JPH07280816A - 自動分析装置 - Google Patents

自動分析装置

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JPH07280816A
JPH07280816A JP6751195A JP6751195A JPH07280816A JP H07280816 A JPH07280816 A JP H07280816A JP 6751195 A JP6751195 A JP 6751195A JP 6751195 A JP6751195 A JP 6751195A JP H07280816 A JPH07280816 A JP H07280816A
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cuvette
contamination
reaction
cuvet
reaction vessel
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Toshio Sakagami
俊夫 坂上
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    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N35/00Automatic analysis not limited to methods or materials provided for in any single one of groups G01N1/00 - G01N33/00; Handling materials therefor
    • G01N35/02Automatic analysis not limited to methods or materials provided for in any single one of groups G01N1/00 - G01N33/00; Handling materials therefor using a plurality of sample containers moved by a conveyor system past one or more treatment or analysis stations
    • G01N35/04Details of the conveyor system
    • G01N2035/0401Sample carriers, cuvettes or reaction vessels
    • G01N2035/0437Cleaning cuvettes or reaction vessels

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  • Automatic Analysis And Handling Materials Therefor (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 この発明の目的は、手作業による面倒な反応
容器の交換装着を行うことなく、しかも分析コストも安
価にできるよう適切に構成した自動分析装置を提供する
ものである。 【構成】 洗浄装置3と、キュベット2の汚れの基準値
を記憶するメモリ25と、洗浄後のキュベット2の汚れ
を測光する比色計26と、洗剤溶液をキュベット2に供
給する洗剤溶液供給装置27とを備えており、比色計2
6で測光したキュベットの汚れを基準値と比較し、汚れ
が基準値以上の場合は、洗剤溶液供給装置27によっ
て、前記キュベット2に洗剤溶液が供給される共に、前
記キュベット2へのサンプルおよび試薬の分注を行わ
ず、前記キュベット2を比色計26の位置まで搬送した
後、前記比色計26でキュベット2の汚れを再度測光す
るようにした。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、エンドレスの搬送ラ
インに沿って複数の反応容器を搬送しながら分析を行う
ようにした自動分析装置に関する。
【0002】
【従来の技術】このような自動分析装置として、従来、
例えば特開昭56-154664 号公報に開示されているよう
に、一項目の分析毎に反応容器を新しいものに交換する
ようにした使い捨て方式のものと、分析毎に反応容器を
洗浄して繰返し使用する再使用方式のものとがある。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前者の
使い捨て方式にあっては、一項目の分析毎に反応容器を
廃棄しているため、分析コストが高くなるという問題が
ある。また、後者の再使用方式にあっては、繰返しの再
使用によって反応容器が汚れるため、定期的な別洗浄や
交換が必要になると共に、分析項目あるいはその組合わ
せによってはコンタミネーションの関係から新しい反応
容器の使用が必要になる。このように、反応容器を交換
する場合、この種の自動分析装置においては、前者の使
い捨て方式におけるような反応容器の自動廃棄手段およ
び自動供給手段を持たないため、その交換装着を手作業
で行わなければならず、したがってその作業が極めて面
倒になるという問題がある。
【0004】この発明は、このような従来の問題点に着
目してなされたもので、手作業による面倒な反応容器の
交換装着を行うことなく、しかも分析コストも安価にで
きるよう適切に構成した自動分析装置を提供することを
目的とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】請求項1の発明は、複数
の反応容器を保持して搬送する搬送ラインと、試料分注
手段と、試薬分注手段と、反応液測光手段と、反応容器
の洗浄手段とを有する自動分析装置において、反応容器
の汚れの基準値を記憶する手段と、洗浄後の反応容器の
汚れを測光する反応容器測光手段と、洗剤溶液を反応容
器に供給する洗剤溶液供給手段とから構成されることを
特徴とする。
【0006】
【作用】請求項1の発明では、反応容器測光手段で測光
した反応容器の汚れを基準値と比較し、汚れが基準値以
上の場合は、洗剤溶液供給手段によって、前記反応容器
に洗剤溶液が供給されると共に、前記反応容器への試料
および試薬の分注を行わず、前記反応容器を反応容器測
光手段の位置まで搬送した後、前記反応容器測光手段で
反応容器の汚れを再度測光する。
【0007】
【実施例】図1はこの発明の第1の実施例を示すもので
ある。キュベットホイル1は同一円周上に等間隔に形成
した複数のキュベット保持部を有し、矢印方向に間欠的
に回動する。各キュベット保持部にはキュベット2が着
脱自在に装着され、これらキュベット2はキュベットホ
イル1の回動によりエンドレスの搬送ラインに沿って搬
送される。キュベットホイル1に装着された各キュベッ
ト2には、キュベットホイル1の回動によりその搬送ラ
インに沿った所定の位置でサンプル、試薬が分注され、
その反応液が測光される。
【0008】この実施例では、反応液の測光位置を経た
キュベット2の搬送ラインに沿って、洗浄装置3、キュ
ベット廃棄装置4およびキュベット供給装置5を順次に
設け、分析の終了した反応液を収容するキュベット2を
洗浄装置3により洗浄した後、キュベット廃棄装置4に
よりキュベット交換条件に応じて搬送ラインから選択的
に廃棄し、そのキュベット2が廃棄されたキュベットホ
イル1のキュベット保持部にキュベット供給装置5によ
り新たなキュベット2を供給する。
【0009】図2は図1に示す洗浄装置3に詳細な構成
を示すものである。分析の終了したキュベット2の矢印
で示す搬送方向における順次の停止位置S 1 〜S 5 にお
いて、停止位置S 1 には排液ノズル6を、停止位置S 2
には排液ノズル7、給液ノズル8およびオーバーフロー
ノズル9を、停止位置S 3 には同様に排液ノズル10、
給液ノズル11およびオーバーフローノズル12を、停
止位置S 4 には給液ノズル13およびオーバーフローノ
ズル14を、停止位置S 5 には排液ノズル15を配置
し、これらノズル6〜15を両矢印で示す方向に昇降可
能なホルダ16に保持して一体に昇降させるようにす
る。排液ノズル6,7,10,15およびオーバーフロ
ーノズル9,12,14は排液ビン17を介して真空ポ
ンプ18に連結し、給液ノズル8,11,13はそれぞ
れ送液ポンプ19,20,21を介して洗浄液タンク2
2に連結する。
【0010】この実施例では、分析の終了した各キュベ
ット2に対して、先ず停止位置S 1において排液ノズル
6により反応液を排出し、次に順次の停止位置S 2 およ
びS 3 においてそれぞれ給液ノズル8,11により洗浄
液を供給してこれを排液ノズル7,10およびオーバー
フローノズル9,12で排出し、その後停止位置S 4
おいて給液ノズル13およびオーバーフローノズル14
の作用によりキュベット2内に洗浄液を満たした後、こ
の洗浄液を停止位置S 5 において排液ノズル15により
吸引排出して、順次の各キュベット2を洗浄する。
【0011】図3は図1に示す実施例の制御系の構成を
示すブロック図である。この実施例では、キュベットの
交換条件を設定する入力キー23を設け、これにより交
換条件を入力して制御装置24を介してメモリ25に格
納する。キュベットの交換条件としては、1つのキュベ
ットに対する分析回数すなわち繰返し使用回数および分
析項目を入力する。繰返し使用回数は1〜∞から任意に
設定し、また分析項目は交換が必要となるZTT (クンケ
ル)、TTT (チモール)あるいは抗原または抗体を固相
した担体を用いての凝集反応による分析項目、またはTP
(総蛋白)とCu(銅)、Alb (アルブミン)とTP、Alb
とFe(鉄)、IgG (免疫グロブリンG)とFe、IgG とT
P、IgA (免疫グロブリンA)とFe、IgA とTP、IgM
(免疫グロブリンM)とFe、IgM とTP等の組合わせとし
て入力する。
【0012】この実施例では、図1においてキュベット
ホイル1に装着された各キュベット2について、その繰
返し使用回数が入力キー23で設定して繰返し使用回数
に達したら、また設定した繰返し使用回数に達しなくて
も分析項目またはその組み合わせが入力キー23で入力
した項目のときは、洗浄装置3による洗浄後、洗浄装置
24によりキュベット廃棄装置4を作動して所定のキュ
ベット廃棄位置においてキュベット2を搬送ラインから
廃棄すると共に、制御装置24によりキュベット供給装
置5を作動して所定のキュベット供給位置においてキュ
ベットが廃棄されたキュベットホイル1のキュベット保
持部に新たなキュベット2を供給する。
【0013】図4はこの発明の第2実施例を示すもので
ある。この実施例は、キュベットの汚れをもキュベット
の交換条件として設定するようにした点が第1実施例と
異なるものである。このため図2に示した洗浄装置3に
おいて、排液ノズル15による洗浄液の吸収位置を下流
側にずらして、この吸収位置と給液ノズル13およびオ
ーバーフローノズル14による洗浄液の注入位置との間
に測光位置を設け、この測光位置において洗浄液が満た
されたキュベット2を比色計26により比色測定する。
【0014】比色計26の出力は、図5に示すように、
制御装置24に供給する。また、比色計26の出力と比
較される汚れによる交換条件は入力キー23により制御
装置24を介して予じめメモリ25に格納しておく。こ
のようにして、この実施例では、設定使用回数に達する
以前に、キュベットの汚れが所定レベル以上に達したと
きに、キュベット廃棄装置4によりそのキュベットを搬
送ラインから廃棄して、そのキュベット保持部にキュベ
ット供給装置5により新たなキュベットを供給する。な
お、設定使用回数に達したり、あるいは設定項目または
組合わせ項目の分析においては、比色計26によるキュ
ベットの汚れが所定レベルに達しなくてもキュベットの
交換を行う。
【0015】図6はこの発明の第3実施例を示すもので
ある。この実施例は、第2実施例において洗浄装置3と
キュベット廃棄装置4との間に洗剤溶液供給装置27を
設けた点が構造上異なるものである。この実施例では、
比色計26により所定レベル以上の汚れが検出されたと
きに、そのキュベット内の洗浄液3の排液ノズル15
(図2参照)で吸収排出した後、図7に示すように、制
御装置24により洗剤溶液供給装置27を作動させてそ
のキュベットに洗剤溶液を満たすように選択的な洗浄を
行う。その後、そのキュベットに対しては分析動作を行
うことなく、他のキュベットに対して通常の分析シーケ
ンスで分析を行いながら、キュベットホイル1を回動さ
せ、洗剤溶液を満たしたキュベットが再び洗浄装置3の
位置にきたときに、これを洗浄して洗浄液を満たした状
態で比色計26により再度測光して再使用できるか否か
を判定する。
【0016】ここで、汚れが依然として所定レベル以上
のときは、第2実施例と同様にして、洗浄液を排液ノズ
ル15により吸引排出した後、洗浄溶液供給装置27を
作動させることなく、キュベット廃棄装置4によりその
キュベットを搬送ラインから廃棄し、その後そのキュベ
ット保持部にキュベット供給装置5により新たなキュベ
ットを供給する。また、再度の測光においてその汚れが
所定レベル以下になったときは、同様にして比色測光し
ながら設定した繰返し回数まで再使用する。
【0017】なお、第2および第3実施例においては、
比色計26の出力のみをキュベットの交換条件として設
定してもよい。また、第3実施例においては、洗剤溶液
供給装置27の作用を洗浄装置3にもたせることもでき
る。また、測光手段の配置やキュベットホイルの回転動
作は、洗浄液による洗浄工程の後にキュベットを測光し
得るものであれば特に限定されるものではなく、種種公
知の構成(例えば、特開昭52−40189号公報,特
開昭56−30650号公報,特開昭58−99731
号公報,特開昭59−135366号公報等)に適用す
ることも容易である。
【0018】
【発明の効果】以上述べたように、この発明によれば、
反応容器を常に一項目の分析毎に使い捨てにするのでは
ないので、分析コストを低減することができる。また、
設定した条件に応じて反応容器を繰返し再使用するかど
うかを自動的に制御しているので、ユーザの手を煩わす
ことがないと共に、コンタミネーションも有効に防止す
ることができ、したがって生化学分析から免疫分析まで
幅の広い分析を精度良く行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】第1実施例の構成図を示したものである。
【図2】図1に示す洗浄装置の構成図を示したものであ
る。
【図3】図1の制御系のブロック図を示したものであ
る。
【図4】第2実施例の構成図を示したものである。
【図5】図5の制御系のブロック図を示したものであ
る。
【図6】第3実施例の構成図を示したものである。
【図7】図6の制御系のブロック図を示したものであ
る。
【符号の説明】
1 キュベットホイル 2 キュベット 3 洗浄装置 4 キュベット廃棄装置 5 キュベット供給装置 6,7,10,15 排液ノズル 8,11,13 給液ノズル 9,12,14 オーバーフローノズル 16 ホルダ 17 排液ビン 18 真空ポンプ 19,20,21 送液ポンプ 22 洗浄液タンク 23 入力キー 24 制御装置 25 メモリ 26 比色計 27 洗剤溶液供給装置
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成7年4月18日
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0004
【補正方法】変更
【補正内容】
【0004】この発明は、このような従来の問題点に着
目してなされたもので、反応容器の定期的な別洗浄等の
煩わしさをなくし、しかも分析コストも安価にできるよ
う適切に構成した自動分析装置を提供することを目的と
する。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 複数の反応容器を保持して搬送する搬送
    ラインと、試料分注手段と、試薬分注手段と、反応液測
    光手段と、反応容器の洗浄手段とを有する自動分析装置
    において、反応容器の汚れの基準値を記憶する手段と、
    洗浄後の反応容器の汚れを測光する反応容器測光手段
    と、洗剤溶液を反応容器に供給する洗剤溶液供給手段と
    を備えており、反応容器測光手段で測光した反応容器の
    汚れを基準値と比較し、汚れが基準値以上の場合は、洗
    剤溶液供給手段によって、前記反応容器に洗剤溶液が供
    給されると共に、前記反応容器への試料および試薬の分
    注を行わず、前記反応容器を反応容器測光手段の位置ま
    で搬送した後、前記反応容器測光手段で反応容器の汚れ
    を再度測光することを特徴とする自動分析装置。
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