JPH0933700A

JPH0933700A - Ｘ線モノクロメータ及びそれを用いたｘ線回折装置

Info

Publication number: JPH0933700A
Application number: JP7209070A
Authority: JP
Inventors: Yuji Kobayashi; 勇二小林
Original assignee: Rigaku Denki Co Ltd; Rigaku Corp
Current assignee: Rigaku Denki Co Ltd; Rigaku Corp
Priority date: 1995-07-25
Filing date: 1995-07-25
Publication date: 1997-02-07
Anticipated expiration: 2015-07-25
Also published as: JP3923101B2

Abstract

(57)【要約】【課題】単色化されると共に発散するＸ線ビームをＸ
線モノクロメータによって形成することにより、Ｘ線源
から試料に至るＸ線通過経路を短くして、Ｘ線回折装置
の全体の形状を非常に小型にする。【解決手段】連続Ｘ線Ｒr から特性Ｘ線Ｒt を取り出す
ためのＸ線モノクロメータ１である。このＸ線モノクロ
メータ１は、連続Ｘ線Ｒr が入射する位置に配置されて
いてＸ線を発散状態で回折するモザイク角度幅の広い第
１結晶１ａと、その第１結晶１ａに対して実質的に平行
に配置されていて第１結晶１ａで回折したＸ線が入射す
ると共にＸ線を発散状態で回折するモザイク角度幅の広
い第２結晶１ｂとを有する。これらの結晶は、モザイク
角度幅が０．３゜〜１゜程度のパイロリテックグラファ
イトによって形成できる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、連続Ｘ線から特性
Ｘ線を取り出すための、すなわち連続Ｘ線を単色化する
ためのＸ線モノクロメータに関する。また、本発明は、
そのＸ線モノクロメータを使用したＸ線回折装置に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】一般のＸ線回折装置では、Ｘ線源から発
生するＸ線を試料に照射し、そしてその試料で回折する
Ｘ線をＸ線カウンタ等といったＸ線検出手段によって検
出する。そして、その検出結果に基づいて試料に関する
種々の情報を観察する。通常、Ｘ線源からは種々の波長
のＸ線を含む連続Ｘ線が発生する。この連続Ｘ線をその
ままＸ線回折測定に用いると、Ｘ線検出手段によって得
られるＸ線像のバックグラウンドが強くなりすぎて求め
ようとする回折線像が鮮明に得られない場合がある。

【０００３】このバックグラウンドを除去するために、
Ｘ線源からＸ線カウンタへ至るＸ線の進行経路に関して
試料の上流側又は下流側にＸ線モノクロメータを設置し
たＸ線光学系が知られている。Ｘ線モノクロメータは、
通常、結晶によって構成され、その結晶に固有の結晶格
子面によって特定波長のＸ線のみを回折する。すなわ
ち、試料の上流側にこのＸ線モノクロメータを配置すれ
ば、Ｘ線源から出て試料へ向かうＸ線を単色化でき、一
方、試料の下流側にこのＸ線モノクロメータを配置すれ
ば、試料で回折したＸ線を単色化してＸ線カウンタへ導
くことができる。

【０００４】従来、試料の上流側にＸ線モノクロメータ
を配置した構造のＸ線回折装置として、図４に示すよう
な装置が知られている。このＸ線回折装置では、Ｘ線源
Ｆから放射された連続Ｘ線がＸ線モノクロメータ５１に
よって単色化される、すなわち、連続Ｘ線から特定波長
の特性Ｘ線が取り出される。取り出された特性Ｘ線は、
一旦、集束点Ａに集束した後再び発散し、そして発散ス
リット５２によって発散が規制さた状態で試料５３に入
射する。入射Ｘ線が試料５３の結晶格子面に対して所定
の回折条件、すなわちブラッグ条件を満足するとその試
料５３においてＸ線が回折する。

【０００５】その回折Ｘ線は集束点Ｂに集束し、さらに
その集束点Ｂに置かれた受光スリット５４を通過した
後、Ｘ線カウンタ５５によって受け取られ、このＸ線カ
ウンタ５５に付属するＸ線強度演算回路（図示せず）に
よって回折Ｘ線の強度が求められる。試料５３の中心ω
を中心として２つのＸ線集束点Ａ，Ｂを通る円Ｃ_Gはゴ
ニオメータサークルを示している。試料５３に対するＸ
線回折角度を変化させるためにＸ線源Ｆ、試料５３又は
Ｘ線カウンタ５５を試料軸線ωを中心として回転移動さ
せる際、集束点Ａ及びＢは常にゴニオサークルＣ_Gの上
に存在する。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】上記の通り、従来のＸ
線回折装置では、Ｘ線モノクロメータが１枚だけなの
で、そのＸ線モノクロメータで回折したＸ線は経路途中
の集束点Ａに集束する。従って、発散スリット５２以降
のＸ線光学系はその集束点Ａの下流側でないと設置でき
なかった。つまり、Ｘ線モノクロメータを使用した従来
のＸ線回折装置では、Ｘ線モノクロメータ５１を設置し
たためにＸ線源ＦからＸ線カウンタ５５に至るＸ線光学
系の全体が非常に大型にならざるを得なかった。

【０００７】本発明は、従来のＸ線モノクロメータ及び
Ｘ線回折装置における上記の問題点を解消するためにな
されたものであって、単色化されると共に発散するＸ線
ビームをＸ線モノクロメータによって形成することによ
り、Ｘ線源から試料に至るＸ線通過経路を短くして、Ｘ
線回折装置の全体の形状を非常に小型にすることを目的
とする。

【０００８】

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
め、本発明に係るＸ線モノクロメータは、図１に符号１
で示すように、連続Ｘ線Ｒｒが入射する位置に配置され
ていてそのＸ線を発散状態で回折するモザイク角度幅の
広い第１結晶１ａと、その第１結晶１ａに対して実質的
に平行に配置されていて第１結晶１ａで回折したＸ線が
入射すると共にそのＸ線を発散状態で回折するモザイク
角度幅の広い第２結晶１ｂとを有する。「実質的に平
行」というのは、厳密に平行の場合及び製作上の理由な
どによって実用上差し支えない程度に平行状態に誤差が
生じる場合を含むということである。

【０００９】モザイク角度幅が広いというのは、モザイ
ク角度幅が狭い結晶、例えばゲルマニウム、シリコン等
の単結晶の完全結晶は除かれるということである。この
ようなモザイク角度幅が広い結晶としては、例えばパイ
ロリテックグラファイト、すなわち熱合成によって形成
されるグラファイトによって形成される結晶を用いるこ
とができる。

【００１０】なお、モザイク角度幅というのは、いわゆ
る結晶のモザイク構造に起因して発生する回折線強度の
角度の広がりを表すものであり、例えば、図５に模式的
に示すようなＸ線測定系によって測定できる。この測定
系では、Ｘ線源Ｆから放射されたＸ線をモノクロメータ
５７によって平行Ｘ線ビームに成形して試料結晶５８に
照射し、その試料結晶５８を試料軸線ωを中心として微
小角度のω回転をさせながらＸ線カウンタ５５によって
回折線の強度を測定する。測定結果は、図６に示すよう
に、ω回転角度（ω）と回折線強度（Ｉ）とを直交座標
軸とするグラフ上に山形形状の回折線図形となって現れ
る。

【００１１】このような回折線図形の幅Ｗがモザイク角
度幅を示している。結晶全体が１つの結晶から形成され
る完全結晶は、ほとんどモザイク構造をとらないから、
モザイク角度幅ＷはＷ＝Ｗ２のように非常に狭くなる。
一方、パイロリテックグラファイトのように、多数の微
小結晶片が積み重なってモザイク状に形成された結晶で
は、モザイク角度幅ＷはＷ＝Ｗ１のように広くなる。結
晶で回折したＸ線の強度は回折線図形の面積、すなわち
積分値として現れるから、モザイク角度幅Ｗが広い結晶
の方が、それが狭い結晶に比べてＸ線強度が強くなる。

【００１２】結晶を用いてＸ線モノクロメータを構成す
る場合、そのＸ線モノクロメータから得られるＸ線ビー
ムの発散角はモノクロメータを構成する結晶のモザイク
角度幅にほぼ等しくなる。パイロリテックグラファイト
は、モザイク角度幅が半価幅で約０．３゜〜０．５゜で
あり、裾まで入れて約１゜である（図６参照）。

【００１３】図１に示したＸ線モノクロメータ１では、
第１結晶１ａ及び第２結晶１ｂは平板状の結晶を用いて
構成した。しかしながらこれらの結晶は、図３に示すよ
うに、Ｘ線反射面が湾曲する形状の結晶を用いて構成す
ることもできる。より具体的には、第１結晶１１ａのＸ
線入射面は円筒状の凹面として形成され、第２結晶１１
ｂのＸ線入射面は円筒状の凸面として形成される。そし
て、これらの結晶を対向させて配置することによりＸ線
モノクロメータ１１が構成される。このように第１結晶
１１ａ及び第２結晶１１ｂを湾曲させれば、第１結晶１
１ａで回折を生じさせることのできるＸ線の発散角度θ
２を、平板形状の結晶１ａ及び１ｂを用いた場合（図
１）における発散角度θ１に比べて大きくできる。すな
わち、 θ１＜θ２とすることができる。このことは、Ｘ線モノクロメータ
によって取り出すことができる特性Ｘ線の強度を、結晶
を湾曲させることによってより強くできるということで
ある。

【００１４】

【発明の実施の形態】図２は、本発明に係るＸ線モノク
ロメータの一実施例及びそのＸ線モノクロメータを用い
たＸ線回折装置の一実施例を示している。このＸ線回折
装置は、Ｘ線源Ｆを含むＸ線管１０と、Ｘ線源Ｆから放
射される連続Ｘ線を単色化するＸ線モノクロメータ１
と、そして試料３に関する測角を行うゴニオメータユニ
ット１２とを有している。

【００１５】Ｘ線管１０は、通電によって発熱して熱電
子を放出するフィラメント１３と、そのフィラメントに
対向して配置されたターゲット１４とを有している。フ
ィラメント１３から放出される熱電子が高速度でターゲ
ット１４に衝突するとき、そのターゲット１４からＸ
線、特に連続Ｘ線が発生する。つまり、熱電子がターゲ
ット１４上に衝突する領域、すなわちＸ線焦点がＸ線源
Ｆを構成する。なお、実施例の場合のＸ線焦点は、紙面
に対して垂直方向に長いラインフォーカスのＸ線焦点を
考える。

【００１６】Ｘ線モノクロメータ１は、図１に示すよう
に、互いに平行に配置された共に平板状の第１結晶１ａ
及び第２結晶１ｂによって構成される。これらの結晶
は、モザイク角度幅の広い結晶、例えばパイロリテック
グラファイトによって形成される。Ｘ線源Ｆからあらゆ
る方向に発散する連続Ｘ線については、それらのうちの
発散角θ１の範囲のものＲr が第１結晶１ａに入射し、
回折条件を満足する波長成分のＸ線が回折して第２結晶
１ｂに入射する。第２結晶１ｂでは、再び、回折条件を
満足するＸ線のみが回折して特定波長のＸ線、すなわち
特性Ｘ線Ｒt として下流側（図の右側）へ取り出され
る。

【００１７】Ｘ線モノクロメータ１に入射する連続Ｘ線
Ｒr の光軸Ｌr と取り出された特性Ｘ線Ｒt の光軸Ｌt
は互いに平行である。つまり、出力Ｘ線である特性Ｘ線
Ｒtは入射Ｘ線である連続Ｘ線Ｒr に対して、図の上下
方向に寸法Ｚだけ平行にずれた状態のＸ線ビームとして
取り出される。また、取り出される特性Ｘ線Ｒt を使用
する光学系、換言すれば、第２結晶１ｂの下流側に配設
される光学系から見れば、光学的な疑似Ｘ線源Ｆ’は実
際のＸ線源Ｆから縦方向にＺ、横方向にＹだけずれた所
に位置することになる。また、従来のように、第２結晶
１ｂを用いることなく第１結晶１ａのみによってＸ線モ
ノクロメータを構成するものとすれば、第１結晶１ａで
回折したＸ線は疑似集束点Ａ’に集束する。

【００１８】図２に戻って、実施例の場合のゴニオメー
タユニット１２は、粉末試料測定用のＸ線集束光学系、
いわゆるブラック−ブレンターノ法を実現する光学系と
して構成されている。具体的には、ゴニオメータユニッ
ト１２は、Ｘ線モノクロメータ１によって取り出される
特性Ｘ線の進行路上に固定配置される発散スリット２
と、粉末試料３を支持すると共に試料軸ωを中心として
回転移動できるθ回転台６と、θ回転台６と同軸に且つ
独立して回転移動できる２θ回転台７と、２θ回転台７
から半径方向へ延びる検出器アーム８と、検出器アーム
８の上に配置された受光スリット４と、受光スリット４
よりもさらに下流側の検出器アーム８の上に配置された
Ｘ線検出手段としてのＸ線カウンタ５とを有している。
θ回転台６には、回転駆動源としてのθ回転用モータ１
６が連結され、そして２θ回転台７には、回転駆動源と
しての２θ回転用モータ１７が連結される。これらのモ
ータは、ゴニオ駆動回路２３からの指令によって作動す
る。

【００１９】Ｘ線カウンタ５は、例えばシンチレーショ
ンカウンタによって構成され、個々の回折角度（２θ）
において回折Ｘ線が生じたときには、その回折Ｘ線の強
度に対応する大きさの信号を出力し、その出力信号はＸ
線強度演算回路２１へ送られる。Ｘ線強度演算回路２１
はＸ線カウンタ５に取り込まれた回折Ｘ線の強度をＸ線
カウンタ５の出力信号に基づいて演算し、その演算結果
をメイン制御部２２へ送る。

【００２０】メイン制御部２２は、例えばコンピュータ
のＣＰＵ（中央処理装置）及びメモリを有している。こ
のメイン制御部２２は、メモリ内の所定の記憶場所に格
納されたプログラムに従ってゴニオ駆動回路２３へ指令
を送る。ゴニオ駆動回路２３はメイン制御部２２からの
指令に基づいてθ回転用モータ１６及び２θ回転用モー
タ１７を駆動する。具体的には、θ回転台６を試料軸線
ωを中心として所定の角速度で連続又は間欠的に回転移
動、いわゆるθ回転させる。そして同時に、２θ回転台
７を試料軸線ωを中心としてθ回転の２倍の角速度で同
じ方向へ同期回転移動、いわゆる２θ回転させる。メイ
ン制御部２２の出力ポートに接続されたＣＲＴディスプ
レイ２４及びプリンタ２５は、それぞれ、ゴニオ駆動回
路２３によって測角されるＸ線回折角度（２θ）と、各
回折角度においてＸ線強度演算回路２１によって演算さ
れた回折Ｘ線強度との関係を表すグラフを、映像として
表示したり、用紙上に印刷したりする。

【００２１】以上のように構成された本実施例に係るＸ
線回折装置では、まず、Ｘ線源ＦからＸ線カウンタ５へ
至る上記各種のＸ線要素の光軸が全て一致するように光
軸調整する。光軸調整が完了すると、θ回転台６に試
料、例えば粉末試料３が装着され、その後Ｘ線源Ｆから
Ｘ線が放射される。測定開始のタイミングが到来する
と、θ回転台６従って試料３がθ回転を開始し、同時に
それと同期して２θ回転台７従ってＸ線カウンタ５及び
受光スリット４が２θ回転を開始する。Ｘ線カウンタ５
は、回折角度２θの個々の角度において試料３から回折
Ｘ線が発生したときにその回折Ｘ線を受け入れてその強
度に対応した信号をＸ線強度演算回路２１へ送る。Ｘ線
強度演算回路２１はＸ線カウンタ５の出力信号に基づい
てＸ線強度を演算し、その演算結果は、対応する回折角
度（２θ）と共にＣＲＴディスプレイ２４上に回折線図
形として映し出され、あるいはプリンタ２５によって回
折線図形としてハードコピーされる。この回折線図形に
おいて、どの回折角度（２θ）の位置にどのようなピー
ク波形が現れるか等を観察することにより、試料３の構
成物質を判定する等といった種々の観察が行われる。

【００２２】本実施例では、モザイク角度幅の広いパイ
ロリテックグラファイトによって第１結晶１ａ及び第２
結晶１ｂを形成し、しかもそれら２枚の結晶を互いに平
行に対向して配置したので、第２結晶１ｂからは、目
的とする特性Ｘ線Ｒt が、入射連続Ｘ線Ｒr と平行で
同一の方向へ、発散状態で取り出される。この場合の
Ｘ線発散角は各結晶１ａ及び１ｂのモザイク角度幅に対
応した角度であり、このような発散するＸ線は、例えば
単結晶から成るチャンネルカットモノクロメータによっ
て得られる単色化された平行Ｘ線ビームに比べてそのＸ
線強度が非常に高い。従って、粉末試料３に関してバッ
クグラウンドに影響されない鮮明なＸ線回折像が得られ
る。

【００２３】また、第２結晶１ｂからは集束ビームでは
なくて発散ビームが出力されるので、ゴニオメータユニ
ット１２は、現実のＸ線源Ｆの近傍に位置する疑似Ｘ線
源Ｆ’を中心とする集中光学系として構成される。従来
のように、１枚の結晶１ａのみによってＸ線モノクロメ
ータを構成すると、その結晶１ａの下流側には集束点Ａ
に集束する集束ビームしか得られないので、ゴニオメー
タユニット１２はその集束点Ａのさらに下流側にしか設
置できなかった。つまり、本実施例の光学系と従来の光
学系とを比較すると、従来の１枚結晶のＸ線モノクロメ
ータを用いた場合の集束点Ａから疑似Ｘ線源Ｆ’までの
距離Ｌ分だけＸ線回折装置全体の寸法を小さくできる。

【００２４】さらに、Ｘ線回折装置に関して光軸調整を
行う場合、従来のような１枚結晶のＸ線モノクロメータ
を用いた装置では、図４においてＸ線モノクロメータ５
１の中心軸線ψを中心としてＸ線源Ｆを比較的大きな角
度で矢印Ｅ−Ｅ’方向へ旋回移動させて角度調整する必
要があった。これに対して図２に示す本実施例では、Ｘ
線モノクロメータ１へ入射する連続Ｘ線Ｒr と出射する
特性Ｘ線Ｒt が平行であるので、光軸調整の際にはＸ線
源ＦをＤ−Ｄ’方向へわずかな距離だけ直線移動させる
だけで良い。従って、光軸調整のための作業が非常に簡
単である。

【００２５】図３は、本発明に係るＸ線モノクロメータ
の他の実施例を示している。ここに示したＸ線モノクロ
メータ１１では、第１結晶１１ａ及び第２結晶１１ｂは
平板ではなくて湾曲形状に形成されている。より具体的
には、第１結晶１１ａのＸ線入射面は円筒状の凹面とし
て形成され、第２結晶１１ｂのＸ線入射面は円筒状の凸
面として形成される。

【００２６】このような湾曲形状を採用すれば、第１結
晶１１ａの湾曲面で回折する入射Ｘ線、すなわち連続Ｘ
線Ｒr の発散角θ２を平板結晶の場合の発散角θ１（図
１）よりも大きくとることができる。このように発散角
を大きくとることができれば、その分だけ取り出される
特性Ｘ線のＸ線強度が強くなるということである。この
高強度のＸ線を用いてＸ線回折測定を行えば、回折像を
より鮮明に得ることができる。特に、第１結晶１１ａ及
び第２結晶１１ｂのＸ線入射面を湾曲させれば、Ｘ線ビ
ームの発散角を各結晶が持っているモザイク角度幅より
も大きくとることができる。

【００２７】以上、好ましい実施例を挙げて本発明を説
明したが、本発明はそれらの実施例に限定されるもので
はなく、特許請求の範囲に記載した技術的範囲内で種々
に改変できる。例えば、Ｘ線源Ｆはラインフォーカスに
限られずポイントフォーカスとすることもできる。ま
た、Ｘ線モノクロメータの後段位置に設置されるＸ線光
学系は、粉末試料を測定対象とするθー２θ回転移動方
式の上記の集束光学系に限られず、その他任意の構造の
Ｘ線光学系とすることができる。但し、本発明のＸ線モ
ノクロメータを用いれば、従来の１枚結晶のモノクロメ
ータや単結晶チャンネルカットモノクロメータでは得る
ことができない、強度の強い単色の発散ビームが得られ
るから、それを有効に活用できるＸ線光学系を設置する
ことが望ましい。

【００２８】

【発明の効果】請求項１記載のＸ線モノクロメータ及び
請求項５記載のＸ線回折装置によれば、連続Ｘ線を単色
化して特性Ｘ線を形成できることはもとより、特性Ｘ線
を集束ビームとしてではなくて、強度の強い発散ビーム
として取り出すことができる。Ｘ線モノクロメータから
集束ビームしか取り出せない場合は、Ｘ線モノクロメー
タの後段に設置するＸ線光学系はその集束ビームの集束
点のさらに後方位置にしか設置できず、それ故、Ｘ線回
折装置の全体形状が非常に大型になってしまう。これに
対し、発散ビームを取り出すことができる本発明のＸ線
モノクロメータによれば、現実のＸ線源に近い疑似Ｘ線
源を中心としてＸ線光学系を構成できる。つまり、Ｘ線
源から試料に至るＸ線通過経路を短くでき、これによ
り、Ｘ線回折装置の全体の形状を非常に小型にすること
ができる。

【００２９】請求項４記載のＸ線モノクロメータ及び請
求項８記載のＸ線回折装置によれば、Ｘ線ビームの発散
角を結晶のモザイク角度幅以上に広くとれ、よって、強
度の強い特性Ｘ線を取り出すことができる。

【００３０】

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係るＸ線モノクロメータの一実施例を
示す断面図である。

【図２】本発明に係るＸ線回折装置の一実施例を示す平
面図である。

【図３】本発明に係るＸ線モノクロメータの他の実施例
を示す断面図である。

【図４】従来のＸ線モノクロメータを用いたＸ線回折装
置を示す平面図である。

【図５】結晶に関するモザイク角度幅を測定するための
Ｘ線測定系の一例を模式的に示す図である。

【図６】結晶に関するモザイク角度幅を示すグラフであ
る。

【符号の説明】

１Ｘ線モノクロメータ１ａ第１結晶１ｂ第２結晶２発光スリット３試料４受光スリット５Ｘ線カウンタ６ θ回転台７２θ回転台８検出器アーム１０Ｘ線管１１Ｘ線モノクロメータ１１ａ第１結晶１１ｂ第２結晶１２ゴニオメータユニット１３フィラメント１４ターゲット１６，１７モータＦＸ線源Ａ，ＢＸ線収束点Ｒr 連続Ｘ線Ｒt 特性Ｘ線

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】連続Ｘ線から特性Ｘ線を取り出すための
Ｘ線モノクロメータにおいて、連続Ｘ線が入射する位置に配置されていてＸ線を発散状
態で回折するモザイク角度幅の広い第１結晶と、その第１結晶に対して実質的に平行に配置されていて第
１結晶で回折したＸ線が入射すると共にＸ線を発散状態
で回折するモザイク角度幅の広い第２結晶とを有するこ
とを特徴とするＸ線モノクロメータ。
【請求項２】請求項１記載のＸ線モノクロメータにお
いて、モザイク角度幅は０．３゜〜１゜の範囲にあるこ
とを特徴とするＸ線モノクロメータ。
【請求項３】請求項１又は請求項２記載のＸ線モノク
ロメータにおいて、第１結晶及び第２結晶はパイロリテ
ックグラファイトによって形成されることを特徴とする
Ｘ線モノクロメータ。
【請求項４】請求項１から請求項３のうちのいずれか
１つに記載のＸ線モノクロメータにおいて、第１結晶の
Ｘ線入射面は円筒状の凹面として形成され、第２結晶の
Ｘ線入射面は円筒状の凸面として形成されることを特徴
とするＸ線モノクロメータ。
【請求項５】連続Ｘ線を発生するＸ線源と、連続Ｘ線
から特性Ｘ線を取り出すためのＸ線モノクロメータと、
Ｘ線モノクロメータによって取り出されたＸ線を試料に
照射して回折させ回折したＸ線をＸ線検出手段によって
検出するようにしたＸ線光学系とを有するＸ線回折装置
において、上記Ｘ線モノクロメータは、連続Ｘ線が入射する位置に配置されていてＸ線を発散状
態で回折するモザイク角度幅の広い第１結晶と、その第１結晶に対して実質的に平行に配置されていて第
１結晶で回折したＸ線が入射すると共にＸ線を発散状態
で回折するモザイク角度幅の広い第２結晶とを有するこ
とを特徴とするＸ線回折装置。
【請求項６】請求項５記載のＸ線回折装置において、
第１結晶及び第２結晶のモザイク角度幅は０．３゜〜１
゜の範囲にあることを特徴とするＸ線回折装置。
【請求項７】請求項５又は請求項６記載のＸ線回折装
置において、第１結晶及び第２結晶はパイロリテックグ
ラファイトによって形成されることを特徴とするＸ線回
折装置。
【請求項８】請求項５から請求項７のうちのいずれか
１つに記載のＸ線回折装置において、第１結晶のＸ線入
射面は円筒状の凹面として形成され、第２結晶のＸ線入
射面は円筒状の凸面として形成されることを特徴とする
Ｘ線回折装置。