための手段は、ヒータ線４１、３９、１６に限られ
ず、他の任意の加熱手段とすることができる。
をわかり易くするために例示したＸ線装置の一実施例で
あって、本発明に係る温湿度制御装置はそのようなＸ線
回折装置以外の任意のＸ線装置に適用できる。また、湿
度発生装置２２、ガス輸送管２３及び試料室７を加熱す
るための手段は、ヒータ線４１、３９、１６に限られ
ず、他の任意の加熱手段とすることができる。
【００２９】
【発明の効果】請求項１記載の温湿度制御装置によれ
ば、試料室内の温度を湿度発生手段内の温度と等しく維
持することにより、温度変動に起因する湿度変動を防止
して、試料室内の湿度を安定して高精度に維持制御でき
る。
ば、試料室内の温度を湿度発生手段内の温度と等しく維
持することにより、温度変動に起因する湿度変動を防止
して、試料室内の湿度を安定して高精度に維持制御でき
る。
【００３０】請求項２記載の温湿度制御装置によれば、
特に試料室内を高湿度に設定する場合に、ガス輸送管に
結露が生じることを確実に防止できる。
特に試料室内を高湿度に設定する場合に、ガス輸送管に
結露が生じることを確実に防止できる。
【００３１】請求項３記載の温湿度制御装置によれば、
試料室内において試料のまわりにガス流の脈動が生じる
ことを確実に防止できる。
試料室内において試料のまわりにガス流の脈動が生じる
ことを確実に防止できる。
【００３２】請求項４記載の温湿度制御装置によれば、
ミキサーへの湿度飽和ガスの供給を完全に遮断すること
により、試料室内をきわめて低湿度に設定できる。
ミキサーへの湿度飽和ガスの供給を完全に遮断すること
により、試料室内をきわめて低湿度に設定できる。
【００３３】請求項５記載の温湿度制御装置によれば、
乾燥ガスと湿度飽和ガスとの混合を促進でき、よって試
料室内を非常に均一な湿度雰囲気に設定できる。
乾燥ガスと湿度飽和ガスとの混合を促進でき、よって試
料室内を非常に均一な湿度雰囲気に設定できる。
【００３４】請求項６記載の温湿度制御装置によれば、
試料室内を均一に温度制御、従って湿度制御できる。ま
た、試料ケースを冷却することにより、室温以下の試料
室温度を実現できる。
試料室内を均一に温度制御、従って湿度制御できる。ま
た、試料ケースを冷却することにより、室温以下の試料
室温度を実現できる。
【００３５】請求項７記載の温湿度制御装置によれば、
特に試料室内を高湿度に設定する場合に、Ｘ線透過用窓
に結露が生じることを確実に防止できる。
特に試料室内を高湿度に設定する場合に、Ｘ線透過用窓
に結露が生じることを確実に防止できる。
【００３６】請求項８記載の温湿度制御装置によれば、
試料室内を高精度に温度制御、従って高精度に湿度制御
できる。
試料室内を高精度に温度制御、従って高精度に湿度制御
できる。
【００３７】
【図１】本発明に係るＸ線装置用温湿度制御装置の一実
施例を示す電気回路及び配管系のブロック図である。
施例を示す電気回路及び配管系のブロック図である。
【図２】ミキサーの一例を示す側面断面図である。
【図３】乾燥ガスと湿度飽和ガスとの混合方法について
の好ましい一例を示すグラフである。
の好ましい一例を示すグラフである。
【図４】試料室の一例を示す正面断面図である。
【図５】本発明の温湿度制御装置が用いられるＸ線装置
の一例である、横型Ｘ線回折装置を示す正面図である。
の一例である、横型Ｘ線回折装置を示す正面図である。
【図６】図１に示した温度コントローラに用いられる制
御方法の一例を示す電気制御ブロック図である。
御方法の一例を示す電気制御ブロック図である。
【図７】図４の要部、特にＸ線透過用窓を示す斜視図で
ある。
ある。
４ 試料 ７ 試料室 １４ 温湿度制御装置 １５ 試料ケース １６ ヒータ線 １７ 通水管 １８ ガス導入口 １９ ガス導出口 ２０ 温湿度センサ ２１ 温度センサ ２２ 湿度発生装置 ２３ ガス輸送管 ２４ 乾燥ガス供給管 ２５ 乾燥ガス管 ２６ 湿度ガス管 ２８，２９ マスフローコントローラ ３２ 三方弁 ３９ ヒータ線 ４１ ヒータ線 ４４ 通水管
Claims (8)
- 【請求項１】 Ｘ線装置に装着された試料のまわりの温
度及び湿度を調節するための温湿度制御装置であって、
試料を気密に収容する試料室と、その試料室内へ送り込
むための湿度保有ガスを発生する湿度発生手段と、湿度
発生手段と試料室との間を気密に連結するガス輸送管と
を有するＸ線装置用温湿度制御装置において、 上記湿度発生手段は、ミキサーによって乾燥ガスと湿度
飽和ガスとを混合することにより、上記湿度保有ガスの
湿度の大きさを調節する分流式湿度発生装置であり、そ
して湿度発生手段内の温度と試料室内の温度とが互いに
等しい温度を維持するように制御されることを特徴とす
るＸ線装置用温湿度制御装置。 - 【請求項２】 ガス輸送管の温度を湿度発生手段及び試
料室の温度より高温に設定することを特徴とする請求項
１記載のＸ線装置用温湿度制御装置。 - 【請求項３】 乾燥ガスの流量と湿度飽和ガスの流量と
の総和を一定量に維持しつつ、両者の流量を増減するこ
とを特徴とする請求項１記載のＸ線装置用温湿度制御装
置。 - 【請求項４】 上記ミキサーへの湿度飽和ガスの給送路
に３方弁を設け、その３方弁の切り替えにより、湿度飽
和ガスをミキサーへ供給することと、湿度飽和ガスを外
部へ排気することとを切り替えることを特徴とする請求
項１記載のＸ線装置用温湿度制御装置。 - 【請求項５】 上記ミキサーは、混合ガスを流すガス流
路と、そのガス流路中に配置された耐腐食性を有する金
属綿とを有することを特徴とする請求項１記載のＸ線装
置用温湿度制御装置。 - 【請求項６】 上記試料室は、試料を取り囲む試料ケー
スと、試料ケースの内面に均一に配回されたヒータ線
と、試料ケースの外面に均一に配回された冷媒搬送路と
を有することを特徴とする請求項１記載のＸ線装置用温
湿度制御装置。 - 【請求項７】 上記試料室は、内外２層の低Ｘ線吸収材
料から成るＸ線透過窓と、そのＸ線透過窓内に配回され
たヒータとを有することを特徴とする請求項１記載のＸ
線装置用温湿度制御装置。 - 【請求項８】 試料の近傍に配置した温湿度センサと、
ケース壁面近傍に配置した温度センサとを用いてカスケ
ード方式で試料室内の温度を制御することを特徴とする
請求項１記載のＸ線装置用温湿度制御装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP09695594A JP3407970B2 (ja) | 1994-04-11 | 1994-04-11 | Ｘ線装置用温湿度制御装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP09695594A JP3407970B2 (ja) | 1994-04-11 | 1994-04-11 | Ｘ線装置用温湿度制御装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07280748A true JPH07280748A (ja) | 1995-10-27 |
| JP3407970B2 JP3407970B2 (ja) | 2003-05-19 |
Family
ID=14178705
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP09695594A Expired - Fee Related JP3407970B2 (ja) | 1994-04-11 | 1994-04-11 | Ｘ線装置用温湿度制御装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3407970B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003535325A (ja) * | 2000-05-31 | 2003-11-25 | サーフェス・メジャメント・システムズ・リミテッド | 分析装置のための制御された試料環境雰囲気 |
| JP2004170155A (ja) * | 2002-11-18 | 2004-06-17 | Shimadzu Corp | 温調システムを備えた分析装置 |
| WO2013178251A1 (en) * | 2012-05-29 | 2013-12-05 | Excillum Ab | Coated x-ray window |
| US9171693B2 (en) | 2010-12-03 | 2015-10-27 | Excillum Ab | Coated X-ray window |
-
1994
- 1994-04-11 JP JP09695594A patent/JP3407970B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003535325A (ja) * | 2000-05-31 | 2003-11-25 | サーフェス・メジャメント・システムズ・リミテッド | 分析装置のための制御された試料環境雰囲気 |
| JP2004170155A (ja) * | 2002-11-18 | 2004-06-17 | Shimadzu Corp | 温調システムを備えた分析装置 |
| US9171693B2 (en) | 2010-12-03 | 2015-10-27 | Excillum Ab | Coated X-ray window |
| WO2013178251A1 (en) * | 2012-05-29 | 2013-12-05 | Excillum Ab | Coated x-ray window |
| US9245707B2 (en) | 2012-05-29 | 2016-01-26 | Excillum Ab | Coated X-ray window |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3407970B2 (ja) | 2003-05-19 |
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